JP7090115B2 - 独立した分離されたヒータ区域を有するウエハキャリア - Google Patents
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Description
本出願は、全ての目的のために参照により組み込まれる2014年8月1日に出願された「Wafer Carrier with Independent Isolated Heater Zones」という名称の米国仮特許出願第62/032,313号からの優先権を主張する、全ての目的のために参照により全体が本明細書に組み込まれる2015年2月4日に出願された「Wafer Carrier with Independent Isolated Heater Zones」という名称の米国特許出願第14/614,199号からの優先権を主張するものである。
Claims (13)
- プラズマチャンバ、
前記プラズマチャンバ内に含まれるシャワーヘッドと電気的に連結されたプラズマ源、
加工対象物を支持するパックを有する、前記プラズマチャンバの処理領域内の加工対象物ホルダであって、前記加工対象物ホルダは、各々が前記パックと熱的に連結された複数の熱的に分離されたブロックを有するヒータプレートを含み、各ブロックは、前記ヒータプレートのそれぞれのブロックを加熱するためのヒータを含み、前記加工対象物ホルダは、前記ヒータプレートに固定されかつ熱的に連結された冷却プレートを含み、前記冷却プレートは、該冷却プレートから熱を伝達するため、熱伝達流体を分配するように構成された冷却チャネルを規定する、加工対象物ホルダ、および
各ヒータを独立して制御するための温度コントローラ
を備え、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各ブロックの間の間隙によって互いのブロックから物理的に離隔されかつ熱的に分離されており、
前記ヒータが、長手方向軸が前記パックの上端面と垂直になるように方向付けられた縦長の抵抗ヒータロッドを含む、プラズマ処理システム。 - プラズマチャンバ、
前記プラズマチャンバ内に含まれるシャワーヘッドと電気的に連結されたプラズマ源、
加工対象物を支持するパックを有する、前記プラズマチャンバの処理領域内の加工対象物ホルダであって、前記加工対象物ホルダは、各々が前記パックと熱的に連結された複数の熱的に分離されたブロックを有するヒータプレートを含み、各ブロックは、前記ヒータプレートのそれぞれのブロックを加熱するためのヒータを含み、前記加工対象物ホルダは、前記ヒータプレートに固定されかつ熱的に連結された冷却プレートを含み、前記冷却プレートは、該冷却プレートから熱を伝達するため、熱伝達流体を分配するように構成された冷却チャネルを規定する、加工対象物ホルダ、および
各ヒータを独立して制御するための温度コントローラ
を備え、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各ブロックの間の間隙によって互いのブロックから物理的に離隔されかつ熱的に分離されており、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各それぞれのブロックから前記冷却プレートへ熱を伝達するために、前記冷却プレートと物理的に接触した熱伝達面を有し、
前記熱伝達面は、前記ヒータプレートの前記ブロックから突出する拡張部であって、前記ヒータに隣接しかつ前記ヒータを取り囲んでいる拡張部の面により構成されている、プラズマ処理システム。 - 前記ヒータプレートの前記ブロックおよび前記冷却プレートが、アルミニウムから形成されており、前記熱伝達面が、前記冷却プレートにろう付けされている、請求項2に記載のプラズマ処理システム。
- 前記間隙が、断熱材料によって満たされている、請求項1から3のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
- 前記ブロックが、前記ヒータプレートの表面全体にわたり同心リング状に配置され、前記ブロックが、直線的もしくは曲線的な側面を有する矩形状、三角形状、または六角形状の何れかである、請求項1から4のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
- 前記パックとは反対側の前記冷却プレートに固定されたベースプレートを更に備え、前記冷却チャネルが前記ベースプレートに対してオープンであり、前記加工対象物ホルダが、前記ベースプレートに対して前記冷却チャネルを密封するための複数のシールを更に備える、請求項1から5のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
- 前記ベースプレートが、前記冷却プレートよりも低い熱伝導率を有する材料から形成されている、請求項6に記載のプラズマ処理システム。
- 前記材料が、チタニウム、ステンレススチール、アルミナ、セラミック、及びニッケルから選択されている、請求項7に記載のプラズマ処理システム。
- プラズマ処理チャンバであって、
前記プラズマ処理チャンバのプラズマ処理領域を規定するチャンバハウジング、
前記プラズマ処理チャンバの上端に規定された入口であって、前記プラズマ処理チャンバ内に処理ガスを受け入れるように構成された入口、
基板支持体であって、
パック、
各々が前記パックと熱的に連結された複数の熱的に分離されたブロックを有する、ヒータプレートであって、各ブロックは、前記ヒータプレートのそれぞれのブロックを加熱するためのヒータを含む、ヒータプレート、ならびに
前記ヒータプレートに固定されかつ熱的に連結された冷却プレートであって、該冷却プレートから熱を伝達するため、熱伝達流体を分配するように構成された冷却チャネルを規定する冷却プレート
を備える基板支持体、および
各ヒータを独立して制御するための温度コントローラ
を備え、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各ブロックの間の間隙によって互いのブロックから物理的に離隔されかつ熱的に分離されており、
前記ヒータが、長手方向軸が前記パックの上端面と垂直になるように方向付けられた縦長の抵抗ヒータロッドを含む、プラズマ処理チャンバ。 - プラズマ処理チャンバであって、
前記プラズマ処理チャンバのプラズマ処理領域を規定するチャンバハウジング、
前記プラズマ処理チャンバの上端に規定された入口であって、前記プラズマ処理チャンバ内に処理ガスを受け入れるように構成された入口、
基板支持体であって、
パック、
各々が前記パックと熱的に連結された複数の熱的に分離されたブロックを有する、ヒータプレートであって、各ブロックは、前記ヒータプレートのそれぞれのブロックを加熱するためのヒータを含む、ヒータプレート、ならびに
前記ヒータプレートに固定されかつ熱的に連結された冷却プレートであって、該冷却プレートから熱を伝達するため、熱伝達流体を分配するように構成された冷却チャネルを規定する冷却プレート
を備える基板支持体、および
各ヒータを独立して制御するための温度コントローラ
を備え、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各ブロックの間の間隙によって互いのブロックから物理的に離隔されかつ熱的に分離されており、
前記ヒータプレートの前記ブロックが、各それぞれのブロックから前記冷却プレートへ熱を伝達するために、前記冷却プレートと物理的に接触した熱伝達面を有し、
前記熱伝達面は、前記ヒータプレートの前記ブロックから突出する拡張部であって、前記ヒータに隣接しかつ前記ヒータを取り囲んでいる拡張部の面により構成されている、プラズマ処理チャンバ。 - 前記ヒータプレートの前記ブロックおよび前記冷却プレートが、アルミニウムから形成されており、前記熱伝達面が、前記冷却プレートにろう付けされている、請求項10に記載のプラズマ処理チャンバ。
- 前記間隙が、断熱材料によって満たされている、請求項9から11のいずれか一項に記載のプラズマ処理チャンバ。
- 前記ブロックが、前記ヒータプレートの表面全体にわたり同心リング状に配置され、前記ブロックが、直線的もしくは曲線的な側面を有する矩形状、三角形状、または六角形状の何れかである、請求項9から12のいずれか一項に記載のプラズマ処理チャンバ。
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