KR20240052997A - 표면 처리제 - Google Patents

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KR20240052997A
KR20240052997A KR1020247011848A KR20247011848A KR20240052997A KR 20240052997 A KR20240052997 A KR 20240052997A KR 1020247011848 A KR1020247011848 A KR 1020247011848A KR 20247011848 A KR20247011848 A KR 20247011848A KR 20240052997 A KR20240052997 A KR 20240052997A
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가즈키 마루하시
히사시 미츠하시
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다이킨 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 하기 식 (1)(식 중, 각 기호는 명세서 중의 기재와 동일한 의미임)로 표시되는 화합물을 제공한다.

Description

표면 처리제
본 개시는, 신규 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물, 및 이러한 화합물을 포함하는 표면 처리제에 관한 것이다.
어느 종의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 기재의 표면 처리에 사용하면, 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제로부터 얻어지는 층(이하, 「표면 처리층」이라고도 함)은, 소위 기능성 박막으로서, 예를 들어 유리, 플라스틱, 섬유, 위생 용품, 건축 자재 등 여러 가지 다양한 기재에 실시되어 있다(특허문헌 1).
일본 특허 공개 제2003-238577호 공보
특허문헌 1에 기재된 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물은, 우수한 기능을 갖는 표면 처리층을 부여할 수 있지만, 보다 높은 내구성을 갖는 표면 처리층이 요구되고 있다.
본 개시는, 내구성이 우수한 표면 처리층을 부여할 수 있는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시는, 이하의 양태를 포함한다.
[1] 하기 식 (1):
[식 중:
RF2는, 각각 독립적으로, -Rf2 p-RF-Oq-이고,
Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고,
RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고,
p는, 0 또는 1이고,
q는, 0 또는 1이고,
Ra는, 각각 독립적으로, (m+2)가의 유기기이고,
m은, 1 내지 4의 정수이고,
Rb는, 각각 독립적으로, RSi, RAc, 또는 Rc이고,
RSi는, 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3-n'이고,
XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
R1은, 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이고,
R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
n'는, 1 내지 3의 정수이고,
RAc는, 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m'이고,
XD는, 2가의 유기기이고,
XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이고,
XF는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이고,
m'는, 1 내지 10의 정수이고,
Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고,
Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이고,
x는, 1 이상의 정수이다.]
로 표시되는 화합물.
[2] RF는, 각각 독립적으로, 식:
[식 중, RFa는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이고, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1]에 기재된 화합물.
[3] RFa는, 불소 원자인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 화합물.
[4] RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) 또는 (f6):
[식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 내지 2의 정수이고,
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
R9는, 단결합, 또는 OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이고;
g는, 2 내지 100의 정수이다.],
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
R6'는, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
g는, 2 내지 100의 정수이고,
g'는, 2 내지 100의 정수이고,
Rr은,
(식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.)
이다.];
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[5] Rf2는, 각각 독립적으로, C1-6 퍼플루오로알킬렌기인,
상기 [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[6] Ra는, 각각 독립적으로, 하기 식:
[식 중:
R9는, 각각 독립적으로, C1-6 알킬렌기이고,
Ra'는, 각각 독립적으로, m+2가의 유기기이고,
k는, 0 내지 4의 정수이다.]
으로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[7] Ra'는, 각각 독립적으로, N 원자 또는 O 원자를 포함하는 m+2가의 유기기인, 상기 [6]에 기재된 화합물.
[8] Ra'는, 각각 독립적으로, 탄소-탄소 원자 사이에, 아미노 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합, 우레아 결합, 에테르 결합, 또는 에스테르 결합을 포함해도 되는 3가의 유기기인, 상기 [6]에 기재된 화합물.
[9] Ra'는, 각각 독립적으로, 하기의 기:
[식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기이다.]
인, 상기 [6] 내지 [8] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[10] Ra'는, N인, 상기 [6] 내지 [9] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[11] k는, 1인, 상기 [6] 내지 [10] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[12] k는, 2인, 상기 [6] 내지 [10] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[13] 적어도 하나의 Rb는, RSi인, 상기 [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[14] 각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 Rc인, 상기 [1] 내지 [13] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[15] 각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 RAc인, 상기 [1] 내지 [13] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[16] XC는,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수이고, z2는, 0 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수이고, z4는, 0 내지 6의 정수임)
인, 상기 [1] 내지 [15] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[17] XC는, C1-6 알킬렌기인, 상기 [1] 내지 [16] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[18] n'는, 2, 또는 3인, 상기 [1] 내지 [17] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[19] n'는 3인, 상기 [1] 내지 [18] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[20] XD는, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-인, 상기 [1] 내지 [19] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[21] XD는, -CONH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-인, 상기 [1] 내지 [20] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[22] XD는, -CONH-인, 상기 [1] 내지 [21] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[23] XE는, 단결합인, 상기 [1] 내지 [22] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[24] XE는, -XG-XH이고,
XG는,
단결합,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수이고, z10은, 0 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수이고, z12는, 0 내지 6의 정수임)
이고,
XH는, 하기
이고,
R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기인,
상기 [1] 내지 [23] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[25] XF는,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수이고, z6은, 0 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수이고, z8은, 0 내지 6의 정수임)
인, 상기 [1] 내지 [24] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[26] Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기인, 상기 [1] 내지 [25] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[27] Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 -(CH2)z17-NR10-(CH2)z18-(식 중, R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고, z17은, 0 내지 6의 정수이고, z18은, 0 내지 6의 정수임)인, 상기 [1] 내지 [26] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[28] x는, 1 이상 5 이하의 정수인, 상기 [1] 내지 [27] 중 어느 한 항에 기재된 화합물.
[29] 상기 [1] 내지 [28] 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 함유하는, 표면 처리제.
[30] 불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 상기 [29]에 기재된 표면 처리제.
[31] 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 상기 [29] 또는 [30]에 기재된 표면 처리제.
[32] 기재와, 해당 기재의 표면에, 상기 [1] 내지 [28] 중 어느 한 항에 기재된 화합물 또는 상기 [29] 내지 [31] 중 어느 것에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.
본 개시에 따르면, 내구성이 우수한 표면 처리층을 부여할 수 있는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물을 제공할 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「1가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 1가의 기를 의미한다. 1가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 탄화수소기 또는 그의 유도체일 수 있다. 탄화수소기의 유도체란, 탄화수소기의 말단 또는 분자쇄 중에, 1개 또는 그 이상의 N, O, S, Si, 아미드, 술포닐, 실록산, 카르보닐, 카르보닐옥시 등을 갖고 있는 기를 의미한다. 또한, 단순히 「유기기」라고 나타내는 경우, 1가의 유기기를 의미한다. 또한, 「2가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 2가의 기를 의미한다. 이러한 2가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 유기기로부터 1개의 수소 원자를 더 탈리시킨 2가의 기를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」란, 탄소 및 수소를 포함하는 기이며, 탄화수소로부터 1개의 수소 원자를 탈리시킨 기를 의미한다. 이러한 탄화수소기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-20 탄화수소기, 예를 들어 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 들 수 있다. 상기 「지방족 탄화수소기」는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상 중 어느 것이어도 되고, 포화 또는 불포화 중 어느 것이어도 된다. 또한, 탄화수소기는, 1개 또는 그 이상의 환 구조를 포함하고 있어도 된다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」의 치환기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 할로겐 원자, 1개 또는 그 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, C2-6 알키닐기, C3-10 시클로알킬기, C3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시클릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시클릴기, C6-10 아릴기 및 5 내지 10원의 헤테로 아릴기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 기를 들 수 있다.
본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「가수 분해성기」란, 가수 분해 반응을 받을 수 있는 기를 의미하고, 즉, 가수 분해 반응에 의해, 화합물의 주골격으로부터 탈리할 수 있는 기를 의미한다. 가수 분해성기의 예로서는, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환된 C1-4 알킬기를 나타냄) 등을 들 수 있다.
본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식 (1):
[식 중:
RF2는, 각각 독립적으로, -Rf2 p-RF-Oq-이고,
Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고,
RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고,
p는, 0 또는 1이고,
q는, 0 또는 1이고,
Ra는, 각각 독립적으로, (m+2)가의 유기기이고,
m은, 1 내지 4의 정수이고,
Rb는, 각각 독립적으로, RSi, RAc, 또는 Rc이고,
RSi는, 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3-n'이고,
XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
R1은, 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이고,
R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
n'는, 1 내지 3의 정수이고,
RAc는, 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m'이고,
XD는, 2가의 유기기이고,
XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이고,
XF는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이고,
m'는, 1 내지 10의 정수이고,
Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고,
Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이고,
x는, 1 이상의 정수이다.]
로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물이다.
상기 식 (1)에 있어서, RF2는, -Rf2 p-RF-Oq-이다.
상기 식에 있어서, Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이다.
상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기에 있어서의 「C1-6 알킬렌기」는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 알킬렌기이다.
상기 Rf2는, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C1-6 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이다.
상기 C1-6 퍼플루오로알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF2-, -CF2CF2-, 또는 -CF2CF2CF2-이다.
상기 식에 있어서, p는, 0 또는 1이다. 하나의 양태에 있어서, p는 0이다. 다른 양태에 있어서 p는 1이다.
상기 식에 있어서, q는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다. 하나의 양태에 있어서, q는 0이다. 다른 양태에 있어서 q는 1이다.
상기 식 (1)에 있어서, RF는, 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이다.
RF는, 바람직하게는 하기:
[식 중:
RFa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
h1은, 1 내지 6의 정수이고,
h2는, 4 내지 8의 정수이고,
h3은, 0 이상의 정수이고,
h4는, 0 이상의 정수이고,
단, h3과 h4의 합성은, 1 이상, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 5 이상이고, h3 및 h4를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.]
으로 표시되는 기를 포함할 수 있다.
하나의 양태에 있어서, RF는, 직쇄상, 또는 분지쇄상일 수 있다. RF는, 바람직하게는 식:
[식 중:
RFa는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이다. a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상이다.]
으로 표시되는 기이다.
RFa는, 바람직하게는 수소 원자 또는 불소 원자이고, 보다 바람직하게는, 불소 원자이다. 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상이다.
a, b, c, d, e 및 f는, 바람직하게는, 각각 독립적으로, 0 내지 100의 정수여도 된다.
a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하이고, 예를 들어 50 이하 또는 30 이하여도 된다.
이들 반복 단위는, 직쇄상이어도, 분지쇄상이어도 된다. 예를 들어, -(OC6F12)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC5F10)-는, -(OCF2CF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF2CF(CF3))- 등이어도 된다. -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 -(OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC3F6)-(즉, 상기 식 중, RFa는 불소 원자임)는 -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 -(OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 -(OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 직쇄상이다. 상기 반복 단위를 직쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 표면 미끄럼성, 마모 내구성 등을 향상시킬 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 분지쇄상이다. 상기 반복 단위를 분지쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 운동 마찰 계수를 크게 할 수 있다.
하나의 양태에 있어서, RF는, 환 구조를 포함할 수 있다.
상기 환 구조는, 하기 3원환, 4원환, 5원환, 또는 6원환일 수 있다.
[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.]
상기 환 구조는, 바람직하게는 4원환, 5원환, 또는 6원환, 보다 바람직하게는 4원환, 또는 6원환일 수 있다.
환 구조를 갖는 반복 단위는, 바람직하게는 하기의 단위일 수 있다.
[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.]
하나의 양태에 있어서, RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1) 내지 (f6) 중 어느 것으로 표시되는 기이다.
[식 중, d는, 1 내지 200의 정수이고, e는 0 내지 2의 정수이고,
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.];
[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, e 및 f는, 각각 독립적으로 1 이상 200 이하의 정수이고,
c, d, e 및 f의 합은 2 이상이고,
첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.];
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
R9는, 단결합, 또는 OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이고;
g는, 2 내지 100의 정수이다.];
[식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
R6'는, OCF2 또는 OC2F4이고,
R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
g는, 2 내지 100의 정수이고,
g'는, 2 내지 100의 정수이고,
Rr은,
(식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.)
이다.];
[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
상기 식 (f1)에 있어서, d는, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 100, 더욱 바람직하게는 15 내지 50, 예를 들어 25 내지 35의 정수이다. 하나의 양태에 있어서, e는, 1이다. 다른 양태에 있어서, e는 0이다. 또 다른 양태에 있어서, e는 2이다. 하나의 양태에 있어서, 상기 식 (f1)은 -(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e- 또는 -(OCF(CF3)CF2)d-(OCF(CF3))e-로 표시되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 상기 식 (f1)은 -(OC3F6)d1-(OC2F4)e1-(OC3F6)d2-(OC2F4)e2-(식 중, d1 및 d2는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고, d1과 d2의 합계는 200 이하이고, e1 및 e2는, 각각 독립적으로, 0 또는 1이다.)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 식 (f1)은 -(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-이고, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)-이다.
다른 양태에 있어서, 식 (f1)은 -(OCF(CF3)CF2)d-(OCF(CF3))e-로 표시되는 기이고, 바람직하게는 -(OCF(CF3)CF2)d-(OCF(CF3))-이다.
다른 양태에 있어서, 식 (f1)은 -(OC3F6)d1-(OC2F4)e1-(OC3F6)d2-(OC2F4)e2-이고, 바람직하게는 -(OC3F6)d1-(OC2F4)-(OC3F6)d2-(OC2F4)-이고, 보다 바람직하게는 -(OCF(CF3)CF2)d1-(OCF2CF2)-(OCF(CF3)CF2)d2-(OCF(CF3))-이다.
상기 식 (f2)에 있어서, e 및 f는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 200의 정수이다. 또한, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. 하나의 양태에 있어서, 상기 식 (f2)는 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)c-(OCF2CF2CF2)d-(OCF2CF2)e-(OCF2)f-로 표시되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 식 (f2)는 -(OC2F4)e-(OCF2)f-로 표시되는 기여도 된다.
상기 식 (f3)에 있어서, R6은, 바람직하게는 OC2F4이다. 상기 (f3)에 있어서, R7은, 바람직하게는 OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고, 보다 바람직하게는, OC3F6 및 OC4F8에서 선택되는 기이다. OC2F4, OC3F6 및 OC4F8에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 -OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC4F8-, -OC3F6OC2F4-, -OC3F6OC3F6-, -OC3F6OC4F8-, -OC4F8OC4F8-, -OC4F8OC3F6-, -OC4F8OC2F4-, -OC2F4OC2F4OC3F6-, -OC2F4OC2F4OC4F8-, -OC2F4OC3F6OC2F4-, -OC2F4OC3F6OC3F6-, -OC2F4OC4F8OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC2F4-, -OC3F6OC2F4OC3F6-, -OC3F6OC3F6OC2F4-, 및 -OC4F8OC2F4OC2F4- 등을 들 수 있다. 하나의 양태에 있어서, R9는, 단결합이다. 다른 양태에 있어서, R9는, OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이다. 상기 식 (f3)에 있어서, g는, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 5 이상의 정수이다. 상기 g는, 바람직하게는 50 이하의 정수이다. 상기 식 (f3)에 있어서, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12는, 직쇄 또는 분지쇄 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 직쇄이다. 이 양태에 있어서, 상기 (R6-R7)g는, 바람직하게는 -(OC2F4-OC3F6)g- 또는 -(OC2F4-OC4F8)g-이다.
상기 식 (f4)에 있어서, R6, R7 및 g는, 상기 식 (f3)의 기재와 동일한 의미이고, 마찬가지의 양태를 갖는다. R6 ', R7' 및 g'는, 각각, 상기 식 (f3)에 기재된 R6, R7 및 g와 동일한 의미이고, 마찬가지의 양태를 갖는다. Rr은, 바람직하게는,
[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.]
이고, 보다 바람직하게는
[식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.]
이다.
상기 식 (f5)에 있어서, e는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
상기 식 (f6)에 있어서, f는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1) 또는 (f2)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f1)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f2)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f3)으로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f4)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f5)로 표시되는 기이다.
하나의 양태에 있어서, 상기 RF는, 상기 식 (f6)으로 표시되는 기이다.
상기 RF에 있어서, f에 대한 e의 비(이하, 「e/f비」라고 함)는 0.1 내지 10이고, 바람직하게는 0.2 내지 5이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 2이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5이고, 보다 더 바람직하게는 0.2 내지 0.85이다. e/f비를 10 이하로 함으로써, 이 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 미끄럼성, 마모 내구성 및 내케미컬성(예를 들어, 인공 땀에 대한 내구성)이 보다 향상된다. e/f비가 보다 작을수록, 표면 처리층의 미끄럼성 및 마모 내구성은 보다 향상된다. 한편, e/f비를 0.1 이상으로 함으로써, 화합물의 안정성을 보다 높일 수 있다. e/f비가 보다 클수록, 화합물의 안정성은 보다 향상된다.
하나의 양태에 있어서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 0.2 내지 0.95이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.9이다.
하나의 양태에 있어서, 내열성의 관점에서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 1.0 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0이다.
상기 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물에 있어서, RF2 부분의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,500 내지 30,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000이다. 본 명세서에 있어서, RF2의 수 평균 분자량은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.
상기 식 (1)에 있어서, Ra는, 각각 독립적으로, (m+2)가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, Ra는, 하기 식:
[식 중:
R9는, 각각 독립적으로, C1-6 알킬렌기이고,
Ra'는, 각각 독립적으로, 3가의 유기기이고,
k는, 1 내지 4의 정수이다.]
으로 표시되는 기이다. 이러한 기에 있어서,
R9는, 바람직하게는 C1-4 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 C2-4 알킬렌기이다.
바람직한 양태에 있어서, k는, 1 내지 2의 정수이다.
하나의 양태에 있어서, k는, 1이다.
하나의 양태에 있어서, k는, 2이다.
하나의 양태에 있어서, Ra'는, 각각 독립적으로, N 원자 또는 O 원자를 포함하는 3가의 기이다.
바람직한 양태에 있어서, Ra'는, 각각 독립적으로, 탄소-탄소 원자 사이에, 아미노 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합, 우레아 결합, 에테르 결합, 또는 에스테르 결합을 포함해도 되는 3가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, Ra'는, 각각 독립적으로, 하기의 기:
[식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기(바람직하게는 메틸기 또는 에틸기, 보다 바람직하게는 메틸기)이다.]
이다. 상기 -CR8(-O-)-는, O가 RAc에 결합한다.
하나의 양태에 있어서, Ra'는, N이다.
하나의 양태에 있어서, Ra'는, -CR8(-O-)-이다.
상기 식 (1)에 있어서, m은, 1 내지 4의 정수이다.
바람직한 양태에 있어서, m은, 1 또는 2이다.
하나의 양태에 있어서, m은, 1이다.
하나의 양태에 있어서, m은, 2이다.
상기 식 (1)에 있어서, Rb는, 각각 독립적으로, RSi, RAc, 또는 Rc이다.
상기 식 (1) 중, 적어도 하나의 Rb는, RSi이다.
바람직한 양태에 있어서, 식 (1)의 각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 적어도 하나는 RSi이다.
하나의 양태에 있어서, 식 (1)의 각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 Rc이다.
다른 양태에 있어서, 식 (1)의 각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 RAc이다.
상기 RSi는, 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3 -n'이다.
상기 XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, XC는,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z2는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다.), 또는
-(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z4는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)
이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다. 이들 기는, 우측이 Si에 결합한다.
상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.
바람직한 양태에 있어서, XC는, C1-6 알킬렌기, 바람직하게는 C2-4 알킬렌기이다.
상기 R1은, 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이다.
R1은, 바람직하게는, 각각 독립적으로, 가수 분해성기이다.
R1은, 바람직하게는, 각각 독립적으로, -ORh, -OCORh, -O-N=CRh 2, -NRh 2, -NHRh, -NCO, 또는 할로겐(이들 식 중, Rh는, 치환 또는 비치환된 C1-4 알킬기를 나타냄)이고, 보다 바람직하게는 -ORh(즉, 알콕시기)이다. Rh로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 등의 비치환 알킬기; 클로로메틸기 등의 치환 알킬기를 들 수 있다. 그들 중에서도, 알킬기, 특히 비치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. 하나의 양태에 있어서, Rh는, 메틸기이고, 다른 양태에 있어서, Rh는, 에틸기이다.
상기 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수 분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.
R2에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.
상기 식 중, n'는, (SiR1 n'R2 3 -n') 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 또는 3이고, 보다 바람직하게는 3이다.
상기 식 (1)에 있어서, RAc는, 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m '이다.
상기 XD는, 2가의 유기기이다.
XD는, 바람직하게는 -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-이고, 보다 바람직하게는 -CONH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-, 보다 바람직하게는 -CONH-이다. 이들 기는, 우측이 XE에 결합한다.
상기 XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이다.
하나의 양태에 있어서, XE는, 단결합이다.
하나의 양태에 있어서, XE는,
[식 중:
XG는,
단결합,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z10은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z12는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)
이고,
XH는, 하기
이고,
R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기이다.]
으로 표시되는 3 또는 4가의 기이다.
상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.
바람직한 양태에 있어서, 상기 C1-6 알킬렌기는, C2-4 알킬렌기이다.
상기 C1-6 알킬기는, 바람직하게는 C1-3 알킬기, 보다 바람직하게는 메틸기이다.
상기 XF는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, XF는,
C1-6 알킬렌기,
-(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z6은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다.), 또는
-(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z8은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임)
이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다. 이들 기는, 좌측이 XE에 결합한다.
상기 C1-6 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 된다. 하나의 양태에 있어서, C1-6 알킬렌기는, 직쇄이다. 다른 양태에 있어서, C1-6 알킬렌기는, 분지쇄이다.
바람직한 양태에 있어서, XF는, C1-6 알킬렌기, 바람직하게는 C2-4 알킬렌기이다.
다른 바람직한 양태에 있어서, XF는, -O-(CH2)z6-, 바람직하게는 -O-(CH2)2-4-이다.
상기 R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이다.
상기 1가의 유기기는, 바람직하게는 C1-8 알킬기, C3-8 시클로알킬기, 또는 C5-8 아릴기이고, 보다 바람직하게는 C1-6 알킬기 또는 페닐기이고, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기이고, 특히 바람직하게는 메틸기이다.
하나의 양태에 있어서, R5는, 수소 원자이다.
하나의 양태에 있어서, R5는, 메틸기이다.
상기 m'는, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 3의 정수, 보다 바람직하게는 1이다.
바람직한 양태에 있어서, RAc는, -CONH-XF-OCO-CR5=CH2이다.
상기 식 (1)에 있어서, Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이다.
상기 C1-6 알킬기는, 바람직하게는 C1-3 알킬기이고, 특히 바람직하게는 메틸기이다. C1 -6 알킬기는, 직쇄여도 분지쇄여도 된다.
하나의 양태에 있어서, Rc는, 수소 원자이다.
하나의 양태에 있어서, Rc는, 메틸기이다.
상기 식 (1)에 있어서, Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이다.
하나의 양태에 있어서, Rd는, 단결합이다.
다른 양태에 있어서, Rd는, 2가의 유기기이다.
Rd에 있어서의 2가의 유기기는,
C1-10 알킬렌기, 바람직하게는 C2-6 알킬렌기,
-(CH2)z13-O-(CH2)z14-(식 중, z13은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z14는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다.),
-(CH2)z15-페닐렌-(CH2)z16-(식 중, z15는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z16은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수임), 또는
-(CH2)z17-NR10-(CH2)z18-(식 중, R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고, z17은, 0 내지 6의 정수이고, z18은, 0 내지 6의 정수임),
이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C1-6 알킬기, C2-6 알케닐기, 및 C2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다. 이들 기는, 좌측이 CO에 결합한다.
Rd에 있어서의 2가의 유기기는, 바람직하게는 -(CH2)z17-NR10-(CH2)z18-(식 중, R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고, z17은, 0 내지 6의 정수이고, z18은, 0 내지 6의 정수임), 보다 바람직하게는 -NR10-(CH2)z18-(식 중, R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고, z18은, 1 내지 6의 정수임)이다.
상기 C1-10 알킬렌기는, 직쇄여도, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.
상기 식 (1)에 있어서, x는, 1 이상의 정수이다.
하나의 양태에 있어서, x는, 바람직하게는 1 이상 100 이하의 정수, 보다 바람직하게는 1 이상 10 이하의 정수, 더욱 바람직하게는 1 이상 5 이하의 정수, 예를 들어 2 이상 10 이하의 정수, 더욱 바람직하게는 2 이상 5 이하의 정수이다.
상기 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×102 내지 2×105의 수 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2×103 내지 1×105, 보다 바람직하게는 3×103 내지 2×104의 수 평균 분자량을 갖는 것이, 마모 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 이러한 「수 평균 분자량」은, 19F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.
하나의 양태에 있어서, 상기 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물과, 하기 식:
[식 중, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 반응시켜,
[식 중, R21은, 수소 원자 또는 또는 메틸기이고, RF2, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과,
[식 중, R23은 C1-6의 알킬기 또는 페닐기이고, m은 0 또는 1이고, R22는, 2가의 기이고, R1, R2, 및 n'는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 식:
으로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과, 하기 식:
[식 중, R34는, -NCO, -COOH 등의 반응성기이고,
R35는, 2가의 기이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 식 (1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물과, 하기 식:
[식 중, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 반응시켜,
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과,
[식 중, R23은 C1-6의 알킬기 또는 페닐기이고, m은 0 또는 1이고, R22는, 2가의 기이고, R1, R2, 및 n'는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 식:
으로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과, 하기 식:
[식 중, R34는, -NCO, -COOH 등의 반응성기이고,
R35는, 2가의 기이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 식 (1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 상기 식 (1)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 하기 식:
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물과, 하기 식:
[식 중, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 반응시켜,
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과,
[식 중, R9'는, R9에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 식
[식 중, R21은 수소 원자 또는 메틸기이고, RF2, R9, 및 k는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이고, R9'는 R9에 관한 기재와 동일한 의미임]
을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과,
[식 중, R23은 C1-6의 알킬기 또는 페닐기이고, m은 0 또는 1이고, R22는, 2가의 기이고, R1, R2, 및 n'는, 식 (1)에 관한 기재와 동일한 의미이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시켜, 하기 식:
으로 표시되는 화합물을 얻는다. 이어서, 얻어진 화합물과, 하기 식:
[식 중, R34는, -NCO, -COOH 등의 반응성기이고,
R35는, 2가의 기이다.]
으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 식 (1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
상기의 반응의 각 공정의 반응 조건은, 당업자는 적절히 설정할 수 있다.
다음으로, 본 개시의 표면 처리제에 대해서 설명한다.
본 개시의 표면 처리제는, 식 (1)로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물을 함유한다.
하나의 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 식 (1)로 표시되는 화합물이다.
상기의 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 표면 처리제 전체에 대하여, 바람직하게는 0.1 내지 50.0질량％, 보다 바람직하게는 1.0 내지 30.0질량％, 더욱 바람직하게는 5.0 내지 25.0질량％, 특히 바람직하게는 10.0 내지 20.0질량％일 수 있다. 상기 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 함유량을 상기의 범위로 함으로써, 보다 높은 발수 발유성 및 마찰 내구성을 얻을 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 용매, 불소 함유 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 플루오로폴리에테르 화합물, 바람직하게는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물(이하, 통합하여 「불소 함유 오일」이라고 함), 실리콘 오일로서 이해될 수 있는 (비반응성의) 실리콘 화합물(이하, 「실리콘 오일」이라고 함), 알코올류, 촉매, 계면 활성제, 중합 금지제, 증감제 등을 포함할 수 있다.
상기 용매로서는, 예를 들어 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 미네랄 스피릿 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 나프탈렌, 솔벤트 나프타 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 아세트산카르비톨, 디에틸옥살레이트, 피루브산에틸, 에틸-2-히드록시부티레이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트산아밀, 락트산메틸, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-히드록시이소부티르산메틸, 2-히드록시이소부티르산에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헥사논, 시클로헥사논, 메틸아미노케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜모노알킬에테르 등의 글리콜에테르류; 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, sec-부탄올, 3-펜탄올, 옥틸알코올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, tert-아밀알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 디옥산 등의 환상 에테르류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 이소프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르 알코올류; 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트; 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄, 1,2-디클로로-1,1,2,2-테트라플루오로에탄, 디메틸술폭시드, 1,1-디클로로-1,2,2,3,3-펜타플루오로프로판(HCFC225), 제오로라 H, HFE7100, HFE7200, HFE7300, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH 등의 불소 함유 용매 등을 들 수 있다. 혹은 이들 중 2종 이상의 혼합 용매 등을 들 수 있다.
불소 함유 오일로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 이하의 일반식 (3)으로 표시되는 화합물(퍼플루오로(폴리)에테르 화합물)을 들 수 있다.
식 중, Rf5는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16의 퍼플루오로알킬기)를 나타내고, Rf6은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C1-16 퍼플루오로알킬기), 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, Rf5 및 Rf6은, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로, C1-3 퍼플루오로알킬기이다.
a', b', c' 및 d'는, 폴리머의 주골격을 구성하는 퍼플루오로(폴리)에테르의 4종의 반복 단위수를 각각 나타내고, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이며, a', b', c' 및 d'의 합은 적어도 1, 바람직하게는 1 내지 300, 보다 바람직하게는 20 내지 300이다. 첨자 a', b', c' 또는 d'를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다. 이들 반복 단위 중, -(OC4F8)-는, -(OCF2CF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2CF2)-, -(OCF2CF(CF3)CF2)-, -(OCF2CF2CF(CF3))-, -(OC(CF3)2CF2)-, -(OCF2C(CF3)2)-, -(OCF(CF3)CF(CF3))-, -(OCF(C2F5)CF2)- 및 (OCF2CF(C2F5))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2CF2)-이다. -(OC3F6)-는, -(OCF2CF2CF2)-, -(OCF(CF3)CF2)- 및 (OCF2CF(CF3))- 중 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 -(OCF2CF2CF2)-이다. -(OC2F4)-는, -(OCF2CF2)- 및 (OCF(CF3))- 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF2CF2)-이다.
상기 일반식 (3)으로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물의 예로서, 이하의 일반식 (3a) 및 (3b) 중 어느 것으로 나타내어지는 화합물(1종 또는 2종 이상의 혼합물이어도 됨)을 들 수 있다.
이들 식 중, Rf5 및 Rf6은 상기한 바와 같고 ; 식 (3a)에 있어서, b"는 1 이상 100 이하의 정수이고; 식 (3b)에 있어서, a" 및 b"는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, c" 및 d"는 각각 독립적으로 1 이상 300 이하의 정수이다. 첨자 a", b", c", d"를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.
또한, 다른 관점에서, 불소 함유 오일은, 일반식 Rf3-F(식 중, Rf3은 C5-16 퍼플루오로알킬기이다.)로 표시되는 화합물이어도 된다. 또한, 클로로트리플루오로에틸렌 올리고머여도 된다.
상기 불소 함유 오일은, 500 내지 10000의 평균 분자량을 갖고 있어도 된다. 불소 함유 오일의 분자량은, GPC를 사용하여 측정할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 대하여, 예를 들어 0 내지 50질량％, 바람직하게는 0 내지 30질량％, 보다 바람직하게는 0 내지 5질량％ 포함될 수 있다. 하나의 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제는, 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다. 불소 함유 오일을 실질적으로 포함하지 않는다는 것은, 불소 함유 오일을 전혀 포함하지 않거나, 또는 극미량의 불소 함유 오일을 포함하고 있어도 되는 것을 의미한다.
하나의 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 크게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 특히 진공 증착법에 의해 표면 처리층을 형성하는 경우에 있어서, 보다 우수한 마모 내구성과 표면 미끄럼성을 얻을 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 평균 분자량보다도, 불소 함유 오일의 평균 분자량을 작게 해도 된다. 이러한 평균 분자량으로 함으로써, 이러한 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 투명성의 저하를 억제하면서, 높은 마모 내구성 및 높은 표면 미끄럼성을 갖는 경화물을 형성할 수 있다.
불소 함유 오일은, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성된 층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.
상기 실리콘 오일로서는, 예를 들어 실록산 결합이 2,000 이하인 직쇄상 또는 환상의 실리콘 오일을 사용할 수 있다. 직쇄상의 실리콘 오일은, 소위 스트레이트 실리콘 오일 및 변성 실리콘 오일이어도 된다. 스트레이트 실리콘 오일로서는, 디메틸 실리콘 오일, 메틸페닐 실리콘 오일, 메틸하이드로겐 실리콘 오일을 들 수 있다. 변성 실리콘 오일로서는, 스트레이트 실리콘 오일을, 알킬, 아르알킬, 폴리에테르, 고급 지방산 에스테르, 플루오로알킬, 아미노, 에폭시, 카르복실, 알코올 등에 의해 변성한 것을 들 수 있다. 환상의 실리콘 오일은, 예를 들어 환상 디메틸실록산 오일 등을 들 수 있다.
본 개시의 표면 처리제 중, 이러한 실리콘 오일은, 상기 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 합계 100질량부(2종 이상의 경우에는 이들의 합계, 이하도 마찬가지)에 대하여, 예를 들어 0 내지 300질량부, 바람직하게는 50 내지 200질량부로 포함될 수 있다.
실리콘 오일은, 표면 처리층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.
상기 알코올류로서는, 예를 들어 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 6의 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, tert-부탄올, CF3CH2OH, CF3CF2CH2OH, (CF3)2CHOH를 들 수 있다. 이들 알코올류를 표면 처리제에 첨가함으로써, 표면 처리제의 안정성을 향상시키고, 또한 퍼플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물과 용매의 상용성을 개선시킨다.
상기 알코올은, 바람직하게는 2,2,3,3,3-펜타플루오로-1-프로판올 또는 2,2,2-트리플루오로에탄올이다.
상기 촉매로서는, 산(예를 들어 아세트산, 트리플루오로아세트산 등), 염기(예를 들어 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸아민 등), 전이 금속(예를 들어 Ti, Ni, Sn 등) 등을 들 수 있다.
촉매는, 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물의 가수 분해, 탈수 축합, 또는 중합을 촉진하고, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성되는 층의 형성을 촉진한다.
다른 성분으로서는, 상기 이외에, 예를 들어 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란 등도 들 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 다공질 물질, 예를 들어 다공질의 세라믹 재료, 금속 섬유, 예를 들어 스틸 울을 면상으로 굳힌 것에 함침시켜, 펠릿으로 할 수 있다. 당해 펠릿은, 예를 들어 진공 증착에 사용할 수 있다.
본 개시의 표면 처리제는, 상기한 성분에 더하여, 불순물로서, 예를 들어 Pt, Rh, Ru, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 트리페닐포스핀, NaCl, KCl, 실란의 축합물 등을 미량 포함할 수 있다.
이하, 본 개시의 물품에 대해서 설명한다.
본 개시의 물품은, 기재와, 해당 기재 표면에 본 개시의 표면 처리제로 형성된 층(표면 처리층)을 포함한다.
본 개시에 있어서 사용 가능한 기재는, 예를 들어 유리, 수지(천연 또는 합성 수지, 예를 들어 일반적인 플라스틱 재료여도 됨), 금속, 세라믹스, 반도체(실리콘, 게르마늄 등), 섬유(직물, 부직포 등), 모피, 피혁, 목재, 도자기, 석재 등, 건축 부재 등, 위생 용품, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다.
예를 들어, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면을 구성하는 재료는, 광학 부재용 재료, 예를 들어 유리 또는 투명 플라스틱 등이어도 된다. 또한, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면(최외층)에 어떠한 층(또는 막), 예를 들어 하드 코트층이나 반사 방지층 등이 형성되어 있어도 된다. 반사 방지층에는, 단층 반사 방지층 및 다층 반사 방지층 중 어느 것을 사용해도 된다. 반사 방지층에 사용 가능한 무기물의 예로서는, SiO2, SiO, ZrO2, TiO2, TiO, Ti2O3, Ti2O5, Al2O3, Ta2O5, Ta3O5, Nb2O5, HfO2, Si3N4, CeO2, MgO, Y2O3, SnO2, MgF2, WO3 등을 들 수 있다. 이들 무기물은, 단독으로, 또는 이들 중 2종 이상을 조합하여(예를 들어 혼합물로서) 사용해도 된다. 다층 반사 방지층으로 하는 경우, 그 최외층에는 SiO2 및/또는 SiO를 사용하는 것이 바람직하다. 제조해야 할 물품이, 터치 패널용의 광학 유리 부품인 경우, 투명 전극, 예를 들어 산화인듐주석(ITO)이나 산화인듐아연 등을 사용한 박막을, 기재(유리)의 표면의 일부에 갖고 있어도 된다. 또한, 기재는, 그 구체적 사양 등에 따라서, 절연층, 점착층, 보호층, 장식 프레임층(I-CON), 안개화막층, 하드 코팅막층, 편광 필름, 상위차 필름, 및 액정 표시 모듈 등을 갖고 있어도 된다.
상기 기재의 형상은, 특별히 한정되지는 않고, 예를 들어, 판상, 필름, 그 밖의 형태여도 된다. 또한, 표면 처리층을 형성해야 할 기재의 표면 영역은, 기재 표면의 적어도 일부이면 되고, 제조해야 할 물품의 용도 및 구체적 사양 등에 따라서 적절히 결정될 수 있다.
하나의 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 수산기를 원래 갖는 재료로 이루어지는 것이어도 된다. 이러한 재료로서는, 유리를 들 수 있고, 또한 표면에 자연 산화막 또는 열 산화막이 형성되는 금속(특히 비금속), 세라믹스, 반도체 등을 들 수 있다. 혹은, 수지 등과 같이, 수산기를 갖고 있어도 충분하지 않은 경우나, 수산기를 원래 갖고 있지 않은 경우에는, 기재에 어떠한 전처리를 실시함으로써, 기재의 표면에 수산기를 도입하거나, 증가시키거나 할 수 있다. 이러한 전처리의 예로서는, 플라스마 처리(예를 들어 코로나 방전)나, 이온빔 조사를 들 수 있다. 플라스마 처리는 기재 표면에 수산기를 도입 또는 증가시킬 수 있음과 함께, 기재 표면을 청정화하기(이물 등을 제거하기) 위해서도 적합하게 이용될 수 있다. 또한, 이러한 전처리의 다른 예로서는, 탄소-탄소 불포화 결합기를 갖는 계면 흡착제를 LB법(랭뮤어-블로젯법)이나 화학 흡착법 등에 의해, 기재 표면에 미리 단분자막의 형태로 형성하고, 그 후, 산소나 질소 등을 포함하는 분위기하에서 불포화 결합을 개열하는 방법을 들 수 있다.
다른 양태에 있어서, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 다른 반응성기, 예를 들어 Si-H기를 1개 이상 갖는 실리콘 화합물이나, 알콕시실란을 포함하는 재료로 이루어지는 것이어도 된다.
바람직한 양태에 있어서, 상기 기재는 유리이다. 이러한 유리로서는, 사파이어 유리, 소다석회 유리, 알칼리 알루미노규산염 유리, 붕규산 유리, 무알칼리 유리, 크리스탈 유리, 석영 유리가 바람직하고, 화학 강화한 소다석회 유리, 화학 강화한 알칼리 알루미노규산염 유리, 및 화학 결합한 붕규산 유리가 특히 바람직하다.
본 개시의 물품은, 상기 기재의 표면에, 상기의 본 개시의 표면 처리제의 층을 형성하고, 이 층을 필요에 따라서 후처리하고, 이에 의해 본 개시의 표면 처리제로 층을 형성함으로써 제조할 수 있다.
본 개시의 표면 처리제의 층 형성은, 상기 표면 처리제를 기재의 표면에 대하여, 해당 표면을 피복하도록 적용함으로써 실시할 수 있다. 피복 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 습윤 피복법 및 건조 피복법을 사용할 수 있다.
습윤 피복법의 예로서는, 침지 코팅, 스핀 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅 및 유사한 방법을 들 수 있다.
건조 피복법의 예로서는, 증착(통상, 진공 증착), 스퍼터링, CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다. 증착법(통상, 진공 증착법)의 구체예로서는, 저항 가열, 전자 빔, 마이크로파 등을 사용한 고주파 가열, 이온빔 및 유사한 방법을 들 수 있다. CVD 방법의 구체예로서는, 플라스마-CVD, 광학 CVD, 열 CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다.
또한, 상압 플라스마법에 의한 피복도 가능하다.
습윤 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 용매로 희석되고 나서 기재 표면에 적용될 수 있다. 본 개시의 조성물의 안정성 및 용매의 휘발성의 관점에서, 다음 용매가 바람직하게 사용된다: 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, C6F13CH2CH3(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AC-6000), 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄(예를 들어, 닛폰 제온 가부시키가이샤제의 제오로라(등록 상표) H); 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C3F7OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7000), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7100), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7200), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C2F5CF(OCH3)C3F7)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7300) 등의 알킬퍼플루오로알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 됨), 혹은 CF3CH2OCF2CHF2(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AE-3000)) 등. 이들 용매는, 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 히드로플루오로에테르가 바람직하고, 퍼플루오로부틸메틸에테르(C4F9OCH3) 및/또는 퍼플루오로부틸에틸에테르(C4F9OC2H5)가 특히 바람직하다.
건조 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 그대로 건조 피복법에 부쳐도 되고, 또는 상기한 용매로 희석하고 나서 건조 피복법에 부쳐도 된다.
표면 처리제의 층 형성은, 층 중에서 본 개시의 표면 처리제가, 가수 분해 및 탈수 축합을 위한 촉매와 함께 존재하도록 실시하는 것이 바람직하다. 간편하게는, 습윤 피복법에 의한 경우, 본 개시의 표면 처리제를 용매로 희석한 후, 기재 표면에 적용하기 직전에, 본 개시의 표면 처리제의 희석액에 촉매를 첨가해도 된다. 건조 피복법에 의한 경우에는, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 그대로 증착(통상, 진공 증착) 처리하거나, 혹은 철이나 구리 등의 금속 다공체에, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 함침시킨 펠릿상 물질을 사용하여 증착(통상, 진공 증착) 처리를 해도 된다.
촉매에는, 임의의 적절한 산 또는 염기를 사용할 수 있다. 산 촉매로서는, 예를 들어 아세트산, 포름산, 트리플루오로아세트산 등을 사용할 수 있다. 또한, 염기 촉매로서는, 예를 들어 암모니아, 유기 아민류 등을 사용할 수 있다.
본 개시의 물품에 포함되는 표면 처리층은, 높은 마모 내구성의 양쪽을 갖는다. 또한, 상기 표면 처리층은, 높은 마모 내구성에 더하여, 사용하는 표면 처리제의 조성에 따라 다르지만, 발수성, 발유성, 방오성(예를 들어 지문 등의 오염의 부착을 방지함), 방수성(전자 부품 등에의 물의 침입을 방지함), 표면 미끄럼성(또는 윤활성, 예를 들어 지문 등의 오염의 닦아냄성이나, 손가락에 대한 우수한 촉감), 내약품성 등을 가질 수 있어, 기능성 박막으로서 적합하게 이용될 수 있다.
따라서, 본 개시는 또한, 상기 표면 처리층을 최외층에 갖는 광학 재료에도 관한 것이다.
광학 재료로서는, 후기에 예시하는 디스플레이 등에 관한 광학 재료 외에, 다종 다양한 광학 재료를 바람직하게 들 수 있다: 예를 들어, 음극선관(CRT; 예를 들어, 퍼스컴 모니터), 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 박막 EL 도트 매트릭스 디스플레이, 배면 투사형 디스플레이, 형광 표시관(VFD), 전계 방출 디스플레이(FED; Field Emission Display) 등의 디스플레이 또는 이들 디스플레이의 보호판, 또는 이들 표면에 반사 방지막 처리를 실시한 것.
본 개시의 물품은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학 부재일 수 있다. 광학 부재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 안경 등의 렌즈; PDP, LCD 등의 디스플레이의 전방면 보호판, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대 전화, 휴대 정보 단말기 등의 기기의 터치 패널 시트; 블루레이(Blu-ray(등록 상표)) 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광 디스크의 디스크면; 광 파이버; 시계의 표시면 등.
또한, 본 개시의 물품은, 의료 기기 또는 의료 재료여도 된다. 또한, 본 개시에 의해 얻어지는 층을 갖는 물품은, 자동차 내외장 부재여도 된다. 외장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 윈도우, 라이트 커버, 사외품 카메라 커버. 내장재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 인스트루먼트 패널 커버, 내비게이션 시스템 터치 패널, 가식 내장재.
상기 층의 두께는, 특별히 한정되지는 않는다. 광학 부재의 경우, 상기 층의 두께는, 1 내지 50㎚, 1 내지 30㎚, 바람직하게는 1 내지 15㎚의 범위인 것이, 광학 성능, 마모 내구성 및 방오성의 점에서 바람직하다.
이상, 본 개시의 물품에 대해서 상세하게 설명하였다. 또한, 본 개시의 물품 및 물품의 제조 방법 등은, 상기에서 예시한 것에 한정되지는 않는다.
실시예
이하, 본 개시의 화합물에 대해서, 실시예에 있어서 설명하지만, 본 개시는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서, 플루오로폴리에테르를 구성하는 반복 단위의 존재 순서는 임의이며, 이하에 나타내어지는 화학식은 평균 조성을 나타낸다.
합성예 1
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2O(CF2O)12(CF2CF2O)12CF2COOCH3으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 디에틸렌트리아민 0.20g을 투입하여, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 계속해서, 3-아미노프로필트리메톡시실란 0.68g을 첨가한 후, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (A)를 얻었다.
합성예 2
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 1에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (A) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.27g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (B)를 얻었다.
합성예 3
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 1에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (A) 10.0g, 및 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) BEI) 0.46g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (C)를 얻었다.
합성예 4
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2O(CF2O)12(CF2CF2O)12CF2COOCH3으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 트리에틸렌테트라민 0.28g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 계속해서, 3-아미노프로필트리메톡시실란 0.68g을 첨가한 후, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (D)를 얻었다.
합성예 5
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 4에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (D) 10.0g, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.54g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (E)를 얻었다.
합성예 6
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF(CF3){OCF2CF(CF3)}mOCF2CF2O{CF(CF3)CF2O}nCF(CF3)COOCH3(m+n≒34)으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 헥사플루오로벤젠 5.0g, 및 디에틸렌트리아민 0.085g을 투입하고, 질소 기류 하, 70℃에서 13시간 교반하였다. 계속해서, 3-아미노프로필트리메톡시실란 0.29g을 첨가한 후, 70℃에서 12시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (F)를 얻었다.
합성예 7
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 6에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (F) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.12g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (G)를 얻었다.
합성예 8
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 1에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (A) 10.0g, 및 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(미츠비시 케미컬 가부시키가이샤제 4HBAGE) 0.38g을 투입하고, 질소 기류 하, 50℃에서 3시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (H)를 얻었다.
합성예 9
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2O(CF2O)12(CF2CF2O)12CF2COOCH3으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 1,3-디아미노-2-프로판올 0.20g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 계속해서, 3-아미노프로필트리메톡시실란 0.68g을 첨가한 후, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (I)를 얻었다.
합성예 10
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 9에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (I) 10.0g, 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.27g, 및 디부틸주석디라우레이트 0.012g을 투입하고, 질소 기류 하, 50℃에서 2시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (J)를 얻었다.
합성예 11
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2O(CF2O)12(CF2CF2O)12CF2COOCH3으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 디에틸렌트리아민 0.20g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 계속해서, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란 0.85g을 첨가한 후, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (K)를 얻었다.
합성예 12
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 11에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (K) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.81g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 2시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (L)을 얻었다.
합성예 13
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 평균 조성 CH3OCOCF2CF2O(CF2CF2CF2O)16CF2CF2COOCH3으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르 변성 에스테르체 10.0g, 1,3-비스(트리플루오로메틸)벤젠 5.0g, 및 디에틸렌트리아민 0.17g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하였다. 계속해서, 3-아미노프로필트리메톡시실란 0.60g을 첨가한 후, 25℃에서 1시간 교반하였다. 그 후 감압 하에서 휘발분을 증류 제거함으로써, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (M)을 얻었다.
합성예 14
환류 냉각기, 온도계 및 교반기를 설치한 100mL의 3구 플라스크에, 합성예 13에서 얻어진 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (M) 10.0g, 및 2-이소시아나토에틸아크릴레이트(쇼와 덴코 가부시키가이샤제 카렌즈(등록 상표) AOI) 0.24g을 투입하고, 질소 기류 하, 25℃에서 1시간 교반하여, 하기 식으로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물 (N)을 얻었다.
실시예 1
상기 합성예 2에서 얻은 화합물 (B)를, 농도 20wt％가 되도록, 노벡 7200(쓰리엠사제)에 용해시켜, 표면 처리제를 조제하였다.
상기에서 조정한 표면 처리제를, 각각 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 유리, 두께 0.7㎜) 상에 진공 증착하였다. 진공 증착법의 조건은, 저항 가열식 증착기 챔버 사이즈 1,900㎜φ, 진공도 5.0E-05, 전류값 240A, 전압 10V, 기재 온도 40℃였다. 다음으로, 증착한 화학 강화 유리를, 온도 150℃의 분위기하에서 30분 정치하고, 그 후 실온까지 방랭시켰다. 계속해서, 증착한 화학 강화 유리에, 공기 분위기하 365㎚의 UV광을 포함하는 광선을 1000mJ/㎠의 강도로 조사하여, 유리 기재 상에 표면 처리층을 형성시켰다.
실시예 2
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 3에서 얻은 화합물 (C)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 3
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 5에서 얻은 화합물 (E)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 4
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 7에서 얻은 화합물 (G)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 5
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 8에서 얻은 화합물 (H)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 6
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 10에서 얻은 화합물 (J)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 7
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 12에서 얻은 화합물 (L)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
실시예 8
화합물 (B) 대신에, 상기 합성예 14에서 얻은 화합물 (N)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
비교예 1
하기 화합물 (O)를 농도 20wt％가 되도록, 노벡 7200(쓰리엠사제)에 용해시켜, 표면 처리제를 조제하였다.
상기에서 조정한 표면 처리제를, 각각 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 유리, 두께 0.7㎜) 상에 진공 증착하였다. 진공 증착법의 조건은, 저항 가열식 증착기 챔버 사이즈 1,900㎜φ, 진공도 5.0E-05, 전류값 240A, 전압 10V, 기재 온도 40℃였다. 다음으로, 증착한 화학 강화 유리를, 온도 150℃의 분위기하에서 30분 정치하고, 그 후 실온까지 방랭시켜, 유리 기재 상에 표면 처리층을 형성하였다.
비교예 2
화합물(O) 대신에, 하기 화합물 (P)를 사용한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
비교예 3
화합물 (O) 대신에, 하기 화합물 (Q)를 사용한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
비교예 4
화합물 (O) 대신에, 하기 화합물 (R)을 사용한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리제를 조제하고, 표면 처리층을 형성하였다.
<평가>
상기에서 얻어진 표면 처리층을 구비하는 유리 기체에 대해서, 각각, 다음과 같이 물 접촉각의 측정, 알칼리 시험의 평가를 행하였다.
(알칼리 침지 시험)
직경 1㎝의 PTFE제 O링을, 상기 실시예 1 내지 8, 및 비교예 1 내지 4에서 표면 처리한 기재의 표면에 설치하고, 8N의 NaOH 용액(알칼리 수용액)을 상기 O링 내에 적하하고, 표면 처리층의 표면을 알칼리 수용액과 접촉시켜, 알칼리 침지 시험에 부쳤다. 알칼리 침지 시험의 20 내지 300분 경과 후에 알칼리 수용액을 닦아내고, 순수, 에탄올로 세정한 후, 물에 대한 접촉각을 측정하였다. 또한, 물의 정적 접촉각은, 상기의 알칼리 침지 시험 후의 유리 기체의 표면에 대하여, 2μL의 순수의 수적을 착적시키고, 접촉각계(교와 가이멘 가가쿠사제: 자동 접촉각계 DropMaster701)를 사용하여, 물에 대한 접촉각을 측정하였다. 알칼리 침지 시험 후의 물의 정적 접촉각의 측정 개소는 5개소에서 행하였다. 300분 이내에 물의 정적 접촉각의 측정값이 저하된 경우는, 도중에 알칼리 침지 시험을 정지하였다. 침지 시간과, 5개소의 접촉각 평균값의 관계를 하기 표에 나타낸다.
Figure pct00071
(마모 내구성 시험)
표면 처리층이 형성된 샘플 물품을 수평 배치하고, 하기의 마찰자를 표면 처리층의 표면에 접촉(접촉면은 직경 1㎝의 원)시키고, 그 위에 5N의 하중을 부여하고, 그 후, 하중을 가한 상태에서 마찰자를 40㎜/초의 속도로 왕복시켰다. 마찰자를 최대 4000회 왕복시켜, 왕복 횟수(마찰 횟수) 1000회마다 물의 정적 접촉각(°)을 측정하였다. 물의 정적 접촉각의 측정값이 60° 미만이 된 시점에서 시험을 중지하였다. 또한, 물의 정적 접촉각의 측정은, 상기의 알칼리 시험과 마찬가지로 실시하였다. 결과를 하기 표에 나타낸다.
·마찰자
하기에 나타내는 실리콘 고무 가공품의 표면(직경 1㎝)을, 하기에 나타내는 조성의 인공 땀에 침지한 코튼으로 덮은 것을 마찰자로서 사용하였다.
인공 땀의 조성:
무수 인산수소이나트륨: 2g
염화나트륨: 20g
85％ 락트산: 2g
히스티딘 염산염: 5g
증류수: 1㎏
실리콘 고무 가공품:
타이거스 폴리머제, 실리콘 고무 마개 SR-51을, 직경 1㎝, 두께 1㎝의 원기둥 형상으로 가공한 것.
Figure pct00072
본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 아크릴 화합물은, 여러 가지 다양한 기재, 특히 마찰 내구성이 요구되는 광학 부재의 표면에, 표면 처리층을 형성하기 위해 적합하게 이용될 수 있다.

Claims (32)

  1. 하기 식 (1):

    [식 중:
    RF2는, 각각 독립적으로, -Rf2 p-RF-Oq-이고,
    Rf2는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C1-6 알킬렌기이고,
    RF는, 2가의 플루오로폴리에테르기이고,
    p는, 0 또는 1이고,
    q는, 0 또는 1이고,
    Ra는, 각각 독립적으로, (m+2)가의 유기기이고,
    m은, 1 내지 4의 정수이고,
    Rb는, 각각 독립적으로, RSi, RAc, 또는 Rc이고,
    RSi는, 각각 독립적으로, -XC-SiR1 n'R2 3 -n'이고,
    XC는, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
    R1은, 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수 분해성기이고,
    R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고,
    n'는, 1 내지 3의 정수이고,
    RAc는, 각각 독립적으로, -XD-XE(-XF-OCO-CR5=CH2)m '이고,
    XD는, 2가의 유기기이고,
    XE는, 단결합, 또는 (m'+1)가의 기이고,
    XF는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 10의 2가의 유기기이고,
    R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 1가의 유기기이고,
    m'는, 1 내지 10의 정수이고,
    Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고,
    Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 2가의 유기기이고,
    x는, 1 이상의 정수이다.]
    로 표시되는 화합물.
  2. 제1항에 있어서,
    RF는, 각각 독립적으로, 식:

    [식 중, RFa는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
    a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이고, 단, 모든 RFa가 수소 원자 또는 염소 원자인 경우, a, b, c, e 및 f 중 적어도 하나는, 1 이상이다.]
    으로 표시되는 기인, 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    RFa는, 불소 원자인, 화합물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    RF는, 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) 또는 (f6):

    [식 중, d는 1 내지 200의 정수이고, e는, 0 내지 2의 정수이고,
    첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],

    [식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
    e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
    c, d, e 및 f의 합은, 10 내지 200의 정수이고;
    첨자 c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],

    [식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고;
    R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
    R9는, 단결합, 또는 OCF2, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이고;
    g는, 2 내지 100의 정수이다.],

    [식 중, R6은, OCF2 또는 OC2F4이고,
    R7은, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
    R6'는, OCF2 또는 OC2F4이고,
    R7'는, OC2F4, OC3F6, OC4F8, OC5F10 및 OC6F12에서 선택되는 기이거나, 혹은, 이들 기에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,
    g는, 2 내지 100의 정수이고,
    ｇ'는, 2 내지 100의 정수이고,
    Rr은,

    (식 중, *는, 결합 위치를 나타낸다.)
    이다.] ;

    [식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

    [식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙여 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
    으로 표시되는 기인, 화합물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    Rf2는, 각각 독립적으로, C1-6 퍼플루오로알킬렌기인,
    화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    Ra는, 각각 독립적으로, 하기 식:

    [식 중:
    R9는, 각각 독립적으로, C1-6 알킬렌기이고,
    Ra'는, 각각 독립적으로, 3가의 유기기이고,
    k는, 1 내지 4의 정수이다.]
    으로 표시되는 기인, 화합물.
  7. 제6항에 있어서,
    Ra'는, 각각 독립적으로, N 원자 또는 O 원자를 포함하는 3가의 유기기인, 화합물.
  8. 제6항에 있어서,
    Ra'는, 각각 독립적으로, 탄소-탄소 원자 사이에, 아미노 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합, 우레아 결합, 에테르 결합, 또는 에스테르 결합을 포함해도 되는 3가의 유기기인, 화합물.
  9. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    Ra'는, 각각 독립적으로, 하기의 기:

    [식 중, R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기이다.]
    인, 화합물.
  10. 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    Ra'는, N인, 화합물.
  11. 제6항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    k는, 1인, 화합물.
  12. 제6항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    k는, 2인, 화합물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 하나의 Rb는, RSi인, 화합물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 Rc인, 화합물.
  15. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    각 말단에 위치하는 N 원자에 결합하는 Rb 중 1개는 RSi이고, 다른 쪽은 RAc인, 화합물.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    XC는,
    C1-6 알킬렌기,
    -(CH2)z1-O-(CH2)z2-(식 중, z1은, 0 내지 6의 정수이고, z2는, 0 내지 6의 정수임), 또는
    -(CH2)z3-페닐렌-(CH2)z4-(식 중, z3은, 0 내지 6의 정수이고, z4는, 0 내지 6의 정수임)
    인, 화합물.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    XC는, C1-6 알킬렌기인, 화합물.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    n'는, 2, 또는 3인, 화합물.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    n'는 3인, 화합물.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    XD는, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -OCONH-, -NHCOO-, -NH-CO-NH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-인, 화합물.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    XD는, -CONH-, -CH2CH(OH)CH2-, 또는 -CH(CH2OH)CH2-인, 화합물.
  22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
    XD는, -CONH-인, 화합물.
  23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    XE는, 단결합인, 화합물.
  24. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    XE는, -XG-XH이고,
    XG는,
    단결합,
    C1-6 알킬렌기,
    -(CH2)z9-O-(CH2)z10-(식 중, z9는, 0 내지 6의 정수이고, z10은, 0 내지 6의 정수임), 또는
    -(CH2)z11-페닐렌-(CH2)z12-(식 중, z11은, 0 내지 6의 정수이고, z12는, 0 내지 6의 정수임)
    이고,
    XH는, 하기

    이고,
    R8은, 수소 원자, 또는 C1-6 알킬기인,
    화합물.
  25. 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    XF는,
    C1-6 알킬렌기,
    -(CH2)z5-O-(CH2)z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수이고, z6은, 0 내지 6의 정수임), 또는
    -(CH2)z7-페닐렌-(CH2)z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수이고, z8은, 0 내지 6의 정수임)
    인, 화합물.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기인, 화합물.
  27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
    Rd는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 -(CH2)z17-NR10-(CH2)z18-(식 중, R10은, 수소 원자 또는 C1-6 알킬기이고, z17은, 0 내지 6의 정수이고, z18은, 0 내지 6의 정수임)인, 화합물.
  28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    x는, 1 이상 5 이하의 정수인, 화합물.
  29. 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 함유하는, 표면 처리제.
  30. 제29항에 있어서,
    불소 함유 오일, 실리콘 오일, 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 표면 처리제.
  31. 제29항 또는 제30항에 있어서,
    방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 표면 처리제.
  32. 기재와, 해당 기재의 표면에, 제1항 내지 제28항 중 어느 한 항에 기재된 화합물 또는 제29항 내지 제31항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.
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