JP7160008B2 - Active energy ray-curable resin composition, cured product and laminate - Google Patents
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Description
本発明は、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、硬化物及び積層体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition, a cured product and a laminate.
タッチパネルセンサーに用いられる透明導電性フィルムは透明導電層をフォトリソエッチングすることにより配線パターンを形成する。しかし配線パターン部分とエッチング部分の反射率の差が大きく配線パターンが見えてしまう問題があった。この問題を解決するために、基板と透明導電層の間に屈折率の異なる層（インデックスマッチング層）を設けることで、配線パターン部分とエッチング部分の反射率の差を小さくし、配線パターンを視認させにくくする技術が知られている。特許文献１には、基板上に少なくとも１層のアンダーコート層を設け、このアンダーコート層の上に透明導電層を設けた積層体が開示されており、特許文献２には、基板上に高屈折率層、低屈折率層および透明導電性薄膜層をこの順に積層した積層体が開示されている。また、特許文献３は、骨見え抑制するために、透明基板と透明電極層の間に硬化樹脂層を設けた積層体が開示されている。 A transparent conductive film used for a touch panel sensor forms a wiring pattern by photolitho-etching a transparent conductive layer. However, there is a problem that the wiring pattern is visible due to the large difference in reflectance between the wiring pattern portion and the etched portion. To solve this problem, a layer with a different refractive index (index matching layer) is provided between the substrate and the transparent conductive layer to reduce the difference in reflectance between the wiring pattern portion and the etched portion, making the wiring pattern visible. Techniques are known to make it difficult to do so. Patent Document 1 discloses a laminate in which at least one undercoat layer is provided on a substrate, and a transparent conductive layer is provided on this undercoat layer. A laminate is disclosed in which a refractive index layer, a low refractive index layer and a transparent conductive thin film layer are laminated in this order. Further, Patent Document 3 discloses a laminate in which a cured resin layer is provided between a transparent substrate and a transparent electrode layer in order to suppress visible bones.
しかしながら、従来のインデックスマッチング層は透明導電層との付着性が十分ではなくタッチパネルセンサーへの加工時に剥離が生じてしまう問題があった。 However, the conventional index matching layer has insufficient adhesion to the transparent conductive layer, and there is a problem that peeling occurs during processing into a touch panel sensor.
本発明では、付着性に優れつつもインデックスマッチング層としての機能も良好な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、硬化物及び積層体を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide an active energy ray-curable resin composition, a cured product, and a laminate that are excellent in adhesion and have a good function as an index matching layer.
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討したところ、所定の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることにより、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and have found that the above problems can be solved by using a predetermined active energy ray-curable resin composition, and completed the present invention.
すなわち、本発明は、以下の項目１～項目８に関する。
（項目１）
基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び
（Ｄ）光重合開始剤を含み、
下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。
（項目２）
（Ａ）成分がシランカップリング剤で表面処理された金属酸化物粒子であり、（Ｂ）成分がシロキサン化合物又はシラザンで表面処理された金属酸化物粒子である項目１に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目３）
シランカップリング剤で表面処理されたジルコニア粒子、シロキサン化合物又はシラザンで表面処理されたシリカ粒子、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び光重合開始剤を含むインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目４）
シランカップリング剤がウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランである項目２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目５）
シロキサン化合物がポリジメチルシロキサンであり、シラザンがビス（トリメチルシリル）アミンである項目２又は３に記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
（項目６）
項目１～５のいずれかに記載のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。
（項目７）
基材、項目６に記載の硬化物及び透明導電層の順に有する積層体。
（項目８）
透明導電層がスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）であって、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６に準じたクロスカット法によって測定されるインデックスマッチング層と透明導電層との間で剥離する割合が１０％未満である項目７に記載の積層体。
That is, the present invention relates to items 1 to 8 below.
(Item 1)
An active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer of a laminate having an index matching layer and a transparent conductive layer in this order on a base material,
(A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or higher;
(B) metal oxide particles having a refractive index of 1.5 or less;
(C) a compound having a (meth)acryloyl group, and (D) a photopolymerization initiator,
An active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer that satisfies the following conditions.
Conditions: The refractive index of the index matching layer is 1.62 or more and 1.72 or less, and the metal element of component (B) and (A) in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The mass ratio to the metal element of the component (metal element of component (B)/metal element of component (A)) is 0.3 or more.
(Item 2)
Forming an index matching layer according to Item 1, wherein component (A) is metal oxide particles surface-treated with a silane coupling agent, and component (B) is metal oxide particles surface-treated with a siloxane compound or silazane. for active energy ray-curable resin composition.
(Item 3)
Active energy ray-curable type for forming an index matching layer containing zirconia particles surface-treated with a silane coupling agent, silica particles surface-treated with a siloxane compound or silazane, a compound having a (meth)acryloyl group, and a photopolymerization initiator Resin composition.
(Item 4)
4. The active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer according to Item 2 or 3, wherein the silane coupling agent is a urethane (meth)acrylate structure-containing trimethoxysilane.
(Item 5)
4. The active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer according to Item 2 or 3, wherein the siloxane compound is polydimethylsiloxane and the silazane is bis(trimethylsilyl)amine.
(Item 6)
A cured product of the active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer according to any one of Items 1 to 5.
(Item 7)
A laminate comprising a substrate, the cured product according to item 6, and a transparent conductive layer in this order.
(Item 8)
The transparent conductive layer is tin-doped indium oxide (ITO), and the rate of peeling between the index matching layer and the transparent conductive layer measured by a cross-cut method according to JIS K5600-5-6 is less than 10%. A laminate according to item 7.
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることで、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が向上した透明導電性フィルムを得ることが出来る。 By using the active energy ray-curable resin composition of the present invention, it is possible to obtain a transparent conductive film with improved adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer.
本発明は、
基材上にインデックスマッチング層、透明導電層を順に有する積層体のインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物であって、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子（以下、「（Ａ）成分」ともいう。）、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子（以下、「（Ｂ）成分」ともいう。）、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物（以下、「（Ｃ）成分」ともいう。）、
（Ｄ）光重合開始剤（以下、「（Ｄ）成分」ともいう。）を含み、下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（以下、「樹脂組成物」ともいう。）
又は、
シランカップリング剤で表面処理されたジルコニア粒子、シロキサン化合物又はシラザンで表面処理されたシリカ粒子、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び光重合開始剤を含むインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。
以下各成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルのことである。また、本明細書において、金属酸化物粒子とは、金属酸化物同士を重合反応させ、－金属原子－酸素原子－金属原子－の結合を形成させることで得られる一次粒子及び／又は二次粒子のことである。金属酸化物粒子の表面は、通常水酸基で覆われていることから、金属酸化物粒子は通常親水性の物質である。
The present invention
An active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer of a laminate having an index matching layer and a transparent conductive layer in this order on a base material,
(A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more (hereinafter also referred to as "component (A)");
(B) metal oxide particles having a refractive index of 1.5 or less (hereinafter also referred to as "component (B)");
(C) a compound having a (meth)acryloyl group (hereinafter also referred to as "(C) component"),
(D) Active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer (hereinafter also referred to as "resin composition") containing a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as "component (D)") and satisfying the following conditions: Say.)
or
Active energy ray-curable type for forming an index matching layer containing zirconia particles surface-treated with a silane coupling agent, silica particles surface-treated with a siloxane compound or silazane, a compound having a (meth)acryloyl group, and a photopolymerization initiator It relates to a resin composition.
Conditions: The refractive index of the index matching layer is 1.62 or more and 1.72 or less, and the metal element of component (B) and (A) in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The mass ratio to the metal element of the component (metal element of component (B)/metal element of component (A)) is 0.3 or more.
Each component will be described in detail below. In this specification, (meth)acryloyl means acryloyl and/or methacryloyl. In the present specification, the metal oxide particles are primary particles and/or secondary particles obtained by polymerizing metal oxides to form bonds of -metal atom-oxygen atom-metal atom-. It's about. Since the surface of metal oxide particles is usually covered with hydroxyl groups, metal oxide particles are usually hydrophilic substances.
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子である。（Ａ）成分の屈折率は、好ましくは１．７以上３．０以下であり、より好ましくは１．７以上２．４以下である。
<(A) Component>
Component (A) is metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more. The refractive index of component (A) is preferably from 1.7 to 3.0, more preferably from 1.7 to 2.4.
（Ａ）成分として、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。（Ａ）成分として、酸化アルミニウム（屈折率１．７～１．８）、酸化スズ（屈折率１．９～２．０）、酸化亜鉛（屈折率１．９～２．０）、酸化ジルコニウム（屈折率２．０～２．１）、酸化チタン（屈折率２．５～２．８）等が例示される。 Component (A) is not particularly limited, and various known components can be used. (A) components include aluminum oxide (refractive index 1.7 to 1.8), tin oxide (refractive index 1.9 to 2.0), zinc oxide (refractive index 1.9 to 2.0), and zirconium oxide. (refractive index 2.0 to 2.1), titanium oxide (refractive index 2.5 to 2.8), and the like.
（Ａ）成分は、分散体であってもよく、粉体であってもよい。 Component (A) may be a dispersion or a powder.
（Ａ）成分の分散体の溶液は、各種公知のものであってもよい。（Ａ）成分の分散体の溶液は、水又は有機溶媒等が例示される。 Various known solutions may be used for the dispersion of component (A). Examples of the solution of the dispersion of component (A) include water or an organic solvent.
有機溶媒は、各種公知のものであってもよい。有機溶媒として、ケトン溶媒、芳香族溶媒、アルコール溶媒、グリコールエーテル溶媒、エステル溶媒、石油系溶媒、ハロアルカン溶媒、アミド溶媒等が例示される。 Various known organic solvents may be used. Examples of organic solvents include ketone solvents, aromatic solvents, alcohol solvents, glycol ether solvents, ester solvents, petroleum solvents, haloalkane solvents, amide solvents and the like.
ケトン溶媒として、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が例示される。 Examples of ketone solvents include methyl ethyl ketone, acetylacetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and the like.
芳香族溶媒として、トルエン、キシレン等が例示される。 Examples of aromatic solvents include toluene and xylene.
アルコール溶媒として、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等が例示される。 Examples of alcohol solvents include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and the like.
グリコールエーテル溶媒として、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が例示される。 Examples of glycol ether solvents include ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether.
エステル溶媒として、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、セロソルブアセテート等が例示される。 Ester solvents include ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, cellosolve acetate and the like.
石油系溶媒として、ソルベッソ＃１００（エクソン社製）、ソルベッソ＃１５０（エクソン社製）等が例示される。 Examples of petroleum solvents include Solvesso #100 (manufactured by Exxon), Solvesso #150 (manufactured by Exxon) and the like.
ハロアルカン溶媒として、クロロホルム等が例示される。 Chloroform etc. are illustrated as a haloalkane solvent.
アミド溶媒として、ジメチルホルムアミド等が例示される。 Examples of amide solvents include dimethylformamide and the like.
有機溶媒として例示された物質及び有機溶媒として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。 The substances exemplified as organic solvents and known organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
酸化アルミニウムは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化アルミニウム粉体（製品名「酸化アルミニウム」、富士フイルム和光純薬（株）製）、酸化アルミニウム水分散体（製品名「アルミナゾル２００」、日産化学（株）製）等が例示される。 Aluminum oxide may be a commercially available product. Examples of such products include aluminum oxide powder (product name: "Aluminum Oxide", manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), aluminum oxide aqueous dispersion (product name: "Aluminasol 200", manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), and the like. be done.
酸化スズは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化スズナノ粉末（製品名「アンチモンフリー透明導電性粉末Ｓ－１」、三菱マテリアル電子化成（株）製）、リンドープ酸化スズナノ粉末（製品名「アンチモンフリー透明導電性粉末ＳＰ－２」、三菱マテリアル電子化成（株）製）、酸化スズ粉末（製品名「酸化第二錫」、日本化学産業（株）製）等が例示される。 Tin oxide may be a commercially available product. The products include tin oxide nanopowder (product name “Antimony-free transparent conductive powder S-1”, manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), phosphorus-doped tin oxide nanopowder (product name “antimony-free transparent conductive powder SP-2”. , manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), tin oxide powder (product name “stannic oxide”, manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.), and the like.
酸化亜鉛は、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化亜鉛微粒子（製品名「超微粒子酸化亜鉛」、堺化学工業（株）製）、酸化亜鉛粉末（製品名「酸化亜鉛」、富士フィルム和光純薬（株）製）、酸化亜鉛アニオン系分散体（製品名「水性亜鉛華 ＡＺ－ＳＷ」、大崎工業（株）製）等が例示される。 Zinc oxide may be a commercially available product. As such products, zinc oxide fine particles (product name: "ultrafine zinc oxide", manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), zinc oxide powder (product name: "zinc oxide", manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), zinc oxide Examples thereof include anionic dispersions (product name “Aqueous Zinc White AZ-SW”, manufactured by Osaki Industry Co., Ltd.).
酸化ジルコニウムは、市販された製品であってもよい。当該製品として、ジルコニア粒子水分散体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｗ」、（株）アイテック製）、ジルコニア粒子メチルエチルケトン／メタノール分散体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｋ」、（株）アイテック製）、ジルコニア粒子メチルエチルケトン分散体（製品名「ジルコスターＴｙｐｅ１」、（株）日本触媒製）、ジルコニア粒子粉体（製品名「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｐ」「Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｒｐ」、（株）アイテック製）等が例示される。 Zirconium oxide may be a commercially available product. Such products include zirconia particle water dispersion (product name “Zirconeo-Cw”, manufactured by ITEC Co., Ltd.), zirconia particle methyl ethyl ketone/methanol dispersion (product name “Zirconeo-Ck”, manufactured by ITEC Co., Ltd.), and zirconia particles. Examples include methyl ethyl ketone dispersion (product name “Zircostar Type 1”, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), zirconia particle powder (product names “Zirconeo-Cp” and “Zirconeo-Rp”, manufactured by ITEC Co., Ltd.).
酸化チタンは、市販された製品であってもよい。当該製品として、酸化チタン粉体（製品名「微粒子酸化チタンＭＴ－５００Ｂ」「微粒子酸化チタンＭＴ－６００Ｂ」「微粒子酸化チタンＭＴ－７００Ｂ」、テイカ（株）製）、酸化チタン水溶液（製品名「ミラクルチタン」、金森藤平商事（株）製）等が例示される。 Titanium oxide may be a commercially available product. The products include titanium oxide powder (product names: "fine particle titanium oxide MT-500B", "fine particle titanium oxide MT-600B", "fine particle titanium oxide MT-700B", manufactured by Tayca Corporation), titanium oxide aqueous solution (product name: " Miracle Titan", manufactured by Kanamori Tohei Shoji Co., Ltd.) and the like are exemplified.
（Ａ）成分は、スズドープ酸化インジウムからなる透明導電層（以下、「ＩＴＯ膜」ともいう。）の配線パターンを見えづらくする効果（以下、「骨見え防止効果」ともいう。）に優れることから、好ましくは酸化ジルコニウム又は酸化チタンである。さらに、（Ａ）成分は、樹脂組成物が十分に硬化すること（以下、「硬化性」ともいう。）に優れることから、好ましくは酸化ジルコニウムである。 The (A) component is excellent in the effect of making the wiring pattern of the transparent conductive layer (hereinafter also referred to as "ITO film") made of tin-doped indium oxide difficult to see (hereinafter also referred to as "bone visibility prevention effect"). , preferably zirconium oxide or titanium oxide. Furthermore, the (A) component is preferably zirconium oxide because it is excellent in sufficiently curing the resin composition (hereinafter also referred to as “curability”).
＜（Ａ）成分の表面処理＞
（Ａ）成分は表面処理工程を経た金属酸化物粒子であってもよい。表面処理工程とは、粒子表面を表面処理剤で修飾し、疎水化する工程のことである。
<Surface treatment of component (A)>
The component (A) may be metal oxide particles that have undergone a surface treatment step. The surface treatment step is a step of modifying the particle surface with a surface treatment agent to make it hydrophobic.
表面処理剤は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。表面処理剤として、シロキサン化合物、界面活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、シラザン等が例示される。 The surface treatment agent is not particularly limited, and various known agents may be used. Examples of surface treatment agents include siloxane compounds, surfactants, silane coupling agents, titanium coupling agents, silazanes, and the like.
シロキサン化合物として、モノアミン変性シリコーン、ジアミン変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン、カルボキシル変性シリコーン、アルコール変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、（メタ）アクリレート変性シリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、脂環式エポキシ変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、（メタ）アクリル変性シリコーン、ハイドロジェン変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、シラノール変性シリコーン、アミノ・ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ・アラルキル変性シリコーン、カルボン酸無水物変性シリコーン等の変性シリコーン、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン等のストレートシリコーン等が例示される。 Siloxane compounds include monoamine-modified silicone, diamine-modified silicone, methoxy-modified silicone, carboxyl-modified silicone, alcohol-modified silicone, polyether-modified silicone, epoxy-modified silicone, mercapto-modified silicone, amino-modified silicone, (meth)acrylate-modified silicone, methyl hydro gensilicone, alicyclic epoxy-modified silicone, carbinol-modified silicone, (meth)acrylic-modified silicone, hydrogen-modified silicone, carbinol-modified silicone, phenol-modified silicone, silanol-modified silicone, amino-polyether-modified silicone, epoxy-poly Modified silicones such as ether-modified silicones, epoxy-aralkyl-modified silicones, and carboxylic acid anhydride-modified silicones, and straight silicones such as dimethylsilicone, methylphenylsilicone, and methylhydrogensilicone are exemplified.
シロキサン化合物は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、モノアミン変性シリコーン（製品名「ＫＦ－８６８」「ＫＦ－８６５」、信越化学工業（株）製）、ジアミン変性シリコーン（製品名「ＫＦ－８５９」「ＫＦ－３９３」、信越化学工業（株）製）、エポキシ変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－３４３」「ＫＦ－１０１」「Ｘ－２２－２０００」、信越化学工業（株）製）、脂環式エポキシ変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－２０４６」「ＫＦ－１０２」、信越化学工業（株）製）、エポキシ・ポリエーテル変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－４７４１」「ＫＦ－１００２」、信越化学工業（株）製）、エポキシ・アラルキル変性シリコーン（製品名「ＫＦ－１００５」、信越化学工業（株）製）、カルビノール変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－４０３９」「Ｘ－２２－４０１５」、信越化学工業（株）製）、メルカプト変性シリコーン（製品名「ＫＦ－２００１」「ＫＦ－２００４」、信越化学工業（株）製）、カルボキシル変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－３７０１Ｅ」、信越化学工業（株）製）、ハイドロジェン変性シリコーン（製品名「ＫＦ－９９」「ＫＦ－９９０１」、信越化学工業（株）製）、メタクリル変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－１６４」「Ｘ－２２－１６４ＡＳ」、信越化学工業（株）製）、ポリエーテル変性シリコーン（製品名「ＫＦ－３５１Ａ」「Ｘ－２２－４５１５」、信越化学工業（株）製）、フェノール変性シリコーン（製品名「ＫＦ－２２０１」、信越化学工業（株）製）、シラノール変性シリコーン（製品名「Ｘ－２１－５８４１」、信越化学工業（株）製）、アクリル変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－２４４５」、信越化学工業（株）製）、カルボン酸無水物変性シリコーン（製品名「Ｘ－２２－１６８ＡＳ」「Ｘ－２２－１６８Ａ」、信越化学工業（株）製）、ポリジメチルシロキサン（製品名「ＫＦ－９６Ｌ０．６５ｃｓ」、信越化学工業（株）製）、ポリメチルフェニルシロキサン（製品名「ＫＦ－５０－１００ｃｓ」、信越化学工業（株）製）、ポリメチルハイドロジェンシロキサン（製品名「ＫＦ－９９」、信越化学工業（株）製）等が例示される。 The siloxane compound may be a commercially available product. The product is not particularly limited, but monoamine-modified silicone (product names “KF-868” and “KF-865”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), diamine-modified silicone (product names “KF-859” and “KF-393 ”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), epoxy-modified silicone (product names “X-22-343”, “KF-101”, “X-22-2000”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), alicyclic epoxy Modified silicone (product name "X-22-2046" "KF-102", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), epoxy-polyether modified silicone (product name "X-22-4741" "KF-1002", Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), epoxy-aralkyl-modified silicone (product name “KF-1005”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carbinol-modified silicone (product name “X-22-4039”, “X-22- 4015”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), mercapto-modified silicone (product names “KF-2001” and “KF-2004”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carboxyl-modified silicone (product name “X-22-3701E ”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), hydrogen-modified silicone (product names “KF-99” and “KF-9901”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), methacrylic-modified silicone (product name “X-22-164 ” “X-22-164AS”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyether-modified silicone (product names “KF-351A” “X-22-4515”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), phenol-modified silicone (product name "KF-2201", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), silanol-modified silicone (product name "X-21-5841", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), acrylic-modified silicone (product name "X- 22-2445”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carboxylic acid anhydride-modified silicone (product names “X-22-168AS” and “X-22-168A”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polydimethylsiloxane (product name "KF-96L0.65cs", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polymethylphenylsiloxane (product name "KF-50-100cs", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polymethylhydrogensiloxane ( Product name "KF-99", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like are exemplified.
界面活性剤として、オレイン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、ヘキサンスルホン酸ナトリウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、塩化テトラメチルアンモニウム、モノメチルアミン塩酸塩、塩化ブチルピリジニウム、モノステアリン酸グリセリン、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等が例示される。 Surfactants include sodium oleate, sodium stearate, sodium laurate, sodium hexanesulfonate, sodium toluenesulfonate, tetramethylammonium chloride, monomethylamine hydrochloride, butylpyridinium chloride, glyceryl monostearate, polyoxyethylene oleyl Ether, polyoxyethylene sorbitan monolaurate and the like are exemplified.
界面活性剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、オレイン酸ナトリウム（製品名「オレイン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ステアリン酸ナトリウム（製品名「ステアリン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ラウリン酸ナトリウム（製品名「ラウリン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、ヘキサンスルホン酸ナトリウム（製品名「１－ヘキサンスルホン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、トルエンスルホン酸ナトリウム（製品名「ｐ－トルエンスルホン酸ナトリウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、塩化テトラメチルアンモニウム（製品名「塩化テトラメチルアンモニウム」、ナカライテスク（株）製）、モノメチルアミン塩酸塩（製品名「モノメチルアミン塩酸塩」、昭和化学（株）製）、塩化ブチルピリジニウム（製品名「塩化Ｎ－ｎ－ブチルピリジニウム」、富士フィルム和光純薬（株）製）、モノステアリン酸グリセリン（製品名「レオドール ＭＳ－５０」、花王（株）製）、ポリオキシエチレンオレイルエーテル（製品名「エマルゲン ４０４」、花王（株）製）、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（製品名「レオドールスーパー ＴＷ－Ｌ１２０」、花王（株）製）等が例示される。 Surfactants may be commercially available products. The product is not particularly limited, but sodium oleate (product name “sodium oleate”, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), sodium stearate (product name “sodium stearate”, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ( Co., Ltd.), sodium laurate (product name “sodium laurate”, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), sodium hexanesulfonate (product name “1-sodium hexanesulfonate”, manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ( Co., Ltd.), sodium toluenesulfonate (product name “sodium p-toluenesulfonate”, Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), tetramethylammonium chloride (product name “tetramethylammonium chloride”, Nacalai Tesque Co., Ltd. ), monomethylamine hydrochloride (product name “monomethylamine hydrochloride”, manufactured by Showa Chemical Co., Ltd.), butylpyridinium chloride (product name “Nn-butylpyridinium chloride”, Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ), glycerin monostearate (product name: Rhedol MS-50, manufactured by Kao Corporation), polyoxyethylene oleyl ether (product name: Emulgen 404, manufactured by Kao Corporation), polyoxyethylene sorbitan monolau rate (product name “Rheodor Super TW-L120”, manufactured by Kao Corporation) and the like are exemplified.
シランカップリング剤として、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、（３－メルカプトプロピル）トリメトキシシラン等が例示される。 Silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. , 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxysilane roxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene) Examples include propylamine, tris-(trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 3-ureidopropyltrialkoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, (3-mercaptopropyl)trimethoxysilane, and the like. be done.
シランカップリング剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、ビニルトリメトキシシラン（製品コード「Ｖ００４２」、東京化成工業（株）製）（製品名「ＫＢＭ－１００３」、信越化学工業（株）製）、ビニルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ－１００３」、信越化学工業（株）製）、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－３０３」、信越化学工業（株）製）、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－４０２」、信越化学工業（株）製）、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－４０３」、信越化学工業（株）製）、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ－４０２」、信越化学工業（株）製）、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ－４０３」、信越化学工業（株）製）、ｐ－スチリルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－１４０３」、信越化学工業（株）製）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－５０２」、信越化学工業（株）製）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－５０３」、信越化学工業（株）製）、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ－５０２」、信越化学工業（株）製）、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－５１０３」、信越化学工業（株）製）、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－６０２」、信越化学工業（株）製）、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン（製品名「ＫＢＥ－９１０３」、信越化学工業（株）製）、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（製品名「ＫＢＭ－９６５９」、信越化学工業（株）製）、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（製品名「ＫＢＥ－５８５」、信越化学工業（株）製）、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（製品名「ＫＢＭ－８０２」、信越化学工業（株）製）、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（製品名「ＫＢＥ－９００７」、信越化学工業（株）製）、（３－メルカプトプロピル）トリメトキシシラン（製品コード「Ｍ０９２８」、東京化成工業（株）製）等が例示される。 Silane coupling agents may be commercially available products. The product is not particularly limited, but vinyltrimethoxysilane (product code “V0042”, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (product name “KBM-1003”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), vinyltriethoxysilane (product name “KBE-1003”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane (product name “KBM-303”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane (product name “KBM-402”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-403”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ), 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (product name “KBE-402”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-glycidoxypropyltriethoxysilane (product name “KBE-403”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), p-styryltrimethoxysilane (product name “KBM-1403”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (product name “KBM-502”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-503”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane (product name “KBE- 502”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (product name “KBM-5103”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), N-2-(aminoethyl)-3-amino Propylmethyldimethoxysilane (product name “KBM-602”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine (product name “KBE-9103”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), tris-(trimethoxysilylpropyl) isocyanurate (product name "KBM-9659", Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-ureidopropyltrialkoxysilane (product name "KBE- 585”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane (product name “KBM-802”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-isocyanatopropyltriethoxysilane (product name “KBE- 9007”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (3-mercaptopropyl)trimethoxysilane (product code “M0928”, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.
チタンカップリング剤として、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（ドデシル）ベンゼンスルホニルチタネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシートリ（ジオクチル）ホスフェイトチタネート、ネオペンチル（ジアリル）オキシートリネオドデカノイルチタネート等が例示される。 Titanium coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl tri(dodecyl)benzenesulfonyl titanate, neopentyl(diallyl)oxytri(dioctyl)phosphate titanate, neopentyl(diallyl)oxythrineododecanoyl titanate. etc. are exemplified.
チタンカップリング剤は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、イソプロピルトリ（ドデシル）ベンゼンスルホニルチタネート（製品名「イソプロピルトリ（ドデシルベンゼンスルホン酸）チタネート」、ＨＡＮＧＺＨＯＵ ＪＥＳＳＩＣＡ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）等が例示される。 Titanium coupling agents may be commercially available products. Examples of such products include, but are not particularly limited to, isopropyl tri(dodecyl)benzenesulfonyl titanate (product name “isopropyl tri(dodecylbenzenesulfonic acid) titanate” manufactured by HANGZHOU JESSICA CHEMICAL).
シラザンとして、ビス（トリメチルシリル）アミン、テトラメチル－１，３－ビス（クロロメチル）ジシラザン、１，３－ビス（３，３，３－トリフルオロプロピル）－１，１，３，３－テトラメチルジシラザン、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシラザン、１，３－ジフェニルテトラメチルジシラザン、２，２，４，４，６，６－ヘキサメチルシクロトリシラザン等が例示される。 As silazanes, bis(trimethylsilyl)amine, tetramethyl-1,3-bis(chloromethyl)disilazane, 1,3-bis(3,3,3-trifluoropropyl)-1,1,3,3-tetramethyl disilazane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,3-diphenyltetramethyldisilazane, 2,2,4,4,6,6-hexamethylcyclotrisilazane, etc. are exemplified.
シラザンは、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、ビス（トリメチルシリル）アミン（製品コード「Ｈ００８９」、東京化成工業（株）製）、テトラメチル－１，３－ビス（クロロメチル）ジシラザン（製品コード「Ｂ０９９０」、東京化成工業（株）製）、１，３－ビス（３，３，３－トリフルオロプロピル）－１，１，３，３－テトラメチルジシラザン（製品コード「Ｂ３３１９」、東京化成工業（株）製）、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシラザン（製品コード「Ｄ１７６９」、東京化成工業（株）製）、１，３－ジフェニルテトラメチルジシラザン（製品コード「Ｄ１８１６」、東京化成工業（株）製）、２，２，４，４，６，６－ヘキサメチルシクロトリシラザン（製品コード「Ｈ０９０９」、東京化成工業（株）製）等が例示される。 Silazanes may be commercially available products. The product is not particularly limited, but bis(trimethylsilyl)amine (product code “H0089”, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), tetramethyl-1,3-bis(chloromethyl)disilazane (product code “B0990”, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1,3-bis(3,3,3-trifluoropropyl)-1,1,3,3-tetramethyldisilazane (product code “B3319”, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. )), 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane (product code “D1769”, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1,3-diphenyltetramethyldisilazane (product code "D1816", manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 2,2,4,4,6,6-hexamethylcyclotrisilazane (product code "H0909", manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and the like are exemplified. .
表面処理剤として例示されたものを、各種公知の方法で他の化学物質と反応させることも可能である。各種公知の方法として、多官能イソシアネートや多官能（メタ）アクリレート等の反応性基を有する物質と表面処理剤とを混合し、４０℃以上７０℃以下１時間以上６時間以下反応させる方法等が例示される。反応の際には、さらに重合禁止剤や触媒等の従来公知の化学物質を任意で含有してもよい。 It is also possible to react the exemplified surface treatment agents with other chemical substances by various known methods. Various known methods include a method of mixing a substance having a reactive group such as polyfunctional isocyanate or polyfunctional (meth)acrylate with a surface treatment agent, and reacting the mixture at 40° C. or higher and 70° C. or lower for 1 hour or longer and 6 hours or shorter. exemplified. During the reaction, conventionally known chemical substances such as polymerization inhibitors and catalysts may optionally be contained.
（Ａ）成分の表面処理剤は、（Ａ）成分と樹脂組成物のその他成分との相溶性及び樹脂組成物の架橋性が優れることから、好ましくはシランカップリング剤であり、より好ましくはビニルトリメトキシシランであり、さらに好ましくは（メタ）アクリレート構造を持つトリメトキシシランであり、特に好ましくはウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランである。 The surface treatment agent of the component (A) is preferably a silane coupling agent, more preferably a vinyl Trimethoxysilane, more preferably trimethoxysilane having a (meth)acrylate structure, and particularly preferably trimethoxysilane containing a urethane (meth)acrylate structure.
表面処理剤を用いた（Ａ）成分の表面処理方法は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。表面処理剤を用いた（Ａ）成分の表面処理方法として、湿式法、乾式法等が例示される。 The method for surface treatment of component (A) using a surface treatment agent is not particularly limited, and various known methods may be used. A wet method, a dry method, etc. are illustrated as the surface treatment method of the component (A) using a surface treatment agent.
湿式法として、
（１）表面処理剤及び（Ａ）成分の分散体、さらに任意で適切な溶液を湿式の混合機（湿式ビーズミルや超音波装置等）に投入し、室温で１５分以上１時間以内混合する方法、
（２）表面処理剤及び（Ａ）成分の分散体、さらに任意で適切な溶液を容器に投入し、５０℃以上１５０℃以下で３０分以上５時間以内加熱する方法、
等が例示される。
As a wet method,
(1) A surface treatment agent, a dispersion of component (A), and optionally a suitable solution are put into a wet mixer (wet bead mill, ultrasonic device, etc.) and mixed at room temperature for 15 minutes or more and 1 hour or less. ,
(2) A method in which a surface treatment agent, a dispersion of component (A), and optionally a suitable solution are put into a container and heated at 50° C. or higher and 150° C. or lower for 30 minutes or more and 5 hours or less;
etc. are exemplified.
乾式法として、表面処理剤と（Ａ）成分の粉体を乾式の混合機（乾式ビーズミルやミキサー等）に投入し、室温で１５分以上１時間以内混合する方法等が例示される。 Examples of the dry method include a method in which the surface treatment agent and component (A) powder are put into a dry mixer (dry bead mill, mixer, etc.) and mixed at room temperature for 15 minutes to 1 hour.
（Ａ）成分として例示された物質及び（Ａ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。 The substances exemplified as component (A) and those known as component (A) can be used alone or in combination of two or more.
（Ａ）成分の粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。 The particle size of component (A) is preferably 5 nm or more and 30 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less.
本明細書において、粒子径の測定は、ＪＩＳ Ｚ８８２８：２０１３に準拠し、市販の測定機（製品名「ＤＹＮＡＭＩＣ ＬＩＧＨＴ ＳＣＡＴＴＥＲＩＮＧ ＮＡＮＯＰＡＲＴＩＣＬＥ ＳＩＺＥ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＬＢ－５５０」、（株）堀場製作所）を用いた動的光散乱法による粒度分布測定によって行う。 In this specification, the particle size is measured in accordance with JIS Z8828: 2013, using dynamic light using a commercially available measuring machine (product name "DYNAMIC LIGHT SCATTERING NANOPARTICLE SIZE ANALYZER LB-550", Horiba, Ltd.). It is carried out by particle size distribution measurement by scattering method.
（Ａ）成分の含有量は、特に限定されないが、ＩＴＯ膜の骨見え防止効果に優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で４０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で４５質量％以上８０質量％以下である。 The content of component (A) is not particularly limited, but is preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less in terms of solid content relative to the total amount of the resin composition, since the ITO film has an excellent effect of preventing visible bones. , more preferably 45% by mass or more and 80% by mass or less in terms of solid content.
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子である。（Ｂ）成分の屈折率は、好ましくは、１．４以上１．５以下である。
<(B) Component>
Component (B) is metal oxide particles having a refractive index of 1.5 or less. The refractive index of component (B) is preferably 1.4 or more and 1.5 or less.
（Ｂ）成分として、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。（Ｂ）成分として、シリカ粒子（屈折率１．４～１．５）等が例示される。 Component (B) is not particularly limited, and various known components can be used. Examples of component (B) include silica particles (refractive index: 1.4 to 1.5).
（Ｂ）成分は、分散体であってもよく、粉体であってもよい。 Component (B) may be a dispersion or a powder.
（Ｂ）成分の分散体の溶液は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。（Ｂ）成分の分散体の溶液は、（Ａ）成分で例示されたものが例示される。 The solution of the dispersion of component (B) is not particularly limited, and various known solutions may be used. The dispersion solution of component (B) is exemplified by those exemplified for component (A).
シリカ粒子は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、シリカ粒子水分散体（製品名「ｓｉｃａｓｔａｒ」、ｍｉｃｒｏｍｏｄ社製）（製品名「シーホスタ－ＫＥ－Ｗ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子エチレングリコール分散体（製品名「シーホスタ－ＫＥ－Ｅ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子粉体（製品名「シーホスタ－ＫＥ－Ｐ」、（株）日本触媒製）、シリカ粒子高純度粉体（製品名「シーホスタ－ＫＥ－Ｓ」、（株）日本触媒製）等が例示される。 Silica particles may be a commercially available product. The product is not particularly limited, but silica particle water dispersion (product name “sicastar”, manufactured by micromod) (product name “Seahoster-KE-W”, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), silica particle ethylene glycol dispersion (product name "Seahoster-KE-E", manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), silica particle powder (product name "Seahoster-KE-P", manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), silica particle high-purity powder (product The name "Seahoster-KE-S", manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like are exemplified.
（Ｂ）成分は、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、好ましくはシリカ粒子である。 The component (B) is preferably silica particles because of the excellent adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer.
＜（Ｂ）成分の表面処理＞
（Ｂ）成分は表面処理工程を経た金属酸化物粒子であってもよい。（Ｂ）成分の表面処理は、（Ａ）成分の表面処理と同様の方法及び表面処理剤等が用いられる。
<Surface treatment of component (B)>
The component (B) may be metal oxide particles that have undergone a surface treatment step. For the surface treatment of component (B), the same method and surface treatment agent as those used for the surface treatment of component (A) are used.
（Ｂ）成分の表面処理剤は、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、好ましくはシロキサン化合物又はシラザンであり、より好ましくはポリジメチルシロキサン又はビス（トリメチルシリル）アミンである。インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることのメカニズムについて、詳細は不明であるが、上記表面処理剤の疎水度が高いため（Ｂ）成分の表面エネルギーが下がり、透明導電層側のインデックスマッチング層表面に（Ｂ）成分が移行しやすくなることで付着性が優れたものとなっていると考えている。 The surface treatment agent of component (B) is preferably a siloxane compound or silazane, and more preferably polydimethylsiloxane or bis(trimethylsilyl)amine, since it provides excellent adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer. The mechanism of the excellent adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer is not known in detail. It is believed that the component (B) easily migrates to the surface of the index matching layer, resulting in excellent adhesion.
（Ｂ）成分として、表面処理済みの製品を使用してもよい。当該製品として、ポリジメチルシロキサンで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ－３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製、平均粒子径２０ｎｍ）、ビス（トリメチルシリル）アミンで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＹＡ０１０－ＬＦＧ」、（株）アドマテックス製、平均粒子径２０ｎｍ）、（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランで表面処理されたシリカ分散体（製品名「ＥＬＣＯＭ Ｖ８８０４」、日揮触媒化成（株）製、平均粒子径１０ｎｍ）等が例示される。 A surface-treated product may be used as the component (B). Such products include a silica dispersion surface-treated with polydimethylsiloxane (product name “NANOBYK-3650”, manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd., average particle size 20 nm), and a silica dispersion surface-treated with bis(trimethylsilyl)amine. Body (product name “YA010-LFG”, manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle size 20 nm), silica dispersion surface-treated with (meth)acryloxypropyltrimethoxysilane (product name “ELCOM V8804”, Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd., average particle size 10 nm) and the like are exemplified.
（Ｂ）成分として例示された物質及び（Ｂ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。 The substances exemplified as component (B) and those known as component (B) can be used alone or in combination of two or more.
（Ｂ）成分の粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下である。 The particle size of component (B) is preferably 5 nm or more and 30 nm or less, more preferably 10 nm or more and 20 nm or less.
（Ｂ）成分の含有量は、特に限定されないが、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で３質量％以上２０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で５質量％以上１３質量％以下である。 The content of component (B) is not particularly limited, but is preferably 3% by mass or more and 20% by mass in terms of solid content relative to the total amount of the resin composition, since the adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer is excellent. % or less, more preferably 5 mass % or more and 13 mass % or less in terms of solid content.
（Ａ）成分の金属元素と（Ｂ）成分の金属元素の樹脂組成物中の含有量比（質量比）は、特に限定されないが、ＩＴＯ膜の骨見え防止効果に優れ、インデックスマッチング層の強度が優れることから、好ましくは固形分換算で［（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素］＝１／２～１／１５であり、より好ましくは１／３～１／１４であり、さらにより好ましくは１／３．５～１／１３であり、特に好ましくは１／３．５～１／１２．５であり、さらに特に好ましくは１／４～１／１２．３である。インデックスマッチング層の強度が優れることの推定される要因は以下のものが考えられる。優れた屈折率を呈するために一定量以上の（Ａ）成分を樹脂組成物に含有させることが好ましく、その際に（Ａ）成分の含有量に相対して（Ｂ）成分の含有量が多くなりすぎないことで、樹脂組成物中の粒子濃度が過剰となりすぎず、結果としてインデックスマッチング層の強度が優れたものとなっていると考えている。 The content ratio (mass ratio) of the metal element of component (A) and the metal element of component (B) in the resin composition is not particularly limited. is excellent, preferably [metal element of component (B) / metal element of component (A)] = 1/2 to 1/15, more preferably 1/3 to 1/14 in terms of solid content , still more preferably 1/3.5 to 1/13, particularly preferably 1/3.5 to 1/12.5, even more preferably 1/4 to 1/12.3 . Presumed factors for the excellent strength of the index matching layer are as follows. In order to exhibit an excellent refractive index, it is preferable to include a certain amount or more of component (A) in the resin composition. It is believed that by not increasing the density too much, the particle concentration in the resin composition does not become excessive, and as a result, the strength of the index matching layer is excellent.
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。
<(C) Component>
Component (C) is a compound having a (meth)acryloyl group.
（Ｃ）成分は、特に限定されず、各種公知のものであってもよい。（Ｃ）成分として、（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物等が例示される。 The component (C) is not particularly limited, and may be any known one. Examples of component (C) include aliphatic compounds having a (meth)acryloyl group, alicyclic compounds having a (meth)acryloyl group, and aromatic compounds having a (meth)acryloyl group.
（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物等が例示される。 (Meth) as an aliphatic compound having an acryloyl group, an aliphatic compound having one (meth) acryloyl group, an aliphatic compound having two (meth) acryloyl groups, an aliphatic compound having three (meth) acryloyl groups , an aliphatic compound having four (meth)acryloyl groups, an aliphatic compound having five (meth)acryloyl groups, an aliphatic compound having six (meth)acryloyl groups, and the like.
１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、エトキシ－ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－トリエチレングルコール（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル－ジグルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等が例示される。 Aliphatic compounds having one (meth)acryloyl group include isoamyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, ethoxy-diethylene glycol (meth)acrylate, methoxy-triethylene glycol (meth)acrylate , 2-ethylhexyl-diglucol (meth)acrylate, methoxydipropylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate and the like.
２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（メタクリロイルオキシ）プロパノール、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が例示される。 Aliphatic compounds having two (meth)acryloyl groups include 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, bis(methacryloyloxy)propanol, decanediol di(meth) Examples include acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, nonanediol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, and the like.
３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of aliphatic compounds having three (meth)acryloyl groups include pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, ethoxylated glycerol tri(meth)acrylate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate. exemplified.
４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of aliphatic compounds having four (meth)acryloyl groups include pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and ethoxylated pentaerythritol tetra(meth)acrylate.
５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が例示される。 Dipentaerythritol penta(meth)acrylate etc. are illustrated as an aliphatic compound which has five (meth)acryloyl groups.
６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物として、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of aliphatic compounds having six (meth)acryloyl groups include pentaerythritol hexa(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.
（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物等が例示される。 As the alicyclic compound having a (meth)acryloyl group, an alicyclic compound having one (meth)acryloyl group, an alicyclic compound having two (meth)acryloyl groups, and three (meth)acryloyl groups Alicyclic compounds, alicyclic compounds having four (meth)acryloyl groups, alicyclic compounds having five (meth)acryloyl groups, alicyclic compounds having six (meth)acryloyl groups, and the like are exemplified. be.
１つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of alicyclic compounds having one (meth)acryloyl group include tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate.
２つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of alicyclic compounds having two (meth)acryloyl groups include tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate and dimethyloltricyclodecanedi(meth)acrylate.
３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂環式化合物として、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が例示される。 Examples of alicyclic compounds having three (meth)acryloyl groups include ethoxylated isocyanuric acid tri(meth)acrylate, caprolactone-modified tris((meth)acryloxyethyl)isocyanurate, and the like.
（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、１つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、２つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、３つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、５つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物、６つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物等が例示される。 The aromatic compound having a (meth)acryloyl group includes an aromatic compound having one (meth)acryloyl group, an aromatic compound having two (meth)acryloyl groups, and an aromatic compound having three (meth)acryloyl groups. , an aromatic compound having four (meth)acryloyl groups, an aromatic compound having five (meth)acryloyl groups, an aromatic compound having six (meth)acryloyl groups, and the like.
１つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ－ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート等が例示される。 Examples of aromatic compounds having one (meth)acryloyl group include phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, phenoxy-polyethylene glycol (meth)acrylate, ethoxylated o-phenylphenol (meth)acrylate, and the like. be done.
２つの（メタ）アクリロイル基を有する芳香族化合物として、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、９，９－ビス［４－（２－（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビス（メタ）アクリル酸［３，３‘－［イソプロピリデンビス（ｐ－フェニレンオキシ）］ビス（２－ヒドロキシプロパン）］－１，１’－ジイル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物等が例示される。 Aromatic compounds having two (meth)acryloyl groups include propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, 9,9-bis[4-(2-(meth) Acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, propoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, bis(meth)acrylic acid [3,3′-[isopropylidenebis(p-phenyleneoxy)]bis(2-hydroxypropane)]- Examples include 1,1′-diyl, bisphenol A diglycidyl ether (meth)acrylic acid adducts, and the like.
（Ｃ）成分は、（メタ）アクリロイル基以外の１以上の官能基等をさらに有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であってもよい。（メタ）アクリロイル基以外の官能基等として、エポキシ基、ケトン基、カルボキシル基、ウレタン結合等が例示される。例えば、ウレタン結合を有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物は、上記（メタ）アクリロイル基を有する化合物と各種公知の多官能イソシアネートとの反応物であってもよい。なお、本明細書において、多官能イソシアネートとは、イソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）を２以上有するものを指す。 The component (C) further has one or more functional groups other than a (meth)acryloyl group, and may be a compound having a (meth)acryloyl group. Examples of functional groups other than (meth)acryloyl groups include epoxy groups, ketone groups, carboxyl groups, urethane bonds, and the like. For example, the compound having a urethane bond and a (meth)acryloyl group may be a reaction product of the compound having a (meth)acryloyl group and various known polyfunctional isocyanates. In this specification, the polyfunctional isocyanate refers to those having two or more isocyanate groups (-N=C=O).
多官能イソシアネートとして、特に限定されず、各種公知のものを使用できる。多官能イソシアネートとして、脂肪族多官能イソシアネート、脂環式多官能イソシアネート、芳香族多官能イソシアネート等が例示される。 The polyfunctional isocyanate is not particularly limited, and various known ones can be used. Examples of polyfunctional isocyanates include aliphatic polyfunctional isocyanates, alicyclic polyfunctional isocyanates, and aromatic polyfunctional isocyanates.
脂肪族多官能イソシアネートとして、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ジイソシアナトヘキサン酸メチル、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等が例示される。 Examples of aliphatic polyfunctional isocyanates include trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, octamethylene diisocyanate, decamethylene diisocyanate, methyl diisocyanatohexanoate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine triisocyanate. be.
脂環式多官能イソシアネートとして、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、シクロヘキサンジイルビス（メチレン）ジイソシアナート、メチルシクロヘキサンジイルジイソシアネート、ノルボルネンメタンジイソシアネート等が例示される。 Examples of alicyclic polyfunctional isocyanates include dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, cyclohexanediylbis(methylene)diisocyanate, methylcyclohexanediyl diisocyanate, norbornenemethane diisocyanate, and the like.
芳香族多官能イソシアネートとして、トルエンジイソシアネート、メチリジントリス（イソシアナトベンゼン）、キシレンジイソシアネート、ジイソシアナトナフタレン等が例示される。 Examples of aromatic polyfunctional isocyanates include toluene diisocyanate, methylidine tris(isocyanatobenzene), xylene diisocyanate, diisocyanatonaphthalene, and the like.
（Ｃ）成分は、樹脂組成物を塗工した後硬化した塗膜（以下、「塗膜」ともいう。）であるインデックスマッチング層が耐擦傷性に優れることから、好ましくは２以上の（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物及び／又はウレタン結合を有し、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、より好ましくは３つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物、４つの（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物及び／又は脂環式多官能イソシアネートと（メタ）アクリロイル基を有する脂肪族化合物との反応物であり、さらに好ましくはペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート及び／又はイソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレートとの反応物である。耐擦傷性に優れることのメカニズムとして、詳細については不明であるが、化学反応を経て架橋構造を形成しうる官能基を上述する数分子内に有することで、反応後に得られる生成物の架橋密度が高くなり、結果として耐擦傷性に優れるインデックスマッチング層を得られると考えている。 Component (C) is preferably two or more (meta- ) An aliphatic compound having an acryloyl group and / or a urethane bond, a compound having a (meth) acryloyl group, more preferably an aliphatic compound having three (meth) acryloyl groups, four (meth) acryloyl A reaction product of an aliphatic compound and/or an alicyclic polyfunctional isocyanate having a group and an aliphatic compound having a (meth)acryloyl group, more preferably pentaerythritol tri(meth)acrylate and pentaerythritol tetra(meth) It is a reaction product of acrylate and/or isophorone diisocyanate and pentaerythritol (tri/tetra) (meth) acrylate. Although the details of the mechanism of excellent scratch resistance are unknown, the crosslink density of the product obtained after the reaction is increased by having functional groups that can form a crosslinked structure through a chemical reaction in the above-mentioned several molecules. is high, and as a result, it is thought that an index matching layer with excellent scratch resistance can be obtained.
（Ｃ）成分は、市販された製品であってもよい。当該製品として、特に限定されないが、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート（製品名「７０１Ａ」、新中村化学工業（株）製）、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－２００」「Ａ－４００」、新中村化学工業（株）製）、ビス（メタクリロイルオキシ）プロパノール（製品コード「Ｂ２９３８」、東京化成工業（株）製）、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート（製品コード「Ｈ１３６９」、東京化成工業（株）製）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－ＴＭＭ－３」「Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ」、新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－ＴＭＭＴ」、新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－ＤＰＨ」、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－ＤＣＰ」、新中村化学工業（株）製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－９３００」、新中村化学工業（株）製）、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート（製品名「Ａ－Ｂ１２０６ＰＥ」、新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートの混合物（製品名「ＰＥＴＡ」、ダイセル・オルネクス（株）製）（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬（株）製）、フェニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＡＨ－６００」、共栄社化学（株））、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＵＡ－３０６Ｈ」、共栄社化学（株））、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー（製品名「ＵＡ－３０６Ｉ」、共栄社化学（株））等が例示される。 The (C) component may be a commercially available product. The product is not particularly limited, but 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate (product name “701A”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), polyethylene glycol di(meth)acrylate (product name "A-200" "A-400", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), bis(methacryloyloxy)propanol (product code "B2938", manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), hexanediol di(meth)acrylate (product code “H1369”, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), pentaerythritol tri(meth)acrylate (product names “A-TMM-3”, “A-TMM-3L”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate (product name “A-TMMT”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (product name “A-DPH”, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. )), tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate (product name “A-DCP”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), ethoxylated isocyanuric acid tri(meth)acrylate (product name “A-9300” , Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate (product name “A-B1206PE”, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), pentaerythritol tri(meth)acrylate and penta A mixture of erythritol tetra (meth) acrylate (product name “PETA”, manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), phenyl glycidyl ether (meth) acrylate hexa Methylene diisocyanate urethane prepolymer (product name "AH-600", Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), pentaerythritol tri(meth)acrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer (product name "UA-306H", Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Examples include pentaerythritol tri(meth)acrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer (product name “UA-306I”, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
（Ｃ）成分として例示された物質及び（Ｃ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。 The substances exemplified as component (C) and those known as component (C) can be used alone or in combination of two or more.
（Ｃ）成分の重量平均分子量は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、好ましくは２００以上１，５００以下であり、より好ましくは２５０以上１，４００以下である。なお、本明細書において重量平均分子量は、ゲルパーメーションクロマトグラフィー法によるポリスチレン換算値である。 The weight average molecular weight of component (C) is not particularly limited, but is preferably 200 or more and 1,500 or less, more preferably 250 or more and 1,400 or less, because the coating film has excellent scratch resistance. In addition, in this specification, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value by the gel permeation chromatography method.
（Ｃ）成分の炭素数は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、好ましくは１０以上８０以下であり、より好ましくは１４以上７０以下である。 The number of carbon atoms in component (C) is not particularly limited, but is preferably 10 or more and 80 or less, more preferably 14 or more and 70 or less, because the coating film has excellent scratch resistance.
（Ｃ）成分の含有量は、特に限定されないが、塗膜が耐擦傷性に優れることから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で１０質量％以上５０質量％以下であり、より好ましくは固形分換算で１２質量％以上４５質量％以下である。 The content of component (C) is not particularly limited, but since the coating film has excellent scratch resistance, it is preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less in terms of solid content with respect to the total amount of the resin composition, More preferably, it is 12% by mass or more and 45% by mass or less in terms of solid content.
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、光重合開始剤である。（Ｄ）成分は、紫外線等のエネルギーによってフリーラジカルを発生する化合物である。樹脂組成物に（Ｄ）成分を含有することで、樹脂組成物はさらに硬化性に優れる。
<(D) Component>
(D) A component is a photoinitiator. Component (D) is a compound that generates free radicals by energy such as ultraviolet rays. By containing the (D) component in the resin composition, the resin composition is further excellent in curability.
（Ｄ）成分として、各種公知のものを使用できる。（Ｄ）成分として、ラジカル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤、アニオン系光重合開始剤等が例示される。 (D) As a component, various well-known things can be used. Examples of component (D) include radical photopolymerization initiators, cationic photopolymerization initiators, and anionic photopolymerization initiators.
ラジカル系光重合開始剤として、アルキルフェノン型光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド型光重合開始剤、水素引き抜き型光重合開始剤、オキシムエステル型光重合開始剤等が例示される。 Examples of radical photopolymerization initiators include alkylphenone type photopolymerization initiators, acylphosphine oxide type photopolymerization initiators, hydrogen abstraction type photopolymerization initiators, oxime ester type photopolymerization initiators, and the like.
アルキルフェノン型光重合開始剤として、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン等のベンジルジメチルケタール、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のα－ヒドロキシアルキルフェノン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン等のα－アミノアルキルフェノン等が例示される。 As alkylphenone-type photopolymerization initiators, benzyl dimethyl ketal such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy- 2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one and α-hydroxyalkylphenones such as 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one and the like, and the like.
アシルフォスフィンオキサイド型光重合開始剤として、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等が例示される。 Examples of acylphosphine oxide type photopolymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide.
水素引き抜き型光重合開始剤として、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル等が例示される。 Examples of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator include phenylglyoxylic acid methyl ester and the like.
オキシムエステル型光重合開始剤として、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が例示される。 As oxime ester type photopolymerization initiators, 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2- Methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) and the like are exemplified.
カチオン系光重合開始剤として、ヨードニウム，（４－メチルフェニル）］４－（２－メチルプロピル）フェニル］－ヘキサフルオロフォスフェート（１－）及びプロピレンカーボネートの混合物、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリアリールスルフォニウム テトラキス－（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が例示される。 a mixture of iodonium, (4-methylphenyl)]4-(2-methylpropyl)phenyl]-hexafluorophosphate (1-) and propylene carbonate, triarylsulfonium hexafluorophosphate, as cationic photoinitiators; Triarylsulfonium tetrakis-(pentafluorophenyl)borate and the like are exemplified.
アニオン系光重合開始剤として、コバルトアミン系錯体、ｏ－ニトロベンジルアルコールカルバミン酸エステル、オキシムエステル等が例示される。 Examples of anionic photopolymerization initiators include cobalt amine complexes, o-nitrobenzyl alcohol carbamate esters, oxime esters, and the like.
（Ｄ）成分として例示された物質及び（Ｄ）成分として公知のものを単独で、或いは２種類以上を組み合わせて使用することができる。 The substances exemplified as component (D) and those known as component (D) can be used alone or in combination of two or more.
（Ｄ）成分は、樹脂組成物の硬化速度が優れるため、好ましくはラジカル系光重合開始剤であり、より好ましくはアルキルフェノン型光重合開始剤であり、さらに好ましくはα－アミノアルキルフェノンであり、特に好ましくは２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オンである。 Component (D) is preferably a radical photopolymerization initiator, more preferably an alkylphenone photopolymerization initiator, and still more preferably an α-aminoalkylphenone, since the resin composition has an excellent curing rate. and particularly preferably 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one.
（Ｄ）成分として、市販された製品を使用してもよい。当該製品として、特に限定されないが、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ（以下、「オムニラッド」ともいう。） ６５１」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（製品名「オムニラッド ２９５９」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（製品名「オムニラッド １２７」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（製品名「オムニラッド ９０７」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（製品名「オムニラッド ＴＰＯ Ｈ」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド（製品名「オムニラッド ８１９」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（製品名「オムニラッド ＭＢＦ」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ヨードニウム，（４－メチルフェニル）］４－（２－メチルプロピル）フェニル］－ヘキサフルオロフォスフェート（１－）及びプロピレンカーボネートの混合物（製品名「Ｏｍｎｉｃａｔ（以下、「オムニキャット」ともいう。） ２５０」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート（製品名「オムニキャット ２７０」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）、トリアリールスルフォニウムテトラキス－（ペンタフルオロフェニル）ボレート（製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９０」、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が例示される。 A commercially available product may be used as the component (D). The product is not particularly limited, but 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (product name “Omnirad (hereinafter also referred to as “Omnirad”) 651”, manufactured by IGM Resins), 1 -[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (product name "Omnilad 2959", manufactured by IGM Resins), 2-hydroxy-1-{ 4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one (product name "Omnilad 127", manufactured by IGM Resins), 2-methyl-1 -(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one (product name "Omnilad 907", manufactured by IGM Resins), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (product name "Omnilad TPO H", manufactured by IGM Resins), bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (product name "Omnilad 819", manufactured by IGM Resins), phenylglyoxylic acid methyl ester (product name "Omnilad MBF", manufactured by IGM Resins), 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)] (product name "IRGACURE OXE 01", BASF Japan Co., Ltd. ), ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) (product name “IRGACURE OXE 02”, BASF Japan Co., Ltd.), a mixture of iodonium, (4-methylphenyl)]4-(2-methylpropyl)phenyl]-hexafluorophosphate (1-) and propylene carbonate (product name “Omnicat” (hereinafter referred to as “Omni 250”, manufactured by IGM Resins), triarylsulfonium hexafluorophosphate (product name “Omnicat 270”, manufactured by IGM Resins), triarylsulfonium tetrakis-(pentafluorophenyl)borate ( Product name "IRGACURE 290", manufactured by BASF Japan Ltd.) and the like are exemplified.
（Ｄ）成分の含有量は、樹脂組成物の硬化性が優れ、塗膜に不要な（Ｄ）成分が残存しないことから、樹脂組成物の総量に対して好ましくは固形分換算で０．５質量％以上１０質量％以下、より好ましくは固形分換算で２質量％以上５質量％以下である。 The content of component (D) is preferably 0.5 in terms of solid content relative to the total amount of the resin composition, since the curability of the resin composition is excellent and unnecessary component (D) does not remain in the coating film. % by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 5% by mass or less in terms of solid content.
＜その他配合可能な剤＞
樹脂組成物には、更に、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やウレタン樹脂等の各種公知の樹脂、充填剤、離型剤、難燃剤、粘度調節剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、消泡剤、着色剤、安定剤、顔料、表面調整剤、各種溶剤及び光増感剤等から選択される１種以上の剤を配合できる。
<Other agents that can be added>
The resin composition further contains various known resins such as acrylic resins, epoxy resins and urethane resins, fillers, release agents, flame retardants, viscosity modifiers, plasticizers, antibacterial agents, antifungal agents, antifoaming agents. , coloring agents, stabilizers, pigments, surface control agents, various solvents, photosensitizers, and the like.
＜硬化物＞
樹脂組成物に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化した物もまた本発明の１つである。
<Cured product>
A cured product obtained by irradiating a resin composition with an active energy ray such as ultraviolet rays is also one aspect of the present invention.
紫外線照射により硬化させる方法として、１５０ｎｍ波長域以上４５０ｎｍ波長域以下の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ又はＬＥＤ等を用いて、１０ｍＪ／ｃｍ２以上１０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下程度照射する方法が例示される。紫外線照射前は、必要に応じて加熱を行って乾燥させてもよい。紫外線照射後は、必要に応じて加熱を行って完全に硬化させてもよい。 As a method for curing by ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, an electrodeless discharge lamp, or an LED that emits light in the wavelength range of 150 nm or more and 450 nm or less is used. 10 mJ/cm 2 or more and 10,000 mJ/cm 2 or less. If necessary, it may be dried by heating before the ultraviolet irradiation. After the ultraviolet irradiation, heating may be performed as necessary for complete curing.
＜インデックスマッチング層＞
本発明は、樹脂組成物を基材の少なくとも一方の面に塗工、硬化してなるインデックスマッチング層でもある。本発明のインデックスマッチング層には、基材の反対側に透明導電層を設けることが考えられる。すなわち、基材、インデックスマッチング層、透明導電層の順に設けることが考えられる。本発明のインデックスマッチング層は、当該透明導電層にスズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を使用しても骨見えの発生を抑えることが可能であり、透明基材や透明導電層との付着性にも優れる。
<Index matching layer>
The present invention also provides an index matching layer obtained by coating and curing a resin composition on at least one surface of a substrate. It is contemplated that the index matching layer of the present invention may be provided with a transparent conductive layer on the opposite side of the substrate. That is, it is conceivable to provide the substrate, the index matching layer, and the transparent conductive layer in this order. The index matching layer of the present invention can suppress the occurrence of visible bones even when tin-doped indium oxide (ITO) is used for the transparent conductive layer, and has excellent adhesion to the transparent substrate and the transparent conductive layer. .
本発明のインデックスマッチング層は、成分が偏析する。例えば、（Ａ）成分は透明基材側のインデックスマッチング層において濃度が高く、透明導電層側のインデックスマッチング層において濃度が低い。また、（Ｂ）成分は透明基材側のインデックスマッチング層表層において濃度が低く、透明導電層側のインデックスマッチング層表層において濃度が高い。 The components of the index matching layer of the present invention are segregated. For example, the component (A) has a high concentration in the index matching layer on the transparent substrate side and a low concentration in the index matching layer on the transparent conductive layer side. In addition, the component (B) has a low concentration in the index matching layer surface layer on the transparent substrate side and a high concentration in the index matching layer surface layer on the transparent conductive layer side.
上記濃度の分析手法として、ＪＩＳ Ｋ０１６２：２０１０に準拠した、市販のＸ線光電子分光分析装置（製品名「ＥＳＣＡ－３４００ＨＳＥ」、（株）島津製作所製）による測定が例示される。当該方法によると、例えば、透明導電層側のインデックスマッチング層表層の（Ａ）成分の金属元素と（Ｂ）成分の金属元素との質量比を測定できる。 An example of the concentration analysis method is measurement using a commercially available X-ray photoelectron spectrometer (product name “ESCA-3400HSE” manufactured by Shimadzu Corporation) in accordance with JIS K0162:2010. According to this method, for example, the mass ratio of the metal element of the component (A) and the metal element of the component (B) in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side can be measured.
Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）では、測定対象の表面から０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度の深さの元素を観察している。透明導電層側のインデックスマッチング層表層の測定を行った場合、透明導電層側のインデックスマッチング層表層に存在する（Ｂ）成分の金属元素の質量を測定することができ、他の元素（例えば、（Ａ）成分の金属元素）の割合と比較しての数値化が可能である。ＸＰＳの具体的な測定条件については、実施例に記載する。 In X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), elements are observed at a depth of approximately 0.1 nm or more and 10 nm or less from the surface of the object to be measured. When the index matching layer surface layer on the transparent conductive layer side is measured, the mass of the metal element of component (B) present in the index matching layer surface layer on the transparent conductive layer side can be measured, and other elements (for example, It is possible to quantify it by comparing it with the ratio of (A) the metal element of the component). Specific measurement conditions for XPS are described in Examples.
透明導電層側のインデックスマッチング層表層の（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）は、（Ｂ）成分の金属元素が透明導電層との付着性を向上させることから、（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上であり、好ましくは（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上４．０以下であり、より好ましくは（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上３．０以下である。（Ａ）成分を酸化ジルコニウム、（Ｂ）成分をシリカとした場合、透明導電層側のインデックスマッチング層表層のＳｉ元素とＺｒ元素の質量比（Ｓｉ／Ｚｒ）は、Ｓｉ元素の比率が高ければ高い程、インデックスマッチング層と透明導電層との付着性が良好となり、積層体の色相も良好となることから好ましい。 The mass ratio of the metal element of component (B) to the metal element of component (A) in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side (metal element of component (B)/metal element of component (A)) is (B (B) component metal element/(A) component metal element) is 0.3 or more, preferably ((B) (metal element of component/metal element of component (A)) is 0.3 or more and 4.0 or less, more preferably (metal element of component (B)/metal element of component (A)) is 0.3 or more 3.0 or less. When the (A) component is zirconium oxide and the (B) component is silica, the mass ratio (Si/Zr) of the Si element and the Zr element in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side is The higher the thickness, the better the adhesion between the index matching layer and the transparent conductive layer, and the better the hue of the laminate.
上記付着性の分析手法として、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６に準じたクロスカット法が例示される。 An example of the adhesion analysis method is the cross-cut method according to JIS K5600-5-6.
ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６に準じたクロスカット法によるインデックスマッチング層と透明導電層との間で剥離する割合は、好ましくは１０％未満である。 The rate of peeling between the index matching layer and the transparent conductive layer by the crosscut method according to JIS K5600-5-6 is preferably less than 10%.
当該インデックスマッチング層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、良好な骨見え防止効果と優れた光学特性の両立ができる。 The thickness of the index matching layer is preferably 10 nm or more and 200 nm or less, more preferably 50 nm or more and 150 nm or less. By setting the thickness within this range, it is possible to achieve both a good effect of preventing visible bones and excellent optical properties.
樹脂組成物の塗工方法として、スピンコーター塗工、バーコーター塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷又はスクリーン印刷法等が例示される。 Examples of the coating method of the resin composition include spin coater coating, bar coater coating, Meyer bar coating, air knife coating, gravure coating, reverse gravure coating, offset printing, flexographic printing and screen printing. be.
塗工量は特に限定されないが、通常は、乾燥後の質量が０．０１ｇ／ｍ２以上１ｇ／ｍ２以下であり、好ましくは０．０５ｇ／ｍ２以上０．５ｇ／ｍ２以下になる範囲である。 Although the coating amount is not particularly limited, the mass after drying is usually 0.01 g/m 2 or more and 1 g/m 2 or less, preferably 0.05 g/m 2 or more and 0.5 g/m 2 or less. Range.
インデックスマッチング層の屈折率は、透明導電層の骨見えを抑制できることから、１．６２以上１．７２以下である。なお、通常基材の屈折率は１．４８以上１．６５以下であり、透明導電層の屈折率は１．８０以上２．３０以下である。 The refractive index of the index matching layer is 1.62 or more and 1.72 or less because it can suppress bone appearance of the transparent conductive layer. In addition, the refractive index of the base material is usually 1.48 or more and 1.65 or less, and the refractive index of the transparent conductive layer is 1.80 or more and 2.30 or less.
本明細書において、屈折率とは、光が空気中からある物質中に進むとき，その界面で生じる屈折現象における入射角αの正弦と屈折角βの正弦との比のことである。具体的な方法として、アッベ屈折計（製品名「ＮＡＲ－１Ｔ ＳＯＬＩＤ」、（株）アタゴ製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２０１４に準拠し、ナトリウムのＤ線の波長に対する屈折率を測定する方法が挙げられる。 In this specification, the refractive index is the ratio of the sine of the incident angle α to the sine of the refraction angle β in the refraction phenomenon occurring at the interface when light travels from air into a substance. As a specific method, an Abbe refractometer (product name “NAR-1T SOLID”, manufactured by Atago Co., Ltd.) is used in accordance with JIS K7142: 2014 to measure the refractive index of sodium with respect to the wavelength of the D line. are mentioned.
＜基材＞
本明細書において、基材とは下記に挙げる各種基材のほか、各種基材に任意のハードコート層を設けたものも含める。そのような各種基材として、各種公知の金属、プラスチック、フィルム、ガラス、その他の樹脂等が例示される。
<Base material>
In the present specification, the term "substrate" includes various substrates listed below as well as various substrates provided with an optional hard coat layer. Examples of such various substrates include various known metals, plastics, films, glass, and other resins.
金属として、鉄、アルミニウム、アルミめっき鋼板、チンフリー鋼板（ＴＦＳ）、ステンレス鋼板、リン酸亜鉛処理鋼板、亜鉛・亜鉛合金めっき鋼板（ボンデ鋼板）の処理鋼板等が例示される。 Examples of metals include iron, aluminum, aluminized steel sheets, chin-free steel sheets (TFS), stainless steel sheets, zinc phosphate-treated steel sheets, zinc-zinc alloy-plated steel sheets (bonded steel sheets), and the like.
プラスチックとして、ＡＢＳ、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル（ＰＥ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル、ＦＲＰ、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等が例示される。 Plastics include ABS, polyimide (PI), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene (PS), polyester (PE) such as polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. acrylic, FRP, cycloolefin polymer (COP), and the like.
フィルムとして、ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が例示される。 Examples of films include PET and polyethylene naphthalate (PEN).
その他の基材として、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ノルボルネン系樹脂、その他ハードコート剤として従来使用される樹脂等が例示される。 Examples of other base materials include epoxy resins, melamine resins, triacetylcellulose resins, ABS resins, AS resins, norbornene resins, and other resins conventionally used as hard coating agents.
当該基材は、好ましくは透明な基材であり、インデックスマッチング層と共に使用される各種公知の基材である。 The substrate is preferably a transparent substrate and any of the known substrates used with index matching layers.
基材の厚みは、好ましくは２０μｍ以上１２５μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、積層体を薄型化することができる。 The thickness of the substrate is preferably 20 μm or more and 125 μm or less, more preferably 30 μm or more and 60 μm or less. By setting the thickness within this range, the thickness of the laminate can be reduced.
＜透明導電層＞
樹脂組成物を、各種透明導電層に適用できる。各種透明導電層として、ＳｎＯ２透明導電層、スズドープ酸化インジウム透明導電層、酸化亜鉛透明導電層、酸化銅透明導電層、ヨウ化銅透明導電層等が例示される。
<Transparent conductive layer>
The resin composition can be applied to various transparent conductive layers. Examples of various transparent conductive layers include SnO2 transparent conductive layers, tin - doped indium oxide transparent conductive layers, zinc oxide transparent conductive layers, copper oxide transparent conductive layers, copper iodide transparent conductive layers, and the like.
透明導電層の形成方法として、各種公知の方法を使用できる。透明導電層の形成方法として、スパッタリング法、蒸着法等が例示される。 Various known methods can be used as a method for forming the transparent conductive layer. Sputtering method, vapor deposition method, etc. are illustrated as a formation method of a transparent conductive layer.
透明導電層として、比抵抗が小さく、透明性に優れることから、好ましくはスズドープ酸化インジウム透明導電層である。 As the transparent conductive layer, a tin-doped indium oxide transparent conductive layer is preferable because of its low specific resistance and excellent transparency.
透明導電層の厚みは、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。厚みをこの範囲とすることで、良好な比抵抗と透明性の高い導電層を得ることができる。 The thickness of the transparent conductive layer is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less. By setting the thickness within this range, a conductive layer with good specific resistance and high transparency can be obtained.
＜積層体＞
本発明は、透明基材上にインデックスマッチング層、透明導電層をこの順に有する積層体に関する。
<Laminate>
The present invention relates to a laminate having an index matching layer and a transparent conductive layer in this order on a transparent substrate.
以下に、製造例、実施例、比較例、評価例及び比較評価例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下の説明で、部および％は質量基準である。 The present invention will be more specifically described below with reference to production examples, working examples, comparative examples, evaluation examples, and comparative evaluation examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following description, parts and % are based on mass.
以下の実施例において平均粒子径の測定は、ＪＩＳ Ｚ８８２８：２０１３に準拠し、市販の測定機（製品名「ＤＹＮＡＭＩＣ ＬＩＧＨＴ ＳＣＡＴＴＥＲＩＮＧ ＮＡＮＯＰＡＲＴＩＣＬＥ ＳＩＺＥ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＬＢ－５５０」、（株）堀場製作所）を用いた動的光散乱法による粒度分布測定によって行った。 In the following examples, the average particle size was measured in accordance with JIS Z8828:2013 using a commercially available measuring instrument (product name "DYNAMIC LIGHT SCATTERING NANOPARTICLE SIZE ANALYZER LB-550", Horiba, Ltd.). It was carried out by particle size distribution measurement by light scattering method.
＜ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤の作製＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート２０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物７２質量部（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬（株）製）、（３－メルカプトプロピル）トリメトキシシラン８質量部、重合禁止剤として２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール０．０２質量部、並びに触媒としてジオクチル錫ジラウレート０．２質量部を混合し、反応を７０℃５時間の条件で行った。反応終了後に、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシラン、ウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートをそれぞれ３分の１質量％ずつ含有する混合物が得られた。以下の実施例においてウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤とは、反応終了後に得られたこの混合物のことである。
<Preparation of silane coupling agent containing urethane (meth)acrylate structure>
20 parts by mass of isophorone diisocyanate, 72 parts by mass of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (product name "KAYARAD PET-30") are added to a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, cooling tube and air inlet. , manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), (3-mercaptopropyl)trimethoxysilane 8 parts by mass, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol 0.02 parts by mass as a polymerization inhibitor, and as a catalyst 0.2 parts by mass of dioctyltin dilaurate was mixed, and the reaction was carried out at 70° C. for 5 hours. After completion of the reaction, a mixture containing 1/3% by mass of each of urethane (meth)acrylate structure-containing trimethoxysilane, urethane (meth)acrylate and pentaerythritol tetraacrylate was obtained. In the following examples, the urethane (meth)acrylate structure-containing silane coupling agent refers to this mixture obtained after completion of the reaction.
＜製造例１：ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したジルコニア粒子＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、固形分換算で５２．７質量％のジルコニア分散体（固形分：３０％、溶液：プロピレングリコールモノメチルエーテル）と３３．２質量％のウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤を混合し、６０℃４時間の条件で反応を行い、表面処理されたジルコニア分散体を製造した。平均粒子径は２５ｎｍであった。
<Production Example 1: Zirconia Particles Surface Treated with Urethane (Meth)acrylate Structure-Containing Silane Coupling Agent>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, a cooling tube and an air inlet was charged with 52.7% by mass of zirconia dispersion (solid content: 30%, solution: propylene glycol monomethyl ether) and 33 in terms of solid content. 2% by mass of a silane coupling agent containing a urethane (meth)acrylate structure was mixed and reacted at 60° C. for 4 hours to produce a surface-treated zirconia dispersion. The average particle size was 25 nm.
＜製造例２：ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したシリカ粒子＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、固形分換算で９．４質量％のシリカ分散体（固形分：３０％、溶液：メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」ともいう。）と１．３質量％のウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤を混合し、６０℃４時間の条件で反応を行い、表面処理されたシリカ分散体を製造した。平均粒子径１０ｎｍであった。
<Production Example 2: Silica particles surface-treated with a silane coupling agent containing a urethane (meth)acrylate structure>
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, a cooling pipe and an air inlet was charged with a silica dispersion having a solid content of 9.4% by mass (solid content: 30%, solution: methyl ethyl ketone (hereinafter “MEK”). ) and 1.3% by mass of a silane coupling agent containing a urethane (meth)acrylate structure were mixed and allowed to react at 60°C for 4 hours to produce a surface-treated silica dispersion. The diameter was 10 nm.
＜実施例１：樹脂組成物（Ａ１）の作製＞
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び空気導入口を備えた反応容器に、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有シランカップリング剤で表面処理したジルコニア粒子を固形分として８５．９質量部、ポリジメチルシロキサンで処理された平均粒子径２０ｎｍのシリカ分散体（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製）を固形分として１０．７質量部、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（製品名「ＯＭＮＩＲＡＤ１２７」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）を固形分として３．４質量部混合し、酢酸ブチルで固形分が２０％になるように調整して樹脂性組成物（Ａ１）を得た。
<Example 1: Preparation of resin composition (A1)>
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, a cooling pipe and an air inlet, 85.9 parts by mass of solid content of zirconia particles surface-treated with a silane coupling agent containing a urethane (meth)acrylate structure, polydimethyl Siloxane-treated silica dispersion with an average particle size of 20 nm (product name “NANOBYK3650”, manufactured by BYK-Chemie Japan Co., Ltd.) is 10.7 parts by mass as a solid content, 2-hydroxy-1-{4-[4- 3.4 parts by mass of (2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one (product name “OMNIRAD127”, manufactured by IGM Resins) as a solid content is mixed, A resinous composition (A1) was obtained by adjusting the solid content to 20% with butyl acetate.
＜実施例２～４及び比較例１～６＞
下記の表１又は表２に示す組成に変更した以外は樹脂組成物（Ａ１）と同様に操作し、樹脂組成物（Ａ２）～（Ａ４）（実施例２～４）、樹脂組成物（Ｂ１）～（Ｂ６）（比較例１～６）を得た。
<Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 6>
The resin compositions (A2) to (A4) (Examples 2 to 4) and the resin composition (B1) were prepared in the same manner as the resin composition (A1) except that the compositions were changed to those shown in Table 1 or Table 2 below. ) to (B6) (Comparative Examples 1 to 6) were obtained.
＜評価例１：積層体（Ａ１－１）及び積層体（Ａ１－２）の作製＞
バーコーターを用いて、シクロオレフィンポリマー（以下、「ＣＯＰ」ともいう。）フィルム上にシリカ含有ハードコート剤（製品名「オプスターＺ７５３７」、ＪＳＲ（株）製、屈折率：１．４９、固形分：５０％）を乾燥後の膜厚が１μｍになるように塗布し、８０℃３分で市販の温風乾燥機において乾燥した。その後、高圧水銀灯を用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してハードコートフィルムを形成した。次に得られたハードコートフィルム上に樹脂組成物（Ａ１）を乾燥後の膜厚が０．１μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、８０℃１分で市販の温風乾燥機において乾燥した。その後、高圧水銀灯を用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してインデックスマッチング層を形成し、積層体（Ａ１－１）を得た。さらに、インデックスマッチング層の表面にスズドープ酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」ともいう。）からなる透明導電層をスパッタリング法で２０ｎｍの厚みで形成し、透明導電層上に銅からなる金属層をスパッタリング法で１００ｎｍの厚みで形成し、積層体（Ａ１－２）を得た。
<Evaluation Example 1: Production of laminate (A1-1) and laminate (A1-2)>
Using a bar coater, a silica-containing hard coating agent (product name “OPSTAR Z7537” manufactured by JSR Corporation, refractive index: 1.49, solid content) was coated on a cycloolefin polymer (hereinafter also referred to as “COP”) film. : 50%) was applied so that the film thickness after drying was 1 μm, and dried in a commercially available warm air dryer at 80° C. for 3 minutes. After that, a hard coat film was formed by irradiating ultraviolet rays at an irradiation dose of 300 mJ/cm 2 in air using a high-pressure mercury lamp. Next, the resin composition (A1) was applied onto the obtained hard coat film using a spin coater so that the film thickness after drying was 0.1 μm, and dried in a commercially available hot air dryer at 80° C. for 1 minute. Dried. After that, an index matching layer was formed by irradiating ultraviolet rays at a dose of 300 mJ/cm 2 in air using a high-pressure mercury lamp to obtain a laminate (A1-1). Further, a transparent conductive layer made of tin-doped indium oxide (hereinafter also referred to as “ITO”) is formed on the surface of the index matching layer to a thickness of 20 nm by a sputtering method, and a metal layer made of copper is formed on the transparent conductive layer by a sputtering method. to obtain a laminate (A1-2).
＜評価例２～４：積層体（Ａ２－１）～（Ａ４－１）及び積層体（Ａ２－２）～（Ａ４－２）の作製＞
樹脂組成物（Ａ１）を樹脂組成物（Ａ２）～（Ａ４）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ａ２－１）～（Ａ４－１）を作製した。積層体（Ａ１－１）を積層体（Ａ２－１）～（Ａ４－１）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ａ２－２）～（Ａ４－２）を作製した。
<Evaluation Examples 2 to 4: Production of laminates (A2-1) to (A4-1) and laminates (A2-2) to (A4-2)>
Laminates (A2-1) to (A4-1) were produced in the same manner as in Evaluation Example 1 except that the resin composition (A1) was changed to the resin compositions (A2) to (A4). Laminates (A2-2) to (A4-2) were produced in the same manner as in Evaluation Example 1 except that the laminate (A1-1) was changed to laminates (A2-1) to (A4-1). did.
＜比較評価例１～６：積層体（Ｂ１－１）～（Ｂ６－１）及び積層体（Ｂ１－２）～（Ｂ６－２）の作製＞
樹脂組成物（Ａ１）を、樹脂組成物（Ｂ１）～（Ｂ６）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ｂ１－１）～（Ｂ６－１）を作製した。積層体（Ａ１－１）を積層体（Ｂ１－１）～（Ｂ６－１）に変更した以外は評価例１と同様に操作し、積層体（Ｂ１－２）～（Ｂ６－２）を作製した。
<Comparative Evaluation Examples 1 to 6: Production of laminates (B1-1) to (B6-1) and laminates (B1-2) to (B6-2)>
Laminates (B1-1) to (B6-1) were produced in the same manner as in Evaluation Example 1, except that the resin composition (A1) was changed to the resin compositions (B1) to (B6). Laminates (B1-2) to (B6-2) were produced in the same manner as in Evaluation Example 1 except that the laminate (A1-1) was changed to laminates (B1-1) to (B6-1). did.
＜性能評価：塗膜表面元素比（Ｓｉ／Ｚｒ）＞
市販のＸ線光電子分光分析装置（製品名「ＥＳＣＡ－３２００」、（株）島津製作所製、真空度「３ｘ１０－５Ｐａ」、アノード電圧「８～１０ｋＶ」、エネルギー走査範囲「Ｓｉ：２ｐ ８９．２～１１４．２ｅＶ、Ｚｒ：３ｄ １７３．０～１９８．０ｅＶ）を用いて積層体（Ａ１－１）～（Ａ４－１）又は積層体（Ｂ１－１）～（Ｂ６－１）におけるインデックスマッチング層表面の解析を行い、得られたデータからインデックスマッチング層表面におけるＳｉ元素とＺｒ元素の質量比を算出した。なお、本実施例においてインデックスマッチング層表面とは、透明導電層と接触する側の表面を指す。
<Performance evaluation: coating film surface element ratio (Si/Zr)>
A commercially available X-ray photoelectron spectrometer (product name “ESCA-3200”, manufactured by Shimadzu Corporation, degree of vacuum “3×10 −5 Pa”, anode voltage “8 to 10 kV”, energy scanning range “Si: 2p 89. 2 to 114.2 eV, Zr: 3d 173.0 to 198.0 eV) using index matching in laminates (A1-1) to (A4-1) or laminates (B1-1) to (B6-1) The layer surface was analyzed, and the mass ratio of the Si element and the Zr element in the index matching layer surface was calculated from the obtained data. point to the surface.
＜性能評価：ＩＴＯ膜付着性＞
積層体（Ａ１－２）～（Ａ４－２）又は積層体（Ｂ１－２）～（Ｂ６－２）に対して、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－６に準拠し、クロスカット法によりＩＴＯ層とインデックスマッチング層との間の付着性を評価した。評価基準を以下に示す。
○：どの格子の目にも剥がれが無い
△：はがれが０％超１０％未満
×：はがれが１０％以上、又は積層体が破断
<Performance evaluation: ITO film adhesion>
Based on JIS K5600-5-6, ITO layer and index matching by crosscut method for laminates (A1-2) to (A4-2) or laminates (B1-2) to (B6-2) Adhesion between layers was evaluated. Evaluation criteria are shown below.
○: No peeling in any lattice △: More than 0% less than 10% peeling ×: 10% or more peeling, or the laminate is broken
＜性能評価：屈折率（ｎＤ）＞
積層体（Ａ１－１）～（Ａ４－１）又は積層体（Ｂ１－１）～（Ｂ６－１）のインデックスマッチング層に対して、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２０１４に準拠し、アッベ屈折計（製品名「ＮＡＲ－１Ｔ ＳＯＬＩＤ」、（株）アタゴ製）を用いてナトリウムのＤ線の波長に対する屈折率を測定した。
<Performance evaluation: refractive index (nD)>
Abbe refractometer (product name " NAR-1T SOLID" (manufactured by Atago Co., Ltd.) was used to measure the refractive index of sodium with respect to the wavelength of the D line.
＜性能評価：ヘイズ（％）＞
積層体（Ａ１－２）～（Ａ４－２）又は積層体（Ｂ１－２）～（Ｂ６－２）に対して、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠し、カラーヘーズメーターを用いて測定を行った。
<Performance evaluation: haze (%)>
Laminates (A1-2) to (A4-2) or laminates (B1-2) to (B6-2) were measured using a color haze meter in accordance with JIS K7136:2000.
＜性能評価：全光線透過率（％）＞
積層体（Ａ１－２）～（Ａ４－２）又は積層体（Ｂ１－２）～（Ｂ６－２）に対して、ＪＩＳ Ｋ７３７５：２００８に準拠し、カラーヘーズメーターを用いて測定を行った。
<Performance evaluation: total light transmittance (%)>
Laminates (A1-2) to (A4-2) or laminates (B1-2) to (B6-2) were measured using a color haze meter in accordance with JIS K7375:2008.
表１及び表２の用語の意味は下記のとおりである。
ポリジメチルシロキサン処理シリカ粒子：製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ－３６５０」、ビックケミー・ジャパン（株）製
ビス（トリメチルシリル）アミン処理シリカ粒子：製品名「ＹＡ０１０－ＬＦＧ」、（株）アドマテックス製
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカ粒子：製品名「ＥＬＣＯＭ Ｖ８８０４」、日揮触媒化成（株）製
アクリレート化合物：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬（株）製）
なお、表中のウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランで表面処理されたジルコニア粒子の質量部は、当該粒子以外にウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの質量部も含んでいる。ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシランで表面処理されたジルコニア粒子の質量部からジルコニア粒子の質量部であるＺｒＯ２含有量を差し引いた値が表面処理剤の質量部であり、表面処理剤の質量部の内３分の１質量％ずつが、ウレタン（メタ）アクリレート構造含有トリメトキシシラン、ウレタン（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの質量部である。
The meanings of the terms in Tables 1 and 2 are as follows.
Polydimethylsiloxane-treated silica particles: product name “NANOBYK-3650”, BYK Chemie Japan Co., Ltd. Bis (trimethylsilyl) amine-treated silica particles: product name “YA010-LFG”, Admatechs Co., Ltd. methacryloxypropyltrimethoxy Silane-treated silica particles: product name "ELCOM V8804", manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd. Acrylate compound: mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (product name "KAYARAD PET-30", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. )
The parts by mass of zirconia particles surface-treated with urethane (meth)acrylate structure-containing trimethoxysilane in the table also include parts by mass of urethane (meth)acrylate and pentaerythritol tetraacrylate in addition to the particles. The value obtained by subtracting the ZrO2 content, which is the part by mass of the zirconia particles, from the part by mass of the zirconia particles surface-treated with trimethoxysilane containing a urethane (meth)acrylate structure is the part by mass of the surface treatment agent. 1/3% by mass of each of the parts by mass is the parts by mass of urethane (meth)acrylate structure-containing trimethoxysilane, urethane (meth)acrylate and pentaerythritol tetraacrylate.
Claims (7)
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子、
（Ｂ）屈折率が１．５以下の金属酸化物粒子、
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する化合物、及び
（Ｄ）光重合開始剤を含み、
下記の条件を満たすインデックスマッチング層形成用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
条件：インデックスマッチング層の屈折率が１．６２以上１．７２以下であり、Ｘ線光電子分光法により測定される透明導電層側のインデックスマッチング層表層における（Ｂ）成分の金属元素と（Ａ）成分の金属元素との質量比（（Ｂ）成分の金属元素／（Ａ）成分の金属元素）が０．３以上である。 An active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer of a laminate having an index matching layer and a transparent conductive layer in this order on a base material,
(A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or higher;
(B) metal oxide particles having a refractive index of 1.5 or less;
(C) a compound having a (meth)acryloyl group, and (D) a photopolymerization initiator,
An active energy ray-curable resin composition for forming an index matching layer that satisfies the following conditions.
Conditions: The refractive index of the index matching layer is 1.62 or more and 1.72 or less, and the metal element of component (B) and (A) in the surface layer of the index matching layer on the transparent conductive layer side measured by X-ray photoelectron spectroscopy. The mass ratio to the metal element of the component (metal element of component (B)/metal element of component (A)) is 0.3 or more.
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