JP7096656B2 - コーティング組成物、導電性膜、タッチパネル及び製造方法 - Google Patents
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Description
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~70質量%であり、
2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面に導電性膜を形成する用途に使用されるものである、コーティング組成物を提供する。
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含み、
該鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~70質量%であり、
該塗布はスプレーコート法を使用して行われる方法を提供する。
先ず、本実施形態のコーティング組成物について説明する。
本実施形態のコーティング組成物は、上記鎖状導電性無機粒子の含有量を、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して10~70質量%とすることで、ESD機能が高く、且つタッチ感度を低下させない導電性膜を提供できる。上記鎖状導電性無機粒子の含有量が10質量%を下回ると導電性膜のESD機能が低下し、上記鎖状導電性無機粒子の含有量が70質量%を超えるとタッチ感度が低下する。鎖状導電性無機粒子の含有量は、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して、好ましくは12~62質量%、より好ましくは14~43質量%、更に好ましくは15~34質量%である。
上記バインダとしては、上記鎖状導電性無機粒子を分散して塗膜を形成できるものであれば特に限定されず、無機系バインダ及び有機系バインダのいずれも使用できる。上記バインダの含有量は、上記鎖状導電性無機粒子及び上記バインダの合計量に対して20質量%以上とすることが好ましい。20質量%を下回ると導電性薄膜の強度が低下する傾向があるからである。
上記高沸点溶剤としては、バインダ成分を溶解し、且つ塗布後の乾燥工程によって除去できるものであればよく、例えば、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン、N-メチルホルムアミド、1,2-プロパンジオール、N,N-ジメチルアニリン、クレゾール、ニトロベンゼン、エチレングリコール等を使用できる。高沸点溶剤は、沸点120℃以上の有機系および無機系の溶剤が好ましい。
上記低沸点溶剤としては、例えば、エチルアルコール、メチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジオキサン、酢酸エチル、クロロホルム、アセトニトリル、ピリジン、酢酸、水等を使用できる。上記低沸点溶剤を使用することにより、上記鎖状導電性無機粒子の分散性が向上する。低沸点溶剤は、沸点120℃未満の有機系および無機系の溶剤が好ましい。
本発明のコーティング組成物には、一般に使用される酸触媒(塩酸、硫酸、酢酸、リン酸等)を更に添加することができる。これにより、より安定した性能で高品質の導電性膜を再現性よく形成可能となる。上記酸触媒の含有量は、アルコキシシラン全体量に対して1.0~30.0質量%程度とすればよい。
本発明のコーティング組成物には、レベリング剤を更に添加することができる。これにより、導電性膜の表面平滑性が確保できる。上記レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等を使用できる。上記レベリング剤触媒の含有量は、導電性コーティング組成物全体量に対して0.01~5.0質量%程度とすればよい。
本発明のコーティング組成物の調製法は、上記各成分を混合して、上記鎖状導電性無機粒子を上記バインダと上記溶剤の中に分散できれば特に限定されず、例えば、上記各成分をボールミル、サンドミル、ピコミル、ペイントコンディショナー等のメディアを介在させた機械的処理、又は超音波分散機、ホモジナイザー、ディスパー及びジェットミル等を使用して分散処理を施して混合・分散することができる。
次に、本発明の導電性膜について説明する。
本発明のコーティング組成物が適用されるタッチパネルは、タッチパネル基板がカラーフィルタ基板の上に積層された層構造を有する型のタッチパネルである。かかるタッチパネルとしては、典型的には、オンセル型タッチパネルが例示される。本発明のコーティング組成物が適用されるタッチパネルは第二のタッチパネル基板を有していてもよい。第二のタッチパネル基板はカラーフィルタ基板と上部偏光板の間の適切な位置に積層されてよく、TFT基板とカラーフィルタ基板との間の適切な位置に積層されてもよい。
鎖状ATO粒子分散液として、日揮触媒化成社製“ELCOM V-3560”を準備した。鎖状ATO粒子分散液“ELCOM V-3560”は、鎖状ATO粒子:20.8部と、エチルアルコール:70.0部、イソプロピルアルコール9.2部との混合分散液である。
<分散液Aの製造>
プラスチック製ビンに、石原産業(株)製の導電性ATO粒子「SN100P」(商品名)20.8部、ビックケミー・ジャパン社製の分散剤「BYK180」(商品名)2.0部、及びイソブチルアルコール(溶剤)77.2部を仕込み、直径0.3mmのジルコニアビーズを用いて、ペイントコンディショナー(東洋精機(株)製)により2時間分散した後、攪拌して分散液Aを製造した。
<コーティング組成物の製造>
プラスチック製ビンに、各成分を所定の含有量になる量で仕込み、攪拌してコーティング組成物を調製した。但し、アルコキシシランは、アルコールの一部を用いて希釈し、水と酸触媒を加えてあらかじめシラノール化させて使用した。
サイズ10cm四方、厚み0.7mmの無アルカリガラスの基板に、上記コーティング組成物をスプレーコート法によって塗布して塗膜を形成した。スプレーコーターには、ノードソン社製のスプレーガン(スワールノズル、口径:1.0mm)を用いた。塗布条件は次の通りとした。即ち、ニードル開度:0.10mm、吐出液量:0.60g/min、スプレーガンと基板との最短距離:100mm、塗布速度:300mm/秒、重ねピッチ:10mm、アトマイズエアー及びスワールエアーの圧力:0.25MPa。形成された塗膜を120℃で1時間加熱して導電性膜を作製した。
導電性膜をガラス基板ごと切断し、走査型電子顕微鏡(SEM、日立製作所社製“S-4500”)にて断面観察して、膜厚を測定した。
表面抵抗計(三菱化学社製“ハイレスタMCP-HT450”、印加電圧:10V)を用いて、導電性膜の表面電気抵抗を測定し、通常の表面電気抵抗とした。
先ず、日本電色工業社製の光度計“ヘイズメーターNDH2000”を用い、導電性膜付ガラス基板の全光線透過率を測定した。数値は塗膜のみの値を示す。
導電性膜の鉛筆硬度を新東科学社製の表面性試験機“HEIDON-14DR”を用いて測定した。
三星ダイヤモンド工業株式会社製の簡易スラクイバー“Linear Cutter LC200AHH”、及びスクライブホイール“APIO φ3mm TYPEA”を用いて導電性膜を付与したガラス基板を切断し、ガラス切断性を評価した。
○:付着物なし、切断面良好、△:付着物少しあり、切断面に少しカケあり、×:付着物あり、切断面のカケあり
画面サイズが4インチ、液晶表示装置のトータルの厚みが1mmの図1に示す構成の液晶表示装置を作製した。
上記液晶表示装置を指でタッチし、タッチ感度を確認した。その結果、指のタッチに反応した場合を○、指のタッチに反応しなかった場合を×と評価した。
下部ガラス基板側からバックライトにより光を照射し、上記液晶表示装置が無通電状態で黒表示であることを確認した後、上部ガラス基板に静電印加装置にて電圧±12kVにて静電を印加した。その後、導電性膜のアース線を接地してから、無通電状態の表示を目視により確認した。その結果、上記液晶表示装置が黒表示を維持していた場合を○、光抜けによる白浮きが認められた場合を×と評価した。
2…下部偏光板、
3…上部偏光板、
4…TFT基板、
5…コモン電極、
5’…コモン電極兼タッチ検出電極、
6…絶縁膜、
72…液晶層、
8…カラーフィルタ基板、
9…タッチパネル基板、
9’ …第二のタッチパネル基板、
10…導電性膜、
11…粘着剤層、
12…接着剤層、
13…カバーガラス。
Claims (12)
- 鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含むコーティング組成物であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~30質量%であり、
2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面に、2~60nmの膜厚を有する導電性膜を形成する用途に使用されるものであり、
該バインダは、アルコキシシランから成るものである、コーティング組成物。 - 前記鎖状導電性無機粒子と前記バインダから成る固形分を0.1~5.0質量%の量で含有し、7.0mPa・s以下の粘度を有する請求項1に記載のコーティング組成物。
- 前記鎖状導電性無機粒子は、粒子径が2~30nmの一次粒子が2~50個連接してなる請求項1又は2に記載のコーティング組成物。
- 前記鎖状導電性無機粒子は、アンチモン含有酸化スズ粒子、スズ含有酸化インジウム粒子及びリン含有酸化スズ粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の粒子を含む請求項1~3のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである、請求項1~4のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルのタッチパネル基板の上面に、請求項1~5のいずれか一項に記載のコーティング組成物を使用して形成された、2~60nmの膜厚を有する導電性膜。
導電性膜。 - 温度65℃、相対湿度90%の環境下で500時間保持した後の表面電気抵抗が1.0×109以上8.5×1011Ω/スクエア未満である請求項6に記載の導電性膜。
- 5H~9Hの鉛筆硬度を有する請求項6又は7に記載の導電性膜。
- 前記タッチパネルは、TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有するタッチパネルである、請求項6~8のいずれか一項に記載の導電性膜。
- 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、タッチパネル基板、及び請求項6~9のいずれか一項に記載の導電性膜を有するタッチパネル。
- TFT基板とカラーフィルタ基板との間に積層された第二のタッチパネル基板を有する請求項10に記載のタッチパネル。
- 2枚の偏光板の間に順番に積層された、TFT基板、液晶層、カラーフィルタ基板、及びタッチパネル基板を有するタッチパネルにおいて、該タッチパネル基板の電極パターンが存在する表面にコーティング組成物を塗布し乾燥させる工程を包含する、2~60nmの膜厚を有する導電性膜を形成する方法であって、
該コーティング組成物は、鎖状導電性無機粒子と、バインダと、高沸点溶剤と、低沸点溶剤とを含み、
該鎖状導電性無機粒子の含有量が鎖状導電性無機粒子及びバインダの合計量に対して10~30質量%であり、
該塗布はスプレーコート法を使用して行われ、
該バインダは、アルコキシシランから成るものである方法。
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