JP7181156B2 - 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本基板処理装置は、
処理液で基板に対して処理を行う基板処理装置において、
前記処理液を貯留し、該処理液に浸漬させて前記基板に対して前記処理を行う処理槽と、
前記処理槽から溢れた前記処理液を回収するオーバーフロー槽と、
前記オーバーフロー槽と前記処理槽とを連通接続する循環配管と、
前記循環配管に設けられ、前記処理液を循環させるポンプと、
前記循環配管に設けられ、前記処理液を処理温度に温調するインラインヒータと、
前記循環配管に設けられ、前記処理液中の異物を除去するフィルタと、
前記インラインヒータ及び前記フィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、
前記インラインヒータ及び前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第1バイパス配管と、
前記第1バイパス配管を開閉する第1開閉弁と、
前記第1開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整する制御部と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置である。
前記フィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第2バイパス配管と、
前記第2バイパス配管を開閉する第2開閉弁と、
を備え、
前記制御部は、前記第1開閉弁及び第2開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整するようにしてもよい。
例えば、処理液の温度が低いために処理液の粘度が高く、フィルタでの圧力損失が大きくなる場合には、第2開閉弁を開放し、フィルタを迂回する第2バイパス配管にも処理液を流通させることにより、インラインヒータによる処理液の温調を行いつつ、処理槽を流通する処理液の流量を増加させることができ、温調に要する時間を短縮することができる。
前記第1バイパス配管は、前記インラインヒータを迂回して前記循環配管と並列に接続されるヒータバイパス配管と、前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続されるフィルタバイパス配管とを含み、
前記第1開閉弁は、前記ヒータバイパス配管を開閉するヒータバイパス開閉弁と、前記フィルタバイパス配管を開閉するフィルタバイパス開閉弁とを含み、
前記制御部は、前記ヒータバイパス開閉弁及び前記フィルタバイパス開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整するようにしてもよい。
前記制御部は、前記処理による前記処理液中の特定の成分の濃度に応じて、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を制御するようにしてもよい。
前記循環配管を流通する処理液における特定の成分の濃度を検知する濃度検知部を備え、
前記制御部は、前記濃度検知部により検知された前記濃度に基づいて、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整するようにしてもよい。
また、このような特定の成分としては、シリコンが挙げられるがこれに限られない。
前記基板は、3次元NAND半導体素子を形成する基板であり、
前記処理は、前記基板に含まれる窒化シリコン膜を、前記処理液としてリン酸を含むエッチング液によってエッチングする処理であるようにしてもよい。
すなわち、本基板処理方法は、
処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬させて処理を行う基板処理方法であって、
前記処理槽に連通接続される循環配管を介して、前記処理液を循環させるステップと、
前記処理液を処理温度に温調するインラインヒータ及び前記処理液中の異物を除去するフィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、前記インラインヒータ及び前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第1バイパス配管を開閉する第1開閉弁を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整するステップと、
を含むことを特徴とする基板処理方法である。
以下、本発明の実施例1について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施例は、本願発明の一態様であり、本願発明の技術的範囲を限定するものではない。図1は、実施例1に係る基板処理装置1の概略構成を示すブロック図である。
~264から気泡が処理液中に放出されることによりバブリングが行われ、底部から上方への処理液の置換速度を増加させる。
ここでは、本発明の好適な適用例である3次元構造を有する3次元NANDの製造工程におけるエッチング処理を例として説明する。
する。
以下に、実施例1に係る基板処理方法について説明する。図4は、実施例1に係る基板処理方法のタイムチャートである。図4では、基板処理装置1の構成のうち、以下に説明する基板処理方法に直接関連する構成のみについて記載している。
処理位置への下降によるエッチング処理の開始のタイミング又は他の先行するタイミングからの経過時間に基づいて制御する。エッチング処理の初期には、処理液中のパーティクルの量がまだ増加していないので、処理液の一部が、循環する過程でフィルタが設けられていない流路を流通することがあるとしても影響は小さい。なお、ここでは、開閉弁21の開放による処理槽11内の処理液の流速の変化が基板保持部33の処理位置への下降に影響を与えないように、基板保持部33の処理位置への下降後に、開閉弁21を開放しているが、これに限られない。
とを抑制することができる。
以下、本発明の実施例2について図面を参照しながら詳細に説明する。図5は、実施例2に係る基板処理装置2の概略構成を示すブロック図である。実施例1と同様の構成については、同様の符号を用いて詳細な説明を省略する。
以下に、実施例2に係る基板処理方法について説明する。
実施例1と同様に、3次元構造を有する3次元NANDの製造工程におけるエッチング処理を例として説明する。
実施例1においても説明したように、エッチング処理が開始されるt4時点以前の準備期間において、処理液が処理温度にまで昇温される以前の低温の状態では、リン酸を含む処理液の粘度が高く、フィルタ17における圧力損失が大きいため、処理槽11内を流通する処理液の流量を稼ぐことができない。このため、t1時点で開閉弁37を開放するようにしてもよい。このようにすれば、フィルタ17を含む循環配管13と並列してバイパス配管36による流路が形成されるので、処理液の流量を稼ぐことができ、温調に要する時間を短縮することができる。
以下、本発明の実施例3について図面を参照しながら詳細に説明する。図7は、実施例3に係る基板処理装置3の概略構成を示すブロック図である。実施例1及び2と同様の構成については、同様の符号を用いて詳細な説明を省略する。
以下に、実施例3に係る基板処理方法について説明する。
実施例1及び2と同様に、3次元構造を有する3次元NANDの製造工程におけるエッチング処理を例として説明する。
部33の処理位置への下降に影響を与えないように、基板保持部33の処理位置への下降後に、開閉弁39を開放しているが、これに限られない。
実施例1においても説明したように、エッチング処理が開始されるt4時点以前の準備期間において、処理液が処理温度にまで昇温される以前の低温の状態では、リン酸を含む処理液の粘度が高く、フィルタ17における圧力損失が大きいため、処理槽11内を流通する処理液の流量を稼ぐことができない。このため、t1時点で開閉弁37を開放するようにしてもよい。このようにすれば、フィルタ17を含む循環配管13と並列してバイパス配管36による流路が形成されるので、処理液の流量を稼ぐことができ、温調に要する時間を短縮することができる。ここでは、開閉弁37を開閉弁21と同じt7時点で閉止するようにしているが、処理液が処理温度に昇温した時点で、開閉弁21とは独立して閉止するようにしてもよい。
以下、本発明の実施例4について図面を参照しながら詳細に説明する。図9は、実施例3に係る基板処理装置4の概略構成を示すブロック図である。実施例1と同様の構成については、同様の符号を用いて詳細な説明を省略する。
コン濃度を低下させることができ、シリコン成分が構造内に析出することを抑制することができる。一方で、エッチング量が少なく、処理液中のシリコン濃度が高くないときには、開閉弁21を閉止することにより、循環配管13を流通する処理液の全量に対して、インラインヒータ16による温調及びフィルタ17によるパーティクルのろ過を行うことができる。
上述の実施例においては、循環配管13に配置されたインラインヒータ16及びフィルタ17の両者(実施例1及び4)、インラインヒータ16及びフィルタ17の両者とフィルタ17のみ(実施例2)、インラインヒータ16及びフィルタ17のそれぞれ(実施例3)をバイパスする流路を設けている。基板処理装置においては、循環配管13に直列に、リン酸の濃度を検知するリン酸濃度センサを配置する場合がある。このようなリン酸濃度センサにおいても、循環配管13を流通する処理液の圧力損失が生じる。このため、リン酸濃度センサを循環配管13からバイパスさせるバイパス配管を設け、当該バイパス配管に配置した開閉弁を制御部35により開閉制御するようにしてもよい。実施例1及び実施例4のように、インラインヒータ16及びフィルタ17並びにリン酸濃度センサを循環配管13からバイパスさせるようにしてもよい。また、実施例2のように、フィルタ17のみをバイパスさせるとともに、インラインヒータ16及びフィルタ17並びにリン酸濃度センサを循環配管13からバイパスさせるようにしてもよい。また、実施例3のように、インラインヒータ16、フィルタ17及びリン酸濃度センサをそれぞれ循環配管13からバイパスさせるようにしてもよい。リン酸濃度センサに対する、循環配管13からのバイパスのさせ方はこれらに限られない。
以上で開示した実施形態や変形例はそれぞれ組み合わせることができる。
図10は、上述の実施例に係る基板処理装置を適用した基板処理システム100の全体構成の概略を示す平面図である。
基板処理システム100は、複数枚の基板Wを一括して処理するバッチ式の装置である。基板処理システム100は、半導体ウェハなどの円板状の基板Wを収容するキャリアCが搬送されるロードポートLPと、ロードポートLPから搬送された基板Wを薬液やリンス液などの処理液で処理する処理ユニット102と、ロードポートLPと処理ユニット102との間で基板Wを搬送する複数の搬送ロボットと、基板処理システム100を制御する制御装置103とを含む。
の基板Wが浸漬される第2リンス液を貯留する第2リンス処理槽107とを含む。処理ユニット102は、さらに、複数枚の基板Wを乾燥させる乾燥処理槽108を含む。本基板処理システム100の第2薬液処理槽106を、上述の実施例に係る基板処理装置1,2,3,4により構成することができる。
11・・・処理槽
15・・・ポンプ
16・・・インラインヒータ
17・・・フィルタ
20,36,38・・・バイパス配管
21,37,39・・・開閉弁
40・・・シリコン濃度センサ
100・・・基板処理システム
W・・・基板
Claims (9)
- 処理液で基板に対して処理を行う基板処理装置において、
前記処理液を貯留し、該処理液に浸漬させて前記基板に対して前記処理を行う処理槽と、
前記処理槽から溢れた前記処理液を回収するオーバーフロー槽と、
前記オーバーフロー槽と前記処理槽とを連通接続する循環配管と、
前記循環配管に設けられ、前記処理液を循環させるポンプと、
前記循環配管に設けられ、前記処理液を処理温度に温調するインラインヒータと、
前記循環配管に設けられ、前記処理液中の異物を除去するフィルタと、
前記インラインヒータ及び前記フィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、前記インラインヒータ及び前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第1バイパス配管と、
前記第1バイパス配管を開閉する第1開閉弁と、
前記第1開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記フィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第2バイパス配管と、
前記第2バイパス配管を開閉する第2開閉弁と、
を備え、
前記制御部は、前記第1開閉弁及び第2開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1バイパス配管は、前記インラインヒータを迂回して前記循環配管と並列に接続されるヒータバイパス配管と、前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続されるフィルタバイパス配管とを含み、
前記第1開閉弁は、前記ヒータバイパス配管を開閉するヒータバイパス開閉弁と、前記フィルタバイパス配管を開閉するフィルタバイパス開閉弁とを含み、
前記制御部は、前記ヒータバイパス開閉弁及び前記フィルタバイパス開閉弁の開閉を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記処理による前記処理液中の特定の成分の濃度に応じて、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を制御することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記循環配管を流通する処理液における特定の成分の濃度を検知する濃度検知部を備え、
前記制御部は、前記濃度検知部により検知された前記濃度に基づいて、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記特定の成分は、シリコンであることを特徴とする請求項4又は5に記載の基板処理装置。
- 前記基板は、3次元NAND半導体素子を形成する基板であり、
前記処理は、前記基板に含まれる窒化シリコン膜を、前記処理液としてリン酸を含むエッチング液によってエッチングする処理であることを特徴とする請求項1ないし6のいず
れか1項に記載の基板処理装置。 - 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板処理装置を備える基板処理システム。
- 処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬させて処理を行う基板処理方法であって、
前記処理槽に連通接続される循環配管を介して、前記処理液を循環させるステップと、
前記処理液を処理温度に温調するインラインヒータ及び前記処理液中の異物を除去するフィルタの上流側において前記循環配管から分岐して、前記インラインヒータ及び前記フィルタを迂回して前記循環配管と並列に接続される第1バイパス配管を開閉する第1開閉弁を制御して、前記処理槽を流通する前記処理液の流量を調整するステップと、
を含むことを特徴とする基板処理方法。
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