JP7140495B2 - スケールおよびその製造方法 - Google Patents
スケールおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7140495B2 JP7140495B2 JP2017252956A JP2017252956A JP7140495B2 JP 7140495 B2 JP7140495 B2 JP 7140495B2 JP 2017252956 A JP2017252956 A JP 2017252956A JP 2017252956 A JP2017252956 A JP 2017252956A JP 7140495 B2 JP7140495 B2 JP 7140495B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- scale
- grids
- substrate
- inorganic transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 107
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 107
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 30
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008484 TiSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
- G01D5/34707—Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
図1(a)は、第1実施形態に係るスケール100の平面図である。図1(b)は、図1(a)のA-A線断面図である。図1(a)および図1(b)で例示するように、スケール100は、基板10の一面(上面)の表面に金属反射膜20を備え、金属反射膜20上に所定の間隔で複数の金属格子が配置された目盛格子30を備える構造を有している。目盛格子30の隣接する2つの金属格子によって構成される凹部には、無機透明部材40が設けられている。すなわち、無機透明部材40は、金属反射膜20の上面の露出部分を覆うように設けられている。
図8(a)は、第2実施形態に係るスケール100aの平面図である。図8(b)は、図8(a)のB-B線断面図である。図8(a)および図8(b)で例示するように、スケール100aが第1実施形態に係るスケール100と異なる点は、基板10および金属反射膜20の代わりに、基板10aが設けられている点である。基板10aは、ステンレスなどの金属材料である。基板10aが金属によって構成されていることから、金属反射膜20が不要となる。スケール100aの製造の際には、金属反射膜20を形成する工程を省略することができる。例えば、図2(a)~図2(d)の製造方法では、図2(a)の工程を省略することができる。図5(a)~図5(d)の製造方法では、図5(a)の工程を省略することができる。
20 金属反射膜
30 目盛格子
40 無機透明部材
50 被エッチング層
60 溝
70 撥水層
80 被エッチング層
90 溝
95 撥水層
100 スケール
Claims (11)
- 少なくとも一面の表面が金属で構成される基板と、
前記一面上に直接形成され、所定の間隔で複数の金属格子が配置された目盛格子と、
前記複数の金属格子間に設けられ、前記一面上に直接設けられた無機透明部材と、を備え、
前記目盛格子および前記無機透明部材は、雰囲気に対して露出していることを特徴とするスケール。 - 前記目盛格子と前記無機透明部材とがなす段差は、前記金属格子の格子高さの1/4以下であることを特徴とする請求項1記載のスケール。
- 前記基板は、ガラス基板の一面に金属膜を備える構造を有することを特徴とする請求項1または2に記載のスケール。
- 前記金属格子は、めっき部材であることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のスケール。
- 少なくとも一面の表面が金属で構成された基板の当該一面上に、所定の間隔で無機透明材料の複数の格子を形成する工程と、
前記複数の格子の間に金属含有液を充填液として供給することで、前記複数の格子の間に金属格子を形成する工程と、を含むことを特徴とするスケールの製造方法。 - 前記充填液は、金属微粒子を分散させた金属インクであり、
焼成によって前記金属微粒子を焼結させることで、前記金属格子を形成することを特徴とする請求項5記載のスケールの製造方法。 - 少なくとも一面の表面が金属で構成された基板の当該一面上に直接、所定の間隔で無機透明材料の複数の格子を形成する工程と、
前記複数の格子の間において前記一面の露出した前記金属の部分を選択的にめっきすることにより、前記複数の格子の間において前記一面上に直接金属格子を形成する工程と、を含むことを特徴とするスケールの製造方法。 - 少なくとも一面の表面が金属で覆われ、当該一面上に所定の間隔で金属の複数の格子が直接形成された基板を用意する工程と、
前記複数の格子の間に液状の無機透明材料を充填液として供給することで、前記複数の格子の間において前記一面上に直接無機透明部材を形成し、前記複数の格子の前記基板と反対側の面および前記無機透明部材の前記基板と反対側の面を雰囲気に対して露出させる工程と、を含むことを特徴とするスケールの製造方法。 - 前記基板の前記一面上に、前記複数の格子の各端部を接続する溝が形成されたパターンが設けられており、
前記溝から前記充填液を前記複数の格子の間に供給することを特徴とする請求項8に記載のスケールの製造方法。 - 前記パターンは、前記複数の格子の一方の各端部を接続する第1溝と、前記複数の格子の他方の各端部を接続する第2溝とを備え、
前記充填液を、前記第1溝および前記第2溝のいずれか一方から供給することを特徴とする請求項9記載のスケールの製造方法。 - 前記充填液を前記複数の格子の間に供給する前に、前記複数の格子の上面に対して撥水加工を行うことを特徴とする請求項5,6,8~10のいずれか一項に記載のスケールの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017252956A JP7140495B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | スケールおよびその製造方法 |
DE102018009725.1A DE102018009725A1 (de) | 2017-12-28 | 2018-12-11 | Skala und Herstellungsverfahren derselben |
US16/227,573 US11054286B2 (en) | 2017-12-28 | 2018-12-20 | Scale and manufacturing method of the same |
CN201811608112.XA CN110017854B (zh) | 2017-12-28 | 2018-12-27 | 标尺及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017252956A JP7140495B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | スケールおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019120499A JP2019120499A (ja) | 2019-07-22 |
JP7140495B2 true JP7140495B2 (ja) | 2022-09-21 |
Family
ID=66816762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017252956A Active JP7140495B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | スケールおよびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11054286B2 (ja) |
JP (1) | JP7140495B2 (ja) |
CN (1) | CN110017854B (ja) |
DE (1) | DE102018009725A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7140495B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-09-21 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
JP2021131312A (ja) * | 2020-02-20 | 2021-09-09 | 株式会社ミツトヨ | スケール |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003214908A (ja) | 2002-01-25 | 2003-07-30 | Fuji Electric Co Ltd | 光学式エンコーダ用スケール及びその製造方法 |
JP2004335299A (ja) | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機エレクトロルミネセンス素子用基板の製造方法 |
JP2006178312A (ja) | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Canon Inc | 表面反射型位相格子 |
JP2008134235A (ja) | 2006-10-27 | 2008-06-12 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダ、スケール、及びスケールの製造方法 |
JP2009139545A (ja) | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Nikon Corp | 光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法 |
JP2010139884A (ja) | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Jsr Corp | 偏光性回折素子の製造方法および偏光性回折素子 |
JP2013108873A (ja) | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダのスケール及びその製造方法 |
JP5332792B2 (ja) | 2009-03-25 | 2013-11-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 表示媒体、および表示装置 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3877058A (en) | 1973-12-13 | 1975-04-08 | Westinghouse Electric Corp | Radiation charge transfer memory device |
JPH02193103A (ja) * | 1989-01-23 | 1990-07-30 | Oki Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
JP2958654B2 (ja) * | 1990-07-27 | 1999-10-06 | 株式会社ソキア | 光学式エンコーダの目盛ディスク |
JP2862417B2 (ja) * | 1990-11-16 | 1999-03-03 | キヤノン株式会社 | 変位測定装置及び方法 |
JPH05332792A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-14 | Ricoh Co Ltd | レーザエンコーダ及びその製造方法 |
DE19859670A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-29 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Abtastkopf und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE10011872A1 (de) * | 2000-03-10 | 2001-09-27 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Reflexions-Messteilung und Verfahren zur Herstellung derselben |
JP2002090605A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レンズ調整装置及びレンズ調整方法 |
JP2004037341A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダ及びスケールの製造方法 |
US7268946B2 (en) * | 2003-02-10 | 2007-09-11 | Jian Wang | Universal broadband polarizer, devices incorporating same, and method of making same |
JP2004354316A (ja) | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 位置検出装置 |
CN1316265C (zh) * | 2003-12-16 | 2007-05-16 | 财团法人工业技术研究院 | 具有双金属层光栅的偏光组件及其制造方法 |
CN100397045C (zh) | 2004-01-26 | 2008-06-25 | 三丰株式会社 | 标尺的制造方法和光电式编码器 |
JP4913345B2 (ja) | 2004-01-26 | 2012-04-11 | 株式会社ミツトヨ | 反射型光電式エンコーダ用スケール、スケールの製造方法及び光電式エンコーダ |
US7713053B2 (en) * | 2005-06-10 | 2010-05-11 | Protochips, Inc. | Reusable template for creation of thin films; method of making and using template; and thin films produced from template |
US7395698B2 (en) * | 2005-10-25 | 2008-07-08 | Georgia Institute Of Technology | Three-dimensional nanoscale metrology using FIRAT probe |
JP2008045931A (ja) | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光学式エンコーダのスケールの製造方法 |
JP5172195B2 (ja) | 2007-04-09 | 2013-03-27 | 株式会社森精機製作所 | 光学式変位測定装置 |
TWI454665B (zh) | 2007-09-05 | 2014-10-01 | 尼康股份有限公司 | Reflective plate for optical encoder and manufacturing method thereof, and optical encoder |
JP2011247600A (ja) | 2010-05-21 | 2011-12-08 | Mitsutoyo Corp | エンコーダスケール及びその製造方法 |
JP5668226B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2015-02-12 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
CN102480848B (zh) * | 2010-11-23 | 2014-12-24 | 西门子公司 | 一种导电栅的制造***和制造方法 |
CN102879849B (zh) * | 2012-10-26 | 2015-04-15 | 苏州大学 | 一种亚波长光栅结构偏振片 |
CN103176231B (zh) * | 2013-03-04 | 2016-04-27 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 单层膜反射式平面金属光栅及其制作方法 |
DE102013220190B4 (de) * | 2013-10-07 | 2021-08-12 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Messteilung und lichtelektrische Positionsmesseinrichtung mit dieser Messteilung |
EP3855130A1 (en) * | 2015-12-03 | 2021-07-28 | Renishaw PLC | Encoder |
DE102016200847A1 (de) * | 2016-01-21 | 2017-07-27 | Dr. Johannes Heidenhain Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung | Optische Positionsmesseinrichtung |
CN106646696B (zh) * | 2017-03-15 | 2019-04-05 | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 一种双带可见光宽波段吸收结构及其制备方法 |
JP2019120500A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
JP7140495B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2022-09-21 | 株式会社ミツトヨ | スケールおよびその製造方法 |
-
2017
- 2017-12-28 JP JP2017252956A patent/JP7140495B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-11 DE DE102018009725.1A patent/DE102018009725A1/de active Pending
- 2018-12-20 US US16/227,573 patent/US11054286B2/en active Active
- 2018-12-27 CN CN201811608112.XA patent/CN110017854B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003214908A (ja) | 2002-01-25 | 2003-07-30 | Fuji Electric Co Ltd | 光学式エンコーダ用スケール及びその製造方法 |
JP2004335299A (ja) | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機エレクトロルミネセンス素子用基板の製造方法 |
JP2006178312A (ja) | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Canon Inc | 表面反射型位相格子 |
JP2008134235A (ja) | 2006-10-27 | 2008-06-12 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダ、スケール、及びスケールの製造方法 |
JP2009139545A (ja) | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Nikon Corp | 光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法 |
JP2010139884A (ja) | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Jsr Corp | 偏光性回折素子の製造方法および偏光性回折素子 |
JP5332792B2 (ja) | 2009-03-25 | 2013-11-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 表示媒体、および表示装置 |
JP2013108873A (ja) | 2011-11-22 | 2013-06-06 | Mitsutoyo Corp | 光電式エンコーダのスケール及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110017854B (zh) | 2022-12-27 |
JP2019120499A (ja) | 2019-07-22 |
US20190204118A1 (en) | 2019-07-04 |
CN110017854A (zh) | 2019-07-16 |
DE102018009725A1 (de) | 2019-07-04 |
US11054286B2 (en) | 2021-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI454835B (zh) | 遮罩坯料用透明基板的製造方法、遮罩坯料的製造方法及曝光遮罩製造方法 | |
US8427639B2 (en) | Surfaced enhanced Raman spectroscopy substrates | |
JP6520041B2 (ja) | ペリクル | |
JP7140495B2 (ja) | スケールおよびその製造方法 | |
US8248697B2 (en) | Method for manufacturing an optical element to polarize and split incident light | |
KR102445641B1 (ko) | 수퍼스트레이트 및 수퍼스트레이트의 사용 방법 | |
US20210247547A1 (en) | Scale and manufacturing method of the same | |
CN1411562A (zh) | 制作集成光路的方法 | |
CN101290363B (zh) | 控制生长多层膜制作多级微反射镜的方法 | |
JP2005043838A (ja) | フォトマスクブランク用基板の製造方法 | |
JP2015001412A (ja) | 光電式測定器用スケール、エンコーダ及びスケールの形成方法 | |
CN110030894B (zh) | 标尺及其制造方法 | |
JP4232018B2 (ja) | フォトマスクブランク用基板の選定方法 | |
JP2009175707A5 (ja) | ||
JP4340859B2 (ja) | フォトマスクブランク用基板の選定方法 | |
KR100604214B1 (ko) | 포토마스크 블랭크용 기판의 선정방법 | |
US20060061866A1 (en) | Method of manufacturing replica diffraction grating | |
JP4657591B2 (ja) | フォトマスクブランク用基板の選定方法 | |
JP2008216610A (ja) | レーザ加工用光学部品の製法 | |
TWI697033B (zh) | 遮罩基底用基板之製造方法、遮罩基底之製造方法、轉印用遮罩之製造方法、半導體元件之製造方法、遮罩基底用基板、遮罩基底及轉印用遮罩 | |
US20090208881A1 (en) | Immersion ultraviolet photolithography process | |
JP7060370B2 (ja) | スケールおよびその製造方法 | |
WO2023157475A1 (ja) | 回折格子の製造方法および回折格子 | |
CN102789017A (zh) | 厚膜倒装调整制作多级微反射镜的方法 | |
JP2022106227A (ja) | スケールおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190419 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201109 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211005 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220908 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7140495 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |