JP7111348B2 - スクリーンマスクの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 24
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 14
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- B41F15/00—Screen printers
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- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- H01L31/0224—Electrodes
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Description
バスバーのような幅広いパターンは緯糸と傾斜角が比較的大きくてもよい。したがって、異なる複数の方向のライン状開口を有する場合には、幅の狭いライン状開口の方向を優先して角度を調整する。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
(1)
塗布材を透過する透過部を有するメッシュ部に形成された感光性材料のマスク膜に所定の露光パターンで光を照射し、前記マスク膜に所定のパターン開口を形成する露光処理と、
前記透過部の情報に基づき、前記露光処理の露光パターンを補正することと、を備える、スクリーンマスクの製造方法。
(2)
前記露光処理はマスクレス露光であり、
前記補正において、前記露光パターンの基準位置と前記メッシュ部の透過部との相対位置を調整する、(1)に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(3)
前記メッシュ部は複数本並列に配されるメッシュ線材を有し、
前記パターン開口は複数並列に配されるライン状開口を有し、
前記補正において、前記露光パターンにおける、前記ライン状開口の開口幅、ピッチ、及び前記メッシュ部を形成するメッシュ線材と前記ライン状開口との傾斜角度、のいずれか1以上を調整する、(1)または(2)に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(4)
前記補正において、前記ライン状開口の中心位置と、複数の前記メッシュ線材の中間位置とを近づける、(3)に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(5)
前記メッシュ部の前記透過部の位置情報を検出することを備える、(1)乃至(4)のいずれかに記載のスクリーンマスクの製造方法。
Claims (4)
- 塗布材を透過する透過部を有するメッシュ部に形成された感光性材料のマスク膜に所定の露光データに基づく露光パターンで光を照射し、前記マスク膜に所定のパターン開口を形成するマスクレス露光処理と、
前記透過部の情報に基づき、前記マスクレス露光処理の前記露光データを補正することと、を備え、
前記補正において、前記露光パターンの基準位置と前記メッシュ部の前記透過部との相対位置を調整する、スクリーンマスクの製造方法。 - 前記メッシュ部は複数本並列に配されるメッシュ線材を有し、
前記パターン開口は複数並列に配されるライン状開口を有し、
前記補正において、前記露光パターンにおける、前記ライン状開口の開口幅、ピッチ、及び前記メッシュ部を形成するメッシュ線材と前記ライン状開口との傾斜角度、のいずれか1以上を調整する、請求項1に記載のスクリーンマスクの製造方法。 - 前記補正において、前記ライン状開口の中心位置と、複数の前記メッシュ線材の中間位置とを近づける、請求項2に記載のスクリーンマスクの製造方法。
- 前記メッシュ部の前記透過部の位置情報を検出することを備える、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のスクリーンマスクの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018114569A JP7111348B2 (ja) | 2018-06-15 | 2018-06-15 | スクリーンマスクの製造方法 |
PCT/JP2019/023721 WO2019240275A1 (ja) | 2018-06-15 | 2019-06-14 | スクリーンマスクの製造方法及び露光装置 |
CN201980015266.4A CN111770839A (zh) | 2018-06-15 | 2019-06-14 | 丝网掩模的制造方法以及曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018114569A JP7111348B2 (ja) | 2018-06-15 | 2018-06-15 | スクリーンマスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019217641A JP2019217641A (ja) | 2019-12-26 |
JP7111348B2 true JP7111348B2 (ja) | 2022-08-02 |
Family
ID=68842270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018114569A Active JP7111348B2 (ja) | 2018-06-15 | 2018-06-15 | スクリーンマスクの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7111348B2 (ja) |
CN (1) | CN111770839A (ja) |
WO (1) | WO2019240275A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI759109B (zh) * | 2021-02-18 | 2022-03-21 | 倉和股份有限公司 | 配合圖形之印刷網版及其製作方法 |
CN115008883B (zh) * | 2021-03-05 | 2024-03-26 | 仓和精密制造(苏州)有限公司 | 配合图形的印刷网版和制作方法 |
JP2023104351A (ja) * | 2022-01-17 | 2023-07-28 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスク用メッシュ、スクリーンマスク、スクリーンマスクの製造方法及び印刷物の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010173103A (ja) | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Riso Kagaku Corp | スクリーン製版装置 |
CN204367550U (zh) | 2014-12-03 | 2015-06-03 | 贾云涛 | 一种用于太阳能电池制造的网板、硅片和掩膜版 |
CN107757069A (zh) | 2016-08-19 | 2018-03-06 | 仓和股份有限公司 | 具有复合材质网的网版制作方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02183253A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-07-17 | Samsung Electron Devices Co Ltd | スクリーンマスクの製造方法 |
JP2007033882A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 |
CN102360169B (zh) * | 2006-09-01 | 2014-01-22 | 株式会社尼康 | 移动体驱动方法及移动体驱动***、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法 |
JP5597535B2 (ja) * | 2007-07-10 | 2014-10-01 | エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド | マスクレス露光方法及びマスクレス露光装置 |
CN102944978B (zh) * | 2011-08-15 | 2014-08-06 | 中山新诺科技股份有限公司 | 曝光***、校准***、光学引擎、曝光方法和制造方法 |
CN106476417B (zh) * | 2015-08-25 | 2019-08-23 | 贾云涛 | 一种制作用于丝网印刷的丝网的方法 |
CN106773547B (zh) * | 2017-01-13 | 2019-07-12 | 西安电子科技大学 | 一种基于自动校准的全自动无掩膜曝光方法 |
-
2018
- 2018-06-15 JP JP2018114569A patent/JP7111348B2/ja active Active
-
2019
- 2019-06-14 WO PCT/JP2019/023721 patent/WO2019240275A1/ja active Application Filing
- 2019-06-14 CN CN201980015266.4A patent/CN111770839A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010173103A (ja) | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Riso Kagaku Corp | スクリーン製版装置 |
CN204367550U (zh) | 2014-12-03 | 2015-06-03 | 贾云涛 | 一种用于太阳能电池制造的网板、硅片和掩膜版 |
CN107757069A (zh) | 2016-08-19 | 2018-03-06 | 仓和股份有限公司 | 具有复合材质网的网版制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019217641A (ja) | 2019-12-26 |
CN111770839A (zh) | 2020-10-13 |
WO2019240275A1 (ja) | 2019-12-19 |
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