JP7096517B2 - 表面処理剤 - Google Patents

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Description

本開示は、表面処理剤及び該表面処理剤から形成された層を有する物品に関する。
ある種の有機シラン化合物と金属アルコキシドとを含む溶液を、固体表面に塗布することで、滑水滑油性、すなわち滑液性等を有する有機－無機ハイブリッド皮膜が得られることが知られている（特許文献１）。
特開２０１３－２１３１８１号公報
本発明者らは、特許文献１に記載の有機－無機ハイブリッド皮膜は、滑液性を有するが、ＵＶ耐久性が十分でないことに気付いた。
本開示は、滑液性とＵＶ耐久性の両方を有する表面処理層を形成することができる表面処理剤を提供することを目的とする。
本開示は、以下の態様を含む。
［１］ （Ａ）下記式（Ａ１）：
Figure 0007096517000001
 ［式中：
Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり；
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－３アルキル基又はＣ１－３アルコキシ基であり；
ｍは、前記Ｍの価数であり；
ｎは、０以上前記Ｍの価数以下である。］
で表される化合物、又は
下記式（Ａ２）：
Figure 0007096517000002
 ［式中：
Ｒ２ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎａは、ＳｉＲ２ａ ｎａＲ３ａ ３－ｎａ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基である。］
で表される化合物；及び
（Ｂ）下記式（Ｂ１）：
Ｍｂ（ＯＲ１ｂ）ｑ（Ｒ４ｂ）ｐ－ｑ （Ｂ１）
［式中：
Ｍｂは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１ｂは、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、又はシロキサン基であり、
ｐは、前記Ｍｂの価数であり、
ｑは、１以上（Ｍｂの価数－１）以下である。］
で表される化合物、又は
下記式（Ｂ２）：
Figure 0007096517000003
 ［式中：
Ｒ２ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎｂは、ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり；
Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、シロキサン含有基、又はパーフルオロポリエーテル含有基である。］
で表される化合物を含み、
前記式（Ａ２）で表される化合物又は前記式（Ｂ２）で表される化合物の少なくとも１つを含む、表面処理剤。
［２］ 前記式（Ａ１）で表される化合物は、式（Ａ１－１）：
Ｍ（ＯＲ１）ｎ （Ａ１－１）
［式中：
Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
ｎは、前記Ｍの価数である。］
で表される金属アルコキシドである、上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］ 前記式（Ａ１）で表される化合物は、式（Ａ１－２）：
Ｓｉ（ＯＲ１）４ （Ａ１－２）
［式中、Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基である。］
で表される金属アルコキシドである、上記［１］又は上記［２］に記載の表面処理剤。
［４］ 前記式（Ａ２）で表される化合物を含む、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［５］ 前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［６］ 前記式（Ａ２）で表される化合物及び前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［７］ 前記式（Ａ２）で表される化合物、前記式（Ｂ１）で表される化合物及び前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［８］ ｎａ及びｎｂは、３である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［９］ Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１０］ Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１１］ Ｒ９ａは、Ｃ１－６アルキレン基である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１２］ Ｒ９ｂは、Ｃ１－６アルキレン基である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１３］ 成分（Ａ）と成分（Ｂ）のモル比は、０．０１～１００：１である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１４］ さらに、有機溶媒、水、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分を含有する、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１５］ 基材と、該基材上に、上記［１］～［１４］のいずれか１項に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。
本開示によれば、滑液性とＵＶ耐久性の両方を有する表面処理層を形成することができる表面処理剤を提供することができる。
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。
（表面処理剤）
本開示の表面処理剤は、
（Ａ）下記式（Ａ１）：
Figure 0007096517000004
 ［式中：
Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり；
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－３アルキル基又はＣ１－３アルコキシ基であり；
ｍは、前記Ｍの価数であり；
ｎは、０以上前記Ｍの価数以下である。］
で表される化合物、又は
下記式（Ａ２）：
Figure 0007096517000005
 ［式中：
Ｒ２ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎａは、ＳｉＲ２ａ ｎａＲ３ａ ３－ｎａ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基である。］
で表される化合物；及び
（Ｂ）下記式（Ｂ１）：
Ｍｂ（ＯＲ１ｂ）ｑ（Ｒ４ｂ）ｐ－ｑ （Ｂ１）
［式中：
Ｍｂは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１ｂは、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、又はシロキサン基であり、
ｐは、前記Ｍｂの価数であり、
ｑは、１以上（Ｍｂの価数－１）以下である。］
で表される化合物、又は
下記式（Ｂ２）：
Figure 0007096517000006
 ［式中：
Ｒ２ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎｂは、ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり；
Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、シロキサン含有基、又はパーフルオロポリエーテル含有基である。］
で表される化合物を含み、
上記式（Ａ２）で表される化合物又は上記式（Ｂ２）で表される化合物の少なくとも１つを含む。
（成分（Ａ））
本開示の表面処理剤は、成分（Ａ）を成分（Ｂ）と共に含有し、かつ成分（Ａ）が化合物（Ａ２）を含むか、または成分（Ｂ）が化合物（Ｂ２）を含むことにより、優れた滑液性及びＵＶ耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
成分（Ａ）は、下記式（Ａ１）で表される金属アルコキシド化合物（以下、「化合物（Ａ１）」ともいう）、又は式（Ａ２）で表されるイソシアヌレート化合物（以下、「化合物（Ａ２）」ともいう）を含む。
好ましい態様において、上記化合物（Ａ１）は、式（Ａ１）：
Figure 0007096517000007
 ［式中：
Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－３アルキル基又はＣ１－３アルコキシ基であり、
ｍは、前記Ｍの価数であり、
ｎは、０以上前記Ｍの価数以下である。］
で表される化合物（Ａ１）である。
さらに好ましい態様において、上記化合物（Ａ１）は、式（Ａ１－１）：
Ｍ（ＯＲ１）ｎ （Ａ１－１）
［式中：
Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
ｎは、前記Ｍの価数である。］
で表される化合物である。
さらに好ましい態様において、上記化合物（Ａ１）は、式（Ａ１－２）：
Ｓｉ（ＯＲ１）４ （Ａ１－２）
［式中、Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基である。］
で表される金属アルコキシドである。
本開示において、典型的には、Ａｌは３価であり、Ｃａは２価であり、Ｆｅは２又は３価、好ましくは３価であり、Ｇｅは２又は４価、好ましくは４価であり、Ｈｆは４価であり、Ｉｎは４価であり、Ｓｉは４価であり、Ｔａは５価であり、Ｔｉは４価であり、Ｓｎは４価であり、Ｚｒは４価である。
上記Ｍは、好ましくはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒであり、より好ましくはＳｉである。
上記Ｒ１は、それぞれ独立して、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－３アルキル基、さらに好ましくはＣ１－２アルキル基である。
上記Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－３アルキル基又はＣ１－３アルコキシ基である。
上記Ｒ４におけるアルキル基は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
上記Ｒ４におけるアルコキシ基は、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基であり、より好ましくはエトキシ基である。
ｍは、上記Ｍの価数であり、ｎは、０以上上記Ｍの価数以下である。
一の態様において、ｎはＭの価数である。
別の態様において、（ｍ－ｎ）は１である。
好ましい態様において、上記化合物（Ａ１）は、テトラメトキシシラン、又はテトラエトキシシランである。
上記化合物（Ａ２）は、式（Ａ２）：
Figure 0007096517000008
 ［式中：
Ｒ２ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎａは、ＳｉＲ２ａ ｎａＲ３ａ ３－ｎａ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基である。］
で表される加水分解性シラン基を３つ有するイソシアヌレート化合物である。
本開示の表面処理剤は、上記化合物（Ａ２）を含有することにより、優れたＵＶ耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
上記化合物（Ａ２）は、１～３官能のシラン基を３つ有する。ここに、「１～３官能のシラン基」とは、官能基、典型的には水酸基又は加水分解性基を１～３個有するシラン基をいう。
上記式中、Ｒ２ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
Ｒ２ａは、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
ここに、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ ２、－ＮＲｈ ２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、ハロゲンなどが挙げられる。Ｒｈは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。これらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
Ｒ２ａは、より好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。
上記式中、Ｒ３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
Ｒ３ａにおいて、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ１－３アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
上記式中、ｎａは、（ＳｉＲ２ａ ｎａＲ３ａ ３－ｎａ）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数である。即ち、当該化合物（Ａ２）におけるシラン基は、１～３官能のシラン基である。ｎａは、好ましくは２～３、より好ましくは３である。即ち、当該化合物（Ａ２）におけるシラン基は、好ましくは２～３官能のシラン基、より好ましくは３官能のシラン基である。
一の態様において、Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。
好ましい態様において、Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
－Ｒ４１ ｘ６－Ｒ４２ ｘ７－
［式中：
Ｒ４１は、－（ＣＨ２）ｙ６－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｙ６－であり、
ｙ６は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
Ｒ４２は、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯＮＲ４５－、－ＳＯ２ＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＳＯ２－、－ＳＯ２－、及び－（ＣＨ２）ｙ７－からなる群から選択される基であり、
Ｒ４５は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基（好ましくはＣ１－２アルキル基、より好ましくはメチル基）であり、
ｙ７は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｘ６は、０～２の整数であり、
ｘ７は、０又は１であり、
ここに、ｘ６及びｘ７の少なくとも一方は０以外であり、ｘ６及びｘ７を付した各繰り返し単位Ｒ４１及びＲ４２の存在順序は任意である。］
で表される２価の基である。かかる基は、左側がＳｉ原子に、右側がイソアヌレート環のＮに結合する。ここに、Ｒ９ａ（典型的にはＲ９ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ９ａは、これらの基により置換されていない。
好ましい態様において、Ｒ９ａは、－（ＣＨ２）ｙ６－（式中、ｙ６は、１～６の整数である。）である。
好ましい態様において、Ｒ２ａはメトキシ基又はエトキシ基であり、ｎａは３であり、Ｒ９ａはＣ１－６アルキレン基である。
（成分（Ｂ））
本開示の表面処理剤は、成分（Ｂ）を成分（Ａ）と共に含有し、かつ成分（Ｂ）が化合物（Ｂ２）であるか、または成分（Ａ）が化合物（Ａ２）であることにより、優れた滑液性及びＵＶ耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
成分（Ｂ）は、下記式（Ｂ１）で表される金属アルコキシド化合物（以下、「化合物（Ｂ１）」ともいう）、又は式（Ｂ２）で表されるイソシアヌレート化合物（以下、「化合物（Ｂ２）」ともいう）を含む。
上記化合物（Ｂ１）は、式（Ｂ１）：
Ｍｂ（ＯＲ１ｂ）ｑ（Ｒ４ｂ）ｐ－ｑ （Ｂ１）
［式中：
Ｍｂは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
Ｒ１ｂは、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、又はシロキサン基であり、
ｐは、前記Ｍｂの価数であり、
ｑは、１以上（Ｍｂの価数－１）以下である。］
で表される金属アルコキシドである。
上記化合物（Ｂ１）は、金属原子と該金属原子に結合するアルコキシド基、及び滑液性を付与する機能性基を有する。
上記Ｍｂは、好ましくはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒであり、より好ましくはＳｉである。
上記Ｒ１ｂは、それぞれ独立して、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－３アルキル基、さらに好ましくはＣ１－２アルキル基である。
上記Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、又はシロキサン基である。
上記Ｃ１－３０アルキル基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよい。
上記Ｃ１－３０アルキル基は、好ましくはＣ３－２５アルキル基、より好ましくはＣ６－２５アルキル基、さらに好ましくはＣ８－２０アルキル基、さらにより好ましくはＣ８－１６アルキル基であり得る。
上記Ｃ１－３０オキシアルキル基は、好ましくはＣ３－３０オキシアルキル基、より好ましくはＣ７－２５オキシアルキル基、さらに好ましくはＣ８－２０オキシアルキル基、さらにより好ましくはＣ８－１６オキシアルキル基であり得る。
上記Ｃ１－３０フルオロアルキル基は、好ましくはＣ３－２５フルオロアルキル基、より好ましくはＣ６－２５フルオロアルキル基、さらに好ましくはＣ８－２０フルオロアルキル基、さらにより好ましくはＣ８－１６フルオロアルキル基であり得る。当該フルオロアルキル基は、一部がフッ素化されていても、すべてがフッ素化されていてもよい。
上記シロキサン基は、下記式：
Figure 0007096517000009
 ［式中：
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり；
Ｒ２２は、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり；
ｔは、１～２００の整数である。］
で表される基である。
上記Ｒ２１におけるＣ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
上記Ｒ２２におけるＣ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
好ましい態様において、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基である。
ｔは、好ましくは１～１００の整数、より好ましくは５～１００の整数である。
好ましい態様において、上記Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基である。
ｐは、前記Ｍｂの価数であり、ｑは、１以上（Ｍｂの価数－１）以下である。
一の態様において、（ｐ－ｑ）は１である。
好ましい態様において、ＭｂはＳｉであり、Ｒ１ｂはメチル基又はエチル基であり、Ｒ４ｂはＣ１－３０アルキル基、好ましくはＣ８－２０アルキル基であり、ｐは４であり、ｑは３である。
上記化合物（Ｂ２）は、式（Ｂ２）：
Figure 0007096517000010
 ［式中：
Ｒ２ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎｂは、ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ９ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり；
Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、シロキサン含有基、又はパーフルオロポリエーテル含有基である。］
で表される加水分解性シラン基を２つ有するイソシアヌレート化合物である。
本開示の表面処理剤は、上記化合物（Ｂ２）を含有することにより、優れた滑液性およびＵＶ耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
上記化合物（Ｂ２）は、１～３官能のシラン基を２つ有する。
上記式中、Ｒ２ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
Ｒ２ｂは、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
ここに、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ ２、－ＮＲｈ ２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、ハロゲンなどが挙げられる。Ｒｈは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。これらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
Ｒ２ｂは、より好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。
上記式中、Ｒ３ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
Ｒ３ｂにおいて、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ１－３アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
上記式中、ｎｂは、（ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂ）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数である。即ち、当該化合物（Ｂ２）におけるシラン基は、１～３官能のシラン基である。ｎｂは、好ましくは２～３、より好ましくは３である。即ち、当該化合物（Ｂ２）におけるシラン基は、好ましくは２～３官能のシラン基、より好ましくは３官能のシラン基である。
一の態様において、Ｒ９ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
－Ｒ４１ ｘ６－Ｒ４２ ｘ７－
［式中：
Ｒ４１は、－（ＣＨ２）ｙ６－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｙ６－であり、
ｙ６は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
Ｒ４２は、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＣＯＮＲ４５－、－ＳＯ２ＮＲ４５－、－ＮＲ４５ＳＯ２－、－ＳＯ２－、及び－（ＣＨ２）ｙ７－からなる群から選択される基であり、
Ｒ４５は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基（好ましくはＣ１－２アルキル基、より好ましくはメチル基）であり、
ｙ７は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｘ６は、０～２の整数であり、
ｘ７は、０又は１であり、
ここに、ｘ６及びｘ７の少なくとも一方は０以外であり、ｘ６及びｘ７を付した各繰り返し単位Ｒ４１及びＲ４２の存在順序は任意である。］
で表される２価の基である。かかる基は、左側がＳｉ原子に、右側がイソアヌレート環のＮに結合する。ここに、Ｒ９ｂ（典型的にはＲ９ｂの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ９ｂは、これらの基により置換されていない。
好ましい態様において、Ｒ９ｂは、－（ＣＨ２）ｙ６－（式中、ｙ６は、１～６の整数である。）である。
上記Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、シロキサン含有基、又はパーフルオロポリエーテル含有基である。
上記Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、及びＣ１－３０フルオロアルキル基は、上記したＲ４ｂにおけるＣ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、及びＣ１－３０フルオロアルキル基と同意義である。
上記シロキサン含有基は、シロキサン基を含有する基であり、好ましくは、－ＸＳ－ＲＳ（式中、ＸＳは、単結合、又は２価の有機基であり、ＲＳは、シロキサン基である。）で表される基である。
一の態様において、ＸＳは、単結合である。
別の態様において、ＸＳは、２価の有機基である。
上記２価の有機基は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、または－（ＣＨ２）ｚ３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。上記２価の有機基は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基である。
上記シロキサン基は、上記したＲ４ｂにおけるシロキサン基と同意義である。
上記パーフルオロポリエーテル含有基は、パーフルオロポリエーテル基を含む基であり、好ましくは、－ＸＰＦ－ＲＰＦ（式中、ＸＰＦは、単結合、又は２価の有機基であり、ＲＰＦは、パーフルオロポリエーテル基である。）で表される基である。
一の態様において、ＸＰＦは、単結合である。
別の態様において、ＸＰＦは、２価の有機基である。
上記２価の有機基は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、または－（ＣＨ２）ｚ７－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。上記２価の有機基は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基である。
上記パーフルオロポリエーテル基は、好ましくは、
Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－
［式中、
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基であり、
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
ｑは、０又は１である。］
で表される基である。
上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
上記式において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のパーフルオロポリエーテル基である。
ＲＦは、好ましくは、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。
一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ５）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）において－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ－、又は－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－で表される基である。
上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であってもよい。
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、及び－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－又は－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。
上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
好ましい態様において、上記Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、好ましくはＣ８－２０アルキル基である。
好ましい態様において、Ｒ２ｂ及びＲ３ｂはメトキシ基又はエトキシ基であり、ｎｂは３であり、Ｒ９ｂはＣ１－６アルキレン基であり、Ｒ８はＣ１－３０アルキル基、好ましくはＣ８－２０アルキル基である。
本開示の表面処理剤は、式（Ａ２）で表される化合物又は前記式（Ｂ２）で表される化合物の少なくとも１つを含む。式（Ａ２）で表される化合物又は前記式（Ｂ２）で表される化合物を含むことにより、ＵＶ耐久性がより向上する。
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ｂ２）で表される化合物を含む。式（Ｂ２）で表される化合物を含むことにより、ＵＶ耐久性及び滑液性がより向上する。
一の態様において、成分（Ａ）と成分（Ｂ）のモル比（成分（Ａ）：成分（Ｂ））は、好ましくは０．０１～１００：１、より好ましくは１～１００：１、さらに好ましくは４～５０：１、さらにより好ましくは５～２０：１である。成分（Ａ）と成分（Ｂ）のモル比を、上記の範囲とすることにより、滑液性及びＵＶ耐性をより良好に付与することができる。ここに、上記モル比は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）が、それぞれ２種以上の化合物を含む場合には、その合計量に基づいて算出する。
一の態様において、成分（Ａ）は、化合物（Ａ１）である。
別の態様において、成分（Ａ）は、化合物（Ａ２）である。
別の態様において、成分（Ａ）は、化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）である。
一の態様において、成分（Ｂ）は、化合物（Ｂ１）である。
別の態様において、成分（Ｂ）は、化合物（Ｂ２）である。
別の態様において、成分（Ｂ）は、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）である。
一の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ１）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ２）である。
別の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ１）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）である。
一の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ２）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ１）である。
別の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ２）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ２）である。
別の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ１）である。
別の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ２）である。
一の態様において、成分（Ａ）は化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）であり、成分（Ｂ）は化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）である。
一の態様において、本開示の表面処理剤は、ビニル系重合体、特にシリル基を含有するビニル系重合体を含まない。
成分（Ａ）が化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）を含む場合、化合物（Ａ１）と化合物（Ａ２）の比は、好ましくは１：１０～１０：１、より好ましくは１：５～５：１、さらに好ましくは１：３～３：１であり得る。
成分（Ａ）が化合物（Ａ１）を含み、成分（Ｂ）が化合物（Ｂ２）を含む場合、化合物（Ａ１）と化合物（Ｂ２）の比（化合物（Ａ１）：化合物（Ｂ２））は、好ましくは１：１０～１０：１、より好ましくは１：５～５：１、さらに好ましくは１：３～３：１であり得る。化合物（Ａ１）と化合物（Ｂ２）の比を、上記の範囲とすることにより、表面処理層の滑液性及びＵＶ耐久性がより向上する。
成分（Ｂ）が化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）を含む場合、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）の比（化合物（Ｂ１）：化合物（Ｂ２））は、好ましくは１：１０～１０：１、より好ましくは１：５～５：１、さらに好ましくは１：３～３：１であり得る。化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）の比を、上記の範囲とすることにより、表面処理層の滑液性及びＵＶ耐久性がより向上する。
成分（Ａ）が化合物（Ａ１）を含み、成分（Ｂ）が化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）を含む場合、化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）の合計と化合物（Ｂ２）の比（｛化合物（Ａ１）＋化合物（Ｂ１）｝：化合物（Ｂ２））は、好ましくは１：１０～１０：１、より好ましくは１：５～５：１、さらに好ましくは１：３～３：１であり得る。化合物（Ａ１）と化合物（Ｂ２）の比を、上記の範囲とすることにより、表面処理層の滑液性及びＵＶ耐久性がより向上する。
本開示の表面処理剤中、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）は、好ましくは、合計で０．１～８０質量％、より好ましくは１～５０質量％、さらに好ましくは２～３０質量％であり得る。
本開示の表面処理剤は、さらに、有機溶媒、水、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分を含有し得る。
上記有機溶媒としては、フッ素含有有機溶媒又はフッ素非含有有機溶媒が挙げられる。
上記フッ素含有有機溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ－７１００（商品名）、ＨＦＥ－７３００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２－（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、及びヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。
上記フッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２－ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、エタノール、メタノール、及びジアセトンアルコールが挙げられる。
なかでも、上記有機溶媒として、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２－ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、エタノール又は２－プロパノールである。
上記有機溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
上記有機溶媒は表面処理剤中に、好ましくは１０～９９質量％、より好ましくは３０～９５質量％、さらに好ましくは５０～９５質量％の範囲で用いられる。
上記触媒としては、酸（例えば塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
上記触媒は、本開示の表面処理剤の加水分解及び脱水縮合を促進し、表面処理反応を促進する。
本開示の表面処理剤は、さらに化合物（Ｂ２）のイソシアヌル環が開環した、式（Ｂ２’）で表される化合物を含みうる。
Figure 0007096517000011
 ［式中、Ｒ１０のうち２つは、－Ｒ９ｂ－ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂであり、Ｒ１０のうち１つはＲ８である。］
これらシラン化合物は表面処理剤中、含まれていても、含まれていなくてもよく、含まれる場合には、化合物（Ｂ２）の合計１００ｍｏｌ部に対して、好ましくは０．０１～２０ｍｏｌ部、より好ましくは０．１～１５ｍｏｌ部、例えば、１～１０ｍｏｌ部又は３～５ｍｏｌ部であり得る。
本開示の表面処理剤は、さらにカチオン性シラン化合物を含み得る。本開示の表面処理剤はカチオン性シラン化合物を含むことにより、優れた滑液性及びＵＶ耐久性に加えて、優れた抗菌性を有する表面処理層を形成することができる。
上記カチオン性化合物は、好ましくはアンモニウム塩型のカチオン性シラン化合物であり、例えば式（Ｃ１）：
Ｒ１３ ３－ｍＲ１２ ｍＳｉ－Ｒ１５－Ｎ＋Ｒ１１ ３ Ｘ－ （Ｃ１）
［式中：
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｍは、１～３の整数であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、Ｃ１－２２アルキル基であり；
Ｒ１５は、単結合又は２価の有機基であり；
Ｘ－は、Ｆ－、Ｃｌ－、又はＢｒ－である。］
で表されるカチオン性シラン化合物である。
以下、本開示の物品について説明する。
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（以下、「表面処理層」ともいう）とを含む。
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。
本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した有機溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、塩酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
本開示の物品に含まれる表面処理層は、滑液性を有する。また、上記表面処理層は、高い滑液性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、抗菌性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
本開示の物品は、屋外での過酷な環境条件下による長期間の使用によっても滑液性を維持する事が必要な用途に有用である。
好ましい態様において、本開示の物品は、車両用、船舶用または航空機用のガラス又はミラーガラス、例えば自動車用ガラス、自動車用ドアミラーもしくは自動車用フェンダミラー等、あるいは車載カメラに用いられるガラスなどに有用である。その他、防犯カメラに用いられるガラスや、カーブミラー等、屋外用途の基材に有用である。
従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。
上記層の厚さは、特に限定されない。自動車用ガラスやミラーの場合、上記層の厚さは、例えば、１～１０００ｎｍ、１～５００ｎｍ、又は１～１００ｎｍの範囲であることが、長期耐候性の点から好ましい。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、好ましくは１～３０ｎｍ、より好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能滑液性の点から好ましい。
以上、本開示の表面処理剤及び物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。
以下、本開示の表面処理剤について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
成分（Ａ）及び成分（Ｂ）として、下記化合物を準備した。

・化合物（Ａ１）
Figure 0007096517000012
・化合物（Ａ２）
Figure 0007096517000013
・化合物（Ｂ１）
Figure 0007096517000014
・化合物（Ｂ２）
Figure 0007096517000015
表面処理剤の調製１
化合物（Ａ１）、化合物（Ａ２）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）を、エタノール中に合計で２０ｗｔ％となるように所定の割合で溶解し、この溶液に対して質量比０．１５の０．０１Ｎ塩酸を加え、表面処理剤１～１０を調製した。各化合物の割合（モル比）を、下記表１に示す。
Figure 0007096517000016
表面処理試料の調製１
上記で調製した表面処理剤１～１０を用いて、ソーダライムガラス基板上にスピンコートを行い(２０００ｒｐｍで１０秒)、表面処理層を形成して、表面処理試料１～１０を得た。なお、表面処理試料１～９は実施例１～９であり、表面処理試料１０は比較例１である。得られた表面処理試料１～１０について、初期転落角及びＵＶ照射後の転落角を評価した。結果を下記表２に示す。
転落角の測定方法
水平に置いた表面処理試料の表面処理層側にマイクロシリンジから水を滴下し、毎秒２°の速度で９０°まで傾斜をつけて液滴の様子を観察した。液滴が５ｍｍ移動した角度を転落角度とした。液滴量は２０μＬに設定し測定した。
促進耐ＵＶ性試験
表面処理試料１～１０について、次の通り促進耐ＵＶ性試験を行った。ＵＶＢ－３１３ランプ（Ｑ－Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ２）を用い、ランプと表面処理試料の表面処理層との距離を５ｃｍとし、表面処理試料を載せている板の温度は６３℃で行った。ＵＶＢ照射は連続的に行うが、転落角の測定時には表面処理試料をいったん取り出してから測定した。照射４８０時間後において、その変化を確認した。
Figure 0007096517000017
表面処理剤の調製２
化合物（Ａ２）と化合物（Ｂ１）を、エタノール中に合計で３０ｗｔ％となるように所定の割合で溶解した。この各溶液に対して質量比０．１５の０．０１Ｎ塩酸を加え、表面処理剤１１～１７を調製した。各化合物の割合（モル比）を、下記表３に示す。なお、表面処理剤１１は、（Ａ２）／（Ｂ１）モル比が０であるが、これは化合物（Ｂ１）のみを含むことを意味する。
表面処理試料の調製２および評価
上記で調製した表面処理剤１１～１７を用いて、上記表面処理試料の調製１の方法に従い表面処理試料１１～１７を作製した。得られた表面処理試料１１～１７について、上記と同様にして、転落角の測定と促進耐ＵＶ性試験を実施した。結果を下記表３示す。なお、表面処理試料１１は比較例２であり、表面処理試料１２～１７は実施例１０～１５である。
Figure 0007096517000018
密着性試験
各表面処理剤のガラスに対する密着性を、クロスカット試験により評価した。具体的には、試験面にカッターナイフを用いて素地に達する１１本の切り傷をつけ、切り傷間隔１ｍｍの碁盤目１００個を作り、該部分にセロテープを強く圧着させ、テープの端を４５°の角度で一気に引き剥がした。コーティングの剥離に関しては、テープ剥離後の碁盤目をマジックで塗り、はじかずに塗りつぶされた部分を欠損部とした。密着性については、以下の判定基準により点数をつけた。
１０点：いずれの格子の目も剥がれがない。
８点：切り傷の交差にわずかな剥がれがあり、欠損部の面積は全正方形の面積の５％以内。
６点：切り傷の両側と交差とに剥がれがあり、欠損部の面積は全正方形の面積の５％以上１５％未満。
４点：切り傷の線に沿って部分的、もしくは全面的に剥がれており、欠損部の面積は全正方形の面積の１５％以上３５％未満。
２点：切り傷の線に沿って部分的、もしくは全面的に剥がれており、欠損部の面積は全正方形の面積の３５％以上６５％未満。
０点：切り傷の欠損部の面積は全正方形の６５％以上。
Figure 0007096517000019
表面硬度の評価
各表面処理試料の表面硬度について、ＥＲＩＣＨＳＥＮ Ｈａｒｄｎｅｓｓ Ｔｅｓｔ Ｐｅｎｃｉｌ Ｍｏｄｅｌ ３１８Ｓ（ＩＳＯ１５１８）により行った。本試験結果と鉛筆硬度との近似値硬度対比表は以下の通りである。
Figure 0007096517000020
Figure 0007096517000021
本開示の表面処理剤は、種々多様な用途に好適に利用され得る。

Claims (15)

  1. （Ａ）下記式（Ａ１）：
    Figure 0007096517000022
     ［式中：
    Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
    Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり；
    Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－３アルキル基又はＣ１－３アルコキシ基であり；
    ｍは、前記Ｍの価数であり；
    ｎは、０以上前記Ｍの価数以下である。］
    で表される化合物、又は
    下記式（Ａ２）：
    Figure 0007096517000023
     ［式中：
    Ｒ２ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ３ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
    ｎａは、ＳｉＲ２ａ ｎａＲ３ａ ３－ｎａ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
    Ｒ９ａは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基である。］
    で表される化合物；及び
    （Ｂ）下記式（Ｂ１）：
    Ｍｂ（ＯＲ１ｂ）ｑ（Ｒ４ｂ）ｐ－ｑ （Ｂ１）
    ［式中：
    Ｍｂは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
    Ｒ１ｂは、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
    Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、又はシロキサン基であり、
    ｐは、前記Ｍｂの価数であり、
    ｑは、１以上（Ｍｂの価数－１）以下である。］
    で表される化合物、又は
    下記式（Ｂ２）：
    Figure 0007096517000024
     ［式中：
    Ｒ２ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ３ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
    ｎｂは、ＳｉＲ２ｂ ｎｂＲ３ｂ ３－ｎｂ単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
    Ｒ９ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり；
    Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基、Ｃ１－３０オキシアルキル基、Ｃ１－３０フルオロアルキル基、シロキサン含有基、又はパーフルオロポリエーテル含有基である。］
    で表される化合物を含み、
    前記式（Ａ２）で表される化合物又は前記式（Ｂ２）で表される化合物の少なくとも１つを含む、表面処理剤。
  2. 前記式（Ａ１）で表される化合物は、式（Ａ１－１）：
    Ｍ（ＯＲ１）ｎ （Ａ１－１）
    ［式中：
    Ｍは、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ又はＺｒであり；
    Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基であり、
    ｎは、前記Ｍの価数である。］
    で表される金属アルコキシドである、請求項１に記載の表面処理剤。
  3. 前記式（Ａ１）で表される化合物は、式（Ａ１－２）：
    Ｓｉ（ＯＲ１）４ （Ａ１－２）
    ［式中、Ｒ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ１－６アルキル基である。］
    で表される金属アルコキシドである、請求項１又は２に記載の表面処理剤。
  4. 前記式（Ａ２）で表される化合物を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  5. 前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  6. 前記式（Ａ２）で表される化合物及び前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  7. 前記式（Ａ２）で表される化合物、前記式（Ｂ１）で表される化合物及び前記式（Ｂ２）で表される化合物を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  8. ｎａ及びｎｂは、３である、請求項１～７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  9. Ｒ４ｂは、Ｃ１－３０アルキル基である、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  10. Ｒ８は、Ｃ１－３０アルキル基である、請求項１～９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  11. Ｒ９ａは、Ｃ１－６アルキレン基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  12. Ｒ９ｂは、Ｃ１－６アルキレン基である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  13. 成分（Ａ）と成分（Ｂ）のモル比は、０．０１～１００：１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  14. さらに、有機溶媒、水、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分を含有する、請求項１～１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
  15. 基材と、該基材上に、請求項１～１４のいずれか１項に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。
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