JP7200166B2 - 混合ガス供給装置及び方法 - Google Patents
混合ガス供給装置及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7200166B2 JP7200166B2 JP2020067616A JP2020067616A JP7200166B2 JP 7200166 B2 JP7200166 B2 JP 7200166B2 JP 2020067616 A JP2020067616 A JP 2020067616A JP 2020067616 A JP2020067616 A JP 2020067616A JP 7200166 B2 JP7200166 B2 JP 7200166B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- gas supply
- raw material
- path
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Accessories For Mixers (AREA)
Description
ことを特徴としている。
Claims (2)
- 複数の原料ガスを所定の割合で混合して供給する混合ガス供給装置であって、
複数の原料ガス供給経路と、
各原料ガス供給経路から供給される複数の原料ガスを合流させて混合ガスとするガス合流部と、
混合ガスを使用先に供給するための混合ガス供給経路と、を備え、
前記原料ガス供給経路の一つが複数に分岐され、各分岐経路にそれぞれ流量計測器が設けられ、
他の原料ガス供給経路も同様に複数に分岐され、各分岐経路にそれぞれ流量調整器が設けられ、
前記流量調整器は、対応する前記流量計測器からの信号を受信可能に構成され、
前記流量計測器は、検出した流量に応じて、前記流量計測器の計測可能な流量の上限値で割って得られる流量比を示す信号を対応する前記流量調整器に送信し、
前記流量調整器は、前記信号を受信すると、原料ガスの流量を、前記流量調整器の調整可能な流量の上限値に前記流量比を掛けて得られる流量に調整し、
前記原料ガス供給経路の一つの分岐経路に設けられた前記流量計測器の検出した流量が、あらかじめ設定された第1流量を上回ると、隣接する分岐経路の原料ガスを流し始め、 前記第1流量よりも少ないあらかじめ設定された第2流量を下回ると、隣接する分岐経路の原料ガスの流れを遮断することを特徴とする混合ガス供給装置。 - 複数の原料ガスを所定の割合で混合して供給する混合ガス供給方法であって、
複数の原料ガスを各原料ガス供給経路に供給し、
前記原料ガス供給経路の一つを複数に分岐し、各分岐経路にそれぞれ流量計測器を設け、
他の原料ガス供給経路も同様に複数に分岐し、各分岐経路にそれぞれ流量調整器を設け、
前記流量計測器を介して一の原料ガスを供給し、前記流量計測器によって検出された流量に基づく出力信号を、入力信号として対応する流量調整器で他の原料ガスの流量を調整し、
前記原料ガス供給経路の一つの分岐経路に設けられた前記流量計測器の検出した流量が、あらかじめ設定された第1流量を上回ると、隣接する分岐経路の原料ガスを流し始め、
前記第1流量よりも少ないあらかじめ設定された第2流量を下回ると、隣接する分岐経路の原料ガスの流れを遮断し、
複数の原料ガスを合流させて混合ガスとする混合ガス供給方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020067616A JP7200166B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 混合ガス供給装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020067616A JP7200166B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 混合ガス供給装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021159900A JP2021159900A (ja) | 2021-10-11 |
JP7200166B2 true JP7200166B2 (ja) | 2023-01-06 |
Family
ID=78002000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020067616A Active JP7200166B2 (ja) | 2020-04-03 | 2020-04-03 | 混合ガス供給装置及び方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7200166B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000182962A (ja) | 1998-12-15 | 2000-06-30 | Canon Inc | 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 |
JP2004207713A (ja) | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2006086392A (ja) | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置及びそのメンテナンス方法 |
JP2006266384A (ja) | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Tokiko Techno Kk | ガス供給装置 |
JP2008252073A (ja) | 2007-02-26 | 2008-10-16 | Applied Materials Inc | 処理チャンバへのガスフローを制御する方法及び装置 |
JP2012113581A (ja) | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Jfe Steel Corp | 流量制御システムの異常監視方法 |
JP2013119045A (ja) | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Nissan Tanaka Corp | 混合ガス製造方法及びガス混合装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0568866A (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-23 | Tokyo Electron Ltd | ガス供給装置 |
JP3535566B2 (ja) * | 1994-05-12 | 2004-06-07 | ジャパン・エア・ガシズ株式会社 | 所定濃度の混合ガスを製造する方法及び装置 |
JP3758717B2 (ja) * | 1995-10-03 | 2006-03-22 | 大陽日酸株式会社 | ガス混合装置 |
JPH09269100A (ja) * | 1996-03-31 | 1997-10-14 | Furontetsuku:Kk | 混合ガス供給配管系 |
JPH09317999A (ja) * | 1996-05-27 | 1997-12-12 | Toshiba Mach Co Ltd | 混合ガス供給装置 |
JP3387777B2 (ja) * | 1997-06-11 | 2003-03-17 | 株式会社フジキン | 混合ガス供給装置 |
-
2020
- 2020-04-03 JP JP2020067616A patent/JP7200166B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000182962A (ja) | 1998-12-15 | 2000-06-30 | Canon Inc | 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 |
JP2004207713A (ja) | 2002-12-13 | 2004-07-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2006086392A (ja) | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置及びそのメンテナンス方法 |
JP2006266384A (ja) | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Tokiko Techno Kk | ガス供給装置 |
JP2008252073A (ja) | 2007-02-26 | 2008-10-16 | Applied Materials Inc | 処理チャンバへのガスフローを制御する方法及び装置 |
JP2012113581A (ja) | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Jfe Steel Corp | 流量制御システムの異常監視方法 |
JP2013119045A (ja) | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Nissan Tanaka Corp | 混合ガス製造方法及びガス混合装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021159900A (ja) | 2021-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9486749B2 (en) | Method for producing mixed gas and gas mixing device | |
JP5564043B2 (ja) | 複数のガス流間のガス流量を制御する方法 | |
KR102321201B1 (ko) | 유량비 제어 시스템 및 방법 | |
CN103282748A (zh) | 气体供应装置用流量控制器的流量测定装置及流量测定方法 | |
JP5665794B2 (ja) | 半導体製造装置のガス分流供給装置 | |
US20080223455A1 (en) | Gas supply unit | |
KR101661483B1 (ko) | 셀렌화수소 혼합 가스의 공급 방법 및 공급 장치 | |
JP2013156801A5 (ja) | ||
CN100462887C (zh) | 半导体制造装置和半导体制造方法 | |
JP2010079827A (ja) | マスフローコントローラ | |
JP7200166B2 (ja) | 混合ガス供給装置及び方法 | |
CN109596339B (zh) | 安全阀型式试验自动控制***及方法 | |
JP4925493B1 (ja) | 混合ガス流量制御装置および排ガス浄化触媒評価装置 | |
WO2016170871A1 (ja) | ガスメーターシステムおよび発熱量導出方法 | |
KR20080082818A (ko) | Mfc를 이용한 가스 희석 장치 | |
CN103238046A (zh) | 低压力下降混合器 | |
US9373528B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
CN206398131U (zh) | 微、小流量调节阀装置 | |
JP2017094262A (ja) | 簡易式ガス混合装置 | |
JP2000235952A (ja) | ガス混合供給方法およびその装置 | |
RU2709439C1 (ru) | Система измерения расхода газа | |
EP4324547A1 (en) | Gas separation apparatus | |
CN221302467U (zh) | 一种用于质量流量验证器的校准装置 | |
TW201805058A (zh) | 流體混合系統、混合系統與應用其之控制混合流體之濃度的方法 | |
KR20110066394A (ko) | 매스플로우 컨트롤러 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20201106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20201106 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220531 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220908 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20220909 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221221 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7200166 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |