JP7190841B2 - SiCインゴットの製造方法及びSiCウェハの製造方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、上記課題を解決するために、以下の手段を提供する。
図1は、本実施形態にかかるSiC単結晶の一例を平面視した図である。また図2は、本実施形態にかかるSiC単結晶を平面視中央を通り、[1-100]方向に沿って切断した切断面の断面模式図である。図2において上側が[000-1]方向、すなわち<0001>方向に垂直に切断をした時にカーボン面(C面、(000-1)面)が現れる方向である。さらに、図3は、本実施形態にかかるSiC単結晶を平面視中央を通り、図2に示す[1-100]と直交する[11-20]方向に沿って切断した切断面の断面模式図である。図3においても上側が[000-1]方向、すなわち<0001>方向に垂直に切断をした時にカーボン面(C面、(000-1)面)が現れる方向である。図2と図3では、<000-1>方向と、その<1-100>と直交する<11-20>方向とを代表する方向として、それぞれ[1-100]方向と[11-20]方向とを選んで図示した。また以下の説明においても、[1-100]方向と[11-20]方向とを用いて説明する。
ここで、SiC単結晶(インゴット)をスライスしたウェハ20の外周端部分のXRDの測定値から原子配列面の湾曲の大きさを測定する方法について具体的に説明する。
原子配列面の湾曲量は、別の方法で求めてもよい。図9に平面視中心を通り原子配列面の測定の方向、例えば[1-100]方向に沿って切断した切断面を模式的に示す。図9では、格子配列面22の形状が凹状に湾曲している場合を例に説明する。
この方法は、それぞれの測定箇所で原子配列面における原子の相対位置が求められる。そのため、ウェハ20全体において原子配列面22の相対的な原子位置をグラフとして示すことができ、原子配列面22のならびを感覚的に把握するために有益である。
SiC単結晶の製造方法の一つとして、昇華法が知られている。昇華法は、原料を加熱することによって生じた原料ガスを単結晶(種結晶)上で再結晶化し、大きな単結晶(インゴット)を得る方法である。
実験例1では、<1-100>方向(具体的には[1-100]方向)に沿った切断面における原子配列面と、その<1-100>に直交する<11-20>方向(具体的には[11-20]方向)に沿って切断した原子配列面と、が同一方向に湾曲した4H-SiC単結晶からなる種結晶を準備した。種結晶の直径は16cmとした。
実験例2では、<1-100>方向(具体的には[1-100]方向)に沿った切断面における原子配列面と、その<1-100>に直交する<11-20>方向(具体的には[11-20]方向)に沿って切断した原子配列面と、が異なる方向に湾曲した4H-SiC単結晶からなる種結晶を準備した。種結晶の直径は16cmとした。
Claims (4)
- 平面視中心を通り<1-100>方向に沿って切断した切断面における原子配列面の湾曲量と、平面視中心を通り前記<1-100>方向に垂直な<11-20>方向に沿って切断した切断面における原子配列面の湾曲量と、の差が60μm以下である、SiC単結晶を選択する工程と、
前記SiC単結晶を種結晶とし、前記種結晶のC面((000-1)面)またはC面から0~10°オフ角をつけた面にSiC単結晶を結晶成長させる工程と、
を含む、SiCインゴットの製造方法。 - 前記SiC単結晶の前記原子配列面の単位長さあたりの湾曲量の最大値と最小値の差が4μm/cm以下である、請求項1に記載のSiCインゴットの製造方法。
- 前記SiC単結晶の平面視の直径が140mm以上である、請求項1又は2に記載のSiCインゴットの製造方法。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載のSiCインゴットの製造方法で作製されたSiCインゴットをスライスするSiCウェハの製造方法。
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