JP7087365B2 - 研磨パッド - Google Patents
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Description
上記研磨パッドにおいて、前記第1突出部及び前記第2突出部は、平面視で平行四辺形状であることが好ましい。
上記研磨パッドにおいて、前記研磨層は、径方向内側に位置する内側領域と、径方向外側に位置して、前記被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が前記内側領域よりも大きい外側領域とを備え、前記内側領域は、前記突出部として前記第1突出部のみが所定のパターンで配置され、前記外側領域は、前記突出部として前記第1突出部及び前記第2突出部が所定のパターンで配置されていることが好ましい。
上記構成によれば、研磨パッドの回転時において、内側領域の外周(内側領域及び外側領域の境界部分)のみが通過し続ける部分が生じることが抑制されて、研磨ムラが生じ難くなる。
研磨パッド11の基材層12は、金属層と、研磨層13よりも圧縮変形し易い弾性層とを備える二層構造である(図示略)。金属層は、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等から構成される。弾性層は、ゴム又はエラストマーから構成される。弾性層は、非発泡体であってもよいし発泡体であってもよい。金属層と弾性層とは接着層を介して接着されている。
図3に示すように、研磨パッド11の研磨層13は、基材層12の弾性層側の面に積層されている。研磨層13は、基材層12に支持される平板状の支持部14と、この支持部14から突出する複数の突出部15とを備えている。支持部14と複数の突出部15とは、ウレタンゴム等の弾性材料から一体に構成されている。研磨層13と基材層12とは接着層を介して接着されている。
図2~4に示すように、突出部15は、その形状の異なる第1突出部16及び第2突出部17を備えている。第1突出部16は、内側領域Aa及び外側領域Abの両方に配置されるとともに、第2突出部17は、外側領域Abのみに配置されている。
図1に示すように、研磨パッド11の溝18は、研磨パッド11の内周端11aから外周端11bへ向かって直線状に延びる主幹溝18aと、主幹溝18aと研磨パッド11の外周端11bとを直線状に連結する分岐溝18bとを備えている。主幹溝18a及び分岐溝18bは、研磨パッド11の内周端11aと外周端11bとの間において連続した溝18を構成している。
研磨パッド11の直径は特に限定されないが、例えば、10~1000mm程度である。研磨パッド11の各部分の寸法についても特に限定されないが、平面視において突出部15の基端部分の幅(H1,H3)は3~20mm程度であり、突出部15の長さ(L1,L2)は5~50mm程度であり、溝18の幅は、3~20mm程度に設定される。また、突出部15の高さは、5~30mm程度に設定される。
研磨パッド11は、例えば、回転駆動装置を備えた周知の研磨機に取り付けられる。被研磨物の表面は、研磨パッド11と被研磨物との相対回転により研磨される。被研磨物としては、ガラス板、ステンレス板、アルミニウム板等の板材が挙げられる。なお、こうした研磨では、砥粒を含む研磨用スラリーが用いられる。
(1)研磨パッド11は、基材層12と基材層12の主面に積層された研磨層13とを有する。研磨層13は、基材層12の主面に平行な先端面を有する突出部15が所定のパターンで配置されてなり、突出部15として、先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第1突出部16と、先端面における特定方向の幅が第1突出部16よりも長い第2突出部17とを備える。
上記構成によれば、第1突出部16及び第2突出部17の間を研磨用スラリーが流れやすくなり、研磨の効率が向上する。
上記構成によれば、研磨パッド11の回転時において、内側領域Aaの外周(内側領域Aa及び外側領域Abの境界部分)のみが通過し続ける部分が生じることが抑制されて、研磨ムラが生じ難くなる。
上記構成によれば、研磨の効率の向上効果及び過度な引っ掛かりの抑制効果を高いレベルで両立させることができる。
・突出部15の形状を変更してもよい。例えば、平面視で長方形状や菱形状となる突出部15としてもよい。第1突出部16について、第1側面16b及び第2側面16cの両方が傾斜面となる断面台形状としてもよい。この場合、第1突出部16の第2角度θ2は鋭角であってもよいし、鈍角であってもよい。第2突出部17について、第1側面17b及び第2側面17cの少なくとも一方が傾斜面となる断面台形状としてもよい。この場合、第2突出部17の第1角度θ3、第2角度θ4は鋭角であってもよいし、鈍角であってもよい。
・研磨パッド11の研磨層13は、基材層12上に離間して配置される複数の研磨層13から構成されているが、一体となった単数の研磨層13から構成されてもよい。
・研磨パッド11を回転させずに、被研磨物を回転させることで被研磨物を研磨してもよい。また、研磨パッド11は、複数の研磨パッドを遊星歯車機構により同時に回転させて用いる研磨機に装着して用いてもよい。
Claims (4)
- 基材層と前記基材層の主面に積層された研磨層とを有し、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、前記基材層の主面に平行な先端面を有する突出部が所定のパターンで配置されてなり、
前記突出部として、
先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第1突出部と、
先端面における前記特定方向の幅が前記第1突出部よりも長い第2突出部とを備え、
前記第1突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に、前記基材層の主面に対する角度が鋭角となる傾斜面を有するとともに、前記傾斜面に直交する断面形状が台形状であり、
前記第2突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に前記基材層の主面に対する角度が直角となる直角面を有するとともに、前記直角面に直交する断面形状が長方形状であり、
前記研磨層は、径方向内側に位置する内側領域と、径方向外側に位置して、前記被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が前記内側領域よりも大きい外側領域とを備え、
前記内側領域は、前記突出部として前記第1突出部のみが所定のパターンで配置され、
前記外側領域は、前記突出部として前記第1突出部及び前記第2突出部が所定のパターンで配置され、
当該研磨パッドは、平面視において、外周側の縁である外周端と、内周側の縁である内周端とを備える環状であり、
前記外側領域における前記第1突出部と前記第2突出部との間に形成され、前記内周端から前記内側領域を通って前記外周端へ延びる溝を備えることを特徴とする研磨パッド。 - 前記第1突出部及び前記第2突出部は、平面視で平行四辺形状であることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記内側領域は、平面視で回転対称の多角形状であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記外側領域は、前記第2突出部の回転方向前方側に前記第1突出部が位置するように、前記第1突出部と前記第2突出部とが交互に配置されていることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の研磨パッド。
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US20100056031A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Allen Chiu | Polishing Pad |
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WO2013129426A1 (ja) | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 東レ株式会社 | 研磨パッド |
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