JP7194572B2 - マルチ電子ビーム検査装置 - Google Patents
マルチ電子ビーム検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7194572B2 JP7194572B2 JP2018227658A JP2018227658A JP7194572B2 JP 7194572 B2 JP7194572 B2 JP 7194572B2 JP 2018227658 A JP2018227658 A JP 2018227658A JP 2018227658 A JP2018227658 A JP 2018227658A JP 7194572 B2 JP7194572 B2 JP 7194572B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- substrate
- electron
- holes
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
- H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/145—Combinations of electrostatic and magnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/12—Lenses electrostatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/12—Lenses electrostatic
- H01J2237/121—Lenses electrostatic characterised by shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2443—Scintillation detectors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
図1は、実施形態におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、基板に形成されたパターンを検査する検査装置100は、画像取得装置の一例である。検査装置100は、画像取得機構150、及び制御系回路160(制御部)を備えている。画像取得機構150は、電子ビームカラム102(マルチビーム電子鏡筒)、検査室103、検出回路106、パターンメモリ123、駆動機構132、駆動機構142、及びレーザ測長システム122を備えている。電子ビームカラム102内には、電子銃201、照明レンズ202、成形アパーチャアレイ基板203、ブランキングアパーチャアレイ機構204、縮小レンズ205、制限アパーチャ基板206、対物レンズ207、主偏向器208、副偏向器209、一括ブランキング偏向器212、縮小レンズ213、ビームセパレーター214、電極220、マルチ検出器222、投影レンズ224,226、偏向器228、広域検出器230、及びアライメントコイル232,234が配置されている。
22 穴
24 制御電極
25 通過孔
26 対向電極
30 メンブレン領域
31 基板
32 外周領域
33 支持台
41 個別制御回路
46 アンプ
72 静電レンズ
73 絶縁板
74 貫通孔
75 導電膜
76 溝
77 凹部
86 電源
90 磁場レンズ(電磁レンズ)
91 コイル
92 ヨーク
93 ポールピース上極
94 ポールピース下極
98 レンズ
99 軌道中心軸(光軸)
100 検査装置
101 基板
102 電子ビームカラム(マルチビーム電子鏡筒)
103 検査室
105 XYステージ
106 検出回路
107 位置回路
108 比較回路
109 記憶装置
110 制御計算機
112 参照画像作成回路
114 ステージ制御回路
117 モニタ
118 メモリ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 パターンメモリ
124 レンズ制御回路
126 ブランキング制御回路
128 偏向制御回路
129 リターディング制御回路
130 搬入/搬出制御回路
132 駆動機構
134 検出回路
142 駆動機構
150 画像取得機構
160 制御系回路
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
204 ブランキングアパーチャアレイ機構
205、213 縮小レンズ
206 制限アパーチャ基板
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
212 一括ブランキング偏向器
213 縮小レンズ
214 ビームセパレーター
216 ミラー
217、218 マーク
219 透過マーク
220 電極
222 マルチ検出器
224、226 投影レンズ
228 偏向器
230 広域偏向器
232、234 アライメントコイル
Claims (4)
- 基板にマルチ電子ビームを照射する照射源と、
前記基板を載置するステージと、
前記照射源と前記ステージの間に設けられ、前記マルチ電子ビームが通過可能なレンズ磁場を発生する電磁レンズと、
前記レンズ磁場中に設けられ、前記マルチ電子ビームのそれぞれが通過可能な複数の貫通孔と、前記複数の貫通孔の壁面にそれぞれ設けられた複数の電極とを有し、前記マルチ電子ビームの軌道中心軸から離間して設けられた前記貫通孔は螺旋形状を有する静電レンズと、
前記複数の電極に接続された電源と、
を備え、
前記螺旋形状の軸は、前記軌道中心軸に平行に設けられているマルチ電子ビーム検査装置。 - 前記電源は前記複数の電極のそれぞれに異なった電圧を印加する請求項1記載のマルチ電子ビーム検査装置。
- 前記軌道中心軸に平行な方向の前記複数の電極の長さは互いに異なっている請求項1または請求項2記載のマルチ電子ビーム検査装置。
- 前記レンズ磁場の中心は基板面の高さ位置に配置されている請求項1ないし請求項3いずれか一項記載のマルチ電子ビーム検査装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018227658A JP7194572B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | マルチ電子ビーム検査装置 |
TW108141135A TWI739208B (zh) | 2018-12-04 | 2019-11-13 | 多電子束檢查裝置 |
US16/686,316 US10950410B2 (en) | 2018-12-04 | 2019-11-18 | Multiple electron beam inspection apparatus with through-hole with spiral shape |
KR1020190154483A KR102375499B1 (ko) | 2018-12-04 | 2019-11-27 | 멀티 전자 빔 검사 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018227658A JP7194572B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | マルチ電子ビーム検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020091986A JP2020091986A (ja) | 2020-06-11 |
JP7194572B2 true JP7194572B2 (ja) | 2022-12-22 |
Family
ID=70849314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018227658A Active JP7194572B2 (ja) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | マルチ電子ビーム検査装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10950410B2 (ja) |
JP (1) | JP7194572B2 (ja) |
KR (1) | KR102375499B1 (ja) |
TW (1) | TWI739208B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11562879B2 (en) * | 2020-09-15 | 2023-01-24 | Nuflare Technology, Inc. | Low-blur electrostatic transfer lens for multi-beam electron gun |
JP2022094681A (ja) | 2020-12-15 | 2022-06-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法 |
WO2024009913A1 (ja) * | 2022-07-06 | 2024-01-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム画像取得方法、電子ビーム画像取得装置、及び電子ビーム画像取得方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012081422A1 (ja) | 2010-12-15 | 2012-06-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置、及び照射方法 |
JP2014127568A (ja) | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
WO2019243349A2 (de) | 2018-06-21 | 2019-12-26 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61101944A (ja) | 1984-10-25 | 1986-05-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電粒子ビ−ム用集束装置 |
US4928010A (en) * | 1986-11-28 | 1990-05-22 | Nippon Telegraph And Telephone Corp. | Observing a surface using a charged particle beam |
NL8700528A (nl) * | 1987-03-05 | 1988-10-03 | Philips Nv | Magnetische focusseerlens voor een kathodestraalbuis. |
US5362964A (en) * | 1993-07-30 | 1994-11-08 | Electroscan Corporation | Environmental scanning electron microscope |
JP3455071B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2003-10-06 | 株式会社東芝 | 荷電粒子ビーム照射装置 |
EP2362822A2 (en) * | 2008-09-26 | 2011-09-07 | Mikro Systems Inc. | Systems, devices, and/or methods for manufacturing castings |
JP2011023126A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Kobe Univ | 荷電粒子線照射装置、描画装置、分析顕微鏡、荷電粒子線出射装置および荷電粒子線用のレンズ装置 |
DE102010041156B9 (de) * | 2010-09-21 | 2018-01-25 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Blendeneinheit für ein Teilchenstrahlgerät sowie Teilchenstrahlgerät |
AU2012225760A1 (en) * | 2011-03-04 | 2013-09-19 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Electrostatic lenses and systems including the same |
JP5275396B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2013-08-28 | 株式会社東芝 | 電子ビーム照射装置 |
JP6523767B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2019-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
JP2017126674A (ja) * | 2016-01-14 | 2017-07-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
JP6781582B2 (ja) * | 2016-07-25 | 2020-11-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法 |
-
2018
- 2018-12-04 JP JP2018227658A patent/JP7194572B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-13 TW TW108141135A patent/TWI739208B/zh active
- 2019-11-18 US US16/686,316 patent/US10950410B2/en active Active
- 2019-11-27 KR KR1020190154483A patent/KR102375499B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012081422A1 (ja) | 2010-12-15 | 2012-06-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置、及び照射方法 |
JP2014127568A (ja) | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置 |
WO2019243349A2 (de) | 2018-06-21 | 2019-12-26 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlsystem |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10950410B2 (en) | 2021-03-16 |
KR102375499B1 (ko) | 2022-03-17 |
US20200176216A1 (en) | 2020-06-04 |
TWI739208B (zh) | 2021-09-11 |
JP2020091986A (ja) | 2020-06-11 |
TW202038284A (zh) | 2020-10-16 |
KR20200067754A (ko) | 2020-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI745687B (zh) | 多電子束影像取得裝置以及多電子束光學系統的定位方法 | |
US7772574B2 (en) | Pattern lock system for particle-beam exposure apparatus | |
JP6966255B2 (ja) | 画像取得装置の光学系調整方法 | |
JP7194572B2 (ja) | マルチ電子ビーム検査装置 | |
KR102553520B1 (ko) | 멀티 하전 입자 빔 조사 장치 및 멀티 하전 입자 빔 검사 장치 | |
US8089051B2 (en) | Electron reflector with multiple reflective modes | |
TWI772803B (zh) | 像差修正器以及多電子束照射裝置 | |
JP2019186140A (ja) | マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射方法 | |
KR20200106820A (ko) | 멀티 전자 빔 조사 장치 | |
US20230077403A1 (en) | Multi-electron beam image acquisition apparatus, and multi-electron beam image acquisition method | |
TWI834161B (zh) | 多電子束圖像取得裝置及多電子束圖像取得方法 | |
WO2022130838A1 (ja) | マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法 | |
JP6966319B2 (ja) | マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法 | |
WO2024135419A1 (ja) | 電子線マスク検査装置 | |
US20020036272A1 (en) | Charged-particle-beam microlithography methods and apparatus providing reduced reticle heating | |
TWI818407B (zh) | 多射束圖像取得裝置及多射束圖像取得方法 | |
WO2021039419A1 (ja) | 電子銃及び電子ビーム照射装置 | |
JP2020020710A (ja) | 検査装置 | |
JP2022154067A (ja) | 電子ビームの軌道軸調整方法及びマルチビーム画像取得装置 | |
JP2023038125A (ja) | マルチビーム入射角調整方法及びマルチビーム照射装置 | |
JP2023046921A (ja) | マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム画像取得方法 | |
JP2017173250A (ja) | 電子ビーム画像検出装置及び電子ビーム画像検出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211110 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7194572 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |