JP7072634B2 - ろ過装置、精製装置、及び、薬液の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、ろ過装置、精製装置、及び、薬液の製造方法に関する。
フォトリソグラフィを含む配線形成工程による半導体デバイスの製造の際、プリウェット液、レジスト液(レジスト樹脂組成物)、現像液、リンス液、剥離液、化学機械的研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)スラリー、及び、CMP後の洗浄液等として、又は、それらの希釈液として、水及び/又は有機溶剤を含有する薬液が用いられている。
近年、フォトリソグラフィ技術の進歩によりパターンの微細化が進んでいる。
このような配線形成工程に用いられる薬液には、更なる欠陥抑制性能の向上が求められている。このような薬液は、一般に、薬液に求められる成分を主成分として含有する被精製液をフィルタ等を用いて精製して不純物等を除くことにより得られると考えられている。
このような薬液の精製に使用できるとされるフィルタとして、特許文献1には、「エトキシ-ノナフルオロブタンバブルポイント試験により決定したときに約78psiから160psiのバブルポイントを有し、膜の1つ又は複数の表面にグラフト化された1つ又は複数の中性基又はイオン交換基を有するグラフト化非対称多孔性超高分子量ポリエチレン膜」が記載されている。
本発明者らは、上記フィルタを用いて被精製液を精製して薬液を得て、上記薬液に係る欠陥抑制性能を評価したところ、十分な欠陥抑制性能が得られないことがあることを知見した。そこで、本発明者らは、優れた欠陥抑制性能を有する薬液を製造可能なろ過装置の提供を課題とする。また、本発明は、精製装置、及び、薬液の製造方法の提供も課題とする。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が達成されるのを見出した。
(1) 流入部と、流出部と、
フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、
フィルタA及びフィルタBが直列に配置された流入部から流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含む、ろ過装置。
(2) フィルタBが、流通路上においてフィルタAの上流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBUを含む、(1)に記載のろ過装置。
(3) 少なくとも1つのフィルタBUは、1nm以上の孔径を有するフィルタを含む(2)に記載のろ過装置。
(4) 少なくとも1つのフィルタBUは、第2のイオン交換基を有する樹脂を含有する、(2)又は(3)に記載のろ過装置。
(5) 中性基又はイオン交換基を有する樹脂は、中性基を有し、
フィルタAは流通路において最も下流側に配置されている、(1)~(4)のいずれかに記載のろ過装置。
(6) 中性基又はイオン交換基を有する樹脂が、アミド基、イミド基、カルボキサミド基、スルホンアミド基、スルフェンアミド基、チオアミド基、アミジン基、カルボキサミジン基、及び、スルフィンアミジン基からなる群から選択される基を有する、(1)~(5)のいずれかに記載のろ過装置。
(7) 流通路上における、フィルタAの下流側から、フィルタAの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路を有する、(1)~(6)のいずれかに記載のろ過装置。
(8) フィルタBは、流通路上においてフィルタAの下流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBDを含む、(1)~(4)のいずれかに記載のろ過装置。
(9) 少なくとも1つのフィルタBDは、20nm以下の孔径を有するフィルタを含む、(8)に記載のろ過装置。
(10) フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有する、(8)又は(9)に記載のろ過装置。
(11) 少なくとも1つのフィルタBDのうちのいずれかのフィルタBDからなる基準フィルタの下流側から、基準フィルタの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路を有する、(8)~(10)のいずれかに記載のろ過装置。
(12) 後述する条件1を満たす被精製液の精製に用いられる、(8)~(11)のいずれかに記載のろ過装置。
(13) 少なくとも1つのフィルタBDは、10nm未満の孔径を有する、(12)に記載のろ過装置。
(14) 後述する条件2を満たす被精製液の精製に用いられる、(2)~(4)のいずれかに記載のろ過装置。
(15) ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2以上である被精製液の精製用であるか、又は、
ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である被精製液の精製用であって、
イオン交換基がカチオン交換基である、(1)~(14)のいずれかに記載のろ過装置。
(16) イオン交換基がアニオン交換基であり、
ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0未満である被精製液の精製用である、(1)~(14)のいずれかに記載のろ過装置。
(17) 流通路上において、 フィルタAと直列に配置されたタンクを更に有する(1)~(16)のいずれかに記載のろ過装置。
(18)流通路において、タンクの上流側に、
タンクと直列に配置された、孔径20nm以上のフィルタCを更に有する(17)に記載のろ過装置。
(19) 薬液が、現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種である(1)~(18)のいずれかに記載のろ過装置。
(20) 被精製液を精製して、半導体基板製造用の薬液を製造するためのろ過装置であって、
流入部と、流出部と、
フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと
フィルタA及びフィルタBが直列に配置された流入部から流出部にいたる流通路とを有するろ過装置であって、
フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含む、ろ過装置。
(21) (1)~(20)のいずれかに記載のろ過装置と、
ろ過装置の流入部に接続された少なくとも1つの蒸留器と、
を有する精製装置。
(22) 少なくとも1つの蒸留器は、直列に接続された複数の蒸留器を含む、(21)に記載の精製装置。
(23) 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、(1)~(20)のいずれかに記載のろ過装置を用いて、被精製液を精製して薬液を得る、ろ過工程を有する、薬液の製造方法。
(24) ろ過工程の前に、フィルタA、及び、フィルタBを洗浄するフィルタ洗浄工程を更に有する、(23)に記載の薬液の製造方法。
(25) ろ過工程の前に、ろ過装置の接液部を洗浄する装置洗浄工程を更に有する、(23)又は(24)に記載の薬液の製造方法。
本発明によれば、優れた欠陥抑制性能を有する薬液を製造可能なろ過装置を提供できる。また、本発明は、精製装置、及び、薬液の製造方法も提供できる。
なお、本明細書において、薬液の「欠陥抑制性能」は、実施例に記載した方法により評価される薬液の性能を意味する。半導体基板の製造に用いられる薬液には、薬液の種類及び役割に応じたそれぞれの「欠陥抑制性能」が求められる。
本明細書においては、プリウェット液、現像液、及び、リンス液等のレジスト膜の形成の際に用いられる薬液については、後述する実施例における[試験例1]に記載した残渣欠陥抑制性能を「欠陥抑制性能」とする。また、樹脂を含有し、レジスト膜の形成に用いられるレジスト樹脂組成物については、後述する実施例における[試験例2]に記載したブリッジ欠陥抑制性能を「欠陥抑制性能」とする。
以下、単に「欠陥抑制性能」という場合、薬液の種類に応じたそれぞれの欠陥抑制性能(残渣欠陥抑制性能、ブリッジ欠陥抑制性能、又は、パーティクル欠陥抑制性能)を意味する。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されない。
なお、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
[ろ過装置]
本発明の実施形態に係るろ過装置は、流入部と、流出部と、フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBとフィルタA及びフィルタBが直列に配置された流入部から流出部にいたる流通路(被精製液が流れる経路)が形成されたろ過装置であって、(言い換えれば、流入部と流出部との間に、フィルタAと上記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBとが直列に配置され、流入部から流出部にいたる流通路を有するろ過装置であって、)フィルタAは、後述する多孔性膜であるろ過装置である。なお、本明細書において、「フィルタAとは異なる」とは、孔径、材料、及び、細孔構造からなる群より選択される少なくとも1種が異なることを意味する。
以下では、上記ろ過装置について、図面を用いて説明する。なお、本発明の実施形態に係るろ過装置はフィルタAとフィルタBとが流通路上に直列に配置されているため、被精製液は、フィルタA及びフィルタB(又は、フィルタB及びフィルタA)によって順次ろ過される。以下、本発明の実施形態に係るろ過装置について説明する。以下の説明では、フィルタに導入した被精製液の全量をフィルタでろ過する、全量ろ過方式(デッドエンド方式)のろ過装置を例示するが、本発明の実施形態に係るろ過装置としては上記に制限されず、導入した被精製液を精製済み被精製液と濃縮液とに分離する(更に濃縮液を再度被精製液としてフィルタに導入する場合もある)クロスフロー方式のろ過装置であってもよく、これらを組み合わせた方式であってもよい。
〔第一実施形態〕
図1は、本発明の第一実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置100は、流入部101と流出部102の間に、フィルタAであるフィルタ104と、上記フィルタ104とは異なるフィルタ103(フィルタBU)とが配管105を介して直列に配置されたろ過装置である。本明細書において、フィルタ同士が異なるとは、孔径、材料、及び、細孔構造からなる群より選択される少なくとも1種が異なることを意味する。なかでもより優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタAとフィルタBUとは、少なくとも孔径が異なることが好ましく、孔径と材料とが異なることがより好ましい。
流入部101、フィルタ103、配管105、フィルタ104、及び、流出部102は、それぞれの内部に被精製液を流通できるよう構成されており、上記各部材が連結されて、流通路S1(被精製液が流れる経路)が形成されている。
なお、図1においては、フィルタAであるフィルタ104は1つのみが記載されているが、この態様に限定されず、フィルタAを複数用いてもよい。
流入部101、及び、流出部102としては、ろ過装置に被精製液を導入し、及び、排出できればその形態としては特に制限されないが、典型的には、流入口と流出口とを有する中空円筒状の配管(流入管、及び、流出管)等が挙げられる。以下流出部と流入部とがそれぞれ配管である形態を例に説明する。
流入部101、配管105、及び、流出部102の形態としては特に制限されないが、典型的には、内部に被精製液を流通可能に形成された中空円筒状の形態が挙げられる。これらの材料としては特に制限されないが、接液部(被精製液をろ過するに際して、被精製液が接触する可能性のある部分)は、後述する耐腐食材料で形成されていることが好ましい。
ろ過装置100の流入部101から導入された被精製液は、流通路S1に沿ってろ過装置100内を流通し、その間にフィルタ103(フィルタBU)、及び、フィルタ104(フィルタA)によって順次ろ過されて、流出部102からろ過装置100外へと排出される。なお被精製液の形態については後述する。
なお、ろ過装置100には、被精製液を流通させる目的で、流通路S1上に、図示しないポンプ、ダンパ、及び、弁等が配置されていてもよい。
フィルタ103及びフィルタ104の形態としては特に制限されない。フィルタA及びフィルタBの形態としては、例えば、平面状、プリーツ状、らせん状、及び、中空円筒状等が挙げられる。なかでも取り扱い性により優れる点で、典型的には、被精製液が透過可能な材料で形成された、及び/又は、被精製液が透過可能な構造である、芯材と、上記芯材に巻き回される形で芯材上に配置されたフィルタとを有するカートリッジフィルタの形態が好ましい。この場合、芯材の材料としては特に制限されないが、後述する耐食性材料から形成されることが好ましい。
フィルタの配置の方法としては特に制限されないが、典型的には、少なくとも1つの入口及び少なくとも1つの出口を含み、入口と出口との間に少なくとも1つの内部流通路が形成された図示しないハウジング内に配置されることが好ましい。その場合、フィルタはハウジングの内部流通路を横切るように配置される。ハウジング内に形成された内部流通路は、流通路S1の一部をなし、被精製液は流通路S1を流通する際に、流通路S1を横切るように配置されたフィルタによってろ過される。
ハウジングの材料としては特に制限されないが、被精製液と適合できるあらゆる不浸透性の熱可塑性材料を含めて任意の適切な硬い不浸透性の材料が挙げられる。例えば、ハウジングはステンレス鋼などの金属、又はポリマーから製作できる。ある実施形態において、ハウジングはポリアクリレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、又はポリカーボネート等のポリマーである。
また、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、ハウジングの接液部の少なくとも一部、好ましくは接液部の表面積に対して90%、より好ましくは接液部の表面積に対して99%は、後述する耐食性材料からなることが好ましい。なお、本明細書において接液部とは、被精製液が接触する可能性のある部分を意味し、ハウジング等のユニットの内壁等を意味する。
<フィルタAの第一実施形態:フィルタA1>
本実施形態に係るろ過装置は、フィルタAを有し、フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、樹脂層に含まれる樹脂は、中性基又はイオン交換基を有する。
第一実施形態に係るフィルタAは、樹脂がイオン交換基を有するフィルタA1である。
フィルタA1は超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜を有する。多孔性膜は、非対称多孔性膜であっても、対称多孔性膜であってもよい。
「多孔性膜」とは、ゲル、粒子、コロイド、細胞、及び、ポリオリゴマー等の被精製液中の成分を保持するが、細孔よりも実質的に小さい成分は、細孔を通過する膜を意味する。
本明細書において、「非対称(膜)」は、膜中の孔のサイズが、一方の表面から他方の表面に向う膜の厚み方向に沿って変化することを意味する。非対称膜としては、例えば、非対称膜の1つの面及び領域上の孔のサイズは、対向する面及び領域上の孔のサイズより大きい。また、別の例では、膜の対向する面(及び領域)上の細孔径がより大きい一方で、膜の中心領域が面の何れかより小さい孔のサイズを有する(例えば砂時計)非対称構造が存在する場合がある。
また、本明細書において、「対称(膜)」は、膜中の孔のサイズが、一方の表面から他方の表面に向う膜の厚み方向に沿って略変化しないことを意味する。
なお、本明細書において、孔の形状、膜中における孔の位置、及び、サイズの分布を細孔構造という。
上記フィルタA1の多孔性膜の形態としては特に制限されないが、平面シート状、不織布状、及び、中空繊維膜等が挙げられる。また、フィルタA1は、別の多孔性支持体上に形成されていてもよい。
また、多孔性膜は表面処理されたものであってもよい。表面処理の方法としては特に制限されず、公知の方法が使用できる。表面処理の方法としては、例えば、化学修飾処理、プラズマ処理、疎水処理、コーティング、ガス処理、及び、焼結等が挙げられる。
また、流体入口及び出口のための好適なエンドキャップを有する筐体又はカートリッジであって、支持のために必要に応じてコア及びケージを伴い、フィルタカートリッジ又はデバイスに形成される、筐体又はカートリッジに、フィルタを入れてもよい。
すなわち、フィルタがろ過装置に配置される場合、典型的には、少なくとも1つの入口及び少なくとも1つの出口を含み、入口と出口との間に少なくとも1つの流通路が形成された(図1には示していない)ハウジング内に配置されることが好ましい。その場合、フィルタはハウジングの流通路を横切るように配置される。ハウジング内に形成された流通路は、流通路S1の一部をなし、被精製液は流通路S1を流通する際に、流通路S1を横切るように配置されたフィルタによってろ過される。
また、フィルタA1は、織布、及び、網等のような膜支持材料上に形成されていてもよく、膜と共にひだを付けてもよい。フィルタA1は、ひだを付けるか、又は、円盤若しくは中空繊維として使用することができる。フィルタA1はその表面の少なくとも一部(好ましくは、表面の90%以上、より好ましくは99%以上、更に好ましくは100%)に樹脂層を含有する。
フィルタA1は、例えばイソプロパノール等によって事前に湿潤化する工程を経ずに、水酸化テトラメチルアンモニウム等の水系被精製液用(被精製液の形態については後述する)に使用することができる点等で有利である。
フィルタA1は、ふるい効果により被精製液中の粒子を除去することに加えて、フィルタA1を通過する被精製液から正に帯電した又は負に帯電した物質を吸着除去するために使用することもできる。具体的には、フィルタA1は、粒子及びイオンを含む帯電した不純物を、有機溶剤系被精製液(有機溶剤系被精製液の形態については後述する)から除去するために使用することができる。
フィルタA1に使用される超高分子量ポリエチレンとしては特に制限されず、公知の超高分子量ポリエチレンが使用できる。本明細書において、「超高分子量」とは、重量平均分子量が、1.0×106以上であることを意味し、超高分子量ポリエチレンの分子量としては特に制限されないが、一般に、1.0×106~7.0×107が好ましく、1.0×106~7.0×106がより好ましい。なお、本明細書において、超高分子量ポリエチレンの分子量は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)法により測定したものを意味する。
また、固有粘度としては特に制限されないが、一般に15~60dL/gが好ましい。なお、固有粘度は、例えばウベローデ型粘度計を用い、オルトジクロロベンゼンを溶媒としたポリマー濃度が0.0005~0.01質量%の溶液にて、135℃において測定することが可能である。
フィルタA1は、多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層を有する。言い換えれば、フィルタA1は、樹脂層付きの超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜である。
樹脂層は、樹脂を含有している。樹脂として具体的には、6-ナイロン、及び、6,6-ナイロン等のポリアミド;ポリエチレン、及び、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリ(メタ)アクリレート;ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン-クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニル等のポリフルオロカーボン;ポリビニルアルコール;ポリエステル;セルロース;セルロースアセテート;ポリスチレン:ポリスルホン;ポリエーテルスルホン等が挙げられる。
また、樹脂層中の樹脂は多孔性膜に結合していてもよい。言い換えれば、樹脂層中の樹脂は、多孔性膜に化学的に結合していてもよく、樹脂層はグラフト鎖を有していてもよい。
なお、樹脂層は、多孔性膜の表面の少なくとも50%超(好ましくは70%以上、より好ましくは100%)を覆うように配置されていることが好ましい。
本明細書において、グラフト鎖を有する(又は「グラフト化」)とは、幹ポリマーの超高分子量ポリエチレンとは異なる分子が、多孔性膜の少なくとも一部の表面(好ましくは50%超、より好ましくは70%以上)において化学的に結合された状態を意味する。なお、多孔性膜の表面には、孔の表面も含まれる。
グラフト化の方法としては特に制限されないが、典型的には、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜に電離放射線等を照射して、超高分子量ポリエチレンの少なくとも表面にラジカルを発生させるとともに、ラジカル重合性モノマーを接触させて、グラフト鎖を導入する方法が挙げられる。
フィルタA1中の樹脂層がグラフト鎖を有する場合、グラフト鎖の少なくとも一部がイオン交換基を有していることが好ましく、ラジカル重合性モノマーとしては、このようなグラフト鎖を形成可能なイオン交換基を有するモノマーを使用することが好ましい。
イオン交換基としては特に制限されないが、例えばカルボン酸基、スルホン酸基、及び、ハロゲン化アンモニウム基等が挙げられる。他の例としては、アクリルアミド基、N,N-ジメチルアクリルアミド基、塩化ビニルベンジルトリメチルアンモニウム基、ビニルスルホン酸(塩を含む)基、アクリル酸基、及び、スチレンスルホン酸基等が挙げられる。このようなイオン交換基を有するモノマーとしては、以下のカチオン性モノマー、及び、アニオン性モノマーが挙げられる。
カチオン交換基としては、例えばボロン酸基、ホスホン酸基、スルホン酸基、及び、カルボン酸基等が挙げられる。また、アニオン交換基としては、例えば、アミノ基、4級アンモニウム基、イミダゾリウム基、及び、ピリジニル基等が挙げられる。
カチオン性モノマーとしては、アクリル酸塩、メタアクリル酸塩、アクリルアミド、メタアルリルアミド、四級アンモニウム、イミダゾリウム、ホスホニウム、グアニジニウム、スルホニウム、及び、ピリジニウム官能基を有するビニルモノマーを含む。
具体的には、アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル塩酸塩、塩化[2-(アクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウム、メタクリル酸2-アミノエチル塩酸塩、メタクリル酸N-(3-アミノプロピル)塩酸塩、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル塩酸塩、塩化[3-(メタクリロイルアミノ)プロピル]トリメチルアンモニウム溶液、塩化[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウム、塩化アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム、2-アミノエチルメタクリルアミド塩酸塩、N-(2-アミノエチル)メタクリルアミド塩酸塩、N-(3-アミノプロピル)-メタクリルアミド塩酸塩、塩化ジアリルジメチルアンモニウム、アリルアミン塩酸塩、ビニルイミダゾリウム塩酸塩、ビニルピリジニウム塩酸塩、及び、塩化ビニルベンジルトリメチルアンモニウム等が挙げられる。
アニオン性モノマーとしては、アクリル酸塩、メタクリル酸塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、並びに、スルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸、及び、リン酸官能基等を有するビニルモノマーが挙げられる。
具体的には、2-エチルアクリル酸、アクリル酸、アクリル酸2-カルボキシエチル、アクリル酸3-スルホプロピルカリウム塩、2-プロピルアクリル酸、2-(トリフルオロメチル)アクリル酸、メタクリル酸、2-メチル-2-プロペン-1-スルホン酸ナトリウム塩、マレイン酸モノ-2-(メタクリロイルオキシ)エチル、メタクリル酸3-スルホプロピルカリウム塩、2-アクリルアミド-2-メチル-1-プロパンスルホン酸、3-メタクリルアミドフェニルボロン酸、ビニルスルホン酸、アクリルアミドプロピルスルホン酸、及び、ビニルホスホン酸等が挙げられる。なお、上記モノマーは塩形態であってもよい。例えば、ビニルスルホン酸であれば、ビニルスルホン酸ナトリウム塩であってもよい。
他の好適なモノマーは、N-(ヒドロキシメチル)アクリルアミド(HMAD)、塩化(3-アクリルアミドプロピル)トリメチルアンモニウム(APTAC)、及び塩化(ビニルベンジル)トリメチルアンモニウム(VBTAC)であり、これらの構造を以下に例示する。
フィルタA1の孔径として特に制限されないが、一般に5~500nmが好ましく、10~300nmがより好ましい。
なお、本明細書において、孔径とは、イソプロパノール(IPA)又は、HFE-7200(「ノベック7200」、3M社製、ハイドロフロオロエーテル、C4F9OC2H5)のバブルポイントによって決定される孔径を意味する。
フィルタA1の臨界湿潤表面張力(例えば米国特許第4,925,572号に定義されているCWST;critical wetting surface tension)としては特に制限されない。CWSTは一定の組成の一組の溶液を用いて測定することができる。各々の溶液は特定の表面張力を有する。溶液の表面張力は小さい不等価な増分で25×10-5~92×10-5N/cmの範囲である。フィルタA1の表面張力を測定するために、多孔性膜を白色光テーブルの上に置き、一定の表面張力の一滴の溶液を膜の表面に付け、その液滴が多孔性膜を貫通して透過し、光が膜を通り抜けたことを示す明るい白色になるのにかかった時間を記録する。液滴が膜を透過するのにかかる時間が10秒以下であるとき、瞬時の湿潤と考えられる。この時間が10秒より大きい場合、その溶液は多孔性膜を部分的に湿潤すると考えられる。CWSTは、当技術分野で公知のように、更に例えば米国特許第5,152,905号、同第5,443,743号、同第5,472,621号、及び同第6,074,869号に開示されているように選択することができる。
一般に、フィルタA1の臨界湿潤表面張力としては、30×10-5~90×10-5N/cmが好ましく、45×10-5~75×10-5N/cmがより好ましい。臨界湿潤表面張力が30×10-5~90×10-5N/cmの範囲内であると、より優れたメタル除去能を有する。
なお、ろ過装置100は、フィルタ104とフィルタ103(フィルタBU)とを有しているが、フィルタAがフィルタA1である場合の本発明の実施形態に係るろ過装置としては、上記に制限されず、フィルタ104と、後述するフィルタBDとを有している形態も好ましい。本発明者らの検討によれば、フィルタA1は、被精製液を通液すると、微小な不純物粒子が被精製液に混入する場合があることを知見しており、フィルタA1とフィルタBDとを有する装置によれば、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる。
<フィルタAの第二実施形態:フィルタA2>
第二実施形態に係るフィルタAは、樹脂層中の樹脂が中性基を有するフィルタA2である。フィルタA2は流通路において最も下流側に配置されていてもよい。ここで、フィルタA2は流通路において最も下流側に配置されているとは、流通路において配置されている全てのフィルタの中でフィルタA2が最も下流に配置されているフィルタであることを意味する。なお、以下では、フィルタA2について説明するが、以下に説明のない事項は、既に説明した「フィルタA1」と同様である。
フィルタA2は樹脂層中の樹脂が中性基を有している。樹脂層は、上述したように、グラフト鎖を含有していてもよい。
このようなグラフト鎖を形成する方法としては、典型的には、超高分子量ポリエチレンを含有する多孔性膜に電離放射線等を照射して、超高分子量ポリエチレンの少なくとも表面にラジカルを発生させるとともに、ラジカル重合性モノマーを接触させて、グラフト鎖を導入する方法が挙げられる。
フィルタA2中の樹脂層がグラフト鎖を有する場合、フィルタA2はグラフト鎖の少なくとも一部が中性基を有することが好ましく、ラジカル重合性モノマーとしては、このようなグラフト鎖を形成可能な中性基を有するモノマー(以下「中性モノマー」ともいう。)を使用することが好ましい。
中性基としては特に制限されないが、例えば、アミド基、ヒドロキシ基、カルボニル基、及び、これらを組み合わせた基が好ましい。
また、上記以外にも、中性基としては、イミド基、カルボキサミド基、スルホンアミド基、スルフェンアミド基、チオアミド基、アミジン基、カルボキサミジン基、及び、スルフィンアミジン基からなる群から選択される基が挙げられる。
なかでも、樹脂層中の樹脂は、アミド基、イミド基、カルボキサミド基、スルホンアミド基、スルフェンアミド基、チオアミド基、アミジン基、カルボキサミジン基、及び、スルフィンアミジン基からなる群から選択される基を有することが好ましい。
中性モノマーとしては、N-(ヒドロキシメチル)アクリルアミド、及び、アクリル酸2-ヒドロキシエチル等が挙げられる。また、N,N-メチレンビスアクリルアミドを用いることもできる。
<フィルタBU>
フィルタBUは、フィルタAとは異なるフィルタであって、流通路上においてフィルタAの上流側に、フィルタAと直列に配置されたフィルタである。「上流側」とは、流通路上において流入部側を指す。より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタAとフィルタBUとは、少なくとも材料が異なることが好ましく、孔径と材料とが異なることが好ましい。
フィルタBUの材料としては特に制限されず、フィルタAと同様であってもよいし、異なってもよい。
フィルタBUの材料を構成する成分(材料成分)には、樹脂が含まれることが好ましい。樹脂としては特に制限されず、フィルタの材料として公知のものが使用できる。具体的には、6-ナイロン、及び、6,6-ナイロン等のポリアミド;ポリエチレン、及び、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリ(メタ)アクリレート;ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン-クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニル等のポリフルオロカーボン;ポリビニルアルコール;ポリエステル;セルロース;セルロースアセテート;ポリスチレン:ポリスルホン;ポリエーテルスルホン等が挙げられる。なかでも、より優れた耐溶剤性を有し、得られる薬液がより優れた欠陥抑制性能を有する点で、ポリアミド(なかでも、6,6-ナイロンが好ましい)、ポリオレフィン(なかでも、ポリエチレンが好ましい)、ポリフルオロカーボン(なかでも、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、パーフルオロアルコキシアルカン(PFA)が好ましい。)、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、ポリエチレン(超高分子量のものを含む)、ナイロン、及び、ポリテトラフルオロエチレンからなる群より選択される少なくとも1種がより好ましい。これらの重合体は単独で又は二種以上を組み合わせて使用できる。
また、フィルタBUは表面処理されたものであってもよい。表面処理の方法としては特に制限されず、公知の方法が使用できる。表面処理の方法としては、例えば、化学修飾処理、プラズマ処理、疎水処理、コーティング、ガス処理、及び、焼結等が挙げられる。
プラズマ処理は、フィルタの表面が親水化されるために好ましい。プラズマ処理して親水化されたろ過材の表面における水接触角としては特に制限されないが、接触角計で測定した25℃における静的接触角が、60°以下が好ましく、50°以下がより好ましく、30°以下が更に好ましい。
フィルタBUの細孔構造としては特に制限されず、被精製液の成分に応じて適宜選択すればよい。本明細書において、フィルタBUの細孔構造とは、細孔径分布、フィルタ中の細孔の位置的な分布、及び、細孔の形状等を意味し、典型的には、フィルタの製造方法により制御可能である。
例えば、樹脂等の粉末を焼結して形成すれば多孔性膜が得られ、及び、エレクトロスピニング、エレクトロブローイング、及び、メルトブローイング等の方法により形成すれば繊維膜が得られる。これらは、それぞれ細孔構造が異なる。
「多孔性膜」とは、ゲル、粒子、コロイド、細胞、及び、ポリオリゴマー等の被精製液中の成分を保持するが、細孔よりも実質的に小さい成分は、細孔を通過する膜を意味する。多孔性膜による被精製液中の成分の保持は、動作条件、例えば、面速度、界面活性剤の使用、pH、及び、これらの組み合わせに依存することがあり、かつ、多孔性膜の孔径、構造、及び、除去されるべき粒子のサイズ、及び、構造(硬質粒子、又は、ゲル等)に依存し得る。
UPE(超高分子量ポリエチレン)フィルタは、典型的には、ふるい膜である。ふるい膜は、主にふるい保持機構を介して粒子を捕捉する膜、又は、ふるい保持機構を介して粒子を捕捉するために最適化された膜を意味する。
ふるい膜の典型的な例としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜とUPE膜が含まれるが、これらに制限されない。
なお、「ふるい保持機構」とは、除去対象粒子が多孔性膜の細孔径よりも大きいことによる結果の保持を指す。ふるい保持力は、フィルタケーキ(膜の表面での除去対象となる粒子の凝集)を形成することによって向上させることができる。フィルタケーキは、2次フィルタの機能を効果的に果たす。
多孔性膜(例えば、UPE、及び、PTFE等を含む多孔性膜)の細孔構造としては特に制限されないが、細孔の形状としては例えば、レース状、ストリング状、及び、ノード状等が挙げられる。
多孔性膜における細孔の大きさの分布とその膜中における位置の分布は、特に制限されない。大きさの分布がより小さく、かつ、その膜中における分布位置が対称であってもよい。また、大きさの分布がより大きく、かつ、その膜中における分布位置が非対称であってもよい(上記の膜を「非対称多孔性膜」ともいう。)。非対称多孔性膜では、孔の大きさは膜中で変化し、典型的には、膜一方の表面から膜の他方の表面に向かって孔径が大きくなる。このとき、孔径の大きい細孔が多い側の表面を「オープン側」といい、孔径が小さい細孔が多い側の表面を「タイト側」ともいう。
また、非対称多孔性膜としては、例えば、細孔の大きさが膜の厚さ内のある位置において最小となるもの(これを「砂時計形状」ともいう。)が挙げられる。
非対称多孔性膜を用いて、一次側をより大きいサイズの孔とすると、言い換えれば、一次側をオープン側とすると、前ろ過効果を生じさせることができる。
多孔性膜は、PESU(ポリエーテルスルホン)、PFA(パーフルオロアルコキシアルカン、四フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシアルカンとの共重合体)、ポリアミド、及び、ポリオレフィン等の熱可塑性ポリマーを含んでもよいし、ポリテトラフルオロエチレン等を含んでもよい。
例えば、被精製液に有機化合物を含有する粒子が不純物として含有されている場合、このような粒子は負に帯電している場合が多く、そのような粒子の除去には、ポリアミド製のフィルタが非ふるい膜の機能を果たす。典型的な非ふるい膜には、ナイロン-6膜及びナイロン-6,6膜等のナイロン膜が含まれるが、これらに制限されない。
なお、本明細書で使用される「非ふるい」による保持機構は、フィルタの圧力降下、又は、細孔径に関連しない、妨害、拡散及び吸着などの機構によって生じる保持を指す。
非ふるい保持は、フィルタの圧力降下又はフィルタの細孔径に関係なく、被精製液中の除去対象粒子を除去する、妨害、拡散及び吸着等の保持機構を含む。フィルタ表面への粒子の吸着は、例えば、分子間のファンデルワールス力及び静電力等によって媒介され得る。蛇行状のパスを有する非ふるい膜層中を移動する粒子が、非ふるい膜と接触しないように十分に速く方向を変えることができない場合に、妨害効果が生じる。拡散による粒子輸送は、粒子がろ過材と衝突する一定の確率を作り出す、主に、小さな粒子のランダム運動またはブラウン運動から生じる。粒子とフィルタの間に反発力が存在しない場合、非ふるい保持機構は活発になり得る。
繊維膜の材質は、繊維膜を形成可能なポリマーであれば特に制限されない。ポリマーとしては、例えば、ポリアミド等が挙げられる。ポリアミドとしては、例えば、ナイロン6、及び、ナイロン6,6等が挙げられる。繊維膜を形成するポリマーとしては、ポリ(エーテルスルホン)であってもよい。繊維膜が多孔性膜の一次側にある場合、繊維膜の表面エネルギは、二次側にある多孔性膜の材質であるポリマーより高いことが好ましい。そのような組合せとしては、例えば、繊維膜の材料がナイロンで、多孔性膜がポリエチレン(UPE)である場合が挙げられる。
繊維膜の製造方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。繊維膜の製造方法としては、例えば、エレクトロスピニング、エレクトロブローイング、及び、メルトブローイング等が挙げられる。
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、ろ過装置はフィルタBUとして、第2のイオン交換基を有する樹脂を材料成分として含有する、イオン交換フィルタを少なくとも1つ有することが好ましい。第2のイオン交換基としては特に制限されず、公知のイオン交換基が使用でき、例えば、フィルタAのグラフト鎖が有するイオン交換基等が使用できる。
また、樹脂としては特に制限されず、フィルタAの樹脂として既に説明した樹脂が挙げられる。また、第2のイオン交換基と上記樹脂との結合形態としては特に制限されず、フィルタAがグラフト鎖を有する場合、第2のイオン交換基は、上記グラフト鎖に結合(グラフト鎖が第2のイオン交換基を有する)していてもよいし、樹脂の主鎖に第2のイオン交換基が直接結合していてもよい。
フィルタBUが上記のイオン交換フィルタである場合、フィルタBUの孔径としては特に制限されず、一般に、1~100nmが好ましく、3~50nmがより好ましく、5~30nmが更に好ましい。
フィルタBUの孔径としては特に制限されず、被精製液のろ過用として通常使用される孔径のフィルタが使用できる。なかでも、フィルタBUの孔径は、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、5nm以上が更に好ましく、50nm以下が特に好ましい。
フィルタAの孔径とフィルタBUの孔径との関係としては特に制限されないが、フィルタAの孔径よりフィルタBUの孔径がより大きいことが好ましい。
図1のろ過装置はフィルタBUを1つ有しているが、本実施形態に係るろ過装置としては複数のフィルタBUを有していてもよい。その場合、複数あるフィルタBUの孔径の関係としては特に制限されないが、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい点で、流通路上において最も上流側に配置されたフィルタBUの孔径が最大となることが好ましい。このようにすることで、最上流のフィルタBUの下流側に配置されたフィルタ(フィルタAを含む)の寿命をより長くすることができ、結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液を安定して提供できるろ過装置が得られる。「下流側」とは、流通路上において流出部側を指す。
フィルタBUの別の形態としては、孔径が50nm以上、300nm以下であって、イオン交換基を有さないフィルタ(フィルタG)であってもよい。
上記フィルタGの材料としては特に制限されず、フィルタAと同一であってよいし、異なってもよく、フィルタBUの材料として既に説明した材料が使用できる。
なかでも、樹脂としては、ポリオレフィン、ポリアミド、及び、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種の樹脂を含有することが好ましく、超高分子量ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、及び、ポリアミドからなる群より選択される少なくとも1種の化合物を材料成分として含有することが好ましい。
特に、フィルタG(後述するフィルタCについても同様である)については、材料成分として、超高分子量ポリエチレン、又は、ポリテトラフルオロエチレンを含有することが好ましく、超高分子量ポリエチレン、又は、ポリテトラフルオロエチレンからなることがより好ましい。フィルタGが超高分子量ポリエチレン、又は、ポリテトラフルオロエチレンを含有すると、フィルタ自体から意図せず被精製液に溶出する成分(フィルタの材料成分の合成、及び、成形等の工程で使用される化合物等と推測される)がより少なく、結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られ、また、結果として、フィルタの寿命もより長くなる。
フィルタGの孔径としては特に制限されないが、一般に、10~30nmが好ましく、50~100nmがより好ましい。
本発明者らの検討によれば、流通路S1上においてフィルタAの上流側に、フィルタGを配置したろ過装置を用いた場合、フィルタAがより目詰まりしにくく、フィルタA1の寿命をより長くすることができることを知見している。その結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液を安定して提供できるろ過装置が得られる。
<第一実施形態に係るろ過装置の第一変形例>
図2は本発明の第一実施形態に係るろ過装置の第一変形例の模式図である。ろ過装置200は、流入部101と、流出部102と、フィルタAであるフィルタ104と、フィルタBUであるフィルタ103とを有し、フィルタ103とフィルタ104とが、流入部101と流出部102との間に直列に配置され、流入部101から流出部102にいたる流通路S2を有するろ過装置である。
ろ過装置200では、流入部101と、フィルタ103と、配管105と、フィルタ104と、流出部102とが、流通路S2を形成している。
なお、ろ過装置200において、各フィルタ、及び、配管の形態等としては既に説明した第一実施形態に係るろ過装置と同様であり、以下の説明は、第一実施形態と異なる部分のみに限って行う。従って、以下に説明のない事項は、第一実施形態に係るろ過装置と同様である。
ろ過装置200は、流通路S2に対してフィルタ104(基準フィルタ)の下流から、流通路S2に対してフィルタ103の下流であってフィルタ104(基準フィルタ)の上流へと被精製液を返送可能な返送流通路R2が形成されている。具体的には、ろ過装置200は、返送用の配管201を有し、この配管201によって、返送流通路R2が形成されている。配管201は、一端がフィルタ104の下流側で流通路S2と接続し、他端がフィルタ104の上流側で流通路S2と接続している。なお、返送流通路R2上には図示しないポンプ、ダンパ、及び、弁等が配置されていてもよい。特に、図2中のJ1及びJ2で示した箇所には弁等を配置し、被精製液が意図せず返送流通路R2を流通しないようにすることが好ましい(上記は、後述する他の実施形態に係るろ過装置においても同様である)。
返送流通路R2によって、流通路S2上におけるフィルタ103の下流側であって、流通路S2上にフィルタ104の上流側に返送された被精製液は、再度流通路S2を流通する過程でフィルタ104によってろ過される。ろ過装置200は循環ろ過が実施でき、結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
<第一実施形態に係るろ過装置の第二変形例>
図3は本発明の第一実施形態に係る第二変形例のろ過装置を表す模式図である。ろ過装置300は、流入部101と、流出部102と、フィルタ103(フィルタBU)と、フィルタ104(フィルタA)とを有し、フィルタ103とフィルタ104とが、流入部101と流出部102との間に直列に接続され、流入部101から流出部102にいたる流通路S3を有するろ過装置である。
ろ過装置300では、流入部101と、フィルタ103と、配管105と、フィルタ104と、流出部102とが、流通路S3を形成している。
ろ過装置300は、流通路S3上においてフィルタ104(基準フィルタ)の下流側から、流通路S3上においてフィルタ103の上流側(かつ、基準フィルタの上流側)へと被精製液を返送可能な返送流通路R3が形成されている。具体的には、ろ過装置300は、返送用の配管301を有し、この配管301によって、返送流通路R3が形成されている。配管301は、一端がフィルタ104の下流側で流通路S3と接続し、他端がフィルタ104の上流側で流通路S3と接続している。なお、返送流通路R3上には、図示しないポンプ、ダンパ、及び、弁等が配置されていてもよい。
返送流通路R3によってフィルタ103の上流側に返送された被精製液は、再度流通路S3を流通する過程でフィルタ103、及び、フィルタ104によってろ過される。これを循環ろ過といい、ろ過装置300は循環ろ過が実施でき、結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
なお、図3では、返送流通路R3が配管のみから形成されているが、配管と、1つ又は2つ以上のタンク(タンクの形態については後述する)から形成されていてもよい。
<第一実施形態に係るろ過装置の第三変形例>
図4は、本発明の第一実施形態に係るろ過装置の第三変形例を示した模式図である。ろ過装置400は、流入部101と、流出部102と、フィルタBUであるフィルタ103-1と、同じくフィルタBUであるフィルタ103-2(基準フィルタ)、フィルタAであるフィルタ104とを有し、フィルタ103-1、フィルタ103-2、及び、フィルタ104とが、流入部101と流出部102との間に直列に配置され、流入部101から流出部102にいたる流通路S4を有するろ過装置である。
ろ過装置400では、流入部101と、フィルタ103-1と、配管402と、フィルタ103-2と、配管403と、フィルタ104と、流出部102とが、流通路S4を形成している。
なお、ろ過装置400において、各フィルタ、及び、配管の形態等としては既に説明した第一実施形態に係るろ過装置と同様であり、以下の説明は、第一実施形態と異なる部分のみに限って行う。従って、以下に説明のない事項は、第一実施形態に係るろ過装置と同様である。
ろ過装置400は、流通路S4上におけるフィルタ103-2(基準フィルタ)の下流側から、流通路S4上におけるフィルタ103-1の下流側であって、かつ、フィルタ103-2(基準フィルタ)の上流側へと被精製液を返送可能な返送流通路R4を有する。具体的には、ろ過装置400は、返送用の配管401を有し、この配管401によって、返送流通路R4が形成されている。配管401は、一端がフィルタ103-2の下流側で流通路S4と接続し、他端がフィルタ103-2の上流側で流通路S2と接続している。なお、返送流通路R4には、図示しないポンプ、ダンパ、及び、弁等が配置されていてもよい。
返送流通路R4によって、流通路S4におけるフィルタ103-1の下流側であって、流通路S4におけるフィルタ103-2の上流側に返送された被精製液は、再度流通路S4を流通する過程でフィルタ103-2によってろ過される。ろ過装置400によれば、循環ろ過が実施でき、結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
なお、図4のろ過装置では、流通路S4におけるフィルタ103-2の下流側、すなわち、フィルタ104の上流側から、フィルタ103-2の上流側へと被精製液を返送可能な返送流通路R4が形成されている。これは、フィルタ103-1、フィルタ103-2、及び、フィルタ104のうち、フィルタ103-2を基準フィルタとした場合であるが、本実施形態に係るろ過装置としては上記に制限されず、他のフィルタを基準フィルタとしてもよい。すなわちフィルタ104を基準フィルタとすれば、流通路S4におけるフィルタ104の下流側から、流通路S4におけるフィルタ104の上流側(フィルタ103-2の下流側であってもよいし、フィルタ103-1の下流側であってもよい)へと被精製液を返送可能な返送流通路が形成されているろ過装置;フィルタ103-1を基準フィルタとすれば、フィルタ103-1下流側から、フィルタ103-1の上流側へと被精製液を返送可能な返送流通路が形成されているろ過装置;等であってもよい。
ろ過装置が少なくとも1つのフィルタBUを有する場合、フィルタAの形態としては特に制限されないが、既に説明した第二実施形態に係るフィルタA2(グラフト鎖が中性基を有する)であることが好ましい。言い換えれば、ろ過装置がフィルタA2を有する場合、ろ過装置はフィルタBUを有することが好ましい。
〔第二実施形態〕
図5は、本発明の第二実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。ろ過装置500は、流入部101と流出部102との間に、フィルタBUであるフィルタ103と、フィルタAとは異なるフィルタであって、流通路上においてフィルタAの下流側に配置されたフィルタ501(フィルタBD)と、フィルタAであるフィルタ104とを有し、フィルタ501と、フィルタ103と、フィルタ104とが配管502、及び、配管503を介して直列に接続されたろ過装置である。
なお、ろ過装置500において、各フィルタ、及び、配管の形態等としては既に説明した第一実施形態に係るろ過装置と同様であり、以下の説明は、第一実施形態と異なる部分のみに限って行う。従って、以下に説明のない事項は、第一実施形態に係るろ過装置と同様である。
<フィルタBD>
本実施形態に係るろ過装置は、フィルタAとは異なるフィルタであって、流通路上において、フィルタAの下流側に、フィルタAと直列に配置されたフィルタBDを少なくとも1つ有する。
フィルタBDの孔径としては特に制限されず、被精製液のろ過用として通常使用される孔径のフィルタが使用できる。なかでも、フィルタの細孔径は、200nm以下が好ましく、20nm以下がより好ましく、10nm以下が更に好ましく、5nm以下が特に好ましく、3nm以下が最も好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に1nm以上が、生産性の観点から好ましい。
本発明者らは、フィルタAを用いて被精製液をろ過すると、フィルタAに起因する微粒子が発生して、被精製液に混入する場合があることを知見している。特にこの傾向は、樹脂層に含有される樹脂が上述したイオン交換基を有する場合に顕著である。本実施形態に係るろ過装置は、流通路上において、フィルタAの下流側にフィルタBDを有しているため、フィルタAに起因する微粒子を被精製液からろ別することができ、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
図5のろ過装置はフィルタBDを1つ有しているが、本実施形態に係るろ過装置としては複数のフィルタBDを有していてもよい。その場合、複数あるフィルタBDの孔径の関係としては特に制限されないが、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい点で、流通路上において最も下流側に配置されたフィルタBDの孔径が最小となることが好ましい。また、図5のろ過装置は、フィルタBU(フィルタ103)を有しているが、本発明の実施形態に係るろ過装置としては上記に制限されず、フィルタ103を有していなくてもよい。とくに、樹脂層に含有される樹脂がイオン交換基を有する場合(フィルタAがフィルタA1である場合)には、フィルタBUを有していなくてもよい。図5のろ過装置は被精製液を返送可能な返送流通路を有していないが、本実施形態に係るろ過装置としては、少なくとも1つの前記フィルタBDのうちのいずれかのフィルタBDからなる基準フィルタの下流側から、前記基準フィルタの上流側であって、かつ、前記フィルタAの上流側または前記フィルタAの下流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路を有していてもよい。
フィルタAの孔径とフィルタBDの孔径との関係としては特に制限されないが、フィルタAの孔径よりフィルタBDの孔径がより小さいことが好ましい。既に説明したとおり、本発明者らの検討によれば、フィルタAに被精製液を流通させるとフィルタAの材料に起因して被精製液中に微粒子が混入する場合があることを知見しており、フィルタBDの孔径がフィルタAの孔径より小さい場合、この混入した微粒子を被精製液からより効率よく除去可能である。
フィルタBDの材料としては特に制限されず、フィルタAと同様であってもよいし、異なってもよい。なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタAの材料を構成する成分(材料成分)とは異なる材料成分を含有することが好ましい。
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタBDは材料成分として、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましく、ポリオレフィン、ポリアミド、及び、ポリフルオロカーボンからなる群より選択される少なくとも1種を含有することがより好ましく、超高分子量ポリエチレン(UPE)、ナイロン、及び、PTFEからなる群より選択される少なくとも1種を含有することが更に好ましい。
また、ろ過装置は、流通路上に直列に配置された複数のフィルタBDを有していてもよい。このとき、最も下流側に配置されたフィルタBDの材料成分としては、特に制限されないが、PTFEを含有することが好ましく、PTFEからなることが好ましい。最も下流にPTFEからなるフィルタBDが配置される場合、フィルタAの下流側から、最も下流に配置されるフィルタBDとの間に配置されるフィルタとしては特に制限されないが、ナイロン、及び、超高分子量ポリエチレンからなる群より選択される少なくとも1種を材料成分として含有するフィルタが配置されることが好ましい。
ろ過装置が少なくとも1つのフィルタBDを有する場合、フィルタAの形態としては特に制限されないが、既に説明した第二実施形態に係るフィルタA1(グラフト鎖がイオン交換基を有する)であることが好ましい。言い換えれば、ろ過装置がフィルタA1を有する場合、ろ過装置は、フィルタBDを有することが好ましい。
〔第三実施形態〕
図6は本発明の第三実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置600は、流入部101と流出部102との間であって、流通路S6上におけるフィルタ103(フィルタBU)の上流側に、フィルタAと直列に配置されたタンク601を更に有するろ過装置である。タンク601と、フィルタ103(フィルタBU)と、フィルタ104(フィルタA)とは、配管602及び配管603を介して直列に配置されている。タンク601は上記のフィルタ及び配管等とともに、流通路S6を構成している。
なお、ろ過装置600において、各フィルタ、及び、配管の形態等としては既に説明した第一実施形態に係るろ過装置と同様であり、以下の説明は、第一実施形態と異なる部分のみに限って行う。従って、以下に説明のない事項は、第一実施形態に係るろ過装置と同様である。また、フィルタAであるフィルタ104は、流通路S6上において、フィルタBUであるフィルタ103の下流側に配置されているが、本実施形態に係るろ過装置としては流通路S6上においてフィルタBの上流側にフィルタAであるフィルタ104が直列に配置されていてもよい。すなわち、フィルタAとフィルタBDとを有するろ過装置において、フィルタAの上流側に直列に配置されたタンクを有するろ過装置であってもよい。
本実施形態に係るろ過装置は、流通路S6上においてフィルタ103の上流側にタンクを有しているため、フィルタ103に流通させるための被精製液を一時的に流通路上に滞留させ、均質化することができ、結果としてより優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる。特に、既に説明した循環ろ過を行う場合、流通路S6上においてフィルタ103(フィルタBU)又はフィルタ104(フィルタA)を基準フィルタとし、この基準フィルタの下流側から、流通路S6上において、上記基準フィルタの上流側へと被精製液を返送する際に、返送された被精製液を受入れるのにタンク601が使用できる。このようにすると、返送された被精製液を一時的に滞留させ、均質化してから、再度フィルタ103に通液できるため、更に優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる。
なお、タンク601の材料は特に制限されないが、既に説明したハウジングの材料と同様の材料が使用でき、その接液部の少なくとも一部(好ましくは接液部の表面積の90%以上、より好ましくは99%以上)は後述する耐腐食材料からなることが好ましい。
〔第四実施形態〕
図7は本発明の第六実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置700は、流入部101と流出部102の間に、フィルタBUであるフィルタ103と、タンク601と、タンク601の上流側に配置されたフィルタ701とを有する。
ろ過装置700では、流入部101、フィルタ701、配管702、タンク601、配管703、フィルタ103(フィルタBU)、配管704、フィルタ104(フィルタA)、及び、流出部102が、流通路S7を形成している。
なお、ろ過装置700において、各フィルタ、及び、配管の形態等としては既に説明した第一実施形態に係るろ過装置と同様であり、以下の説明は、第一実施形態と異なる部分のみに限って行う。従って、以下に説明のない事項は、第一実施形態に係るろ過装置と同様である。
フィルタ701は、流通路S7上におけるタンク601の上流側に配置された、孔径20nm以上のフィルタである。本実施形態に係るろ過装置は、流通路S7上におけるタンク601の上流側に所定の孔径を有するフィルタを配置しているので、流入部101からろ過装置内へと流入した被精製液に含有される不純物等を、予めフィルタ701を用いて取り除くことができるため、配管702以降の流通路S7に混入する不純物の量をより少なくすることができるため、後段のフィルタA、及び、フィルタBの寿命をより長くすることができる。その結果、上記ろ過装置によれば、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液を安定的に製造できる。
フィルタ701(フィルタC)の形態としては特に制限されず、既に説明したフィルタAと同一のフィルタであってもよいし、異なるフィルタ(フィルタBU)であってもよい。なかでも、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい点で、フィルタAとは異なるフィルタであることが好ましい。なかでも、材料及び細孔構造としてはフィルタBU又はフィルタBDの材料及び細孔構造として説明したものが好ましい。
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタCとしては既に説明したフィルタGであることが好ましい。
[薬液の製造方法]
本発明の実施形態に係る薬液の製造方法は、被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、既に説明したろ過装置を用いて被精製液をろ過して、薬液を得るろ過工程を有する。
〔被精製液〕
本発明の実施形態に係る薬液の製造方法が適用できる被精製液としては特に制限されないが、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては有機溶剤、及び、水等が挙げられ、有機溶剤を含有することが好ましい。以下では、被精製液中に含有される溶剤の全質量に対して、有機溶剤の含有量(複数の有機溶剤を含有する場合にはその合計含有量)が50質量%を超える有機溶剤系被精製液と、被精製液中に含有される溶剤の全質量に対して、水の含有量が50質量%を超える水系被精製液とに分けて説明する。
<有機溶剤系被精製液>
(有機溶剤)
有機溶剤系被精製液は、溶剤を含有し、被精製液に含有される溶剤の全質量に対して有機溶剤の含有量が50質量%以上である。
有機溶剤系被精製液は、有機溶剤を含有する。被精製液中における有機溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に被精製液の全質量に対して、99.0質量%以上が好ましい。上限値としては特に制限されないが、一般に、99.99999質量%以下が好ましい。
有機溶剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、本明細書において、有機溶剤とは、上記被精製液の全質量に対して、1成分あたり10000質量ppmを超えた含有量で含有される液状の有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記被精製液の全質量に対して10000質量ppmを超えて含有される液状の有機化合物は、有機溶剤に該当するものとする。
なお、本明細書において液状とは、25℃、大気圧下において、液体であることを意図する。
上記有機溶剤の種類としては特に制限されず、公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン(好ましくは炭素数4~10)、環を有してもよいモノケトン化合物(好ましくは炭素数4~10)、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及び、ピルビン酸アルキル等が挙げられる。
また、有機溶剤としては、例えば、特開2016-57614号公報、特開2014-219664号公報、特開2016-138219号公報、及び、特開2015-135379号公報に記載のものを用いてもよい。
有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMM)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGMP)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、乳酸エチル(EL)、メトキシプロピオン酸メチル(MPM)、シクロペンタノン(CyPn)、シクロヘキサノン(CyHe)、γ-ブチロラクトン(γBL)、ジイソアミルエーテル(DIAE)、酢酸ブチル(nBA)、酢酸イソアミル(iAA)、イソプロパノール(IPA)、4-メチル-2-ペンタノール(MIBC)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、n-メチル-2-ピロリドン(NMP)、ジエチレングリコール(DEG)、エチレングリコール(EG)、ジプロピレングリコール(DPG)、プロピレングリコール(PG)、炭酸エチレン(EC)、炭酸プロピレン(PC)、スルホラン、シクロヘプタノン、及び、2-ヘプタノン(MAK)からなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。
なお、被精製液中における有機溶剤の種類及び含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析計を用いて測定できる。
(その他の成分)
被精製液は、上記以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、無機物(金属イオン、金属粒子、及び、金属酸化物粒子等)、樹脂、樹脂以外の有機物、及び、水等が挙げられる。
・無機物
被精製液は、無機物を含有してもよい。無機物としては特に制限されず、金属イオン、及び、金属含有粒子等が挙げられる。
金属含有粒子は金属原子を含有していればよく、その形態は特に制限されない。例えば、金属原子の単体か、金属原子を含有する化合物(以下「金属化合物」ともいう。)、並びに、これらの複合体等が挙げられる。また、金属含有粒子は複数の金属原子を含有してもよい。
複合体としては特に制限されないが、金属原子の単体と、上記金属原子の単体の少なくとも一部を覆う金属化合物と、を有するいわゆるコア-シェル型の粒子、金属原子と他の原子とを含む固溶体粒子、金属原子と他の原子とを含む共晶体粒子、金属原子の単体と金属化合物との凝集体粒子、種類の異なる金属化合物の凝集体粒子、及び、粒子表面から中心に向かって連続的又は断続的に組成が変化する金属化合物等が挙げられる。
金属化合物が含有する金属原子以外の原子としては特に制限されないが、例えば、炭素原子、酸素原子、窒素原子、水素原子、硫黄原子、及び、燐原子等が挙げられる。
金属原子としては特に制限されないが、Fe原子、Al原子、Cr原子、Ni原子、Pb原子、Zn原子、及び、Ti原子等が挙げられる。
なお、金属含有粒子は、上記金属原子の1種を単独で含有しても、2種以上を併せて含有してもよい。
金属含有粒子の粒子径は特に制限されないが、一般に1~500nm程度であることが多いが、得られる薬液がより優れた欠陥抑制性能を有する観点では、粒子径が1~20nmの金属含有粒子の粒子数を制御することが好ましい。
無機物は、被精製液に添加されてもよいし、製造工程において意図せず被精製液に混合されてもよい。薬液の製造工程において意図せずに混合される場合としては例えば、無機物が、薬液の製造に用いる原料(例えば、有機溶剤)に含有されている場合、及び、薬液の製造工程で混合する(例えば、コンタミネーション)等が挙げられるが、上記に制限されない。
(樹脂)
被精製液は樹脂を含有してもよい。
上記薬液は更に樹脂を含有してもよい。樹脂としては、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂Pがより好ましい。上記樹脂としては、酸の作用により有機溶剤を主成分とする現像液に対する溶解性が減少する樹脂である、後述する式(AI)で表される繰り返し単位を有する樹脂がより好ましい。後述する式(AI)で表される繰り返し単位を有する樹脂は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基(以下、「酸分解性基」ともいう)を有する。
極性基としては、アルカリ可溶性基が挙げられる。アルカリ可溶性基としては、例えば、カルボキシ基、フッ素化アルコール基(好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール基)、フェノール性水酸基、及びスルホ基が挙げられる。
酸分解性基において極性基は酸で脱離する基(酸脱離性基)によって保護されている。酸脱離性基としては、例えば、-C(R36)(R37)(R38)、-C(R36)(R37)(OR39)、及び、-C(R01)(R02)(OR39)等が挙げられる。
式中、R36~R39は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルケニル基を表す。R36とR37とは、互いに結合して環を形成してもよい。
R01及びR02は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルケニル基を表す。
以下、酸の作用により有機溶剤を主成分とする現像液に対する溶解性が減少する樹脂Pについて詳述する。
(式(AI):酸分解性基を有する繰り返し単位)
樹脂Pは、式(AI)で表される繰り返し単位を含有することが好ましい。
式(AI)に於いて、
Xa1は、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
Tは、単結合又は2価の連結基を表す。
Ra1~Ra3は、それぞれ独立に、アルキル基(直鎖状又は分岐鎖状)又はシクロアルキル基(単環又は多環)を表す。
Ra1~Ra3の2つが結合して、シクロアルキル基(単環又は多環)を形成してもよい。
Xa1により表される、置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、及び-CH2-R11で表される基が挙げられる。R11は、ハロゲン原子(フッ素原子等)、水酸基、又は1価の有機基を表す。
Xa1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基が好ましい。
Tの2価の連結基としては、アルキレン基、-COO-Rt-基、及び、-O-Rt-基等が挙げられる。式中、Rtは、アルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。
Tは、単結合又は-COO-Rt-基が好ましい。Rtは、炭素数1~5のアルキレン基が好ましく、-CH2-基、-(CH2)2-基、又は、-(CH2)3-基がより好ましい。
Ra1~Ra3のアルキル基としては、炭素数1~4のものが好ましい。
Ra1~Ra3のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、若しくはシクロヘキシル基等の単環のシクロアルキル基、又は、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、若しくはアダマンチル基等の多環のシクロアルキル基が好ましい。
Ra1~Ra3の2つが結合して形成されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、若しくはシクロヘキシル基等の単環のシクロアルキル基、又は、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、若しくはアダマンチル基等の多環のシクロアルキル基が好ましい。炭素数5~6の単環のシクロアルキル基がより好ましい。
Ra1~Ra3の2つが結合して形成される上記シクロアルキル基は、例えば、環を構成するメチレン基の1つが、酸素原子等のヘテロ原子、又はカルボニル基等のヘテロ原子を有する基で置き換わっていてもよい。
式(AI)で表される繰り返し単位は、例えば、Ra1がメチル基又はエチル基であり、Ra2とRa3とが結合して上述のシクロアルキル基を形成している態様が好ましい。
上記各基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基(炭素数1~4)、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基(炭素数1~4)、カルボキシ基、及びアルコキシカルボニル基(炭素数2~6)等が挙げられ、炭素数8以下が好ましい。
式(AI)で表される繰り返し単位の含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、20~90モル%が好ましく、25~85モル%がより好ましく、30~80モル%が更に好ましい。
(ラクトン構造を有する繰り返し単位)
また、樹脂Pは、ラクトン構造を有する繰り返し単位Qを含有することが好ましい。
ラクトン構造を有する繰り返し単位Qは、ラクトン構造を側鎖に有していることが好ましく、(メタ)アクリル酸誘導体モノマーに由来する繰り返し単位であることがより好ましい。
ラクトン構造を有する繰り返し単位Qは、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用していてもよいが、1種単独で用いることが好ましい。
ラクトン構造を有する繰り返し単位Qの含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、3~80モル%が好ましく、3~60モル%がより好ましい。
ラクトン構造としては、5~7員環のラクトン構造が好ましく、5~7員環のラクトン構造にビシクロ構造又はスピロ構造を形成する形で他の環構造が縮環している構造がより好ましい。
ラクトン構造としては、下記式(LC1-1)~(LC1-17)のいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位を有することが好ましい。ラクトン構造としては式(LC1-1)、式(LC1-4)、式(LC1-5)、又は式(LC1-8)で表されるラクトン構造が好ましく、式(LC1-4)で表されるラクトン構造がより好ましい。
ラクトン構造部分は、置換基(Rb2)を有していてもよい。好ましい置換基(Rb2)としては、炭素数1~8のアルキル基、炭素数4~7のシクロアルキル基、炭素数1~8のアルコキシ基、炭素数2~8のアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、及び酸分解性基等が挙げられる。n2は、0~4の整数を表す。n2が2以上のとき、複数存在する置換基(Rb2)は、同一でも異なっていてもよく、また、複数存在する置換基(Rb2)同士が結合して環を形成してもよい。
(フェノール性水酸基を有する繰り返し単位)
また、樹脂Pは、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位を含有していてもよい。
フェノール性水酸基を有する繰り返し単位としては、例えば、下記一般式(I)で表される繰り返し単位が挙げられる。
式中、
R41、R42及びR43は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。但し、R42はAr4と結合して環を形成していてもよく、その場合のR42は単結合又はアルキレン基を表す。
X4は、単結合、-COO-、又は-CONR64-を表し、R64は、水素原子又はアルキル基を表す。
L4は、単結合又はアルキレン基を表す。
Ar4は、(n+1)価の芳香環基を表し、R42と結合して環を形成する場合には(n+2)価の芳香環基を表す。
nは、1~5の整数を表す。
一般式(I)におけるR41、R42及びR43のアルキル基としては、置換基を有していてもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基及びドデシル基など炭素数20以下のアルキル基が好ましく、炭素数8以下のアルキル基がより好ましく、炭素数3以下のアルキル基が更に好ましい。
一般式(I)におけるR41、R42及びR43のシクロアルキル基としては、単環型でも、多環型でもよい。シクロアルキル基としては、置換基を有していてもよい、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基などの炭素数3~8で単環型のシクロアルキル基が好ましい。
一般式(I)におけるR41、R42及びR43のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
一般式(I)におけるR41、R42及びR43のアルコキシカルボニル基に含まれるアルキル基としては、上記R41、R42及びR43におけるアルキル基と同様のものが好ましい。
上記各基における置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アミノ基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、チオエーテル基、アシル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、及び、ニトロ基等が挙げられ、置換基の炭素数は8以下が好ましい。
Ar4は、(n+1)価の芳香環基を表す。nが1である場合における2価の芳香環基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、トリレン基、ナフチレン基及びアントラセニレン基などの炭素数6~18のアリーレン基、並びに、チオフェン、フラン、ピロール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ベンゾピロール、トリアジン、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、トリアゾール、チアジアゾール及びチアゾール等のヘテロ環を含む芳香環基が挙げられる。
nが2以上の整数である場合における(n+1)価の芳香環基の具体例としては、2価の芳香環基の上記した具体例から、(n-1)個の任意の水素原子を除してなる基が挙げられる。
(n+1)価の芳香環基は、更に置換基を有していてもよい。
上述したアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルキレン基及び
(n+1)価の芳香環基が有し得る置換基としては、例えば、一般式(I)におけるR41、R42及びR43で挙げたアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシプロポキシ基及びブトキシ基等のアルコキシ基;フェニル基等のアリール基が挙げられる。
X4により表される-CONR64-(R64は、水素原子又はアルキル基を表す)におけるR64のアルキル基としては、置換基を有していてもよい、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、オクチル基及びドデシル基など炭素数20以下のアルキル基が挙げられ、炭素数8以下のアルキル基がより好ましい。
X4としては、単結合、-COO-又は-CONH-が好ましく、単結合又は-COO-がより好ましい。
L4におけるアルキレン基としては、置換基を有していてもよい、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基及びオクチレン基等の炭素数1~8のアルキレン基が好ましい。
Ar4としては、置換基を有していてもよい炭素数6~18の芳香環基が好ましく、ベンゼン環基、ナフタレン環基又はビフェニレン環基がより好ましい。
一般式(I)で表される繰り返し単位は、ヒドロキシスチレン構造を備えていることが好ましい。即ち、Ar4は、ベンゼン環基であることが好ましい。
フェノール性水酸基を有する繰り返し単位の含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、0~50モル%が好ましく、0~45モル%がより好ましく、0~40モル%が更に好ましい。
(極性基を有する有機基を含有する繰り返し単位)
樹脂Pは、極性基を有する有機基を含有する繰り返し単位、特に、極性基で置換された脂環炭化水素構造を有する繰り返し単位を更に含有していてもよい。これにより基板密着性、現像液親和性が向上する。
極性基で置換された脂環炭化水素構造の脂環炭化水素構造としては、アダマンチル基、ジアマンチル基又はノルボルナン基が好ましい。極性基としては、水酸基又はシアノ基が好ましい。
樹脂Pが、極性基を有する有機基を含有する繰り返し単位を含有する場合、その含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、1~50モル%が好ましく、1~30モル%がより好ましく、5~25モル%が更に好ましく、5~20モル%が特に好ましい。
(一般式(VI)で表される繰り返し単位)
樹脂Pは、下記一般式(VI)で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
一般式(VI)中、
R61、R62及びR63は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、又はアルコキシカルボニル基を表す。但し、R62はAr6と結合して環を形成していてもよく、その場合のR62は単結合又はアルキレン基を表す。
X6は、単結合、-COO-、又は-CONR64-を表す。R64は、水素原子又はアルキル基を表す。
L6は、単結合又はアルキレン基を表す。
Ar6は、(n+1)価の芳香環基を表し、R62と結合して環を形成する場合には(n+2)価の芳香環基を表す。
Y2は、n≧2の場合には各々独立に、水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。但し、Y2の少なくとも1つは、酸の作用により脱離する基を表す。
nは、1~4の整数を表す。
酸の作用により脱離する基Y2としては、下記一般式(VI-A)で表される構造が好ましい。
L1及びL2は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアルキレン基とアリール基とを組み合わせた基を表す。
Mは、単結合又は2価の連結基を表す。
Qは、アルキル基、ヘテロ原子を含んでいてもよいシクロアルキル基、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリール基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、シアノ基又はアルデヒド基を表す。
Q、M、L1の少なくとも2つが結合して環(好ましくは、5員若しくは6員環)を形成してもよい。
上記一般式(VI)で表される繰り返し単位は、下記一般式(3)で表される繰り返し単位であることが好ましい。
一般式(3)において、
Ar3は、芳香環基を表す。
R3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基又はヘテロ環基を表す。
M3は、単結合又は2価の連結基を表す。
Q3は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
Q3、M3及びR3の少なくとも二つが結合して環を形成してもよい。
Ar3が表す芳香環基は、上記一般式(VI)におけるnが1である場合の、上記一般式(VI)におけるAr6と同様であり、フェニレン基又はナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
(側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位)
樹脂Pは、更に、側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位を含有していてもよい。側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位としては、例えば、珪素原子を有する(メタ)アクリレート系繰り返し単位、及び、珪素原子を有するビニル系繰り返し単位などが挙げられる。側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位は、典型的には、側鎖に珪素原子を有する基を有する繰り返し単位であり、珪素原子を有する基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリストリメチルシロキシシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、メチルビストリメチルシリルシリル基、メチルビストリメチルシロキシシリル基、ジメチルトリメチルシリルシリル基、ジメチルトリメチルシロキシシリル基、及び、下記のような環状もしくは直鎖状ポリシロキサン、又はカゴ型あるいははしご型もしくはランダム型シルセスキオキサン構造などが挙げられる。式中、R、及び、R1は各々独立に、1価の置換基を表す。*は、結合手を表す。
上記の基を有する繰り返し単位としては、例えば、上記の基を有するアクリレート化合物又はメタクリレート化合物に由来する繰り返し単位、又は、上記の基とビニル基とを有する化合物に由来する繰り返し単位が好ましい。
樹脂Pが、上記側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位を有する場合、その含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、1~30モル%が好ましく、5~25モル%がより好ましくは、5~20モル%が更に好ましい。
樹脂Pの重量平均分子量は、GPC(Gel permeation chromatography)法によりポリスチレン換算値として、1,000~200,000が好ましく、3,000~20,000がより好ましく、5,000~15,000が更に好ましい。重量平均分子量を、1,000~200,000とすることにより、耐熱性及びドライエッチング耐性の劣化を防ぐことができ、且つ現像性が劣化したり、粘度が高くなって製膜性が劣化したりすることを防ぐことができる。
分散度(分子量分布)は、通常1~5であり、1~3が好ましく、1.2~3.0がより好ましく、1.2~2.0が更に好ましい。
薬液中に含まれるその他の成分(例えば酸発生剤、塩基性化合物、クエンチャー、疎水性樹脂、界面活性剤、及び溶剤等)についてはいずれも公知のものを使用できる。
<水系>
水系被精製液は、被精製液が含有する溶剤の全質量に対して、水を50質量%超含有し、50~95質量%が好ましい。
上記水は、特に限定されないが、半導体製造に使用される超純水を用いることが好ましく、その超純水を更に精製し、無機陰イオン及び金属イオン等を低減させた水を用いることがより好ましい。精製方法は特に限定されないが、ろ過膜又はイオン交換膜を用いた精製、並びに、蒸留による精製が好ましい。また、例えば、特開2007―254168号公報に記載されている方法により精製を行うことが好ましい。
(酸化剤)
水系の被精製液は、酸化剤を含有してもよい、酸化剤としては特に制限されず、公知の酸化剤が使用できる。酸化剤としては、例えば、過酸化水素、過酸化物、硝酸、硝酸塩、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸塩、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過硫酸塩、重クロム酸塩、過マンガン酸塩、オゾン水、銀(II)塩、及び鉄(III)塩等が挙げられる。
酸化剤の含有量としては特に制限されないが、研磨液全質量に対して、0.1質量%以上が好ましく、99.0質量%以下が好ましい。なお、酸化剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の酸化剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
(無機酸)
水系被精製液は無機酸を含有してもよい。無機酸としては特に制限されず、公知の無機酸を用いることができる。無機酸としては例えば、硫酸、リン酸、及び、塩酸等が挙げられる。なお、無機酸は上述した酸化剤には含まれない。
被精製液中の無機酸の含有量としては特に制限されないが、被精製液の全質量に対して0.01質量%以上が好ましく、99質量%以下が更に好ましい。
無機酸は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の無機酸を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
(防食剤)
水系被精製液は、防食剤を含有してもよい。防食剤としては特に制限されず、公知の防食剤が使用できる。防食剤としては例えば、1,2,4-トリアゾール(TAZ)、5-アミノテトラゾール(ATA)、5-アミノ-1,3,4-チアジアゾール-2-チオール、3-アミノ-1H-1,2,4トリアゾール、3,5-ジアミノ-1,2,4-トリアゾール、トリルトリアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、1-アミノ-1,2,4-トリアゾール、1-アミノ-1,2,3-トリアゾール、1-アミノ-5-メチル-1,2,3-トリアゾール、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、3-イソプロピル-1,2,4-トリアゾール、ナフトトリアゾール、1H-テトラゾール-5-酢酸、2-メルカプトベンゾチアゾール(2-MBT)、1-フェニル-2-テトラゾリン-5-チオン、2-メルカプトベンゾイミダゾール(2-MBI)、4-メチル-2-フェニルイミダゾール、2-メルカプトチアゾリン、2,4-ジアミノ-6-メチル-1,3,5-トリアジン、チアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、トリアジン、メチルテトラゾール、ビスムチオールI、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,5-ペンタメチレンテトラゾール、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール、ジアミノメチルトリアジン、イミダゾリンチオン、4-メチル-4H-1,2,4-トリアゾール-3-チオール、5-アミノ-1,3,4-チアジアゾール-2-チオール、ベンゾチアゾール、リン酸トリトリル、インダゾール、アデニン、シトシン、グアニン、チミン、ホスフェート阻害剤、アミン類、ピラゾール類、プロパンチオール、シラン類、第2級アミン類、ベンゾヒドロキサム酸類、複素環式窒素阻害剤、アスコルビン酸、チオ尿素、1,1,3,3-テトラメチル尿素、尿素、尿素誘導体類、尿酸、エチルキサントゲン酸カリウム、グリシン、ドデシルホスホン酸、イミノ二酢酸、ホウ酸、マロン酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸、スルホラン、2,3,5-トリメチルピラジン、2-エチル-3,5-ジメチルピラジン、キノキサリン、アセチルピロール、ピリダジン、ヒスタジン(histadine)、ピラジン、グルタチオン(還元型)、システイン、シスチン、チオフェン、メルカプトピリジンN-オキシド、チアミンHCl、テトラエチルチウラムジスルフィド、2,5-ジメルカプト-1,3-チアジアゾールアスコルビン酸、カテコール、t-ブチルカテコール、フェノール、及びピロガロールが挙げられる。
上記防食剤としては、ドデカン酸、パルミチン酸、2-エチルヘキサン酸、及びシクロヘキサン酸等の脂肪族カルボン酸;クエン酸、リンゴ酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、イタコン酸、マレイン酸、グリコール酸、メルカプト酢酸、チオグリコール酸、サリチル酸、スルフォサリチル酸、アントラニル酸、N-メチルアントラニル酸、3-アミノ-2-ナフトエ酸、1-アミノ-2-ナフトエ酸、2-アミノ-1-ナフトエ酸、1-アミノアントラキノン-2-カルボン酸、タンニン酸、及び没食子酸等のキレート能を有するカルボン酸;等を用いることもできる。
また、上記防食剤としては、やし脂肪酸塩、ヒマシ硫酸化油塩、ラウリルサルフェート塩、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテルサルフェート塩、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホサクシネート塩、イソプロピルホスフェート、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェート塩、ポリオキシエチレンアリルフェニルエーテルホスフェート塩等のアニオン界面活性剤;オレイルアミン酢酸塩、ラウリルピリジニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド等のカチオン界面活性剤;ヤシアルキルジメチルアミンオキサイド、脂肪酸アミドプロピルジメチルアミンオキサイド、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、アミドベタイン型活性剤、アラニン型活性剤、ラウリルイミノジプロピオン酸等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンデシルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミン、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテル等、ポリオキシアルキレン一級アルキルエーテル又はポリオキシアルキレン二級アルキルエーテルのノニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレン化ヒマシ油、ポリオキシエチレン化硬化ヒマシ油、ソルビタンラウリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウリン酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド等のその他のポリオキアルキレン系のノニオン界面活性剤;オクチルステアレート、トリメチロールプロパントリデカノエート等の脂肪酸アルキルエステル;ポリオキシアルキレンブチルエーテル、ポリオキシアルキレンオレイルエーテル、トリメチロールプロパントリス(ポリオキシアルキレン)エーテル等のポリエーテルポリオールを用いることもできる。
上記の市販品としては、例えばニューカルゲンFS-3PG(竹本油脂社製)、及びホステンHLP-1(日光ケミカルズ社製)等が挙げられる。
また、防食剤としては、親水性ポリマーを用いることもできる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレングリコール等のポリグリコール類、ポリグリコール類のアルキルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アルギン酸等の多糖類、ポリメタクリル酸、及びポリアクリル酸等のカルボン酸含有ポリマー、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、及びポリエチレンイミン等が挙げられる。そのような親水性ポリマーの具体例としては、特開2009-88243号公報0042~0044段落、特開2007-194261号公報0026段落に記載されている水溶性ポリマーが挙げられる。
また、防食剤としては、セリウム塩を用いることもできる。
セリウム塩としては特に制限されず、公知のセリウム塩を用いることができる。
セリウム塩としては、例えば、3価のセリウム塩として、酢酸セリウム、硝酸セリウム、塩化セリウム、炭酸セリウム、シュウ酸セリウム、及び硫酸セリウム等が挙げられる。また、4価のセリウム塩として、硫酸セリウム、硫酸セリウムアンモニウム、硝酸セリウムアンモニウム、硝酸二アンモニウムセリウム、及び水酸化セリウム等が挙げられる。
防食剤は、置換、又は無置換のベンゾトリアゾールを含んでもよい。好適な置換型ベンゾトリアゾールには、これらに限定されないが、アルキル基、アリール基、ハロゲン基、アミノ基、ニトロ基、アルコキシ基、又は水酸基で置換されたベンゾトリアゾールが含まれる。置換型ベンゾトリアゾールには、1以上のアリール(例えば、フェニル)又はヘテロアリール基で融合されたものも含まれる。
被精製液中の防食剤の含有量は、薬液の全質量に対して、0.01~5質量%となるよう、調整されることが好ましく、0.05~5質量%となるよう調整されることがより好ましく、0.1~3質量%となるよう調整されることが更に好ましい。
防食剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の防食剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
(有機溶剤)
水系被精製液は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤としては特に制限されないが、有機溶剤系被精製液が含有する被精製液として既に説明したとおりである。有機溶剤を含有する場合、被精製液が含有する溶剤の全質量に対して、5~35質量%が好ましい。
本発明の実施形態に係るろ過装置は、被精製液との関係では、以下の(1)~(4)からなる群より選択される少なくとも1つを満たすことが好ましい。
<被精製液との関係1>
本発明の実施形態に係るろ過装置は、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、以下の条件1を満たす被精製液の精製用として好ましい。特に、ろ過装置が流通路においてフィルタAの下流側にフィルタBDを有する場合にこの傾向は顕著である。
言い換えれば、ろ過装置が流通路においてフィルタAの下流側にフィルタBDを有する場合、上記ろ過装置は、以下の条件1を満たす被精製液の精製用としてより好ましい。
条件1:メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によってフィルタAから溶出した溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;
|ΔPs-ΔPe|≦10
を満たす。
本明細書において、ハンセン溶解度パラメータとは、「Hansen Solubility Parameters:A Users Handbook, Second Edition」(第1-310頁、CRC Press、2007年発行)等に記載されたハンセン溶解度パラメータを意味する。
すなわち、ハンセン溶解度パラメータは、溶解性を多次元のベクトル(分散項(δd)、分極(双極子間)項(δp)、及び、水素結合項(δh))で表し、これらの3つのパラメータは、ハンセン溶解度パラメータ空間と呼ばれる三次元空間における点の座標と考えることができる。
ある物質のハンセン溶解度パラメータを求めるには、ハンセン溶解度パラメータが既知の複数の溶媒に、対象物質を溶解させ、対象物質が溶解する溶媒と、溶解しない溶媒のハンセン溶解度パラメータをハンセン空間にプロットする。このとき、対象物質が溶解する溶媒のハンセン溶解度パラメータのプロットの集まりで構成される球をハンセンの溶解球といい、その半径が相互作用半径と定義される。また、このハンセン溶解球の中心が対象物質のハンセン溶解度パラメータとなる。相互作用半径、及び、ハンセン溶解度パラメータは、例えば、HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice;コンピュータソフトウェア)を用いて計算で求めることができる。
ここで、ハンセン溶解度パラメータの分極項の寄与率ΔPは以下の式によって定義される値である。
(式)ΔP={δp/(δd+δp+δh)}×100
すなわち、上記式;|ΔPs-ΔPe|≦10における、ΔPsは、被精製液のハンセン溶解度パラメータの分散項δds、分極項δps、水素結合項δhsを用いて、以下の式;
ΔPs={δps/(δds+δps+δhs}×100
で表され、ΔPeは、溶出物のハンセン溶解度パラメータの分極項δde、分極項δpe、水素結合項δheを用いて、以下の式;
ΔPe={δpe/(δde+δpe+δhe}×100
で表される。
本発明者らは、鋭意の検討の結果、フィルタAを用いて被精製液をろ過すると、フィルタAから、意図せず被精製液中に有機化合物が混入する場合があることを知見している。被精製液中に混入した有機化合物が被精製液に溶解しやすい場合、すなわち、被精製液と溶出物とのハンセン溶解度パラメータの分極項の寄与率の差がより小さい(|ΔPs-ΔPe|≦10)の場合、被精製液中の上記有機化合物をフィルタAの下流側に配置したフィルタBDで改めて分離除去することが好ましい。
なお、被精製液が2種以上の溶剤の混合物である場合、被精製液のδhは、上記各溶剤の単体のδhと、各溶剤の体積分率との積の総和によって求められる。すなわち、以下の式で表される。
(被精製液のδh)=Σ{(各溶剤のδh)×(各溶剤の体積分率)}
例えば、被精製液が含有する溶剤が、PGMEAとPGMEの3:7(質量基準)の混合液である場合、そのδhは、PGMEAとPGMEの密度から上記混合溶剤における各溶剤の体積比率を求めて、δhを計算するものとする。
上記は、ΔPsについても同様である。
このとき、フィルタBDの孔径としては特に制限されないが、少なくとも1つのフィルタBDの孔径が、フィルタAの孔径より小さいことが好ましく、より具体的には、少なくとも1つのフィルタBDが、20nm以下の孔径を有することが好ましく、10nm以下の孔径を有することがより好ましく、10nm未満の孔径を有することが更に好ましい。
また、このとき、フィルタBDの材料として既に説明したとおりであり、特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、材料成分としてポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、及び、ポリフルオロカーボンからなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましく、UPE、ナイロン、及び、PTFEからなる群より選択される少なくとも1種を含有することが更に好ましく、PTFEを含有することが特に好ましい。
なお、上記溶出物は、メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によってフィルタAから溶出する化合物を意図し、より具体的には、以下の方法で抽出し、更に測定することで検出される化合物を意図する。
まず、フィルタを細かく切り、抽出用の試料とする。次に、25℃におけるメタノールの体積に対する、試料の質量の、質量/体積比が、1/30(w:質量/v:体積)となるように試料にメタノールを加える。具体的には、試料が1gである場合には、メタノールを30mL(25℃における体積)加える。
次に、75℃で3時間還流して抽出液を得る。次に、得られた抽出液を濃縮乾固して、1mLのメタノールで再溶解させ、測定用試料とする。この測定用試料に含有される化合物をガスクロマトグラフ質量分析法によって測定し、ブランクとの比較で溶出物を特定する。
<被精製液との関係2>
本発明の実施形態に係るろ過装置は、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、以下の条件2を満たす被精製液の精製用として好ましい。特に、ろ過装置が流通路においてフィルタAの上流側にフィルタBUを有する場合にこの傾向は顕著である。
言い換えれば、ろ過装置が流通路においてフィルタAの上流側にフィルタBUを有する場合、上記ろ過装置は、以下の条件2を満たす被精製液の精製用としてより好ましい。
条件2:上述の試験方法により検出される溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;
|ΔPs-ΔPe|>10
を満たす。
本発明者らは、鋭意の検討の結果、被精製液中に混入した有機化合物が被精製液に溶解しにくい場合、すなわち、被精製液と溶出物とのハンセン溶解度パラメータの分極項の寄与率の差がより大きい(|ΔPs-ΔPe|>10)場合、フィルタAの上流側に、フィルタAとは異なる特性を有するフィルタBUを配置することで、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られることを知見している。
このとき、使用するフィルタBUとしては特に制限されないが、材料成分として、ポリオレフィン(中でも超高分子量ポリエチレンが好ましい)、ポリフルオロカーボン(中でもPTFEが好ましい)、及び、ポリアミド(なかでもナイロンが好ましい)からなる群より選択される少なくとも1種を含有することがより好ましい。このようにすることで、被精製液中に存在し得るイオン性の不純物、及び、粒子性の不純物を、それぞれのフィルタにより効率的に除去でき、かつ、得られた薬液にはフィルタAに由来する成分がより混入しにくくなる。結果として、得られた薬液は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
<被精製液との関係3>
本発明の実施形態に係るろ過装置において、フィルタAが有する樹脂層中の樹脂がイオン交換基を有し、上記イオン交換基がカチオン交換基である場合、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2以上である被精製液の精製用であるか、又は、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である被精製液の精製用であることが好ましい。
ここで、ClogP値は、Daylight Chemical Information System, Inc.から入手できるプログラム“CLOGP”で計算された値を意味する。このプログラムは、Hansch, Leoのフラグメントアプローチ(下記文献参照)により算出される“計算logP”の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造(フラグメント)に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたlogP寄与分を合計することにより化合物のlogP値を推算している。その詳細は以下の文献に記載されている。本発明では、プログラムCLOGP v4.82により計算したClogP値を用いる。
A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol.4, C. Hansch, P. G. Sammnens, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., p.295, Pergamon Press, 1990 C. Hansch & A. J. Leo. Substituent Constants For Correlation Analysis in Chemistry and Biology. John Wiley & Sons. A. J. Leo. Calculating logPoct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306, 1993.
logPは、分配係数P(Partition Coefficient)の常用対数を意味し、ある有機化合物が油(一般的には1-オクタノール)と水の2相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であり、以下の式;
logP=log(Coil/Cwater)
で示される。式中、Coilは油相中の化合物のモル濃度を、Cwaterは水相中の化合物のモル濃度を表す。logPの値が0をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増すことを意味し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。
一般に、薬液の欠陥の原因となると考えら得ている金属不純物は被精製液(又は薬液)中で、単純な陽イオンとして存在するのではなく、様々な形態で存在し得るため、その分離除去が難しいとされてきた。
しかし、本発明者らは、本発明の実施形態に係るろ過装置において、フィルタAが有する樹脂層中の樹脂がカチオン交換基を有する場合、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2以上である被精製液の精製に用いると、金属不純物が除去されやすく、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られることを知見した。
この機序としては必ずしも明らかではないが、本発明者らは、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2以上である被精製液中(例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル;δh=11.6(MPa)1/2)においては、金属不純物は、被精製液中の親水性基(例えば、ヒドロキシル基)と金属カチオンが直接配位した状態で存在する場合が多いものと推測している。このような場合、樹脂層中の樹脂がカチオン交換基を有することにより、効率的に上記金属不純物を吸着除去できるものと推測される。なお、上記機序は推測であり、上記以外の機序で効果が得られる場合であっても本発明の範囲に含まれる。
また、本発明者らは、本発明の実施形態に係るろ過装置において、フィルタAが有する樹脂層中の樹脂がカチオン交換基を有する場合、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である被精製液の精製に用いると、金属不純物が除去されやすく、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られることもまた知見した。
この機序としては必ずしも明らかではないが、本発明者らは、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である被精製液(例えば、酢酸ブチル;δh=6.3(MPa)1/2;ClogP=1.77)中においては、金属不純物の溶媒和はほとんど起こらないと推測され、かつ、被精製液中に、水分子が存在しにくいため、このような場合には、樹脂層中の樹脂がカチオン交換基を有することにより、上記金属不純物を効率的に吸着除去できるものと推測される。なお、上記機序は推測であり、上記以外の機序で効果が得られる場合であっても本発明の範囲に含まれる。
なお、被精製液が2種以上の溶剤の混合物である場合、被精製液のClogPは、上記各溶剤の単体のClogPと、各溶剤の質量分率との積の総和によって求められる。すなわち、以下の式で表される。
(被精製液のClogP)=Σ{(各溶剤のClogP)×(各溶剤の質量分率)}
<被精製液との関係4>
本発明の実施形態に係るろ過装置において、フィルタAが有する樹脂層中の樹脂がイオン交換基を有し、上記イオン交換基がアニオン交換基である場合、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0未満である被精製液の精製用であることが好ましい。
上記機序としては必ずしも明らかではないが、本発明者らは、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0未満である被精製液(例えば、シクロヘキサノン;δh=5.1(MPa)1/2;ClogP=0.87、PGMEA;δh=6.7(MPa)1/2;ClogP=0.69)中においては、金属不純物の溶媒和はほとんど起こらないものの、被精製液中に意図せず水分子が混入しやすく、この水分子が金属イオンを取り囲むように配位しやすいものと推測される。このような場合、機序は明らかではないが、樹脂層中の樹脂がアニオン交換基を有することにより、被精製液から、金属不純物を効率的に吸着除去可能であることが本発明者らの鋭意の検討により明らかになった。なお、上記機序は推測であり、上記以外の機序で効果が得られる場合であっても本発明の範囲に含まれる。
〔ろ過工程〕
本実施形態に係る薬液の製造方法は、既に説明したろ過装置を用いて、上記被精製液をろ過して、薬液を得るろ過工程を有する。
上記ろ過装置は、フィルタAとフィルタBとが直列に配置されて形成された流通路を有する。各フィルタに対する被精製液の供給圧力としては特に制限されないが、一般に、0.00010~1.0MPaが好ましい。
なかでも、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、供給圧力は、0.00050~0.090MPaが好ましく、0.0010~0.050MPaがより好ましく、0.0050~0.040MPaが更に好ましい。
また、ろ過圧力はろ過精度に影響を与えることから、ろ過時における圧力の脈動は可能な限り少ない方が好ましい。
ろ過速度は特に限定されないが、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい点で、1.0L/分/m2以上が好ましく、0.75L/分/m2以上がより好ましく、0.6L/分/m2以上が更に好ましい。
フィルタにはフィルタ性能(フィルタが壊れない)を保障する耐差圧が設定されており、この値が大きい場合にはろ過圧力を高めることでろ過速度を高めることができる。つまり、上記ろ過速度上限は、通常、フィルタの耐差圧に依存するが、通常、10.0L/分/m2以下が好ましい。
被精製液をフィルタに通す際の温度としては特に制限されないが、一般に、室温未満が好ましい。
なお、ろ過工程は、クリーンな環境下で実施するのが好ましい。具体的には米国連邦規格(Fed.Std.209E)のClass1000(ISO14644-1:2015では、Class6)を満たすクリーンルームで実施するのが好ましく、Class100(ISO14644-1:2015では、Class5)を満たすクリーンルームがより好ましく、Class10(ISO14644-1:2015では、Class4)を満たすクリーンルームが更に好ましく、Class1(ISO14644-1:2015では、Class3)又はそれ以上の清浄度(クラス2、又は、クラス1)を有するクリーンルームが特に好ましい。
なお、後述する各工程も、上記クリーン環境下にて実施することが好ましい。
また、ろ過装置が返送流通路を有している場合、ろ過工程は循環ろ過工程であってもよい。循環ろ過工程とは、被精製液を少なくともフィルタAでろ過し、フィルタAでろ過した後の被精製液を流通路に対してフィルタAの上流に返送し、再度フィルタAでろ過する工程である。
循環ろ過の回数としては特に制限されないが、一般に1~4回が好ましい。なお、循環ろ過はフィルタAによるろ過を繰り返すよう、被精製液をフィルタAの上流側に返送してもよいし、フィルタBによるろ過を繰り返すよう、被精製液をフィルタB(フィルタBDでもフィルタBUでもよい)の上流側に返送してもよい。また、フィルタA及びフィルタBによるろ過も合わせ繰り返すよう、返送流通路を調整してもよい。
〔その他の工程〕
本実施形態に係る薬液の製造方法は、上記以外の工程を有していてもよい。上記以外の工程としては、例えば、フィルタ洗浄工程、装置洗浄工程、除電工程、及び、被精製液準備工程等が挙げられる。以下では、各工程について詳述する。
<フィルタ洗浄工程>
フィルタ洗浄工程は、ろ過工程の前にフィルタA及びフィルタBを洗浄する工程である。フィルタを洗浄する方法としては特に制限されないが、例えば、フィルタを浸漬液に浸漬する方法、フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法、及び、これらの組合せ等が挙げられる。
(フィルタを浸漬液に浸漬する方法)
フィルタを浸漬液に浸漬する方法としては、例えば、浸漬用容器を浸漬液で満たし、上記浸漬液にフィルタを浸漬する方法が挙げられる。
・浸漬液
浸漬液としては特に制限されず、公知の浸漬液を使用できる。なかでもより優れた本発明の効果が得られる点で、浸漬液としては、水又は有機溶剤を主成分として含有することが好ましく、有機溶剤を主成分として含有することがより好ましい。本明細書において主成分とは、浸漬液の全質量に対して99.9質量%以上含有される成分を意味し、99.99質量%以上含有することがより好ましい。
上記有機溶剤としては特に制限されず、被精製液が含有する有機溶剤として既に説明した有機溶剤が使用できる。なかでもより優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液としてはエステル系溶剤、及び、ケトン系溶剤からなる群から選択される少なくとも1種の有機溶剤を含有することが好ましい。またこれらを組み合わせて使用してもよい。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸アミル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、及び、乳酸ブチル等が挙げられるが上記に制限されない。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、2-ヘプタノン(MAK)、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、及び、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられるが上記に制限されない。
浸漬液にフィルタを浸漬する時間としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果が得られる点で、7日~1年が好ましい。
浸漬液の温度としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果が得られる点で、20℃以上が好ましい。
フィルタを浸漬液に浸漬する方法としては、浸漬用容器に浸漬液を満たし、上記浸漬液にフィルタを浸漬する方法が挙げられる。
浸漬用容器としては、既に説明したろ過装置において、フィルタユニットが有するハウジングも使用できる。すなわち、ろ過装置が有するハウジングにフィルタ(典型的にはフィルタカートリッジ)を収納した状態で、ハウジング内に浸漬液を満たし、その状態で静置する方法が挙げられる。
また、上記以外にも、浸漬用容器を精製装置が有するハウジングとは別途準備し(すなわち、精製装置外において浸漬用容器を準備し)、別途準備した浸漬用容器に浸漬液を満たし、フィルタを浸漬する方法も挙げられる。
なかでも、フィルタから溶出した不純物がろ過装置内に混入しない点で、ろ過装置外に準備した浸漬用容器に浸漬液を満たし、上記浸漬液にフィルタを浸漬する方法が好ましい。
浸漬用容器の形状及び大きさ等は、浸漬するフィルタの数及び大きさ等によって適宜選択でき特に制限されない。
浸漬用容器の材料としては、特に制限されないが、少なくとも接液部が、後述する耐腐食材料で形成されていることが好ましい。
また、浸漬用容器の材料としては、ポリフルオロカーボン(PTFE、PFA:パーフルオロアルコキシアルカン、及び、PCTFE:ポリクロロトリフルオロエチレン等)、PPS(ポリフェニレンスルフィド)、POM(ポリオキシメチレン)、並びに、ポリオレフィン(PP、及び、PE等)からなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましく、ポリフルオロカーボン、PPS、及び、POMからなる群から選択される少なくとも1種を含有することがより好ましく、ポリフルオロカーボンを含有することが更に好ましく、PTFE、PFA、及び、PCTFEからなる群から選択される少なくとも1種を含有することが特に好ましく、PTFEを含有することが最も好ましい。
また、浸漬用容器は、使用前に洗浄することが好ましく、洗浄の際には浸漬液を使用して洗浄(いわゆる共洗い)することが好ましい。
(フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法)
フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法としては特に制限されないが、例えば、既に説明したろ過装置のフィルタユニットのフィルタハウジングに、フィルタ(典型的にはフィルタカートリッジ)を収納し、上記フィルタハウジングに洗浄液を導入することで、フィルタに洗浄液を通液する方法が挙げられる。
洗浄の際、フィルタに付着した不純物は、洗浄液に移行(典型的には、溶解)し、洗浄液中の不純物含有量が増加していく。従って、1度フィルタに通液させた洗浄液は、再度洗浄には使用せず、ろ過装置外に排出することが好ましい。言い換えれば循環洗浄しないことが好ましい。
フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法の他の形態として、洗浄装置を用いてフィルタを洗浄する方法が挙げられる。本明細書において、洗浄装置とは、ろ過装置外に設けられたろ過装置とは異なる装置を意味する。洗浄装置の形態としては特に制限されないが、ろ過装置と同様の構成の装置が使用できる。
・洗浄液
フィルタに洗浄液を通液して洗浄する場合における洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液が使用できる。なかでも、より優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液の形態としては、既に説明した浸漬液と同様であることが好ましい。
<装置洗浄工程>
装置洗浄工程は、ろ過工程の前に、ろ過装置の接液部を洗浄する工程である。ろ過工程の前にろ過装置の接液部を洗浄する方法としては特に制限されないが、以下では、フィルタがカートリッジフィルタであり、上記カートリッジフィルタが、流通路上に配置されたハウジング内に収納されるろ過装置を例として説明する。
装置洗浄工程は、ハウジングからカートリッジフィルタが取り除かれた状態で洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄する工程A、及び、工程Aの後に、カートリッジフィルタをハウジングに収納し、更に洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄する工程Bを有することが好ましい。
・工程A
工程Aは、ハウジングからカートリッジフィルタが取り除かれた状態で、洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄する工程である。「ハウジングからフィルタが取り除かれた状態で」とは、ハウジングからフィルタカートリッジを取り除くか、ハウジングにフィルタカートリッジを収納する前に、洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄することを意味する。
ハウジングからフィルタが取り除かれた状態における(以下「フィルタ未収納の」ともいう。)ろ過装置の接液部を、洗浄液を用いて洗浄する方法としては特に制限されない。流入部から洗浄液を導入し、流出部から回収する方法が挙げられる。
なかでも、より優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液を用いてフィルタ未収納のろ過装置の接液部を洗浄する方法としては、フィルタ未収納のろ過装置の内部を洗浄液で満たす方法が挙げられる。フィルタ未収納のろ過装置の内部を洗浄液で満たすことにより、フィルタ未収納のろ過装置の接液部が洗浄液と接触する。これにより、ろ過装置の接液部に付着している不純物が洗浄液へと移行(典型的には溶出)する。そして、洗浄後の洗浄液はろ過装置外に排出すればよい(典型的には流出部から排出すればよい)。
・洗浄液
洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液を使用できる。なかでもより優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液としては、水又は有機溶剤を主成分として含有することが好ましく、有機溶剤を主成分として含有することがより好ましい。本明細書において主成分とは、洗浄液の全質量に対して99.9質量%以上含有される成分を意味し、99.99質量%以上含有することがより好ましい。
上記有機溶剤としては特に制限されず、薬液が含有する溶剤として既に説明した水、有機溶剤が使用できる。有機溶剤としては、より優れた本発明の効果が得られる点で、PGMEA、シクロヘキサノン、乳酸エチル、酢酸ブチル、MIBC、MMP(3メチルメトキシプロピオネート)、MAK、酢酸n-ペンチル、エチレングリコール、酢酸イソペンチル、PGME、MEK(メチルエチルケトン)、1-ヘキサノール、及び、デカンからなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。
また、洗浄液の一形態としては、被精製物が含有する溶剤と同種の溶剤が挙げられる。この場合、被精製液が2種以上の溶剤を含有する場合は、洗浄液としては、被精製液が含有する2種以上の溶剤のうちの1種でもよいし、2種以上でもよく、被精製物が含有する溶剤と同様の組成であってもよい。
例えば、被精製液がPGMEA:PCの9:1(質量基準)の混合物である場合、洗浄液は、PGMEAであってもよいし、PCであってもよいし、PGMEAとPCの混合物であってもよく、その組成はPGMEA:PC=9:1であってもよい。
・工程B
工程Bは、ハウジングにフィルタが収納された状態で、洗浄液を用いてろ過装置を洗浄する方法である。
洗浄液を用いてろ過装置を洗浄する方法としては、既に説明した工程Aにおける洗浄方法のほか、ろ過装置に洗浄液を通液する方法も使用できる。ろ過装置に洗浄液を通液する方法としては特に制限されないが、流入部から洗浄液を導入し、流出部から排出すればよい。なお、本工程で使用できる洗浄液としては特に制限されず、工程Aで説明した洗浄液を使用できる。
<除電工程>
除電工程は、被精製液を除電することで、被精製液の帯電電位を低減させる工程である。除電方法としては特に制限されず、公知の除電方法を用いることができる。除電方法としては、例えば、被精製液を導電性材料に接触させる方法が挙げられる。
被精製液を導電性材料に接触させる接触時間は、0.001~60秒が好ましく、0.001~1秒がより好ましく、0.01~0.1秒が更に好ましい。導電性材料としては、ステンレス鋼、金、白金、ダイヤモンド、及びグラッシーカーボン等が挙げられる。
被精製液を導電性材料に接触させる方法としては、例えば、導電性材料からなる接地されたメッシュを、流通路を横切るように配置し、ここに被精製液を流通させる方法等が挙げられる。
<被精製液準備工程>
被精製液準備工程は、ろ過装置の流入部から流入させる被精製液を準備する工程である。被精製液を準備する方法としては特に制限されない。典型的には、市販品(例えば、「高純度グレード品」と呼ばれるもの等)を購入する方法、1種又は2種以上の原料を反応させて得る方法、及び、各成分を溶剤に溶解する方法等が挙げられる。
原料を反応させて被精製液(典型的には、有機溶剤を含有する被精製液)を得る方法として特に制限されず、公知の方法が使用できる。例えば、触媒の存在下において、1つ又は2つ以上の原料を反応させて、有機溶剤を含有する被精製液を得る方法が挙げられる。
より具体的には、例えば、酢酸とn-ブタノールとを硫酸の存在下で反応させ、酢酸ブチルを得る方法;エチレン、酸素、及び、水をAl(C2H5)3の存在下で反応させ、1-ヘキサノールを得る方法;シス-4-メチル-2-ペンテンをIpc2BH(Diisopinocampheylborane)の存在下で反応させ、4-メチル-2-ペンタノールを得る方法;プロピレンオキシド、メタノール、及び、酢酸を硫酸の存在下で反応させ、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート)を得る方法;アセトン、及び、水素を酸化銅-酸化亜鉛-酸化アルミニウムの存在下で反応させて、IPA(isopropyl alcohol)を得る方法;乳酸、及び、エタノールを反応させて、乳酸エチルを得る方法;等が挙げられる。
また、本工程は、被精製液をろ過装置に流入させる前に、予め精製する予備精製工程を有していてもよい。予備精製工程としては特に制限されないが、蒸留装置を用いて、被精製液を精製する方法が挙げられる。
予備精製工程において、蒸留装置を用いて被精製液を精製する方法としては特に制限されず、例えば、ろ過装置と別に準備した蒸留装置を用いて予め被精製液を精製して蒸留済み被精製液を得て、これを可搬型タンクに貯留して、ろ過装置まで運搬して導入する方法、及び、後述する精製装置を用いる方法が挙げられる。
まず、図8を用いて、ろ過装置と別に準備した蒸留装置を用いて予め被精製液を精製する方法(予備精製工程)について説明する。
図8は蒸留器で予め精製された蒸留済み被精製液を使用して薬液を製造する場合の各装置の関係を表す模式図である。
図8において、ろ過装置600の形態は、既に説明した本発明の第三実施形態に係るろ過装置と同様のため説明は省略する。
薬液の製造場800には、ろ過装置600と蒸留装置801が配置されている。蒸留装置801は、タンク802と、蒸留器803と、可搬型タンク804とを有し、それぞれが配管805、及び、配管806で接続され、タンク802、配管805、蒸留器803、配管806、可搬型タンク804により、流通路S8が形成されている。
タンク802及び各配管の形態は特に制限されず、本発明の実施形態に係るろ過装置が有するタンク及び配管として説明したのと同様の形態のタンク及び配管が使用できる。蒸留器803の形態は、本発明の実施形態に係る精製装置が有する蒸留器と同様の蒸留器を使用でき、その形態は後述する。
蒸留装置801において、タンク802に導入された被精製液は、蒸留器803で蒸留され、得られた蒸留済み被精製液は、可搬型タンク804に貯留される。可搬型タンクの形態としては特に制限されないが、接液部の少なくとも一部(好ましくは接液部の表面積の90%以上、より好ましくは接液部の表面積の99%以上)が後述する耐腐食材料からなることが好ましい。
可搬型タンク804に貯留された蒸留済み被精製液は、運搬手段807によって運搬され(図8のF1のフロー)、その後、蒸留済み被精製液は、ろ過装置の流入部101から、ろ過装置600へと導入される。
なお、図8では、同一の製造場内に蒸留装置とろ過装置が配置されている形態を説明したが、蒸留装置とろ過装置は別の製造場に配置されていてもよい。
次に、蒸留器とろ過装置とを有する精製装置を用いる予備精製工程について説明する。まずは、本工程で使用する精製装置について説明する。
(精製装置)
本工程で使用する精製装置は、既に説明したろ過装置を有する精製装置である。本発明の実施形態に係る精製装置は、既に説明したろ過装置と、第2の流入部と、第2の流出部と、第2の流入部と第2の流出部との間に配置された少なくとも1つの蒸留器と、を有する。上記精製装置においては、上記第2の流出部と既に説明したろ過装置が有する流入部とが接続され、上記第2の流入部から、上記蒸留器、上記第2の流出部、上記ろ過装置が有する流入部、上記ろ過装置をこの順で経て、上記ろ過装置が有する流出部にいたる流通路が形成された精製装置である。以下では、上記精製装置について、図面を示しながら説明する。
なお、下記の説明において、ろ過装置の構成に関する内容は、既に説明した内容と同様であり説明を省略する。
・精製装置の第一実施形態
図9は本発明の第一実施形態に係る精製装置を表す模式図である。精製装置900は、第2の流入部901と、第2の流出部902と、第2の流入部901と第2の流出部902との間に配置された蒸留器903と、を有し、第2の流出部902が、ろ過装置100が有する流入部101と接続されている。これにより精製装置900においては、第2の流入部901、蒸留器903、第2の流出部902、流入部101、フィルタ103(フィルタBU)、配管105、フィルタ104(フィルタA)、及び、流出部102により流通路S9が形成されている。
第2の流入部901から精製装置900内に流入した被精製液は、蒸留器903において蒸留された後、第2の流出部902を経て、流入部101から、ろ過装置100へと導入される。本精製装置を用いて予備精製工程を行うと、蒸留済み被精製液を装置外に出さずに次の工程(ろ過工程)が実施できるため、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる。
なお、蒸留器903の形態は特に制限されず、公知の蒸留器(例えば蒸留塔)を使用できる。なお、蒸留器903の材料としてはすでに説明したハウジングと同様の材料を使用でき、特に、蒸留器903の接液部の少なくとも一部が、後述する耐腐食材料からなることが好ましく、接液部の面積の90%以上が耐腐食材料からなることがより好ましく、接液部の面積の99%が耐腐食材料からなることがさらに好ましい。
蒸留器としては特に制限されず、公知の蒸留器が使用できる。蒸留器としては、回分式であっても連続式であってもよいが、連続式が好ましい。また、蒸留器は内部に充填物を有していてもよい。充填物の形態としては特に制限されないが、接液部の少なくとも一部が、後述する耐腐食材料からなることが好ましく、接液部の面積の90%以上が耐腐食材料からなることがより好ましく、接液部の面積の99%が耐腐食材料からなることがさらに好ましい。
なお、図9において、精製装置900は流入部と流出部の間に、フィルタBUと、フィルタAがこの順に直列に配置された形態(例えばろ過装置の第一実施形態)のろ過装置を有しているが、これに代えて、流入部と流出部の間にフィルタAとフィルタBDがこの順に直列に配置された形態のろ過装置、及び、流入部と流出部の間にフィルタBU、フィルタA,及び、フィルタBDがこの順に直列に配置された形態のろ過装置を有していてもよい。
また、精製装置は、第2の流入部901、蒸留器903、第2の流出部902、流入部101、フィルタ103、配管105、フィルタ104、流出部102で形成される流通路S9に対して、フィルタ103(フィルタBU)、及び、フィルタ104(フィルタA)からなる群より選択される基準フィルタの下流側から、流通路S9に対して上記基準フィルタの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路が形成されていてもよい。なお、返送流通路の形態としては特に制限されないが、ろ過装置の第二実施形態において説明したのと同様である。
また、本実施形態に係る精製装置は、流通路S9においてフィルタ103の上流側、及び/又は、下流側にタンクを有していてもよい。タンクの形態としては特に制限されず、既に説明したのと同様のタンクが使用できる。
・精製装置の第二実施形態
図10は精製装置の第二実施形態を表す模式図である。精製装置1000は、第2の流入部1001と、第2の流出部1002と、第2の流入部1001と第2の流出部1002との間に直列に配置された蒸留器1003及び蒸留器1004と、を有し、第2の流出部1002が、ろ過装置100が有する流入部101と接続されている。これにより精製装置1000においては、第2の流入部1001、蒸留器1003、配管1005、蒸留器1004、第2の流出部1002、流入部101、フィルタ103(フィルタBU)、配管105、フィルタ104(フィルタA)、及び、流出部102により流通路S10が形成されている。
精製装置1000においては、第2の流入部1001から流入した被精製液は蒸留器1003で蒸留され、配管1005を流通して蒸留器1004に導入される。なお、図10では、蒸留器1003と蒸留器1004とが配管1005によって接続された形態を表しているが、本実施形態に係る精製装置としては上記に制限されず、蒸留器1004の凝縮液を再度、蒸留器1003に返送可能な配管を別途有していてもよい。
本実施形態に係る精製装置は、流通路において直列に配置された蒸留器を2つ有するため、2つの蒸留器の運転条件等を適宜制御することにより、被精製液が沸点の異なる2種以上の化合物を含有している場合であっても、目的の化合物(薬液)をより高純度に精製可能である。
〔耐腐食材料〕
次に、耐腐食材料について説明する。これまで説明した本発明の実施形態に係るろ過装置、及び、精製装置は、その接液部の少なくとも一部が耐腐食材料で形成されていることが好ましく、接液部の90%以上が耐腐食材料で形成されていることがより好ましく、接液部の99%以上が耐腐食材料で形成されていることが更に好ましい。
接液部が耐腐食材料で形成されている状態としては特に制限されないが、典型的には各部材(例えば、これまで説明したタンク等)が耐腐食材料で形成されているもの、及び、各部材が、基材と、基材上に配置された被覆層とを有し、上記被覆層が耐腐食材料で形成されているもの等が挙げられる。
耐腐食材料は、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料である。上記非金属材料としては、特に制限されないが、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン-ポリプロピレン樹脂、四フッ化エチレン樹脂、四フッ化エチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、四フッ化エチレン-六フッ化プロピレン共重合樹脂、四フッ化エチレン-エチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン-エチレン共重合樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、三フッ化塩化エチレン共重合樹脂、及び、フッ化ビニル樹脂等が挙げられるが、これに制限されない。
上記金属材料としては、特に制限されないが、例えば、Cr及びNiの含有量の合計が金属材料全質量に対して25質量%超である金属材料が挙げられ、なかでも、30質量%以上がより好ましい。金属材料におけるCr及びNiの含有量の合計の上限値としては特に制限されないが、一般に90質量%以下が好ましい。
金属材料としては例えば、ステンレス鋼、及びNi-Cr合金等が挙げられる。
ステンレス鋼としては、特に制限されず、公知のステンレス鋼が使用できる。なかでも、Niを8質量%以上含有する合金が好ましく、Niを8質量%以上含有するオーステナイト系ステンレス鋼がより好ましい。オーステナイト系ステンレス鋼としては、例えばSUS(Steel Use Stainless)304(Ni含有量8質量%、Cr含有量18質量%)、SUS304L(Ni含有量9質量%、Cr含有量18質量%)、SUS316(Ni含有量10質量%、Cr含有量16質量%)、及びSUS316L(Ni含有量12質量%、Cr含有量16質量%)等が挙げられる。
Ni-Cr合金としては、特に制限されず、公知のNi-Cr合金が使用できる。なかでも、Ni含有量が40~75質量%、Cr含有量が1~30質量%のNiCr合金が好ましい。
Ni-Cr合金としては、例えば、ハステロイ(商品名、以下同じ。)、モネル(商品名、以下同じ)、及びインコネル(商品名、以下同じ)等が挙げられる。より具体的には、ハステロイC-276(Ni含有量63質量%、Cr含有量16質量%)、ハステロイ-C(Ni含有量60質量%、Cr含有量17質量%)、ハステロイC-22(Ni含有量61質量%、Cr含有量22質量%)等が挙げられる。
また、Ni-Cr合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、B、Si、W、Mo、Cu、及び、Co等を含有していてもよい。
金属材料を電解研磨する方法としては特に制限されず、公知の方法が使用できる。例えば、特開2015-227501号公報の0011~0014段落、及び、特開2008-264929号公報の0036~0042段落等に記載された方法が使用できる。
金属材料は、電解研磨されることにより表面の不動態層におけるCrの含有量が、母相のCrの含有量よりも多くなっているものと推測される。そのため、接液部が電解研磨された金属材料から形成された精製装置を用いると、被精製液中に金属原子を含有する金属不純物が流出しにくいものと推測される。
なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、#400以下が好ましい。なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
[薬液]
上記ろ過装置を用いて製造される薬液は半導体基板の製造に用いられることが好ましい。特に、ノード10nm以下の微細パターンを形成するため(例えば、EUVを用いたパターン形成を含む工程)に用いられることがより好ましい。
言い換えれば、上記ろ過装置は、半導体基板の製造用の薬液の製造に用いられることが好ましく、具体的には、リソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、及び、剥離工程等を含有する半導体デバイスの製造工程において、各工程の終了後、又は、次の工程に移る前に、無機物、及び/又は、有機物を処理するために使用され、具体的には洗浄液、エッチング液、リンス液、前処理液、レジスト液、プリウェット液、及び、現像液等の製造に用いられることがより好ましく、洗浄液、エッチング液、リンス液、前処理液、及び、レジスト液からなる群より選択される少なくとも1種の製造に用いられることがさらに好ましい。
また、上記ろ過装置は、レジスト塗布前後の半導体基板のエッジラインのリンスに用いられる薬液の製造にも使用ができる。
また、上記ろ過装置は、レジスト液に含有される樹脂の希釈液、レジスト液に含有される溶剤の製造にも使用できる。
また、上記ろ過装置は、半導体基板の製造用以外の、他の用途に用いられる薬液の製造にも用いることができ、ポリイミド、センサー用レジスト、レンズ用レジスト等の現像液、及び、リンス液等の製造用としても使用できる。
また、上記ろ過装置は、医療用途又は洗浄用途の溶媒の製造にも使用できる。特に、容器、配管、及び、基板(例えば、ウェハ、及び、ガラス等)等の洗浄に用いる薬液の製造に使用できる。
なかでも、上記ろ過装置は、現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
[薬液収容体]
上記ろ過装置により製造された薬液は、容器に収容されて使用時まで保管されてもよい。このような容器と、容器に収容された薬液とをあわせて薬液収容体という。保管された薬液収容体からは、薬液が取り出され使用される。
上記薬液を保管する容器としては、半導体基板製造用に、容器内のクリーン度が高く、薬液を保管中に、薬液に対して不純物の溶出しにくいものが好ましい。
使用可能な容器としては、特に制限されないが、例えば、アイセロ化学(株)製の「クリーンボトル」シリーズ、及び、コダマ樹脂工業製の「ピュアボトル」等が挙げられるが、これらに制限されない。
容器としては、薬液への不純物混入(コンタミ)防止を目的として、容器内壁を6種の樹脂による6層構造とした多層ボトル、又は、6種の樹脂による7層構造とした多層ボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては例えば特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。
この容器の接液部の少なくとも一部は、既に説明した耐腐食材料からなることが好ましい。より優れた本発明の効果が得られる点で、接液部の面積の90%以上が上記材料からなることが好ましい。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
また、実施例及び比較例の薬液の調製にあたって、容器の取り扱い、薬液の調製、充填、保管及び分析測定は、全てISOクラス2又は1を満たすレベルのクリーンルームで行った。測定精度向上のため、有機不純物の含有量の測定、及び、金属原子の含有量の測定においては、通常の測定で検出限界以下のものの測定を行う際には、薬液を体積換算で100分の1に濃縮して測定を行い、濃縮前の溶液の濃度に換算して含有量を算出した。なお、精製に仕様した装置やフィルタ、容器などの器具は、薬液接液面を、同様の手法で精製しておいた薬液で十分に洗浄してから用いた。
[試験例1:有機溶剤系被精製液の精製、及び、薬液の性能評価]
〔薬液1の製造〕
図11に記載した精製装置を使用して、薬液1を製造した。図11の精製装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU-1、フィルタBU-2、タンクTU-1、フィルタF-A、フィルタBD-1、フィルタBD-2、タンクTD-1、及び、フィルタBD-3が、直列に接続されたろ過装置と、上記ろ過装置の前段に接続された蒸留器(D1及びD2の2連の蒸留器、表1中では「2連式」と記載した。)とを有する。各ユニットは配管と共に流通路S-11を形成するとともに、流通路S-11においてフィルタF-A(フィルタF-Aは既に説明したフィルタAに該当する)の下流側(タンクTD-1の下流側)からフィルタF-Aの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路R-11が形成されている。配管R-11は、タンクTD-1(、フィルタBD-1及びフィルタBD-2)の下流側で流通路S12と接続し、他端がフィルタF-Aの上流側で流通路S4と接続している。 なお、薬液1の製造に用いた各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径は表1及び表2に示した。なお、表中、「-」はそのフィルタを使用しなかったことを意味し、本明細書における他の表についても同様である。
また、フィルタの事前洗浄の欄に、「(溶剤名)(日数)day浸漬」とあるものについては、使用前にフィルタを「(溶剤名)」として記載された洗浄液に「(日数)」日浸漬した後に使用したことを表す。例えば、「CHN 1day浸漬」とあるものは、シクロヘキサノンに1日浸漬してからフィルタを使用したことを表し、「PGMEA 7day浸漬」であれば、PGMEAに7日間浸漬した後に使用したことを表す。なお、同欄に「-」とあるものは、フィルタの事前洗浄を行わなかったことを表している。
表1及び表2における各フィルタの材料成分に関する略号は以下のとおりである。
・「アニオン交換基」
特表2017-536232号公報の0099段落に記載されたグラフト化された超高分子量ポリエチレン膜(アニオン交換基として、4級アンモニウム基を有する)を用いた。
・「カチオン交換基」
特表2017-536232号公報の0130~0132段落に記載されたグラフト化された超高分子量ポリエチレン膜(カチオン交換基として、スルホン酸基を有する)を用いた。
・「中性基グラフト化UPE1」
特表2017-536232号公報の0058~0059段落の記載を参照して、グラフト化された超高分子量ポリエチレン膜(中性基として、ヒドロキシメチルアクリルアミドに由来するヒドロキシ基を有している)を作製し、これを用いた。
・「中性基グラフト化UPE2」
特表2017-536232号公報の0058~0059段落において、塩化ビニルベンジルトリメチルアンモニウムモノマーを用いなかったこと以外は上記と同様にして、超高分子量ポリエチレン膜(中性基として、ヒドロキシメチルアクリルアミドに由来するヒドロキシ基を有している)を作製し、これを用いた。
・PP:ポリプロピレン
・Nylon:ナイロン
・UPE:超高分子量ポリエチレン
・PTFE:ポリテトラフルオロエチレン
・「PFSA/PTFE」
市販品のEntegris, inc., 製Fluoroguard AT(孔径20nm、又は、200nm)を、0.25%のPFSA溶液(アクイヴィオンPFSA 24:D83-24B Solvay Plastics)をメタノール水溶媒中で調製したポリマー液へ十分濡れるまで浸漬した後、水切りし、その後乾燥させて、超純水を用いて24時間洗浄して得たものを用いた。
・IEX:スルホン酸型イオン交換樹脂
被精製液には、市販の高純度グレードの「シクロヘキサノン」を購入し、上記精製装置を用いて精製した。精製の際には、返送流通路R-11を用いて、3回循環ろ過して薬液1を得た。
表1及び表2の被精製液に関する略号は以下のとおりである。
・CHN:シクロヘキサノン
・PGMEA/PGME (3:7):PGMEAとPGMEの3:7(質量基準)の混合物、なお、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項、ハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率の計算には、PGMEA:0.969g/cm3、PGME:0.923g/cm3の密度の値を用いた。
・nBA:酢酸ブチル
・PGMEA/PC(9:1):PGMEAとPCの9:1(質量基準)の混合物、なお、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項、ハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率の計算には、PGMEA:0.969g/cm3、PC:1.205g/cm3の密度の値を用いた。
・EL:乳酸エチル
・MIBC:4-メチル-2-ペンタノール
・PGME:プロピレングリコールモノエチルエーテル
・PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
〔薬液2~49、薬液200~227、薬液255~271および薬液274~282の製造〕
表1又は表2に記載した精製装置(又はろ過装置)を用いて、表1又は表2に記載した各被精製液を精製して薬液を得た。なお、各精製装置(又はろ過装置)は、図11~図44に示した。フィルタF-A、フィルタBU-1~BU-2、フィルタBD-1~BD-3の材料成分及び孔径は表1に示したとおりである。
なお、表1に記載した被精製液の精製に際しては、使用したろ過装置にR-(数字)で示した返送流通路が形成されているものは、それぞれの返送流通路について3回循環ろ過した。
また、表2に記載した被精製液の精製に際しては、表中「循環」の欄に循環回数を記載した。この欄に「-」と記載されたものは、循環ろ過を行わなかったことを表している。
また、表1には、各被精製液のハンセン溶解度パラメータの水素結合項(水素結合エネルギー)、ClogP値もあわせて記載した。
また、表2には、各被精製液のハンセン溶解度パラメータの分極項の寄与率ΔPs、及び、下記の方法により検出された溶出物(いずれのフィルタからもフタル酸ビス(2ーエチルヘキシル)が検出された)のハンセンパラメータの分極項の寄与率ΔPe、並びに、|ΔPs-ΔPe|の計算結果を記載した。
(溶出物の測定方法)
表1及び表2のフィルタF-Aに記載したフィルタを細かく切り、合計で1g準備して抽出試料とした。次に高純度グレードのメタノール30ml(25℃における体積)を上記抽出試料に加えて75℃で3時間還流抽出して、抽出液を得た。次に、得られた抽出液を濃縮乾燥し、その後、1mlのメタノールで再溶解させ、測定用試料を作製した。次に、上記測定用試料についてGC-MS(ガスクロマトグラフ質量分析装置)で分析して、溶出物を決定した。
なお、GC-MSの測定条件等は以下のとおりである。
メーカー:Agilent technology
型番GC(ガスクロマトグラフィ部):7890B
型番MS(質量分析部):5977B EI/CI MSD
(測定条件)
Column:Agilent J&W DB-5ms 0.25mmID×30m×0.25μm
Oven:50℃(2min)→10℃/min→280℃(20min)
Injection Splitless,Inj. Temp. 300℃ Inj. Vol.1 μL AUX Temp.300℃
Ion source EI (scan range m/z=25-650)
〔評価1:薬液の残渣欠陥抑制性能、及び、シミ状欠陥抑制性能の評価〕
直径約300mmのシリコンウェハ(Bare-Si)上に、薬液1をスピン塗布し、薬液塗布済みウェハを得た。使用した装置は、Lithius ProZであり、塗布の条件は以下のとおりだった。
・塗布に使用した薬液の量:各2ml
・塗布の際のシリコンウェハの回転数:2,200rpm、60sec
次に、KLA-Tencor社製のウェハ検査装置「SP-5」とアプライドマテリアル社の全自動欠陥レビュー分類装置「SEMVision G6」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの欠陥数、及び、その組成を調べた。
SP-5にて計測された全欠陥数を残渣欠陥数として計上し、G6にて形状観測を行い、粒子状ではないもの(シミ状)の欠陥をシミ状欠陥として計上した。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。
なお、ウェハ上に存在する欠陥の数がより少ないほど、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。なお、以下の評価において、「欠陥数」とは、それぞれ残渣欠陥数、及び、シミ状欠陥数を表す。上記と同様の方法により薬液2~49、及び、薬液200~227、および薬液255~271および薬液274~282についても評価した。結果を表1及び表2に示した。
AA 欠陥数が30個/ウェハ以下だった。
A 欠陥数が30個/ウェハを超え、50個/ウェハ以下だった。
B 欠陥数が50個/ウェハを超え、100個/ウェハ以下だった。
C 欠陥数が100個/ウェハを超え、200個/ウェハ以下だった。
D 欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
E 欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
F 欠陥数が1000個/ウェハを超えた(検出限界は50000個/ウェハである)。
〔評価2:ブリッジ欠陥抑制性能〕
薬液1をプリウェット液として用いて、薬液のブリッジ欠陥抑制性能を評価した。まず、使用したレジスト樹脂組成物について説明する。
・レジスト樹脂組成物1
レジスト樹脂組成物1は、以下の各成分を混合して得た。
酸分解性樹脂(下記式で表される樹脂(重量平均分子量(Mw)7500):各繰り返し単位に記載される数値はモル%を意味する。):100質量部
下記に示す光酸発生剤:8質量部
下記に示すクエンチャー:5質量部(質量比は、左から順に、0.1:0.3:0.3:0.2とした。)。なお、下記のクエンチャーのうち、ポリマータイプのものは、重量平均分子量(Mw)が5000である。また、各繰り返し単位に記載される数値はモル比を意味する。
下記に示す疎水性樹脂:4質量部(質量比は、(1):(2)=0.5:0.5とした。)。なお、下記の疎水性樹脂のうち、(1)式の疎水性樹脂の重量平均分子量(Mw)は7000であり、(2)式の疎水性樹脂の重量平均分子量(Mw)は8000である。なお、各疎水性樹脂において、各繰り返し単位に記載される数値はモル比を意味する。
溶剤:
PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート):3質量部
シクロヘキサノン:600質量部
γ-BL(γ-ブチロラクトン):100質量部
・試験方法
次に試験方法について説明する。まず、約300mmのシリコンウェハを薬液1でプリウェットし、次に、上記レジスト樹脂組成物1を上記プリウェット済みシリコンウェハに回転塗布した。その後、ホットプレート上で150℃にて90秒間加熱乾燥を行い、9μmの厚みのレジスト膜を形成した。
このレジスト膜に対し、縮小投影露光及び現像後に形成されるパターンのライン幅が30nm、スペース幅が30nmとなるような、ラインアンドスペースパターンを有するマスクを介して、ArFエキシマレーザースキャナー(ASML製、PAS5500/850C波長248nm)を用いて、NA=0.60、σ=0.75の露光条件でパターン露光した。照射後に120℃にて60秒間ベークして、その後、現像、及び、リンスし、110℃にて60秒ベークして、ライン幅が30nm、スペース幅が30nmのレジストパターンを形成した。
上記レジストパターンについて、測長SEM(CG4600、Hitach-HighTech)にて、パターンを100ショット分取得し、パターン同士の架橋様の欠陥(ブリッジ欠陥)の数を計測し、単位面積当たりの欠陥数を求めた。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。なお、パターン同士の架橋様の欠陥数が少ないほど、薬液は、より優れたブリッジ欠陥抑制性能を有することを表す。
なお、薬液2~49、及び、薬液200~227、および薬液255~271および薬液274~282については、表1又は表2の「評価方法」欄に「プリウェット」とあるものは、上記薬液1と同様にしてブリッジ欠陥抑制性能を評価した。表1又は表2の「評価方法」の欄に「現像液」とあるものは、薬液1の評価手順に記載したプリウェットを行わず、現像液として表1又は表2に記載の薬液を用いた以外は薬液1の評価と同様の手順でブリッジ欠陥抑制性能を評価した。表1又は表2の「評価方法」の欄に「リンス」とあるものは、薬液1の評価手順に記載したプリウェットを行わず、リンス液として表1又は表2に記載の薬液を用いた以外は薬液1の表1又は表2と同様の手順でブリッジ欠陥抑制性能を評価した。それぞれの結果を表1又は表2に示した。
AA ブリッジ欠陥数が1個/cm2未満だった。
A ブリッジ欠陥数が1個/cm2以上、2個/cm2未満だった。
B ブリッジ欠陥数が2個/cm2以上、5個/cm2未満だった。
C ブリッジ欠陥数が5個/cm2以上、10個/cm2未満だった。
D ブリッジ欠陥数が10個/cm2以上、15個/cm2未満だった。
E ブリッジ欠陥数が15個/cm2以上だった。
〔評価3:パターン幅の均一性能〕
上記レジストパターンについて、測長SEM(CG4600, Hitach-HighTech)にて、パターンを100ショット分取得し、LWR(Line Width Roughness)の平均値と最大(又は最小)線幅との差の絶対値を求めた。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。なお、上記「差の絶対値」が小さいほど、薬液は、より優れたパターン幅の均一性能を有する。なお、「最大(又は最小)線幅との差」とは、LWRの平均値と最大線幅と、LWRの平均値と最小線幅の差のうち、絶対値がより大きい方で評価したことを意味する。
AA 線幅の平均値と最大(最小)との差の絶対値が、平均値に対して2%未満だった。
A 線幅の平均値と最大(最小)との差の絶対値が、平均値に対して2%以上5%未満だった。
B 線幅の平均値と最大(最小)との差の絶対値が、平均値に対して5%以上10%未満だった。
C 線幅の平均値と最大(最小)との差の絶対値が、平均値に対して10%以上20%未満だった。
D 線幅の平均値と最大(最小)との差の絶対値が、平均値に対して20%以上だった。
E 線幅の測定ができないショットが含まれていた。
〔評価4:フィルタの寿命の評価〕
表1に記載した各精製装置(又はろ過装置)を用いて被精製液を連続して精製した。被精製液を通液して精製装置(又はろ過装置)の状態が安定した後、すぐに得られた薬液を試験用(初期サンプル)として回収し、その後、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用(経時サンプル)として回収した。試験用に回収した薬液は、「評価1」で説明した薬液の残渣欠陥抑制性能の評価法により評価し、単位面積当たりの欠陥数を初期サンプルと比較して、経時サンプルの欠陥数が2倍となったときの通液量をフィルタの「寿命」とした。図24に記載したろ過装置を使用した場合(表1においては、薬液41の場合、表2においては、薬液276の場合)の寿命を1とし、各装置のフィルタの寿命を比で評価した。結果は以下の基準により評価し、表1及び表2に示した。なお、図24の装置(表1においては、薬液41の場合、表2においては、薬液276の場合)については評価結果に「基準」と表記した。
AA 寿命が10倍以上だった。
A 寿命が5倍以上、10倍未満だった。
B 寿命が2倍以上、5倍未満だった。
C 寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
D 寿命が1倍以下だった。
[試験例2:レジスト樹脂組成物である薬液の製造、及び、薬液の性能評価]
〔薬液300の製造〕
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物2を準備した。
・下記の方法により合成した樹脂A-2:0.79g
<樹脂(A-2)>
樹脂(A-2)の合成
2Lフラスコにシクロヘキサノン600gを入れ、100mL/minの流量で一時間窒素置換した。その後、重合開始剤V-601(和光純薬工業(株)製)0.02molを加え、内温が80℃になるまで昇温した。次に、以下のモノマー1~3と重合開始剤V-601(和光純薬工業(株)製)0.02molとを、シクロヘキサノン200gに溶解し、モノマー溶液を調製した。モノマー溶液を上記80℃に加熱したフラスコ中に6時間かけて滴下した。滴下終了後、更に80℃で2時間反応させた。
モノマー1:0.3mol
モノマー2:0.6mol
モノマー3:0.1mol
反応溶液を室温まで冷却し、ヘキサン3L中に滴下しポリマーを沈殿させた。ろ過した固体をアセトン500mLに溶解し、再度ヘキサン3L中に滴下、ろ過した固体を減圧乾燥して、モノマー1~3の共重合体である樹脂(A-2)を得た。
反応容器中に上記で得られた共重合体10g、メタノール40mL、1-メトキシ-2-プロパノール200mL、及び、濃塩酸1.5mLを加え、80℃に加熱して5時間攪拌した。反応溶液を室温まで放冷し、蒸留水3L中に滴下した。ろ過した固体をアセトン200mLに溶解し、再度蒸留水3L中に滴下、ろ過した固体を減圧乾燥して樹脂(A-2)(8.5g)を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(溶媒:THF(tetrahydrofuran))による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は12300、分子量分散度(Mw/Mn)は1.51であった。
なお、樹脂の組成(モル比)は、1H-NMR(核磁気共鳴)測定により算出した。樹脂の重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)、分散度(Mw/Mn)はGPC(溶媒:THF)測定により算出した。
樹脂A-2の組成は、上記構成単位の左から順に、30/60/10(モル比)だった。重量平均分子量(Mw)は12300で、Mw/Mnは1.51だった。
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:45g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル:30g
図38に記載したろ過装置を使用して、薬液300を製造した。図38のろ過装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU-1、フィルタBU-2、タンクTU-1、フィルタF-A、及び、フィルタBD-1が、直列に接続されている。各ユニットは配管と共に流通路S-38を形成している。表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
〔薬液301の製造〕
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液300と同様にして薬液301を製造した。
〔薬液302の製造〕
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物3を準備した。
・下記の方法により合成した樹脂A-14:0.785g
樹脂A-14の組成は、上記構成単位の左から順に、20/40/40(モル比)だった。重量平均分子量(Mw)は11000で、Mw/Mnは1.45だった。
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:45g
・シクロヘキサノン:30g
図38に記載したろ過装置を使用して、薬液302を製造した。図38のろ過装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU-1、フィルタBU-2、タンクTU-1、フィルタF-A、及び、フィルタBD-1が、直列に接続されている。
表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
〔薬液303~薬液306の製造〕
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液302と同様にして薬液303~薬液306を製造した。
〔薬液307の製造〕
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物4を準備した。
・下記の方法により合成した樹脂(A-1)-3:97質量%
<樹脂(A-1)-3>
樹脂(A-1)-3は、特開2009-265609号公報の0131~0134段落の記載を参照して合成した。なお、樹脂(A-1)-3の有する繰り返し単位は、以下の式で表されるとおりであり、その組成(モル比)は、左側から順に50/40/10であった。また、重量平均分子量は20000であり、Mw/Mnで表される分散度は、1.57だった。
(A-1)-3
・C-1 ジシクロヘキシルメチルアミン:0.4質量%
・D-1 フッ素系界面活性剤、メガファックF-176(大日本インキ化学工業(株)製):0.1質量%
ここで、上記(A-1)-3からD-1までの含有量はレジスト樹脂組成物4の固形分中における質量基準の含有量を示す。
・溶剤
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:80質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテル:20質量%
なお、上記溶剤の含有量は、レジスト樹脂組成物4が含有する溶剤中における、各溶剤の含有量(溶剤の全質量を100質量%としたときのそれぞれの含有量)を示す。なお、レジスト樹脂組成物4の固形分は10質量%となるよう調整した。
図38に記載したろ過装置を使用して、薬液307を製造した。図38のろ過装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU-1、フィルタBU-2、タンクTU-1、フィルタF-A、及び、フィルタBD-1が、直列に接続されている。各ユニットは配管と共に流通路S-38を形成している。
表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
〔薬液308の製造〕
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液307と同様にして薬液308を製造した。
〔薬液の欠陥抑制性能の評価:EUV露光時の欠陥抑制性能〕
薬液300~薬液308を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、EUV露光とはEUVを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
12インチシリコンウエハ上に、薬液300~薬液301をそれぞれ塗布し、120℃の条件で60秒間ベークし、膜厚40nmのレジスト膜を形成した。
(現像後欠陥性能評価における露光条件)
上記で作製したウェハに、NA(レンズ開口数、Numerical Aperture)0.25、ダイポール照明(Dipole 60x、アウターシグマ0.81、インナーシグマ0.43)でEUV露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
(ブリッジ欠陥抑制性能評価における露光条件)
上記で作製したウェハに、NA(レンズ開口数、Numerical Aperture)0.25、Quasar照明(Quasar45、アウターシグマ0.81、インナーシグマ0.51)でEUV露光を行った。具体的には、ウェハ上寸法がピッチ60nm、ホールサイズ30nmのコンタクトホールパターンを形成する為のパターン(C/Hの抜け性評価用)、およびライン幅が22nm、ピッチが50nmのLS(ラインアンドスペース)パターンが含まれたマスクを介して、露光量を調整後にライン幅が22nmとなる露光量でウェハ全面にEUV露光を行った。
(現像条件)
上記の条件で露光した後、ただちに、100℃の条件で60秒間ベークした。
その後、シャワー型現像装置(ACTES(株)製ADE3000S)を用いて、50回転(rpm)でウェハを回転しながら、現像液(23℃)を、200mL/分の流量で30秒間スプレー吐出することで、現像し、評価用試料を得た。
(ブリッジ欠陥抑制性能の評価)
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
A:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
(現像後欠陥抑制性能の評価)
得られた試料について、KLA-Tencor社製のウェハ検査装置「SP-5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が200個/ウェハ以下だった。
A:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
B:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
〔薬液の欠陥抑制性能の評価:ArF露光時の欠陥抑制性能〕
薬液302~薬液306を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、ArF露光とは、ArFエキシマレーザを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
12インチシリコンウエハ上に、薬液302~薬液306をそれぞれ塗布し、90~120℃の条件で60秒間ベークし、膜厚40nmのレジスト膜を形成した。
なお、レジスト膜を塗布する前に、シリコンウェハ上に有機反射防止膜ARC29SR(Brewer社製)を塗布し、205℃で60秒間ベークを行い膜厚86nmの反射防止膜を形成した。
(現像後欠陥性能評価における露光条件)
上記で作製したウェハに、ArFエキシマレーザ液浸スキャナー(ASML社製XT1700i、NA1.20、Dipole、アウターシグマ0.900、インナーシグマ0.700、Y偏向)を用いて、ArF露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
(ブリッジ欠陥抑制性能評価における露光条件)
得られたウェハをArFエキシマレーザ液浸スキャナー(ASML社製XT1700i、NA1.20、Dipole、アウターシグマ0.900、インナーシグマ0.700、Y偏向)を用いて、パターン露光を行った。なお、レクチルとしては、ラインサイズ=50nmであり且つライン:スペース=1:1である6%ハーフトーンマスクを用いた。また、液浸液としては、超純水を用いた。
得られるパターンがピッチ100nm、スペース幅35nm、ライン幅65nmのラインアンドスペースパターンとなるよう条件を調整した。
(現像条件)
100℃でベーク(Post Exposure Bake;PEB)した後、現像液で30秒間パドルして現像し、パターン衛星したウェハを作製した。また、リンス処理を行う場合には現像液で30秒間パドルして現像した後に、ウェハが乾燥する前にリンス液でパドルしてリンスした後、4000rpmの回転数で30秒間ウェハを回転させることにより、評価用試料を得た。
(ブリッジ欠陥抑制性能の評価)
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
A:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
(現像後欠陥抑制性能の評価)
得られた試料について、上KLA-Tencor社製のウェハ検査装置「SP-5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が200個/ウェハ以下だった。
A:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
B:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
〔薬液の欠陥抑制性能の評価:KrF露光時の欠陥抑制性能〕
薬液307~薬液308を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、KrFとはKrFエキシマレーザを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
シリコンウェハにHMDS(ヘキサメチルジシラザン)処理(110℃35秒間)を施し、薬液307~薬液308を用いて、レジスト膜を100nmの厚みとなるように製膜した。
なお、薬液を塗布する前に、シリコンウェハ上に酸化膜を100nm形成した。
(現像後欠陥抑制性能評価における露光条件)
上記で作製したウェハに、KrFエキシマレーザースキャナー(ASML社製、PAS5500/850)(NA0.80)を用いて、KrF露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
(ブリッジ欠陥抑制性能評価における露光条件)
得られたウェハをKrFエキシマレーザースキャナー(ASML社製、PAS5500/850)(NA0.80)を用いて、パターン露光を行った。なお、レクチルとしては、ラインサイズ=175nm、スペースサイズ=263nmであるラインアンドスペースパターンのバイナリマスクを用いた。得られるパターンがピッチ438nm、スペース幅130nm、ライン幅308nmのラインアンドスペースパターンとなるよう調整した。
(現像条件)
100℃60秒の条件でベーク(Post Exposure Bake;PEB)した後、現像液で30秒間パドルして現像し、更にリンス処理を実施する際はリンス液でパドルしてリンスした後、4000rpmの回転数で30秒間ウェハを回転させることにより、評価用試料を得た。
尚、現像液としては、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製のFHD-5を使用した。
(ブリッジ欠陥抑制性能の評価)
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
A:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
(現像後欠陥抑制性能の評価)
得られた試料について、上KLA-Tencor社製のウェハ検査装置「SP-5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
AA:欠陥数が200個/ウェハ以下だった。
A:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
B:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
〔評価3:フィルタの寿命の評価〕
表3に記載した各ろ過装置を用いて被精製液を連続して精製した。被精製液を通液してろ過装置の状態が安定した後、すぐに得られた薬液を試験用(初期サンプル)として回収し、その後、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用(経時サンプル)として回収した。試験用に回収した薬液は、「評価1」で説明した薬液のブリッジ欠陥抑制性能の評価法により評価し、単位面積当たりの欠陥数を初期サンプルと比較して、経時サンプルの欠陥数が2倍となったときの通液量をフィルタの「寿命」とした。図24に記載したろ過装置を使用して、薬液301の被精製液を精製した場合の寿命を1とし、各装置のフィルタの寿命を比で評価した。結果は以下の基準により評価し、表3に示した。なお、薬液301については評価結果に「基準」と表記した。
AA 寿命が10倍以上だった。
A 寿命が5倍以上、10倍未満だった。
B 寿命が2倍以上、5倍未満だった。
C 寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
D 寿命が1倍以下だった。
表1は第1グループ:表1(1-1)~表1(1-5)及び、第2グループ:表1(2-1)~表1(2-5)に分割され、表2は第1グループ:表2(1-1)~表2(1-5)、及び、第2グループ:表2(3-1)~表2(3-5)に分割されている。
表1、及び、表2には、各グループの5つの分割表の対応する行にわたって、各薬液の精製に用いたろ過装置(又は精製装置)が有するフィルタ、及び、得られた薬液の評価結果が記載されている。
例えば、表1の第1グループ:表1(1-1)~表1(1-5)のそれぞれの1行目には、薬液1について記載されている。
これは、薬液1が、図11に記載した精製装置により製造されたことを示し、薬液1の製造に用いた被精製液は、CHN(シクロヘキサノン)を含有し、そのハンセンパラメータの水素結合項(表中では、「HSP(δh)」と記載している)が5.1(MPa)1/2であり、ClogP値が0.9であることを示している。また、薬液1の製造に用いた精製装置のフィルタは、「CHN 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、精製装置は、2連式の蒸留器と、BU-1(流通路の最も上流側に配置されたPPを含有する孔径200nmのフィルタ)、BU-2(BU-1の下流側に配置された孔径20nmのPFSA/PTFEフィルタ)、とを有し、フィルタA(F-A)の上流側にタンクTU-1を有し、F-A(フィルタA)としては、孔径10nmの特表2017-536232号公報の0099段落に記載されたグラフト化された超高分子量ポリエチレン膜を有し、フィルタF-Aの下流側には、BD-1(ナイロンを含有する孔径10nmのフィルタ)、BD-2(UPEを含有する孔径3nmのフィルタ)、BD-3(PTFEを含有する孔径10nmのフィルタ)を有し、更に、フィルタF-Aの下流側には、タンクTD-1を有することを示している。
更に薬液1は「プリウェット」の方法で評価され、残渣欠陥抑制性能がAA、シミ状欠陥抑制性能がAA、ブリッジ欠陥抑制性能がAA、パターン幅の均一性能がAA、そして、精製装置のフィルタの寿命がAAであったことを示している。
薬液2~25については、同様に第1グループの各表に結果が記載され、薬液26~49については、第2グループの各表に結果が記載されている。
また、薬液200~227については、表2の第1グループの各表に結果が記載され、薬液255~282については、表2の第2グループの各表に結果が記載されている。
表2は第1グループ:表2(1-1)~表2(1-5)、及び、第2グループ:表2(3-1)~表2(3-5)に分割されている。
表2には、各グループの5つの分割表の対応する行にわたって、各薬液の精製に用いたろ過装置(又は精製装置)が有するフィルタ、及び、得られた薬液の評価結果が記載されている。
例えば、表2の第1グループ:表2(1-1)~表2(1-5)のそれぞれの1行目には、薬液200について記載されている。
これは、薬液200が、図25に記載した精製装置により製造されたことを示し、薬液200の製造に用いた被精製液は、PGMEAを含有し、ΔPsは18.1、ΔPeは22.2で、|ΔPs-ΔPe|は4.1と計算されることを示している。また、薬液200の製造に用いた精製装置のフィルタは、「PGMEA 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、精製装置は、2連式の蒸留器と、BU-1(流通路の最も上流側に配置されたUPEを含有する孔径50nmのフィルタ)、BU-2(BU-1の下流側に配置されたNylonを含有する孔径10nmのフィルタ)、とを有し、フィルタA(F-A)の上流側にタンクTU-1を有し、F-A(フィルタA)としては、孔径5nmの中性基グラフトUPE1フィルタを有し、フィルタF-Aの下流側には、タンク及びフィルタは有しないことを示している。また、循環ろ過が「-」すなわち、無しであったことを示している。
更に薬液200は「プリウェット」の方法で評価され、残渣欠陥抑制性能がA、シミ状欠陥抑制性能がB、ブリッジ欠陥抑制性能がA、パターン幅の均一性能がA、そして、精製装置のフィルタの寿命がAであったことを示している。
薬液201~227については、同様に第1グループの各表に結果が記載され、薬液228~254については、第2グループの各表に結果が記載されている。また、薬液255~282については、第3グループの各表に結果が記載されている。
表2に記載した結果からフィルタAとフィルタAとは異なるフィルタBとを有するろ過装置(精製装置)を用いて精製された薬液200~275は所望の欠陥抑制性能を有していた。一方で、フィルタAのみを有するろ過装置を用いて精製された薬液276~281は所望の欠陥抑制性能を有していなかった。
また、被精製液とろ過装置とが、所定の方法によってフィルタAから溶出させた溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPe、及び、被精製物のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、|ΔPs-ΔPe|≦10の関係を満たす場合、具体的には、フィルタAが「中性基グラフトUPE1」で被精製液がPGMEAを含有する場合、薬液205は、薬液200と比較してより優れた残渣欠陥抑制性能、より優れたシミ状欠陥抑制性能、及び、より優れたブリッジ欠陥抑制性能を有していた。また、フィルタの寿命もより長かった。
上記の結果から、フィルタAとフィルタBDとを有するろ過装置(精製装置)は、フィルタAとの関係で|ΔPs-ΔPe|≦10を満たす被精製液の精製用として、優れた効果を有することがわかった。
また、被精製液とろ過装置とが、所定の方法によってフィルタAから溶出させた溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPe、及び、被精製物のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、|ΔPs-ΔPe|>10の関係を満たす場合、具体的には、フィルタAが「中性基グラフトUPE1」で被精製液がnBAを含有する場合、薬液268は、薬液269と比較してより優れた残渣欠陥抑制性能を有していた。また、フィルタの寿命もより長かった。
上記の結果から、フィルタAとフィルタBUとを有するろ過装置(精製装置)は、フィルタAとの関係で|ΔPs-ΔPe|>10を満たす被精製液の精製用として、優れた効果を有することがわかった。
表3は、表3(1-1)~表3(1-4)に分割されている。表3には各分割表の対応する行にわたって、各薬液の精製に用いたろ過装置及び、得られた薬液の評価結果が記載されている。
例えば、各分割表のそれぞれの1行目には、薬液300について記載されている。
これは、薬液300が図38に記載されたろ過装置により製造されたことを示し、薬300の製造に用いた被精製液は、レジスト樹脂組成物2であることを示している。また、薬液300の製造に用いたろ過装置のフィルタは「PGMEA 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、ろ過装置は、BU-1(UPEを含有する孔径50nmのフィルタ)を有し、BU-2(Nylonを含有する孔径10nmのフィルタ)、更に、フィルタF-Aの上流側にはタンクTU-1を有し、F-A(フィルタA)としては、孔径5nmの中性基グラフト化UPE1を有し、その下流側には、BD-1(PTFEを含有する孔径7nmのフィルタ)を有することを示している。また、循環ろ過が「-」、すなわち無しであったことを示している。
薬液300の評価は、ブリッジ欠陥抑制性能がAA、現像後欠陥抑制性能がAA、そしてろ過装置のフィルタの寿命がAAであったことを示している。
薬液301~308については、同様に上記表中に結果が記載されている。
薬液301~308について、それぞれ、表中に記載したろ過装置(精製装置)を用いて薬液を作製した。この際、循環ろ過は行わなかった。得られた薬液について、各表中に記載した項目の評価を行ったところ、薬液302~305、および307は、優れた欠陥抑制性能を有していた。また、フィルタの寿命も、同様に薬液302~305、および307は良好な結果となることを確認できた。
〔薬液283~306の製造〕
表4に記載した精製装置(又はろ過装置)を用いて、表4に記載した各被精製液を精製して薬液を得た。なお、各精製装置(又はろ過装置)は、図45~図47に示した。フィルタF-A1~F-A2、フィルタBU-1~BU-2、フィルタBD-1~BD-2の材料成分及び孔径は表4に示したとおりである。
なお、表4で得られた薬液に関しては、表2と同様の評価を行った。
なお、表4で使用されているフィルタとしては、上述したフィルタおよび以下のフィルタが挙げられる。
・「Octolex 5nm」、「Octolex 3nm」
Entegris社の商品であり、基材がUPEで構成され、基材の表面にプロトンが発生しないイオンとの作用基を有する樹脂を含有する樹脂層が配置されている。なお、プロトンが発生しないイオンとの作用基を有する樹脂は、ナイロン(アミド又はイミド)骨格に基づくものである。
・「Purasol SN」
Entegris社の商品であり、基材がUPEで構成され、基材の表面には樹脂層が配置され、樹脂層中にはイオン交換基を有する樹脂が含有される。
・「Purasol SP」
Entegris社の商品であり、基材がUPEで構成され、基材の表面には樹脂層が配置され、樹脂層中にはイオン交換基を有する樹脂が含有される。
なお、後述する表中において、「Purasol SN」および「Purasol SP」の孔径に関しては、製品カタログに記載の公称値を示す。
表4は、表4(1-1)~表4(1-5)に分割されている。表4には各分割表の対応する行にわたって、各薬液の精製に用いたろ過装置及び、得られた薬液の評価結果が記載されている。
100、200、300、400、500、600、700 ろ過装置
101 流入部
102 流出部
103、104、501、701 フィルタ
105、402、403、502、503、602、603、702、703、704、805、806、201、301、401、1005 配管
601、802 タンク
803、903、1003、1004 蒸留器
804 可搬型タンク
807 運搬手段
901、1001 第2の流入部
902、1002 第2の流出部
Claims (30)
- 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBDを含み、
前記フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有し、
前記流通路上における、前記フィルタAの下流側から、前記フィルタAの上流側へと、前記被精製液を返送可能な返送流通路を更に有する、ろ過装置。 - 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBDを含み、
前記フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有し、
以下の条件1を満たす前記被精製液の精製に用いられる、ろ過装置。
条件1:メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によって前記フィルタAから溶出した溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、前記被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;|ΔPs-ΔPe|≦10を満たす。 - 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBが、前記流通路上において前記フィルタAの上流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBUを含み、
前記フィルタBUは、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ(メタ)アクリレート、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBUは、50nm以下の孔径を有し、
以下の条件2を満たす前記被精製液の精製に用いられる、ろ過装置。
条件2:メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によって前記フィルタAから溶出した溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、前記被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;|ΔPs-ΔPe|>10を満たす。 - 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの上流側に配置されたフィルタBU、及び、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置されたフィルタBDからなる群より選択される少なくとも1つを含み、
前記フィルタBUは、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ(メタ)アクリレート、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBは、50nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBDは、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有し、
ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa) 1/2 以上である前記被精製液の精製用であるか、又は、
ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa) 1/2 未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である前記被精製液の精製用であって、
前記イオン交換基がカチオン交換基である、ろ過装置。 - 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの上流側に配置されたフィルタBU、及び、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置されたフィルタBDからなる群より選択される少なくとも1つを含み、
前記フィルタBUは、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ(メタ)アクリレート、ポリフルオロカーボン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、セルロース、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBは、50nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBDは、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有し、
前記イオン交換基がアニオン交換基であり、
ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が10(MPa) 1/2 未満であって、かつ、ClogP値が1.0未満である前記被精製液の精製用である、ろ過装置。 - 前記フィルタBが、前記流通路上において前記フィルタAの上流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBUを更に含む、請求項1又は2に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、1nm以上の孔径を有するフィルタを含む請求項6に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、第2のイオン交換基を有する樹脂を含有する、
請求項6又は7に記載のろ過装置。 - 前記中性基又はイオン交換基を有する樹脂は、前記中性基を有し、
前記フィルタAは前記流通路において最も下流側に配置されている、請求項3~5のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記中性基又はイオン交換基を有する樹脂が、アミド基、イミド基、カルボキサミド基、スルホンアミド基、スルフェンアミド基、チオアミド基、アミジン基、カルボキサミジン基、及び、スルフィンアミジン基からなる群から選択される基を有する、請求項1~9のいずれか1項に記載のろ過装置。
- 前記流通路上における、前記フィルタAの下流側から、前記フィルタAの上流側へと、前記被精製液を返送可能な返送流通路を有する、請求項2~5のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBDを更に含む、請求項3~5及び9のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有するフィルタを含む、請求項12に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有する、請求項12又は13に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBDのうちのいずれかのフィルタBDからなる基準フィルタの下流側から、前記基準フィルタの上流側へと、前記被精製液を返送可能な返送流通路を有する、請求項12~14のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 以下の条件1を満たす前記被精製液の精製に用いられる、請求項1、2及び12~15のいずれか一項に記載のろ過装置。
条件1:メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によって前記フィルタAから溶出した溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、前記被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;|ΔPs-ΔPe|≦10を満たす。 - 少なくとも1つの前記フィルタBDは、10nm未満の孔径を有する、請求項1、2及び12~16に記載のろ過装置。
- 以下の条件2を満たす前記被精製液の精製に用いられる、請求項6~8のいずれか一項に記載のろ過装置。
条件2:メタノールを抽出溶媒とした還流抽出によって前記フィルタAから溶出した溶出物のハンセン溶解度パラメータにおける、分極項の寄与率をΔPe、及び、前記被精製液のハンセン溶解度パラメータにおける分極項の寄与率をΔPsとしたとき、式;|ΔPs-ΔPe|>10を満たす。 - ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2以上である前記被精製液の精製用であるか、又は、
ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0以上である前記被精製液の精製用であって、
前記イオン交換基がカチオン交換基である、請求項1~18のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記イオン交換基がアニオン交換基であり、
ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が10(MPa)1/2未満であって、かつ、ClogP値が1.0未満である前記被精製液の精製用である、請求項1~18のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記流通路上において、
前記フィルタAと直列に配置されたタンクを更に有する請求項1~20のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 前記流通路において、前記タンクの上流側に、
前記タンクと直列に配置された、孔径20nm以上のフィルタCを更に有する請求項21に記載のろ過装置。 - 前記薬液が、現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種である請求項1~22のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 被精製液を精製して、半導体基板製造用の薬液を製造するためのろ過装置である、請求項1~23のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 請求項1~24のいずれか一項に記載のろ過装置と、
前記ろ過装置の前記流入部に接続された少なくとも1つの蒸留器と、
を有する精製装置。 - 流入部と、流出部と、フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、前記フィルタA及び前記フィルタBが直列に配置された前記流入部から前記流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置と、
前記ろ過装置の前記流入部に接続された少なくとも1つの蒸留器と、を有する、精製装置であって、
前記フィルタAは、超高分子量ポリエチレン製の多孔性膜と、前記多孔性膜の表面の少なくとも一部を覆うように配置された樹脂層とを有し、
前記樹脂層は、中性基又はイオン交換基を有する樹脂を含み、
前記フィルタAは、300nm以下の孔径を有し、
前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置された、少なくとも1つのフィルタBDを含み、
前記フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有し、
少なくとも1つの前記フィルタBDは、20nm以下の孔径を有する、精製装置。 - 前記少なくとも1つの蒸留器は、直列に接続された複数の蒸留器を含む、請求項25又は26に記載の精製装置。
- 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、請求項1~24のいずれか一項に記載のろ過装置を用いて、被精製液を精製して薬液を得る、ろ過工程を有する、薬液の製造方法。
- 前記ろ過工程の前に、前記フィルタA、及び、前記フィルタBを洗浄するフィルタ洗浄工程を更に有する、請求項28に記載の薬液の製造方法。
- 前記ろ過工程の前に、前記ろ過装置の接液部を洗浄する装置洗浄工程を更に有する、請求項28又は29に記載の薬液の製造方法。
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