JP7150510B2 - 静電チャック - Google Patents
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Description
絶縁性を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板の表面に沿って前記絶縁基板に埋設された静電吸着電極と、
前記表面に設けられた複数の凸部と、
を備えた静電チャックであって、
前記静電吸着電極は、前記絶縁基板の厚み方向において前記凸部に重なる領域から離間しており、
前記絶縁基板における前記表面から前記静電吸着電極までの前記絶縁基板の厚み方向における距離Tが、2×10-3(m)以下であり、
前記凸部に最も近い前記静電吸着電極の端部から前記静電吸着電極の端部に最も近い前記凸部の下端部に向って延びる第1ベクトルと、前記絶縁基板の厚み方向に沿って前記第1ベクトルを前記静電吸着電極が配置される平面に投影することにより形成される第2ベクトルとのなす角度θが、10.6°~45°であることを特徴とする。
また、R2はクーロン力に関する静電吸着電極4とウエハ11との間の電気抵抗であり、C2はクーロン力に関する静電吸着電極4の真上にある絶縁体7の静電容量であり、V2はジョンセン・ラーベック力に関する静電吸着電極4と凸部5のウエハ11との接点部分との間の電位差である。全体の電圧V0は、V0=V1+V2と表わすことができる。
静電チャック1の外径は、φ298mmである。静電チャック1の表面3に、φd/m、高さH=10μmの円柱状の凸部5を形成する。凸部5は、絶縁基板2の表面3全体に一辺がピッチP/mの正三角形の頂点に連続して配置する。
円盤状の絶縁層をセラミックス焼結体で作製する。窒化アルミニウム(AlN)にモリブデンの静電吸着電極4を埋設しホットプレス焼成(1800℃、10MP、8時間焼成)する。なお、静電チャック1の厚みは15mmとする。
作製した静電チャック1を、真空装置内で残留吸着力の測定を行った。試験条件は、吸着物としてのウエハ11をシリコンウエハ(吸着面側に絶縁性の被膜500nmを形成したもの)とし、静電チャック1に載置する。印加電圧を±1000Vとし、印加時間を60秒とし、電圧印加が終了してから5秒経過した時にウエハを静電チャック1より離脱させ、その時に与えた外力による負荷をロードセルで計測した。負荷が10N以下の場合は、ウエハ11が離脱時に跳ね上がり離脱性良好「〇」と判定し、負荷が10Nよりも大きい場合は、ウエハ11が離脱時に跳ね上がり離脱性不良「×」と判定した。
表1で示される合成容量C0は、静電吸着電極4とウエハ11との間に形成される平行板コンデンサの静電容量を1平方メートル当たりの静電容量に換算した値を示している。合成容量C0が大きいほど吸着力は大きくなり、静電チャックの機能として好ましい。良好な吸着を行うには、合成容量C0が1×10-8F以上であることが好ましく、1×10-7F以上であることがより好ましい。
2 … 絶縁基板
3 … 表面
4 … 静電吸着電極
5 … 凸部
11… ウエハ
S1… 凸部に重なる領域
H … 凸部の高さ
T … 誘電体の厚み方向の距離
θ … 第1ベクトルと第2ベクトルとのなす角
Claims (3)
- 絶縁性を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板の表面に沿って前記絶縁基板に埋設された静電吸着電極と、
前記表面に設けられた複数の凸部と、
を備えた静電チャックであって、
前記静電吸着電極は、前記絶縁基板の厚み方向において前記凸部に重なる領域から離間しており、
前記絶縁基板における前記表面から前記静電吸着電極までの前記絶縁基板の厚み方向における距離Tが、2×10-3(m)以下であり、
前記凸部に最も近い前記静電吸着電極の端部から前記静電吸着電極の端部に最も近い前記凸部の下端部に向って延びる第1ベクトルと、前記絶縁基板の厚み方向に沿って前記第1ベクトルを前記静電吸着電極が配置される平面に投影することにより形成される第2ベクトルとのなす角度θが、10.6°~45°であることを特徴とする静電チャック。 - 請求項1に記載の静電チャックであって、
前記凸部の高さHは、3~15(μm)であることを特徴とする静電チャック。 - 請求項1又は2に記載の静電チャックであって、
前記静電吸着電極と前記凸部に載置される吸着物との間に形成される平行板コンデンサの静電容量を1平方メートル当たりの静電容量に換算した値が1×10-8(F)以上であることを特徴とする静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018142910A JP7150510B2 (ja) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018142910A JP7150510B2 (ja) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | 静電チャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2020021780A JP2020021780A (ja) | 2020-02-06 |
JP7150510B2 true JP7150510B2 (ja) | 2022-10-11 |
Family
ID=69587558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2018142910A Active JP7150510B2 (ja) | 2018-07-30 | 2018-07-30 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP7150510B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000188322A (ja) | 1991-08-30 | 2000-07-04 | Toto Ltd | 静電チャックの設計方法 |
JP2004022889A (ja) | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Anelva Corp | 静電吸着装置 |
JP2015508229A (ja) | 2012-02-03 | 2015-03-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 基板ホルダ、リソグラフィ装置、デバイス製造方法及び基板ホルダの製造方法 |
-
2018
- 2018-07-30 JP JP2018142910A patent/JP7150510B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000188322A (ja) | 1991-08-30 | 2000-07-04 | Toto Ltd | 静電チャックの設計方法 |
JP2004022889A (ja) | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Anelva Corp | 静電吸着装置 |
JP2015508229A (ja) | 2012-02-03 | 2015-03-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 基板ホルダ、リソグラフィ装置、デバイス製造方法及び基板ホルダの製造方法 |
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JP2020021780A (ja) | 2020-02-06 |
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