JP7053973B2 - 湿式めっき工程におけるバイオフィルムの抑制方法 - Google Patents
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Description
好ましくは50kHz以下であり、さらに好ましくは40kHz以下である。超音波照射は、めっき膜を形成中であっても可能であり、また、連続的に又は間隔をあけて照射することができる。また、バイオフィルム発育状態を確認しながら、適宜、照射時間を決めることができる。
このとき、バイオフィルムは、側壁に形成されやすいことから、超音波を側壁に照射することがより効果的である。ここでは、ストック槽8に超音波装置9を設置した例を図示しているが、水洗槽3中で超音波を照射しても、同様の効果が得られる。同様に、めっき槽1、回収槽2においても、各槽あるいは各ストック槽に超音波装置を設置し、超音波を照射することで、バイオフィルムの形成を抑制することができる。
図2に示した水洗槽を用いて、バイオフィルム抑制の効果を評価した。テストピースとして、PVC板を50mm×50mmに加工したものを水洗槽に設置し、設置後、2週間超音波(周波数:20kHz~40kHz)を照射したテストピースを「超音波あり」とし、新たにテストピースを設置し、超音波を2週間停止したものを「超音波なし」として、評価した。そして、この操作を3回繰り返した後、テストピースを採取した。それぞれに付着したバイオフィルムを全量採取した後、一般生菌数測定と重量変化を調べた。一般生菌数測定については、採取したテストピース上のバイオフィルムを一定量の純水に入れ、十分に撹拌した後、一般生菌数測定キットにて測定した。また、重量変化については、純水にて洗い流し、乾燥させた後、乾燥させた後の乾燥残渣重量を精密天秤にて測定した。
めっき皮膜(無電解Ni/Pd/Auめっき皮膜)を形成した試験用めっき基板Aと、レジスト皮膜が形成された試験用レジスト基板Bを準備した。次に、図3に示すように、純水で満たされた水槽内に、めっき基板A(レジスト基板B)をワイヤーで吊り下げて投入し、めっき面(レジスト面)に超音波の照射面が対向するようにして超音波振動子を設置した。次に、超音波(周波数帯20~40kHz、出力15W)を1分、10分照射し、それぞれの照射時間ごとに水槽内からめっき基板A(レジスト基板B)を引き上げ、基板を乾燥させて、めっき皮膜(レジスト皮膜)の状態等について評価を行った。なお、めっき基板Aとレジスト基板Bとは、別々の水槽を用いて試験を行っている。
2 回収槽
3 洗浄槽
4 製品
5 キャリア
6 給水
7 排水
8 ストック槽
9 超音波装置
10 フィルター
11 循環ポンプ
Claims (2)
- 湿式めっき装置で使用されるめっき槽、回収槽、水洗槽のいずれか一種以上の槽内で周波数が20kHz~50kHzの超音波を、間隔をあけて照射することを特徴とするバイオフィルム抑制方法。
- 湿式めっき装置で使用されるめっき槽、回収槽、水洗槽のいずれか一種以上の槽内で周波数が20kHz~40kHzの超音波を、間隔をあけて照射することを特徴とするバイオフィルム抑制方法。
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