JP7221657B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態による基板処理装置の構成の一例を模式的に示す図であり、図2は、ノズルの構成の一例を示す上面図である。第1の実施形態による基板処理装置10は、ノズル11と、処理液供給部12と、第1媒体供給部である冷却媒体供給部13と、第2媒体供給部である加熱媒体供給部14と、を備える。
図4は、第2の実施形態による基板処理装置の構成の一例を模式的に示す図であり、図5は、ノズルの構成の一例を示す上面図である。第2の実施形態による基板処理装置10Aは、第1の実施形態の基板処理装置10に、媒体吸引部15をさらに備える。また、ノズル11の水平方向の中心と、貫通孔113が設けられる領域との間の領域には、鉛直方向に貫通する貫通孔114が設けられる。貫通孔114がノズル11の上面と交わる部分は、冷却媒体と加熱媒体との吸引口114aとなる。
図6は、第3の実施形態による基板処理装置の構成の一例を模式的に示す図であり、図7は、基板を載置した状態の支持部の構成の一例を示す上面図である。なお、以下では、第1の実施形態と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。第3の実施形態の基板処理装置10Bでは、ノズルおよび支持部の構成が第1の実施形態と異なる。ノズル11は、中央付近で上面111よりも突出した凸部117を有する。水平方向における凸部117の面積は、基板200の面積よりも小さい。ノズル11の中心付近には、鉛直方向に貫通する貫通孔112が設けられている。貫通孔112がノズル11の上面と交わる部分は、冷却媒体の供給口112aとなる。
図10は、第4の実施形態による基板処理装置の構成の一例を模式的に示す図であり、図11は、ノズルの構成の一例を示す上面図である。なお、以下では、第1~第3の実施形態と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。第4の実施形態による基板処理装置10Cは、第3の実施形態と第2の実施形態とを組み合わせたものである。すなわち、基板処理装置10Cは、図6の構成に、加熱媒体供給部14と、媒体吸引部15と、をさらに設けたものである。
図12は、第5の実施形態による基板処理装置の構成の一例を模式的に示す図である。なお、以下では、第1~第4の実施形態と同じ部分については説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。第5の実施形態の基板処理装置10Dでは、シール部材17を加熱する加熱部である誘導加熱機構が設けられている。具体的には、シール部材17の配置位置に対応するノズル11の内部の位置には一次コイル21が設けられている。一次コイル21は、矩形の環状を有している。一次コイル21には、高周波電源23が接続されている。また、シール部材17の配置位置に対応する支持部16aの内部の位置には、二次コイル22が設けられている。二次コイル22も、一次コイル21と同様に矩形の環状を有している。二次コイル22は、シール部材17に近接して配置される。一次コイル21と二次コイル22とは、平面視上で略同じ位置に設けられる。
Claims (17)
- 基板の第1面に対向して配置されるノズルと、
前記第1面と前記ノズルとの間に配置され、前記ノズルに対して所定の距離を置いて前記基板を支持する支持部と、
前記基板の前記第1面と対向する第2面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記ノズルに設けられる第1供給口から前記ノズルと前記基板の第1面との間の空間に第1媒体を供給する第1媒体供給部と、
前記ノズルの前記第1供給口よりも周縁部に設けられる第2供給口から前記空間に前記第1媒体よりも温度が高い第2媒体を供給する第2媒体供給部と、
を備え、
前記ノズルは、中央付近が突出した凸部を有し、
前記支持部は、前記ノズルの上面から所定の距離を置いて配置され、前記凸部に対応する領域に前記凸部の面積よりも大きく前記基板の面積よりも小さい開口を有し、
前記支持部には、前記開口を塞ぐように前記基板が載置される基板処理装置。 - 前記第1媒体を前記空間の外へと吸引する媒体吸引部をさらに備える請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記媒体吸引部は、前記ノズルの前記第1供給口と前記第2供給口との間の領域に設けられる請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記支持部と前記基板との間に樹脂が設けられる請求項1に記載の基板処理装置。
- 少なくとも前記樹脂を加熱する加熱部をさらに備える請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記加熱部は、
前記ノズルの前記樹脂の配置位置に対応して設けられる一次コイルと、
前記一次コイルに接続される高周波電源と、
前記支持部の前記樹脂の配置位置に対応して設けられる二次コイルと、
を有する請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記加熱部は、光加熱式の加熱部である請求項5に記載の基板処理装置。
- 基板の第1面に対向して配置されるノズルと、
前記第1面と前記ノズルとの間に配置され、前記ノズルに対して所定の距離を置いて前記基板を支持する支持部と、
前記基板の前記第1面と対向する第2面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記ノズルに設けられる第1供給口から前記ノズルと前記基板の第1面との間の空間に第1媒体を供給する第1媒体供給部と、
を備え、
前記ノズルは、中央付近が突出した凸部を有し、
前記支持部は、前記ノズルの上面から所定の距離を置いて配置され、前記凸部に対応する領域に前記凸部の面積よりも大きく前記基板の面積よりも小さい開口を有し、
前記支持部には、前記開口を塞ぐように前記基板が載置される基板処理装置。 - 前記支持部と前記基板との間に樹脂が設けられる請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記樹脂は、弾性を有する樹脂によって構成される請求項9に記載の基板処理装置。
- 前記樹脂を加熱する加熱部をさらに備える請求項9または10に記載の基板処理装置。
- 前記加熱部は、
前記ノズルの前記樹脂の配置位置に対応して設けられる一次コイルと、
前記一次コイルに接続される高周波電源と、
前記支持部の前記樹脂の配置位置に対応して設けられる二次コイルと、
を有する請求項11に記載の基板処理装置。 - 前記加熱部は、光加熱式の加熱部である請求項11に記載の基板処理装置。
- 前記ノズルと前記支持部との間に形成される空間に前記第1媒体よりも温度が高い第2媒体を供給する第2媒体供給部をさらに備える請求項8から13のいずれか1つに記載の基板処理装置。
- 前記第2媒体供給部は、前記凸部の周縁部付近に設けられる第2供給口から前記第2媒体を供給する請求項14に記載の基板処理装置。
- 前記第2媒体供給部は、前記ノズルの側方から、前記ノズルと前記支持部との間の空間に向かって前記第2媒体を供給する請求項14に記載の基板処理装置。
- 前記第1媒体を前記空間の外へと吸引する媒体吸引部をさらに備える請求項8から16のいずれか1つに記載の基板処理装置。
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