JP7201620B2 - 凹面回折格子の製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (10)
- 平面回折格子に形成された、不等間隔の溝周期を有する溝パターンを金属薄膜に転写し、
前記金属薄膜を固定する凸面を有する固定基板の前記凸面に第1の位置合わせマークを形成し、
前記金属薄膜の接着面に形成された第2の位置合わせマークを、前記第1の位置合わせマークに重ね合わせることにより、位置合わせを行い、前記金属薄膜の接着面と前記固定基板の前記凸面とを接着してマスターを作製し、
前記マスターの前記金属薄膜の溝パターンを転写することにより、凹面回折格子を作製する凹面回折格子の製造方法。 - 請求項1において、
前記凹面回折格子の溝パターンを転写して凸面回折格子を作製し、
前記凸面回折格子の溝パターンを転写してさらに凹面回折格子を作製する凹面回折格子の製造方法。 - 請求項1において、
前記固定基板の前記凸面に複数の前記第1の位置合わせマークを形成し、
前記金属薄膜の接着面には、複数の前記第1の位置合わせマークのそれぞれに対応する複数の前記第2の位置合わせマークが形成されている凹面回折格子の製造方法。 - 請求項1において、
前記第1の位置合わせマーク及び前記第2の位置合わせマークは、重ね合わせることにより、異なる2方向の位置ずれが視認できるマークの組み合わせである凹面回折格子の製造方法。 - 請求項4において、
前記第1の位置合わせマーク及び前記第2の位置合わせマークは、大きさの異なる同一の形状を有するマークの組み合わせである凹面回折格子の製造方法。 - 請求項1において、
前記平面回折格子に前記第2の位置合わせマークを形成するためのパターンを形成し、
前記パターンが形成された前記平面回折格子に対して電解めっきを用いて前記金属薄膜を製膜し、
前記パターンを除去し、前記平面回折格子から前記金属薄膜を剥離することにより、前記金属薄膜に前記第2の位置合わせマークを形成する凹面回折格子の製造方法。 - 請求項6において、
前記パターンは前記平面回折格子の前記溝パターンが形成されている領域内に形成される凹面回折格子の製造方法。 - 平面回折格子に形成された、不等間隔の溝周期を有する溝パターンを金属薄膜に転写し、
前記金属薄膜を固定する凸面を有する固定基板を貫通する第1の位置合わせ孔を形成し、
前記金属薄膜に形成された第2の位置合わせ孔を、位置合わせ用冶具が備える位置合わせ用ピンにより、前記第1の位置合わせ孔に重ね合わせることにより、位置合わせを行い、前記金属薄膜の接着面と前記固定基板の前記凸面とを接着してマスターを作製し、
前記マスターの前記金属薄膜の溝パターンを転写することにより、凹面回折格子を作製する凹面回折格子の製造方法。 - 請求項8において、
前記凹面回折格子の溝パターンを転写して凸面回折格子を作製し、
前記凸面回折格子の溝パターンを転写してさらに凹面回折格子を作製する凹面回折格子の製造方法。 - 請求項8において、
前記固定基板に複数の前記第1の位置合わせ孔を形成し、
前記金属薄膜には、複数の前記第1の位置合わせ孔のそれぞれに対応する複数の前記第2の位置合わせ孔が形成されている凹面回折格子の製造方法。
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KR102292282B1 (ko) * | 2021-01-13 | 2021-08-20 | 성균관대학교산학협력단 | 비등방성 기계적 팽창 기판 및 이를 이용한 크랙 기반 압력 센서 |
CN113211935A (zh) * | 2021-05-20 | 2021-08-06 | 汕头市辰安新材料科技有限公司 | 一种模压版的制版方法 |
JPWO2023281950A1 (ja) * | 2021-07-05 | 2023-01-12 | ||
CN116661041B (zh) * | 2023-07-28 | 2023-11-10 | 北京至格科技有限公司 | 一种光栅定位标记制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007043383A1 (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Nikon Corporation | 微小構造体およびその製造方法 |
JP2008145898A (ja) | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
WO2009110110A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-09-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール |
WO2013183601A1 (ja) | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 曲面回折格子の製造方法、曲面回折格子の型およびそれを用いた曲面回折格子 |
JP2014115154A (ja) | 2012-12-07 | 2014-06-26 | Shimadzu Corp | フォトダイオードアレイ検出器 |
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Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4012843A (en) * | 1973-04-25 | 1977-03-22 | Hitachi, Ltd. | Concave diffraction grating and a manufacturing method thereof |
JPS591971B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1984-01-14 | 株式会社日立製作所 | ブンコウコウドケイ |
EP0007108B1 (en) * | 1978-07-18 | 1983-04-13 | Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation | A method of manufacturing a diffraction grating structure |
JPS6172202A (ja) | 1984-09-14 | 1986-04-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 曲面回折格子の製造方法 |
JPH095509A (ja) | 1995-06-21 | 1997-01-10 | Olympus Optical Co Ltd | 曲面回折格子の原盤作成方法 |
JPH0915410A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の製造方法および光学素子用金型の製造方法 |
JPH1062248A (ja) * | 1996-08-22 | 1998-03-06 | Hitachi Ltd | 凹面回折分光器 |
JP3248526B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2002-01-21 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子及びそれを有した光学系 |
JP3495925B2 (ja) * | 1998-09-24 | 2004-02-09 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
US20010026399A1 (en) * | 1998-09-24 | 2001-10-04 | Masaaki Nakabayashi | Diffractive optical element and method of manufacture of the same |
JP4202511B2 (ja) * | 1999-01-29 | 2008-12-24 | 株式会社リコー | マイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダー |
JP2002062417A (ja) * | 2000-06-07 | 2002-02-28 | Canon Inc | 回折光学素子、該回折光学素子を有する光学系及び光学機器、回折光学素子の製造方法、回折光学素子製造用の金型 |
US7365909B2 (en) * | 2002-10-17 | 2008-04-29 | Xradia, Inc. | Fabrication methods for micro compounds optics |
JP2005043441A (ja) * | 2003-07-23 | 2005-02-17 | Ricoh Co Ltd | マイクロレンズの製造方法、およびマイクロレンズつき基板、ビーム整形光学素子、光ピックアップ |
JP2008051822A (ja) * | 2007-10-09 | 2008-03-06 | Toshiba Corp | 化学分析装置 |
EP2273289B1 (en) * | 2008-04-28 | 2015-01-21 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method for producing wafer lens assembly |
WO2010073675A1 (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-01 | パナソニック株式会社 | 回折光学素子の製造方法および回折光学素子 |
JP5592089B2 (ja) * | 2009-08-19 | 2014-09-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール及びその製造方法 |
JP2012013530A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 回折格子及びその製造方法、並びに放射線撮影装置 |
EP2533077A1 (en) * | 2011-06-08 | 2012-12-12 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Diffraction grating and method for producing same |
CN104520736A (zh) * | 2013-07-29 | 2015-04-15 | 松下知识产权经营株式会社 | 衍射光学元件、衍射光学元件的制造方法、以及衍射光学元件的制造方法中使用的模具 |
JP6341883B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2018-06-13 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 |
US9423360B1 (en) * | 2015-02-09 | 2016-08-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Optical components |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007043383A1 (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Nikon Corporation | 微小構造体およびその製造方法 |
JP2008145898A (ja) | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
WO2009110110A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-09-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光モジュール |
WO2013183601A1 (ja) | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 曲面回折格子の製造方法、曲面回折格子の型およびそれを用いた曲面回折格子 |
JP2014115154A (ja) | 2012-12-07 | 2014-06-26 | Shimadzu Corp | フォトダイオードアレイ検出器 |
WO2014148118A1 (ja) | 2013-03-19 | 2014-09-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 曲面回折格子及びその製造方法、並びに光学装置 |
WO2016059928A1 (ja) | 2014-10-16 | 2016-04-21 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 曲面回折格子の型の製造方法、曲面回折格子の製造方法、曲面回折格子、および光学装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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