JP7194241B1 - ガス発生器処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
<ガス発生器処理装置1>
図1は、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1の構成例を示す図である。ガス発生器処理装置1は、例えば、自動車に用いられるエアバッグを膨張させるためにガスを発生させるガス発生器の処理装置である。ガス発生器処理装置1で処理されるガス発生器は、未使用のガス発生器である。
最初に、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1で処理されるガス発生器100について説明する。図2は、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1で処理されるガス発生器の一例であるガス発生器100の側面図である。図3は、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1で処理されるガス発生器の一例であるガス発生器100の内部構成例を示す図である。
点火部110は、リード線101p及びリード線101nを介して供給された電気信号に基づいて点火する。点火部110は、例えば、リード線101pとリード線101nとの間に、所定の電力が供給されると点火する。点火部110は、例えば、スクイブ又はイニシエータとも称される。点火部110が点火すると、着火剤120が着火する。なお、リード線101p及びリード線101nは、点火部110に直接ハンダ付け等で接続されていてもよいし、コネクタ等を用いて接続されていてもよい。
着火剤120は、点火部110が点火すると着火して、エネルギーを増大させて、ガス発生剤130を燃焼させる。着火剤120は、例えば、エンハンサとも称される。
ガス発生剤130は、火薬を含む火工品である。着火剤120により着火され燃焼して、ガスを発生させる。ガス発生剤130が燃焼して発生したガスは、筐体102の貫通孔102hから筐体102の外部に放出される。筐体102の外部に放出されたガスは、エアバッグを膨張させる。
ガス発生器処理装置1は、上記で説明した未使用のガス発生器100に、電波、より具体的にはマイクロ波、を照射して、非接触でガス発生器100からガスを発生させて処理する。
展開処理部10は、ガス発生器処理装置1の外部から隔離されるように内部の内部空間10sにガス発生器100を収容する。なお、以下において、未使用のガス発生器100をガス発生器100aという場合がある。また、ガスを発生させた処理済みのガス発生器100をガス発生器100nという場合がある。
電波照射部20は、ガス発生器100に電波を照射する。電波照射部20は、例えば、マグネトロンを備える。電波照射部20で発生した電波は、導波管20aを通って、内部空間10s内部に照射される。電波照射部20は、例えば、周波数2.45ギガヘルツのマイクロ波を照射する。電波照射部20が照射する電波の出力は、例えば、100から1000ワットである。電波照射部20は、ガス発生器100のリード線101p及びリード線101nに照射するような範囲に電波を照射する。
保管部30は、展開処理部10において処理されたガス発生器100nを保管する。保管部30は、略直方体状の形状を有する。保管部30は、内部に保管空間30sを有する。保管部30は、ガス排出口31を備える。ガス排出口31には、例えば、ガス処理装置が接続されてもよい。また、ガス排出口31に、送風機が接続されてもよい。ガス排出口31に送風機が接続されることにより、内部空間10s及び保管空間30sを負圧にしてもよい。
ガス圧緩和部40は、展開処理部10においてガス発生器100aにより発生したガスによって、内部空間10s及び保管空間30sの圧力が上昇することを緩和する。すなわち、ガス圧緩和部40は、ガス発生器100aから発生した処理ガスにより生じる圧力を緩和する。ガス圧緩和部40の構成について説明する。図4は、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1のガス圧緩和部40の構成を説明する図である。ガス圧緩和部40は、筐体41と、ガス圧緩和袋42と、吊りヒモ43と、吊り金具44と、を備える。
次に、ガス発生器処理装置1における処理、すなわち、ガス発生器の処理方法について説明する。図7は、第1実施形態に係るガス発生器処理装置1における処理(工程)を説明するフローチャートである。
第1実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置1によれば、ガス発生器100に接触することなく、すなわち、非接触で、処理できることから、ガス発生器100からガスを発生させる処理を効率よくできる。
<ガス発生器処理装置2>
第1実施形態に係るガス発生器処理装置1において、ガス圧緩和部40は、圧力の緩和を行っていたが、ガス圧緩和部40において、処理ガスに含まれる不純物等を除去する処理を行ってもよい。第2実施形態に係るガス発生器処理装置2は、ガス発生器処理装置1のガス圧緩和部40に換えて、処理ガスに含まれる不純物等を除去も行うガス圧緩和部140を備える。また、第2実施形態に係るガス発生器処理装置2は、ガス発生器処理装置1の保管部30に換えて、保管部35を備える。図9は、第2実施形態に係るガス発生器処理装置2の構成例を示す図である。
第2実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置2は、第1実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置1と同様の作用・効果を有する。また、第2実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置2は、ガス圧緩和部140により処理ガスに含まれる不純物等を取り除くことができる。
<ガス発生器処理装置3>
図13は、第3実施形態に係るガス発生器処理装置3の構成例を示す図である。ガス発生器処理装置3は、例えば、自動車に用いられるエアバッグを膨張させるためにガスを発生させるガス発生器の処理装置である。ガス発生器処理装置3で処理されるガス発生器は、未使用のガス発生器である。
展開処理部210は、未処理のガス発生器100aが搬入されて、ガスを発生させる処理を行い、処理済みのガス発生器100nを搬出する。展開処理部210は、円周方向に複数の分かれた処理室211を有する円筒状である。複数の処理室211は、円周上に配置される。ガス発生器処理装置3は、8個の処理室211を備える。展開処理部210は、円筒の中心軸を中心に矢印Rの向きに回転する。展開処理部210は、処理室211により、ガス発生器100aを収容する。
第1処理室211aには、処理対象のガス発生器100aが開口211Hから搬入される。第1処理室211aは、展開処理部210の上部に位置する。いいかえると、第1処理室211aは、処理室211の中で上側に位置する処理室である。第1処理室211aの上から処理対象のガス発生器100aが、第1処理室211aに搬入される。
第2処理室211bは、搬入されたガス発生器100aを電波の照射位置(第3処理室211c)まで搬送する。
第3処理室211cでは、処理対象のガス発生器100aに電波が照射される。第3処理室211cの外側には、電波照射部220が設けられる。電波照射部220は、第3処理室211cの内部に保持されているガス発生器100aに電波Wを照射する。電波Wをガス発生器100aに照射すると、ガス発生器100aからガスGが発生する。発生したガスGは、流路212側に流出する。
第4処理室211dは、処理されたガス発生器100nのガスを回収しながら、ガス発生器100nを搬送する。ガス発生器100nから発生しているガスGは、流路212側に流出する。
第5処理室211eでは、処理されたガス発生器100nを、開口211Hから保管部230に落下させて移動する。第5処理室211eは、展開処理部210の下部に位置する。いいかえると、第5処理室211eは、処理室211の中で下側に位置する処理室である。ガス発生器100nから発生しているガスGは、流路212側に流出する。
保管部230は、展開処理部210において処理されたガス発生器100nを保管する。保管部230は、上部が開放された略直方体状の形状を有する。保管部230は、内部に保管空間230sを有する。
第3実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置3は、第1実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置1と同様の作用・効果を有する。また、第3実施形態に係るガス発生器100の処理方法及びガス発生器処理装置3は、ガス発生器100を連続して処理を行うことができる。
10、210 展開処理部
10s 内部空間
20、220 電波照射部
30、35、230 保管部
30s、35s、230s 保管空間
40、140、240 ガス圧緩和部
100、100a、100n ガス発生器
101n、101p リード線
110 点火部
120 着火剤
130 ガス発生剤
211 処理室
211a 第1処理室
211e 第5処理室
Claims (5)
- ガス発生剤を燃焼させる際に用いられる点火部に電力を供給するリード線を備える未使用のガス発生器の前記リード線に電波を照射する電波照射部と、
前記ガス発生器を収容する展開処理部と、
処理した前記ガス発生器を保管する保管部と、
を備え、
前記電波照射部は、前記展開処理部において前記電波を照射し、
前記電波により前記リード線に発生した電力によって前記点火部を点火させ、前記ガス発生剤を燃焼させて前記ガス発生器からガスを放出する、
ガス発生器処理装置。 - 前記展開処理部は、円周上に配置された複数の処理室を備え、
前記複数の処理室は、回転し、前記複数の処理室の上側の搬入処理室に、未使用の前記ガス発生器が搬入され、前記複数の処理室の下側の搬出処理室から、処理済みの前記ガス発生器が搬出される、
請求項1に記載のガス発生器処理装置。 - 前記電波は、マイクロ波である、
請求項1又は請求項2のいずれかに記載のガス発生器処理装置。 - 前記リード線は、前記点火部に接続される第1リード線及び第2リード線を備え、前記第1リード線は、前記第2リード線に短絡される、
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のガス発生器処理装置。 - 前記ガス発生器から発生した前記ガスにより生じる圧力を緩和するガス圧緩和部を更に備える、
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のガス発生器処理装置。
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