JP7089348B2 - インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、ρeは導電性反射部CRの体積抵抗率、Qは導電性反射部CRを流れる電荷、dは導電性反射部CRの厚さである。また、Wは電荷Qが流れる経路のライン幅、ρは導電性反射部CRの密度、cは導電性反射部CRの比熱、tは電荷Qが流れる時間、Aは単位換算の定数を表す。
Claims (12)
- 基板の上に配置されたインプリント材に型のパターン領域を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、
マークを撮像するスコープと、
前記基板保持部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記ディスペンサは、前記型保持部から見て第1方向の正方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第1方向に平行な2つの辺と、前記第1方向に垂直な第2方向に平行な2つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第2方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第1方向の前記正方向側における前記基板保持部の角部と前記中心との間の所定領域に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第1方向の負方向側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されておらず、
前記制御部は、前記基板の複数のショット領域のいずれが前記型の前記パターン領域に位置決めされた場合においても、前記基準プレートが前記型に対向しないように、前記基板保持部の駆動を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記基板保持部は、前記第1方向に平行な前記2つの辺と、前記第2方向に平行な前記2つの辺とを有する矩形形状を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 基板の上に配置されたインプリント材に型のパターン領域を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、
マークを撮像するスコープと、
前記基板保持部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記ディスペンサは、前記型保持部から見て第1方向の正方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第1方向に平行な2つの辺と、前記第1方向に垂直な第2方向に平行な2つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第2方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第1方向の前記正方向側における前記基板保持部の角部と前記中心との間の所定領域に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第1方向の負方向側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されておらず、
前記制御部は、前記基板の複数のショット領域のいずれのショット領域に対するパターンの形成においても前記基準プレートが前記型に対向しないように、前記基板保持部の駆動を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記複数のショット領域の各々に対するパターンの形成は、少なくとも、ショット領域に対するインプリント材の配置、前記ショット領域に配置されたインプリント材と前記型のパターン領域との接触、および、前記ショット領域のインプリント材の硬化を含む、
ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。 - 基板の上に配置されたインプリント材に型のパターン領域を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上にインプリント材を配置するディスペンサと、
マークを撮像するスコープと、
前記基板保持部の駆動を制御する制御部と、を備え、
前記基板保持部は、前記スコープによって撮像される基準マークを有する基準プレートを含み、前記ディスペンサは、前記型保持部から見て第1方向の正方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第1方向に平行な2つの辺と、前記第1方向に垂直な第2方向に平行な2つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第2方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第1方向の前記正方向側における前記基板保持部の角部と前記中心との間の所定領域に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第1方向の負方向側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されておらず、
前記型は、パターン領域を取り囲む周辺領域を含み、
前記制御部は、前記基板の複数のショット領域のいずれが前記パターン領域に位置決めされた場合においても、前記基準プレートが前記型の前記周辺領域に対向しないように、前記基板保持部の駆動を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記基準マークは、複数の導電性反射部を含み、前記複数の導電性反射部は、互いに点接触しないように配置されている、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記所定領域に配置された前記基準マークは、前記複数の導電性反射部を覆う透明導電膜を有する、
ことを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。 - 前記所定領域に配置された前記基準マークは、導電性反射部と、前記導電性反射部を覆う透明導電膜とを有する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記透明導電膜は、ITO膜、IZO膜またはTNO膜で構成される、
ことを特徴とする請求項7又は8に記載のインプリント装置。 - 前記透明導電膜は、Al薄膜で構成される、
ことを特徴とする請求項7又は8に記載のインプリント装置。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のインプリント装置により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程において前記パターンが形成された前記基板の処理を行う工程と、
を含み、前記処理が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。 - 基準プレートを有する基板保持部によって保持された基板の上に配置されたインプリント材に型のパターン領域を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記基板の複数のショット領域の各々に対してディスペンサによってインプリント材を配置し、該インプリント材に前記型のパターン領域を接触させ硬化させる処理を行う工程を含み、
前記工程の開始から終了までにおいて、前記基準プレートが前記型に対向しないように前記基板保持部が駆動され、
前記ディスペンサは、前記型を保持する型保持部から見て第1方向の正方向に配置され、
前記基板保持部は、前記第1方向に平行な2つの辺と、前記第1方向に垂直な第2方向に平行な2つの辺とを有し、
前記基準プレートは、前記第2方向に平行でかつ前記基板保持部の中心を通る仮想直線から見て前記第1方向の前記正方向側における前記基板保持部の角部と前記中心との間に配置され、
前記仮想直線と前記仮想直線から見て前記第1方向の負方向側における前記基板保持部の端部との間には、基準マークを有する基準プレートが配置されていない、
ことを特徴とするインプリント方法。
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