JP7130127B2 - 荷電粒子ビーム装置内のウェーハを熱調節するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2018年11月6日に出願された米国特許出願第62/756,483号の優先権を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ここで、αウェーハは、ウェーハ材料の線膨張係数であり(例えば、シリコンでは、αsi≒2.56・10-6・K-1)、T基準は、ウェーハ画像760に関連する既知のウェーハ温度である。ウェーハ材料のいくつかの例としては、中でもとりわけ、ゲルマニウム、ガリウムヒ素が挙げられる。
ここで、Tウェーハ(t)はウェーハ温度であり、tは時間であり、Tウェーハ(0)は、ウェーハがウェーハステージに装填されたときのt=0のウェーハ温度であり、Tウェーハステージはウェーハステージの温度であり、τは熱時定数である。
ここで、Cウェーハはシリコンの熱容量であり、Mウェーハはウェーハの質量であり、hは、ウェーハとウェーハステージとの間の熱伝達係数であり、Aウェーハはウェーハの有効表面積である。
条項1.
荷電粒子ビーム装置を使用して、複数の構造を含む、ウェーハの温度特性を決定するための方法であって、
上記荷電粒子ビーム装置を用いて上記ウェーハをスキャンして上記ウェーハ上の上記複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記分析に基づいて上記温度特性を決定することと
を含む、方法。
条項2.
上記ウェーハの上記温度特性は、上記ウェーハの温度を含む、条項1に記載の方法。
条項3.
上記1つ又は複数の特性を基準データにおける対応する1つ又は複数の特性と比較することを更に含む、条項1又は2に記載の方法。
条項4.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項3に記載の方法。
条項5.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項3に記載の方法。
条項6.
上記基準データは、GDSレイアウトデータを含む、条項3~5の何れか一項に記載の方法。
条項7.
上記基準データは、荷電粒子ビーム装置によるスキャンデータを含む、条項3~5の何れか一項に記載の方法。
条項8.
上記基準データは、上記ウェーハの既知の温度に関連付けられる、条項3~7の何れか一項に記載の方法。
条項9.
上記基準データは、予め分析されたウェーハの決定された温度特性を含む、条項3~8の何れか一項に記載の方法。
条項10.
上記複数の構造の第1の組の上記1つ又は複数の特性を時系列に第1の時点で測定することと、
上記複数の構造の第2の組の上記1つ又は複数の特性を上記時系列に第2の時点で測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組と上記第2の組とを比較することと
を更に含む、条項1又は2に記載の方法。
条項11.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項10に記載の方法。
条項12.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項10に記載の方法。
条項13.
上記温度特性を上記荷電粒子ビーム装置のコントローラに提供することと、
検査すべき次のウェーハを予め熱調節するように熱調節ステーションを調整することと
を更に含む、条項1~12の何れか一項に記載の方法。
条項14.
荷電粒子ビーム装置を使用して、複数の構造を含む、ウェーハの温度特性を決定するための方法であって、
上記荷電粒子ビーム装置を用いて上記ウェーハをスキャンして上記ウェーハ上の上記複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記分析に基づいて上記温度特性を決定することと
を含む上記方法をコントローラに実施させるように上記コントローラの1つ又は複数のプロセッサにより実行可能である1組の命令を含む非一時的コンピュータ可読媒体。
条項15.
上記ウェーハの上記温度特性は、上記ウェーハの温度を含む、条項14に記載のコンピュータ可読媒体。
条項16.
上記1組の命令は、
上記1つ又は複数の特性を基準データにおける対応する1つ又は複数の特性と比較すること
を上記コントローラに更に実施させるように上記コントローラの上記1つ又は複数のプロセッサにより実行可能である、条項14又は15に記載のコンピュータ可読媒体。
条項17.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項16に記載のコンピュータ可読媒体。
条項18.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項16に記載のコンピュータ可読媒体。
条項19.
上記基準データは、GDSレイアウトデータを含む、条項16~18の何れか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
条項20.
上記基準データは、荷電粒子ビーム装置によるスキャンデータを含む、条項16~18の何れか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
条項21.
上記基準データは、上記ウェーハの既知の温度に関連付けられる、条項16~20の何れか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
条項22.
上記基準データは、予め分析されたウェーハの決定された温度特性を含む、条項16~21の何れか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
条項23.
上記1組の命令は、
上記複数の構造の第1の組の上記1つ又は複数の特性を時系列に第1の時点で測定することと、
上記複数の構造の第2の組の上記1つ又は複数の特性を上記時系列に第2の時点で測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組と上記第2の組とを比較することと
を上記コントローラに更に実施させるように上記コントローラの上記1つ又は複数のプロセッサにより実行可能である、条項14又は15に記載のコンピュータ可読媒体。
条項24.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項23に記載のコンピュータ可読媒体。
条項25.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項23に記載のコンピュータ可読媒体。
条項26.
上記1組の命令は、
上記温度特性を上記荷電粒子ビーム装置のコントローラに提供することと、
検査すべき次のウェーハを予め熱調節するように熱調節ステーションを調整することと
を上記コントローラに更に実施させるように上記コントローラの上記1つ又は複数のプロセッサにより実行可能である、条項14~25の何れか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
条項27.
熱調節ステーションを備えた荷電粒子ビーム装置を調整するための方法であって、
上記荷電粒子ビーム装置を用いてウェーハステージ上のウェーハをスキャンして上記ウェーハ上の複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記分析に基づいて上記ウェーハの温度特性を決定することと、
上記温度特性に基づいて上記熱調節ステーションを調整することと
を含む、方法。
条項28.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することは、
上記ウェーハの1つ又は複数の画像を取得することと、
上記1つ又は複数の画像に基づいて上記ウェーハの上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を基準データにおける上記複数の構造の対応する1つ又は複数の特性と比較することと
を含む、条項27に記載の方法。
条項29.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項28に記載の方法。
条項30.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項28に記載の方法。
条項31.
上記基準データは、上記ウェーハの既知の温度に関連付けられる、条項28~30の何れか一項に記載の方法。
条項32.
上記基準データは、予め分析されたウェーハの決定された温度特性を含む、条項28~31の何れか一項に記載の方法。
条項33.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することは、
上記ウェーハの第1の画像を時系列に第1の時点で取得することと、
上記ウェーハの第2の画像を上記時系列に第2の時点で取得することと、
上記第1の画像に基づいて第1の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記第2の画像に基づいて第2の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組と上記第2の組とを比較することと
を含む、条項27に記載の方法。
条項34.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項33に記載の方法。
条項35.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項33に記載の方法。
条項36.
上記ウェーハの第3の画像を上記時系列に第3の時点で取得することと、
上記第3の画像に基づいて第3の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組、上記第2の組、及び上記第3の組に基づいて外挿プロセスを行うことと
を更に含む、条項33~35の何れか一項に記載の方法。
条項37.
上記外挿は、指数外挿を含む、条項36に記載の方法。
条項38.
上記熱調節ステーションは、装填ロックユニットを含む、条項27~37の何れか一項に記載の方法。
条項39.
上記ウェーハのアライメント特性を局所的レベルで特定することと、
上記熱調節ステーションを調整する必要があるかどうかを判定することと
を更に含む、条項27~38の何れか一項に記載の方法。
条項40.
荷電粒子ビーム装置であって、
ウェーハ温度を予め調節するように構成された熱調節ステーションと、
ウェーハステージ上のウェーハの1つ又は複数の画像を生成するための粒子ビーム撮像ツールと、
上記粒子ビーム撮像ツールを用いて上記ウェーハをスキャンして上記ウェーハ上の複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を分析することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記分析に基づいて上記ウェーハの温度特性を決定することと、
上記温度特性に基づいて上記熱調節ステーションを調整することと
を上記荷電粒子ビーム装置に実施させるための回路を有するコントローラと
を含む、荷電粒子ビーム装置。
条項41.
上記コントローラが上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
上記ウェーハの上記1つ又は複数の画像を取得することと、
上記1つ又は複数の画像に基づいて上記ウェーハの上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性を基準データにおける上記複数の構造の対応する1つ又は複数の特性と比較することと
を含む、条項40に記載の装置。
条項42.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項41に記載の装置。
条項43.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項41に記載の装置。
条項44.
上記基準データは、上記ウェーハの既知の温度に関連付けられる、条項41~43の何れか一項に記載の装置。
条項45.
上記基準データは、予め分析されたウェーハの決定された温度特性を含む、条項41~44の何れか一項に記載の装置。
条項46.
上記コントローラが上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
上記ウェーハの第1の画像を時系列に第1の時点で取得することと、
上記ウェーハの第2の画像を上記時系列に第2の時点で取得することと、
上記第1の画像に基づいて第1の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記第2の画像に基づいて第2の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組と上記第2の組とを比較することと
を含む、条項40に記載の装置。
条項47.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造の位置を含む、条項46に記載の装置。
条項48.
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性は、上記複数の構造間の距離を含む、条項46に記載の装置。
条項49.
上記コントローラが上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
上記ウェーハの第3の画像を上記時系列に第3の時点で取得することと、
上記第3の画像に基づいて第3の組の上記1つ又は複数の特性を測定することと、
上記複数の構造の上記1つ又は複数の特性の上記第1の組、上記第2の組、及び上記第3の組に基づいて外挿プロセスを行うことと
を更に含む、条項46~48の何れか一項に記載の装置。
条項50.
上記外挿は、指数外挿を含む、条項49に記載の装置。
条項51.
上記熱調節ステーションは、装填ロックユニットを含む、条項40~50の何れか一項に記載の装置。
条項52.
上記コントローラは、
上記ウェーハのアライメント特性を局所的レベルで特定することと、
上記熱調節ステーションを調整する必要があるかどうかを判定することと
を更に実施する、条項40~51の何れか一項に記載の装置。
Claims (15)
- 荷電粒子ビーム装置であって、
ウェーハ温度を予め調節するように構成された熱調節ステーションと、
ウェーハステージ上のウェーハの1つ又は複数の画像を生成するための粒子ビーム撮像ツールと、
前記粒子ビーム撮像ツールを用いて前記ウェーハをスキャンして前記ウェーハ上の複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性を分析することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の前記分析に基づいて前記ウェーハの温度特性を決定することと
前記温度特性に基づいて前記熱調節ステーションを調整することと
を前記荷電粒子ビーム装置に実施させるための回路を有するコントローラと
を含む、荷電粒子ビーム装置。 - 前記コントローラが前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
前記ウェーハの前記1つ又は複数の画像を取得することと、
前記1つ又は複数の画像に基づいて前記ウェーハの前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性を基準データにおける前記複数の構造の対応する1つ又は複数の特性と比較することと
を含む、請求項1に記載の装置。 - 前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性は、前記複数の構造の位置を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性は、前記複数の構造間の距離を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記基準データはグラフィックスデザインシステム(GDS)データであり、前記GDSデータは前記ウェーハの既知の温度に関連付けられる、請求項2に記載の装置。
- 前記基準データは、予め分析されたウェーハの決定された温度特性を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記コントローラが前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
前記ウェーハの第1の画像を時系列に第1の時点で取得することと、
前記ウェーハの第2の画像を前記時系列に第2の時点で取得することと、
前記第1の画像に基づいて第1の組の前記1つ又は複数の特性を測定することと、
前記第2の画像に基づいて第2の組の前記1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の前記第1の組と前記第2の組とを比較することと
を含む、請求項1に記載の装置。 - 前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性は、前記複数の構造の位置を含む、請求項7に記載の装置。
- 前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性は、前記複数の構造間の距離を含む、請求項7に記載の装置。
- 前記コントローラが前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の分析を実施することは、
前記ウェーハの第3の画像を前記時系列に第3の時点で取得することと、
前記第3の画像に基づいて第3の組の前記1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の前記第1の組、前記第2の組、及び前記第3の組に基づいて外挿プロセスを行うことと
を更に含む、請求項7に記載の装置。 - 前記外挿は、指数外挿を含む、請求項10に記載の装置。
- 前記熱調節ステーションは、装填ロックユニットを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記コントローラは、
前記ウェーハのアライメント特性を局所的レベルで特定することと、
前記熱調節ステーションを調整する必要があるかどうかを判定することと
を更に実施する、請求項1に記載の装置。 - 荷電粒子ビーム装置を使用して、複数の構造を含む、ウェーハの温度特性を決定するための方法であって、
前記荷電粒子ビーム装置を用いて前記ウェーハをスキャンして前記ウェーハ上の前記複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性を分析することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の前記分析に基づいて前記温度特性を決定することと、
ウェーハ温度を予め調節するように構成された熱調節ステーションを、前記温度特性に基づいて調整することと
を含む前記方法をコントローラに実施させるように前記コントローラの1つ又は複数のプロセッサにより実行可能である1組の命令を含む非一時的コンピュータ可読媒体。 - 荷電粒子ビーム装置を使用して、複数の構造を含む、ウェーハの温度特性を決定するための方法であって、
前記荷電粒子ビーム装置を用いて前記ウェーハをスキャンして前記ウェーハ上の前記複数の構造の1つ又は複数の特性を測定することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性を分析することと、
前記複数の構造の前記1つ又は複数の特性の前記分析に基づいて前記温度特性を決定することと、
ウェーハ温度を予め調節するように構成された熱調節ステーションを、前記温度特性に基づいて調整することと
を含む、方法。
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