JP7111146B2 - 容器内清浄化装置 - Google Patents
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Description
前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と、
前記ウエハ搬送容器内に清浄化ガスを導入可能なガス導入手段と、
前記ウエハ搬送容器内の気体の成分および気体の清浄度の少なくとも一方を検出する気体検出部と、
前記気体検出部の出力を用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御する制御部と、を有する。
前記気体検出部は、前記ボトムノズル又は前記配管部に設けられており、前記底孔を介して前記ウエハ搬送容器の内部から流出した気体を検出することで、前記ウエハ搬送容器内の気体の成分および気体の清浄度の少なくとも一方を検出することを特徴とする。
前記制御部は、前記加速度検出部の出力をさらに用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御してもよい。
前記制御部は、前記外部検出部の出力をさらに用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御してもよい。
前記制御部は、前記記憶部が記憶する前記気体検出部の過去の出力を用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入に関する制御条件を変更可能であってもよい。
図1は、本発明の一実施形態に係る容器内清浄化装置10の半導体工場内における配置状態を表す概略図である。図1に示すように、容器内清浄化装置10は、ロードポート装置51が付随する処理装置50に隣接して、半導体工場内に配置される。容器内清浄化装置10は、半導体工場内において、EFEMや処理室を有する処理装置50とは別途設置される。
2… フープ
2b… 容器主開口
2e… 底面
2ea… 第1の底孔
2eb… 第2の底孔
4… 蓋
10、110… 容器内清浄化装置
11… 清浄化室
11a… 前面壁部
11aa… 装置開口
11b… 側面壁部
11c… 背面壁部
11d… 上面壁部
11e… 底部壁部
13… ドア
14… 載置部
14a… 固定台
14b… スライドテーブル
14c… 位置決めピン
15… 開閉機構
16… 室内ガス放出部
16a… 第1のガス放出手段
16b… 第2のガス放出手段
18… 排出口
19… 排出口開閉機構
20、120… 制御部
20a… 記憶部
21a… 第1のボトムノズル
21b… 第2のボトムノズル
22… 配管部
22a、122a… 第1配管部
22b、122b… 第2配管部
22c… 第3配管部
30… 気体検出部
50… 処理装置
51… ロードポート装置
142… 加速度検出部
143… 外部検出部
144… 第2気体検出部
146… 排出ポンプ
Claims (7)
- ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置であって、
前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と、
前記ウエハ搬送容器内に清浄化ガスを導入可能なガス導入手段と、
前記ウエハ搬送容器内の気体の成分および気体の清浄度の少なくとも一方を検出する気体検出部と、
前記気体検出部の出力を用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御する制御部と、
を有し、
前記ウエハ搬送容器から前記ウエハを取り出し搬送する搬送装置および前記搬送された前記ウエハを処理する処理装置を具備せず、少なくとも前記処理装置とは別途に設けられ、
前記載置部は、前記ウエハ搬送容器の底面に形成された少なくとも2つの底孔に対しそれぞれ一方側で連通可能な少なくとも2つのボトムノズルと、少なくとも1つの前記ボトムノズルの他方側と連通する第1配管部と、少なくとも1つの他の前記ボトムノズルの他方側と連通する第2配管部と、前記第1配管部および前記第2配管部の少なくとも一方と連通されて前記ウエハ搬送容器から流出した気体を排出する第3配管部とを有し、
前記気体検出部は、前記第1配管部、前記第2配管部および前記第3配管部が接続される接続部分に設けられており、
前記気体検出部は、前記第1配管部と前記第2配管部とを連通させて、流出した気体を前記ウエハ搬送容器へ戻す状態と、前記第1配管部および前記第2配管部の少なくとも一方を前記第3配管部と連通させて、流出した気体を排出する状態とを、切り換え可能な切換弁を有することを特徴とする容器内清浄化装置。 - 前記気体検出部は、前記底孔を介して前記ウエハ搬送容器の内部から流出した気体を検出することで、前記ウエハ搬送容器内の気体の成分および気体の清浄度の少なくとも一方を検出することを特徴とする請求項1に記載の容器内清浄化装置。
- 前記ウエハ搬送容器の加速度を検出する加速度検出部をさらに有しており、
前記制御部は、前記加速度検出部の出力をさらに用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御する請求項1又は請求項2に記載の容器内清浄化装置。 - 前記加速度検出部は、前記載置部におけるウエハ搬送容器設置面に設けられていることを特徴とする請求項3に記載の容器内清浄化装置。
- 前記ガス導入手段は、前記清浄化室の内部に設けられており前記清浄化ガスとしてクリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な室内ガス放出部をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載の容器内清浄化装置。
- 前記ウエハ搬送容器の外部の気体の成分および気体の清浄度の少なくとも一方を検出する外部検出部をさらに有しており、
前記制御部は、前記外部検出部の出力をさらに用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入を制御する請求項1から請求項5までのいずれかに記載の容器内清浄化装置。 - 前記気体検出部の出力を記憶する記憶部をさらに有しており、
前記制御部は、前記記憶部が記憶する前記気体検出部の過去の出力を用いて、前記ウエハ搬送容器内への前記清浄化ガスの導入に関する制御条件を変更可能であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかに記載の容器内清浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2020210088A JP7111146B2 (ja) | 2020-12-18 | 2020-12-18 | 容器内清浄化装置 |
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JP2020210088A JP7111146B2 (ja) | 2020-12-18 | 2020-12-18 | 容器内清浄化装置 |
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JP2021044589A JP2021044589A (ja) | 2021-03-18 |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2000031780A1 (fr) | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Nikon Corporation | Dispositif optique, systeme d'exposition et source de faisceau laser, procede d'alimentation en gaz, procede d'exposition et procede de fabrication de dispositif |
US20090053017A1 (en) | 2006-03-17 | 2009-02-26 | Shlomo Shmuelov | Storage and purge system for semiconductor wafers |
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-
2020
- 2020-12-18 JP JP2020210088A patent/JP7111146B2/ja active Active
Patent Citations (5)
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