JP7052384B2 - A resin composition for a temporary protective film, and a method for manufacturing a semiconductor electronic component using the resin composition. - Google Patents
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Description
本発明は仮保護膜用樹脂組成物、およびこれを用いた半導体電子部品の製造方法に関する。より詳しくは、耐熱性に優れ、半導体電子回路形成基板の裏面を２００℃～５００℃で熱処理する工程において、熱処理装置に付着することなく、主面の破損を防止し、その後、温和な条件で除去する事ができる仮保護膜用樹脂組成物、およびこれを用いた半導体電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a resin composition for a temporary protective film and a method for manufacturing a semiconductor electronic component using the same. More specifically, in the step of heat-treating the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate at 200 ° C to 500 ° C, which has excellent heat resistance, damage to the main surface is prevented without adhering to the heat treatment apparatus, and then under mild conditions. The present invention relates to a resin composition for a temporary protective film that can be removed, and a method for manufacturing a semiconductor electronic component using the same.
近年、半導体電子部品では、高性能化や薄型化のため、基板の表裏両面を加工する製造方法が行われる場合がある。例えば、パワーデバイスの１つであるＩＧＢＴ（絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ）では、半導体電子回路形成基板の主面に半導体電子回路を形成した後、裏面にイオン注入と活性化熱処理を行うことで、バッファ層およびコレクタ層を形成する。また、半導体チップをシリコン貫通電極（ＴＳＶ：Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｖｉａ）によって接続しながら積層する半導体素子では、パッケージを薄くするため、半導体電子回路形成基板の裏面を研磨して薄化し、その後、この裏面に電極などを形成する工程がある。 In recent years, in semiconductor electronic components, a manufacturing method for processing both the front and back surfaces of a substrate may be used in order to improve the performance and reduce the thickness. For example, in an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), which is one of the power devices, a semiconductor electronic circuit is formed on the main surface of a semiconductor electronic circuit forming substrate, and then ion injection and activation heat treatment are performed on the back surface to form a buffer. Form a layer and a collector layer. Further, in a semiconductor element in which semiconductor chips are laminated while being connected by a through silicon via (TSV: Through Silicon Via), in order to make the package thinner, the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is polished and thinned, and then on the back surface. There is a step of forming electrodes and the like.
このように、半導体電子回路形成基板を裏面加工する場合、半導体電子回路を形成した主面を下側にして搬送や裏面加工をするため、主面の半導体電子回路が破損するおそれがある。そのため、一時的に主面を保護し、裏面加工後に温和な条件で除去できる仮保護膜が必要である。また、裏面加工に熱処理工程がある場合、仮保護膜には耐熱性が求められる。 As described above, when the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is processed, the semiconductor electronic circuit on the main surface may be damaged because the main surface on which the semiconductor electronic circuit is formed is on the lower side for transportation and back surface processing. Therefore, there is a need for a temporary protective film that temporarily protects the main surface and can be removed under mild conditions after processing the back surface. Further, when the back surface processing has a heat treatment step, the temporary protective film is required to have heat resistance.
このような仮保護膜としては、アクリル系材料を塗布して仮保護し、その後、温水で除去するもの（例えば、特許文献１参照）や、ポリビニルピロリドン系の材料を塗布して仮保護し、その後、水または有機溶剤で除去するものが提案されている（例えば、特許文献２）。 As such a temporary protective film, an acrylic material is applied to temporarily protect the film, and then the film is removed with warm water (see, for example, Patent Document 1), or a polyvinylpyrrolidone-based material is applied to temporarily protect the film. After that, it has been proposed to remove it with water or an organic solvent (for example, Patent Document 2).
しかしながら、アクリル系や、ポリビニルピロリドン系材料の耐熱性は１５０℃程度であり、２００℃～５００℃の熱処理工程では、仮保護膜が熱処理装置に付着する問題や、熱処理工程で仮保護膜が変質して、その後に除去できない問題がある。 However, the heat resistance of acrylic and polyvinylpyrrolidone materials is about 150 ° C, and there is a problem that the temporary protective film adheres to the heat treatment equipment in the heat treatment process of 200 ° C to 500 ° C, and the temporary protective film is altered in the heat treatment process. Then, there is a problem that cannot be removed after that.
かかる状況に鑑み、本発明の目的は、耐熱性に優れ、半導体電子回路形成基板の裏面を２００℃～５００℃で熱処理する工程において、主面の破損を防止し、熱処理装置に付着することなく、その後、温和な条件で除去する事ができる仮保護膜用樹脂組成物、およびこれを用いた半導体電子部品の製造方法を提供することである。 In view of such a situation, an object of the present invention is to have excellent heat resistance, prevent damage to the main surface in the step of heat-treating the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate at 200 ° C. to 500 ° C., and prevent it from adhering to the heat treatment apparatus. After that, it is an object of the present invention to provide a resin composition for a temporary protective film that can be removed under mild conditions, and a method for manufacturing a semiconductor electronic component using the resin composition.
すなわち本発明は、少なくとも（Ａ）水酸基を樹脂全体の２～３０質量％含むポリイミド樹脂および（Ｂ）溶媒を含有質量％する仮保護膜用樹脂組成物である。
また、少なくとも（１）半導体電子回路形成基板の主面に仮保護膜用樹脂組成物を塗布して仮保護膜を形成する工程、（２）前記半導体電子回路形成基板の裏面を加工する工程、（３）前記仮保護膜を有機溶媒またはアルカリ水溶液で除去する工程をこの順に有する半導体電子部品の製造方法である。
That is, the present invention is a resin composition for a temporary protective film containing (A) a polyimide resin containing at least 2 to 30% by mass of a hydroxyl group and (B) a resin composition containing a solvent in an amount of 2 to 30% by mass.
Further, at least (1) a step of applying a resin composition for a temporary protective film to the main surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate to form a temporary protective film, and (2) a step of processing the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate. (3) A method for manufacturing a semiconductor electronic component, which comprises a step of removing the temporary protective film with an organic solvent or an alkaline aqueous solution in this order.
本発明によれば、耐熱性に優れ、半導体電子回路形成基板の裏面を２００℃～５００℃で熱処理する工程において、主面の破損を防止し、熱処理装置に付着することなく、その後、温和な条件で除去する事ができる仮保護膜用樹脂組成物、およびこれを用いた半導体電子部品の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it has excellent heat resistance, prevents damage to the main surface in the step of heat-treating the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate at 200 ° C. to 500 ° C., does not adhere to the heat treatment apparatus, and is mild thereafter. It is possible to provide a resin composition for a temporary protective film that can be removed under certain conditions, and a method for manufacturing a semiconductor electronic component using the same.
本発明において、仮保護膜とは、製造工程の一時的な保護に用い、最終製品である半導体電子部品に残らない保護膜のことを言う。より詳しくは、半導体電子回路形成基板を裏面加工する場合に、一時的に主面を保護し、その後、除去する保護膜である。 本発明は、少なくとも（Ａ）水酸基を樹脂全体の２～３０質量％含むポリイミド樹脂、（Ｂ）溶媒を含有質量％する仮保護膜用樹脂組成物である。 In the present invention, the temporary protective film refers to a protective film that is used for temporary protection in the manufacturing process and does not remain in the final product, a semiconductor electronic component. More specifically, it is a protective film that temporarily protects the main surface and then removes it when the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is processed. The present invention is a polyimide resin containing at least (A) a hydroxyl group in an amount of 2 to 30% by mass based on the total amount of the resin, and (B) a resin composition for a temporary protective film containing a solvent in an amount of 2 to 30% by mass.
本発明の（Ａ）ポリイミド樹脂は、水酸基を樹脂全体の２～３０質量％含む。水酸基の含有量が２質量％以上であると、仮保護膜を温和な条件で除去する事ができる。好ましくは３質量％以上、より好ましくは４質量％以上である。一方、３０質量％以下であると、ポリイミド樹脂の構造が剛直になり、熱処理装置に仮保護膜が付着することを防ぐことができる。好ましくは２０質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以下である。ポリイミド樹脂中の水酸基の含有量は、合成に用いられる全成分中の水酸基の含有量から算出することができる。
また、（Ａ）ポリイミド樹脂は、加熱により閉環しポリイミドとなるポリイミド前駆体であっても、加熱により閉環したポリイミドであっても、ポリイミド樹脂の一部が加熱により閉環したポリイミド前駆体であってもよい。
The (A) polyimide resin of the present invention contains hydroxyl groups in an amount of 2 to 30% by mass based on the total amount of the resin. When the content of the hydroxyl group is 2% by mass or more, the temporary protective film can be removed under mild conditions. It is preferably 3% by mass or more, more preferably 4% by mass or more. On the other hand, when it is 30% by mass or less, the structure of the polyimide resin becomes rigid, and it is possible to prevent the temporary protective film from adhering to the heat treatment apparatus. It is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less. The content of hydroxyl groups in the polyimide resin can be calculated from the content of hydroxyl groups in all the components used in the synthesis.
Further, the polyimide resin (A) is a polyimide precursor in which a part of the polyimide resin is closed by heating, whether it is a polyimide precursor which is closed by heating and becomes a polyimide, or a polyimide which is closed by heating. May be good.
また、（Ａ）ポリイミド樹脂は、芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物残基と、芳香族環を含むジアミン残基を有することが好ましい。芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物残基とジアミン残基を有することで、ポリイミド樹脂の構造が剛直になり、耐熱性が向上するため、熱処理装置に仮保護膜が付着することを防ぐことができる。 Further, the polyimide resin (A) preferably has a tetracarboxylic dianhydride residue containing an aromatic ring and a diamine residue containing an aromatic ring. Having a tetracarboxylic acid dianhydride residue and a diamine residue containing an aromatic ring makes the structure of the polyimide resin rigid and improves heat resistance, thus preventing the temporary protective film from adhering to the heat treatment device. be able to.
芳香族環を含むジアミンの具体例としては、２,５－ジアミノフェノール、３,５－ジアミノフェノール、３,３’－ジヒドロキシベンジジン、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルプロパン、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルヘキサフルオロプロパン、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルスルホン、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルエーテル、３,３’－ジヒドロキシ－４,４’－ジアミノフェニルエーテル、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルプロパンメタン、４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノベンゾフェノン、１,３－ビス（４－アミノ－３－ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１,３－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ベンゼン、ビス（４－（４－アミノ－３－ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン）プロパン、ビス（４－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン）スルホン、ビス（４－（３－アミノ－４－ヒドロキシフェノキシ））ビフェニル、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、２,５－ジアミノトルエン、２,４－ジアミノトルエン、３，５－ジアミノ安息香酸、２，６－ジアミノ安息香酸、２－メトキシ－１，４－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノベンズアニリド、３，４’－ジアミノベンズアニリド、３，３’－ジアミノベンズアニリド、３，３’－ジメチル－４，４’－ジアミノベンズアニリド、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（３－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（３－メチル－４－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（３，５－ジメチル－４－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（３－メトキシ－４－アミノフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－４－カルボン酸、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－４－メチル、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－４－メトキシ、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－４－エチル、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－４－スルホン、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－３－カルボン酸、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン－３－メチル、１,３－ジアミノシクロヘキサン、２，２’－ジメチルベンジジン、３，３’－ジメチルベンジジン、３，３’－ジメトキシベンジジン、２，４－ジアミノピリジン、２，６－ジアミノピリジン、１，５－ジアミノナフタレン、２，７－ジアミノフルオレン、ｐ－アミノベンジルアミン、ｍ－アミノベンジルアミン、４,４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４,４’－ジアミノジフェニルエーテル、３,３’－ジアミノジフェニルエーテル、３,４’－ジアミノジフェニルエーテル、４,４’－ジアミノジフェニルスルホン、３,３’－ジアミノジフェニルスルホン、３,３’－ジアミノジフェニルメタン、４,４’－ジアミノジフェニルメタン、４,４’－ジアミノジフェニルサルファイド、３，３’－ジアミノベンゾフェノン、３，４’－ジアミノベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、３,３’－ジメチル－４,４’－ジアミノジフェニルメタン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン、１,４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン、２,２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２,２－ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］メタン、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］メタン、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４－（３－アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２,２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。上記芳香族ジアミンは単独でもよく、２種以上を使用してもよい。 Specific examples of the diamine containing an aromatic ring include 2,5-diaminophenol, 3,5-diaminophenol, 3,3'-dihydroxybenzidine, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminophenylpropane, 4,4'-Dihydroxy-3,3'-diaminophenylhexafluoropropane, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminophenylsulfone, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminophenyl ether, 3,3'-Dihydroxy-4,4'-diaminophenyl ether, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminophenylpropanemethane, 4,4'-dihydroxy-3,3'-diaminobenzophenone, 1, 3-Bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) benzene, bis (4- (4-amino-3-hydroxyphenoxy) benzene) propane, Bis (4- (3-amino-4-hydroxyphenoxy) benzene) sulfone, bis (4- (3-amino-4-hydroxyphenoxy)) biphenyl, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,5-diamino Toluene, 2,4-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzoic acid, 2,6-diaminobenzoic acid, 2-methoxy-1,4-phenylenediamine, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,4'- Diaminobenzanilide, 3,3'-diaminobenzanilide, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobenzanilide, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-) Aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-dimethyl-4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methoxy) -4-Aminophenyl) Fluorene, 9,9-Bis (4-Aminophenyl) Fluoren-4-carboxylic acid, 9,9-Bis (4-Aminophenyl) Fluoren-4-methyl, 9,9-Bis (4) -Aminophenyl) Fluoren-4-methoxy, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluoren-4-ethyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluoren-4-sulfone, 9,9-bis (4,9-bis) 4-Aminophenyl) Fluoren-3-carboxylic acid, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluoren-3-methyl, 1,3-diaminocyclohexane, 2,2'-dimethylbenzidine, 3, 3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-diaminopyridine, 2,6-diaminopyridine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,7-diaminofluorene, p-aminobenzylamine, m- Aminobenzylamine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone 3,3'-Diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone , 4,4'-Diaminobenzophenone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [ 4- (3-Aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) Phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Examples thereof include bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane. The aromatic diamine may be used alone or in combination of two or more.
これら芳香族ジアミンの中でも、水酸基を有する芳香族ジアミンが好ましく、より好ましくは一般式（１）で表される化合物が好ましい。水酸基を有する芳香族ジアミンを含むことで、（Ａ）ポリイミド樹脂に水酸基を導入する事ができ、仮保護膜の溶解性が向上し、仮保護膜を温和な条件除去する事ができる。 Among these aromatic diamines, an aromatic diamine having a hydroxyl group is preferable, and a compound represented by the general formula (1) is more preferable. By containing the aromatic diamine having a hydroxyl group, the hydroxyl group can be introduced into the (A) polyimide resin, the solubility of the temporary protective film is improved, and the temporary protective film can be removed under mild conditions.
（Ｒ１およびＲ２はそれぞれ同じでも異なっていても良く、炭素数１～３０のアルキル基、炭素数１～３０のアルコキシ基、炭素数１～３０のフルオロアルキル基、水素、ハロゲン、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、フェニル基、スルホン基、ニトロ基およびシアノ基から選ばれる基を示す。ａおよびｂはそれぞれ１～３の整数を示す。Ｘは直接結合、または、下記の結合構造を示す。） (R 1 and R 2 may be the same or different, respectively, and may be the same or different, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a hydrogen, a halogen, and a carboxyl group. , A carboxylic acid ester group, a phenyl group, a sulfone group, a nitro group and a cyano group, respectively. A and b represent integers of 1 to 3, respectively. .)
また、一般式（１）で表される化合物のＸの構造は、仮保護膜の溶解性の観点から下記の結合構造が好ましい。 Further, the structure of X of the compound represented by the general formula (1) is preferably the following binding structure from the viewpoint of solubility of the temporary protective film.
本発明の（Ａ）ポリイミド樹脂では、芳香族環を含むジアミン残基の含有量は、耐熱性の観点から、全ジアミン残基中８０モル％以上、１００モル％以下が好ましい。
また、（Ａ）ポリイミド樹脂の耐熱性を損なわない程度に脂環式ジアミンまたは、シリコン原子含有ジアミンの残基を有してもよい。これらのジアミンの例としては、１,４－ジアミノシクロヘキサン、４,４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、３,３’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、４,４’－ジアミノ－３,３’－ジメチルジシクロヘキシルメタン、４,４’－ジアミノ－３,３’－ジメチルジシクロヘキシル、１，３－ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、１，３－ビス（４－アニリノ）テトラメチルジシロキサンなどを挙げることができる。これらのジアミンは単独でもよく、２種以上用いてもよい。
In the polyimide resin (A) of the present invention, the content of the diamine residue containing the aromatic ring is preferably 80 mol% or more and 100 mol% or less of the total diamine residues from the viewpoint of heat resistance.
Further, the (A) alicyclic diamine or a silicon atom-containing diamine residue may be contained to the extent that the heat resistance of the polyimide resin is not impaired. Examples of these diamines are 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 3,3'-methylenebis (cyclohexylamine), 4,4'-diamino-3,3'-dimethyl. Dicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexane, 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-anilino) tetramethyldisiloxane, etc. Can be mentioned. These diamines may be used alone or in combination of two or more.
一方、芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’ジメチル－３,３’,４,４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、５，５’ジメチル－３,３’,４,４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,３,３’,４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２’,３,３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２,３,３’,４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２,２’,３,３’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,２’,３,３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,３,３’,４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２,３,３’,４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ジフェニルスルホキシドテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’－ジフェニルメチレンテトラカルボン酸二無水物、４,４’－イソプロピリデンジフタル酸無水物、４,４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、３,４,９,１０－ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１,２,５,６－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３,３”,４,４”－パラターフェニルテトラカルボン酸二無水物、３,３”,４,４”－メタターフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８－フェナントレンテトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。上記芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物は単独でもよく、２種以上使用してもよい。 On the other hand, specific examples of the tetracarboxylic acid dianhydride containing an aromatic ring include pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2'dimethyl-. 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 5,5'dimethyl-3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3', 4 '-Biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3, 3', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid Acid dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfoxidetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4, 4'-diphenylsulfide tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylmethylene tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-isopropyridene diphthalic acid anhydride, 4,4'-( Hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8- Naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride 3,3 ", 4,4" -paraterphenyltetracarboxylic acid dianhydride 3,3 ", 4 , 4 "-Metaterphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrentetracarboxylic acid dianhydride and the like. The tetracarboxylic dianhydride containing the aromatic ring may be used alone or in combination of two or more.
これら芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物の中でもさらに、一般式（２）で表される構造のテトラカルボン酸二無水物を含むことが、好ましい。一般式（２）で表される構造のテトラカルボン酸二無水物を含むことで、ポリイミド樹脂が剛直になり、耐熱性が向上するため、熱処理装置に仮保護膜が付着することを防ぐことができる。また、芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物の中で最も分子量が低いため、水酸基を有する芳香族ジアミンと組み合わせることで、ポリイミド樹脂の水酸基の含有量を高くすることができ、仮保護膜を温和な条件で除去する事ができる。 Among these tetracarboxylic dianhydrides containing an aromatic ring, it is preferable to further contain a tetracarboxylic dianhydride having a structure represented by the general formula (2). By containing the tetracarboxylic dianhydride having the structure represented by the general formula (2), the polyimide resin becomes rigid and the heat resistance is improved, so that it is possible to prevent the temporary protective film from adhering to the heat treatment apparatus. can. In addition, since the molecular weight of the tetracarboxylic acid dianhydride containing an aromatic ring is the lowest, the content of hydroxyl groups in the polyimide resin can be increased by combining with an aromatic diamine having a hydroxyl group, and a temporary protective film can be used. Can be removed under mild conditions.
本発明の（Ａ）ポリイミド樹脂は、芳香族環を含むテトラカルボン酸二無水物の残基の含有量は、耐熱性の観点から、全テトラカルボン酸二無水物残基中８０モル％以上、１００モル％以下が好ましい。 In the (A) polyimide resin of the present invention, the content of the residue of the tetracarboxylic acid dianhydride containing the aromatic ring is 80 mol% or more in the total tetracarboxylic acid dianhydride residue from the viewpoint of heat resistance. It is preferably 100 mol% or less.
また、（Ａ）ポリイミド樹脂の耐熱性を損なわない程度に脂肪族環を持つテトラカルボン酸二無水物を含有させることができる。脂肪族環を持つテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、２,３,５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１,２,３,４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,５－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１,２,４,５－ビシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、１,２,４,５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,５,９ｂ－ヘキサヒドロ－５－（テトラヒドロ－２,５－ジオキソ－３－フラニル）－ナフト［１,２－Ｃ］フラン－１,３－ジオンが挙げられる。上記テトラカルボン酸二無水物は単独でもよく、２種以上を使用してもよい。 Further, the tetracarboxylic dianhydride having an aliphatic ring can be contained to the extent that the heat resistance of the (A) polyimide resin is not impaired. Specific examples of tetracarboxylic acid dianhydride having an aliphatic ring include 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2. , 3,4-Cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride 1,2,3,5-cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride 1,2,4,5-bicyclohexenetetracarboxylic acid dianhydride 1,1, 2,4,5-Cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2- C] Franc-1,3-dione can be mentioned. The tetracarboxylic dianhydride may be used alone or in combination of two or more.
また、（Ａ）ポリイミド樹脂の分子量の調整は、合成に用いるテトラカルボン酸成分およびジアミン成分を等モルにする、またはいずれかを過剰にすることにより行うことができる。テトラカルボン酸成分またはジアミン成分のどちらかを過剰とし、ポリマー鎖末端を酸成分またはアミン成分などの末端封止剤で封止することもできる。酸成分の末端封止剤としてはジカルボン酸またはその無水物が好ましく用いられ、アミン成分の末端封止剤としてはモノアミンが好ましく用いられる。このとき、酸成分またはアミン成分の末端封止剤を含めたテトラカルボン酸成分の酸当量とジアミン成分のアミン当量を等モルにすることが好ましい。 Further, the molecular weight of the (A) polyimide resin can be adjusted by making the tetracarboxylic acid component and the diamine component used for the synthesis equimolar, or by making either of them excessive. It is also possible to add an excess of either the tetracarboxylic acid component or the diamine component and seal the end of the polymer chain with an end-capping agent such as an acid component or an amine component. A dicarboxylic acid or an anhydride thereof is preferably used as the terminal encapsulant for the acid component, and a monoamine is preferably used as the terminal encapsulant for the amine component. At this time, it is preferable that the acid equivalent of the tetracarboxylic acid component including the terminal encapsulant of the acid component or the amine component and the amine equivalent of the diamine component are equimolar.
テトラカルボン酸成分が過剰、あるいはジアミン成分が過剰になるようにモル比を調整した場合は、安息香酸、無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、アニリンなどのジカルボン酸またはその無水物、モノアミンを末端封止剤として添加してもよい。 When the molar ratio is adjusted so that the tetracarboxylic acid component is excessive or the diamine component is excessive, the terminal is a dicarboxylic acid such as benzoic acid, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, aniline or an anhydride thereof, or monoamine. It may be added as a sealant.
本発明において、ポリイミド共重合体およびポリイミド樹脂のテトラカルボン酸成分／ジアミン成分のモル比は、樹脂組成物の粘度が塗工等において使用し易い範囲になるように、適宜調整することができ、１００／１００～１００／９５、あるいは１００／１００～９５／１００の範囲でテトラカルボン酸成分／ジアミン成分のモル比を調整することが一般的である。モルバランスを崩していくと、樹脂の分子量が低下し、形成した膜の機械的強度が低くなり、粘着力も弱くなる傾向にあるので、粘着力が弱くならない範囲でモル比を調整することが好ましい。 In the present invention, the molar ratio of the tetracarboxylic acid component / diamine component of the polyimide copolymer and the polyimide resin can be appropriately adjusted so that the viscosity of the resin composition is in a range that is easy to use in coating and the like. It is common to adjust the molar ratio of the tetracarboxylic acid component / diamine component in the range of 100/100 to 100/95 or 100/100 to 95/100. When the molar balance is lost, the molecular weight of the resin decreases, the mechanical strength of the formed film decreases, and the adhesive strength tends to weaken. Therefore, it is preferable to adjust the molar ratio within the range where the adhesive strength does not weaken. ..
本発明の（Ａ）ポリイミド樹脂を重合する方法には特に制限は無い。例えば、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸を重合する時は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを有機溶剤中、０～１００℃で１～１００時間撹拌してポリアミド酸樹脂溶液を得る。ポリイミド樹脂が有機溶媒に可溶性となる場合には、ポリアミド酸を重合後、そのまま温度を１２０～３００℃に上げて１～１００時間撹拌し、ポリイミドに変換し、ポリイミド溶液を得る。この時、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレンなどを反応溶液中に添加し、イミド化反応で出る水をこれら溶媒と共沸させて除去しても良い。 The method for polymerizing the (A) polyimide resin of the present invention is not particularly limited. For example, when polymerizing polyamic acid, which is a polyimide precursor, tetracarboxylic acid dianhydride and diamine are stirred in an organic solvent at 0 to 100 ° C. for 1 to 100 hours to obtain a polyamic acid resin solution. When the polyimide resin becomes soluble in an organic solvent, after polymerizing the polyamic acid, the temperature is raised to 120 to 300 ° C. and the mixture is stirred for 1 to 100 hours to convert it into polyimide to obtain a polyimide solution. At this time, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene and the like may be added to the reaction solution, and the water produced in the imidization reaction may be azeotropically removed with these solvents.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物に含有する（Ａ）ポリイミド樹脂の濃度は、塗布性の観点から通常５～８０質量％が好ましく、さらに好ましくは１０～７０質量％であることが好ましい。 The concentration of the (A) polyimide resin contained in the resin composition for a temporary protective film of the present invention is usually preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 70% by mass from the viewpoint of coatability.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、（Ｂ）溶媒を含有する。
ポリイミド樹脂の重合では、溶解性の観点から、溶媒としてＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を使用することが多い。しかしながら、ＮＭＰは生体への影響が懸念され、さらに、大気圧下での沸点が２０２℃と高いため、熱硬化工程で仮保護膜から溶媒が十分に揮発せず、耐熱性が低下する問題がある。
The resin composition for a temporary protective film of the present invention contains (B) a solvent.
In the polymerization of the polyimide resin, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) is often used as a solvent from the viewpoint of solubility. However, there is a concern that NMP may affect the living body, and since the boiling point under atmospheric pressure is as high as 202 ° C., there is a problem that the solvent does not sufficiently volatilize from the temporary protective film in the thermosetting step and the heat resistance is lowered. be.
本発明の（Ｂ）溶媒は、大気圧下での沸点が１５０～１８０℃であることが好ましい。大気圧下での沸点が１８０℃以下であれば、熱硬化工程で仮保護膜から溶媒が十分に揮発し、耐熱性を向上することができる。また、（Ａ）ポリイミド樹脂が前述のポリイミドである場合、大気圧下での沸点が１５０℃以上であれば、重合溶媒として好適に用いることができ、さらに、重合溶液を除去することなく、仮保護膜用樹脂組成物に含まれる（Ｂ）溶媒とすることもできる。 The solvent (B) of the present invention preferably has a boiling point of 150 to 180 ° C. under atmospheric pressure. When the boiling point under atmospheric pressure is 180 ° C. or lower, the solvent is sufficiently volatilized from the temporary protective film in the thermosetting step, and the heat resistance can be improved. Further, when the (A) polyimide resin is the above-mentioned polyimide, it can be suitably used as a polymerization solvent if the boiling point under atmospheric pressure is 150 ° C. or higher, and further, it is tentatively used without removing the polymerization solution. It can also be used as the solvent (B) contained in the resin composition for a protective film.
また、（Ｂ）溶媒は、ポリイミド樹脂の溶解性の観点から、窒素含有極性溶媒が好ましく、さらに、生体への影響の観点から、一般式（３）または一般式（４）で表される溶媒を含むことが好ましい。 Further, the solvent (B) is preferably a nitrogen-containing polar solvent from the viewpoint of solubility of the polyimide resin, and further, from the viewpoint of the influence on the living body, the solvent represented by the general formula (3) or the general formula (4). It is preferable to include.
（Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同じでも異なっていても良く、炭素数１～３０のアルキル基または水素から選ばれる基を示す。Ｒ５は水素または水酸基を示す。Ｒ６およびＲ７はそれぞれ同じでも異なっていても良く、炭素数１～３０のアルキル基、炭素数１～３０のアルコキシ基から選ばれる基を示す。） (R 3 and R 4 may be the same or different, respectively, and indicate a group selected from an alkyl group or hydrogen having 1 to 30 carbon atoms. R 5 indicates hydrogen or a hydroxyl group. R 6 and R 7 are the same, respectively. However, they may be different, and indicate a group selected from an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms.)
（Ｒ８～Ｒ１１はそれぞれ同じでも異なっていても良く、炭素数１～３０のアルキル基または水素から選ばれる基を示す。）
一般式（３）で表される溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、Ｎ－エチル，Ｎ，２－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－２－メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，２－トリメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ－エチル－Ｎ，２－ジメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオンアミドなどが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。
(R 8 to R 11 may be the same or different, respectively, and indicate a group selected from an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or hydrogen.)
Specific examples of the solvent represented by the general formula (3) include N, N, 2-trimethylpropionamide, N-ethyl, N, 2-dimethylpropionamide, N, N-diethyl-2-methylpropionamide, and the like. Examples thereof include N, N, 2-trimethyl-2-hydroxypropionamide, N-ethyl-N, 2-dimethyl-2-hydroxypropionamide, N, N-diethyl-2-hydroxy-2-methylpropionamide and the like. These may be used alone or may use two or more kinds.
一般式（４）で表される溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルウレアなどが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。 Specific examples of the solvent represented by the general formula (4) include N, N, N', N'-tetramethylurea, N, N, N', N'-tetraethylurea and the like. These may be used alone or may use two or more kinds.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物に含まれる（Ｂ）溶媒は、一般式（３）または一般式（４）で示され、かつ大気圧下での沸点が１５０～１８０℃の溶媒がより好ましい。具体例としては、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド（沸点；１７５℃）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウレア（沸点；１７７）などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。 The solvent (B) contained in the resin composition for a temporary protective film of the present invention is represented by the general formula (3) or the general formula (4), and the solvent having a boiling point of 150 to 180 ° C. under atmospheric pressure is more suitable. preferable. Specific examples include N, N, 2-trimethylpropionamide (boiling point; 175 ° C.), N, N, N', N'-tetramethylurea (boiling point; 177) and the like. These may be used alone or may use two or more kinds.
また、（Ａ）ポリイミド樹脂の溶解性を効果を損なわない範囲で、その他の溶媒を添加することができる。例えば、エチレングリゴールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、３－メチル－２－ブタノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、その他、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトンなどが挙げられるが、これらに限定されない。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。 Further, other solvents can be added as long as the solubility of the (A) polyimide resin is not impaired. For example, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ale, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol. Acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, acetylacetone , Methylpropylketone, Methylbutylketone, Methylisobutylketone, Cyclopentanone, 2-Heptanone and other ketones, Butyl alcohol, Isobutyl alcohol, Pentanol, 4-Methyl-2-pentanol, 3-Methyl-2-butanol , 3-Methyl-3-methoxybutanol, alcohols such as diacetone alcohol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone and the like, but are not limited thereto. These may be used alone or may use two or more kinds.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物に架橋剤を含む場合、架橋剤の含有量は、（Ａ）ポリイミド樹脂に対して０．１質量％以下が好ましい。架橋剤が０．１質量％以下であると、ポリイミド樹脂に架橋が生じず、仮保護膜を温和な条件で除去する事ができる。より好ましくは０．０１質量％以下であり、さらに好ましくは０．００１質量％以下である。ここで言う架橋剤とは、（Ａ）ポリイミド樹脂を架橋するものであれば特に制限はないが、具体的には、エチニル基、ビニル基、メチロール基、メトキシメチロール基、エポキシ基、オキセタン基などの基を１～６個有した化合物である。 When the resin composition for a temporary protective film of the present invention contains a cross-linking agent, the content of the cross-linking agent is preferably 0.1% by mass or less with respect to the (A) polyimide resin. When the cross-linking agent is 0.1% by mass or less, the polyimide resin is not cross-linked, and the temporary protective film can be removed under mild conditions. It is more preferably 0.01% by mass or less, still more preferably 0.001% by mass or less. The cross-linking agent referred to here is not particularly limited as long as it cross-links the (A) polyimide resin, but specifically, an ethynyl group, a vinyl group, a methylol group, a methoxymethylol group, an epoxy group, an oxetane group and the like. It is a compound having 1 to 6 groups of.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子を含有することで樹脂組成物の耐熱性を向上させることができる。無機微粒子の具体例としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、石英粉、炭酸マグネシウム、炭酸カリウム、硫酸バリウム、マイカ、タルクなどが挙げられる。 The resin composition for a temporary protective film of the present invention may contain inorganic fine particles as long as the effects of the present invention are not impaired. The heat resistance of the resin composition can be improved by containing the inorganic fine particles. Specific examples of the inorganic fine particles include silica, alumina, titanium oxide, quartz powder, magnesium carbonate, potassium carbonate, barium sulfate, mica, and talc.
本発明の（Ａ）ポリイミド樹脂がポリアミド前躯体の場合は、ウエハやガラス等の基材に塗布、乾燥して塗工膜を形成した後に、熱処理してポリイミドに変換する。塗工後にポリイミド前駆体からポリイミドへの変換には２４０℃以上の温度が必要であるが、ポリアミド酸樹脂組成物中にイミド化触媒を含有することにより、より低温、短時間でのイミド化が可能となる。イミド化触媒の具体例としては、ピリジン、トリメチルピリジン、β-ピコリン、キノリン、イソキノリン、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２，６－ルチジン、トリエチルアミン、ｍ－ヒドロキシ安息香酸、２，４－ジヒドロキシ安息香酸、ｐ－ヒドロキシフェニル酢酸、４－ヒドロキシフェニルプロピオン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、ｐ－アミノフェノール、ｐ－アミノ安息香酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 When the (A) polyimide resin of the present invention is a polyamide precursor, it is applied to a substrate such as a wafer or glass, dried to form a coating film, and then heat-treated to be converted into polyimide. The conversion of the polyimide precursor to the polyimide after coating requires a temperature of 240 ° C. or higher, but by containing the imidization catalyst in the polyamic acid resin composition, imidization can be performed at a lower temperature and in a shorter time. It will be possible. Specific examples of the imidization catalyst include pyridine, trimethylpyridine, β-picolin, quinoline, isoquinoline, imidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2,6-lutidine, triethylamine, m. -Hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, p-hydroxyphenylacetic acid, 4-hydroxyphenylpropionic acid, p-phenolsulfonic acid, p-aminophenol, p-aminobenzoic acid and the like can be mentioned. Not limited.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲でその他の樹脂を添加することができる。その他の樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ブタジエン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂などの耐熱性高分子樹脂が挙げられる。また、接着性、耐熱性、塗工性、保存安定性などの特性を改良する目的で界面活性剤、シランカップリング剤などを添加しても良い。 Other resins can be added to the resin composition for a temporary protective film of the present invention as long as the effects of the present invention are not impaired. Other resins include heat-resistant polymer resins such as acrylic resins, acrylonitrile resins, butadiene resins, urethane resins, polyester resins, polyamide resins, polyamideimide resins, epoxy resins, and phenol resins. Can be mentioned. Further, a surfactant, a silane coupling agent, or the like may be added for the purpose of improving properties such as adhesiveness, heat resistance, coatability, and storage stability.
本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、半導体電子部品の製造に用いることができる。詳しくは、少なくとも（１）半導体電子回路形成基板の主面に本発明の仮保護膜用樹脂組成物を塗布して仮保護膜を形成する工程、（２）前記半導体電子回路形成基板の裏面を加工する工程、（３）前記仮保護膜を有機溶媒またはアルカリ水溶液で除去する工程をこの順に有する半導体電子部品の製造に好適に用いることができる。 The resin composition for a temporary protective film of the present invention can be used for manufacturing semiconductor electronic components. Specifically, at least (1) a step of applying the resin composition for a temporary protective film of the present invention to the main surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate to form a temporary protective film, and (2) the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate. It can be suitably used for manufacturing a semiconductor electronic component having a step of processing and (3) a step of removing the temporary protective film with an organic solvent or an alkaline aqueous solution in this order.
このように、半導体電子回路形成基板を裏面加工する場合、半導体電子回路を形成した主面を下側にして搬送や裏面加工をするため、主面に形成した半導体電子回路が破損するおそれがある。本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、半導体電子回路形成基板を裏面加工する際の、一時的な主面の仮保護膜として好適に用いることができ、裏面加工後に温和な条件で除去することができる。 In this way, when the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is processed, the semiconductor electronic circuit formed on the main surface may be damaged because the main surface on which the semiconductor electronic circuit is formed is on the lower side for transportation and back surface processing. .. The resin composition for a temporary protective film of the present invention can be suitably used as a temporary temporary protective film for a temporary main surface when processing a back surface of a semiconductor electronic circuit forming substrate, and is removed under mild conditions after processing the back surface. be able to.
また、裏面加工に熱処理工程がある場合、仮保護膜には耐熱性が求められる。本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、２００～５００℃の熱処理工程でも仮保護膜が熱処理装置に付着することなく、その後、温和な条件で除去する事ができる。
なお、本発明において、主面とは、先に半導体電子回路を形成する側の面を言う。裏面とは、その後に半導体電子回路を形成する側の面を言う。
Further, when the back surface processing has a heat treatment step, the temporary protective film is required to have heat resistance. The resin composition for a temporary protective film of the present invention can be removed under mild conditions after the temporary protective film does not adhere to the heat treatment apparatus even in the heat treatment step of 200 to 500 ° C.
In the present invention, the main surface refers to the surface on the side where the semiconductor electronic circuit is first formed. The back surface refers to the surface on the side where the semiconductor electronic circuit is subsequently formed.
（１）半導体電子回路形成基板の主面上に本発明の仮保護膜用樹脂組成物を塗布して、仮保護膜を形成する工程について、説明する。 (1) A step of applying the resin composition for a temporary protective film of the present invention on the main surface of a semiconductor electronic circuit forming substrate to form a temporary protective film will be described.
半導体電子回路形成基板の主面上に本発明の仮保護膜用樹脂組成物を塗布する方法としては、スピンコーター、ロールコーター、スクリーン印刷、スリットダイコーターなどが挙げられる。また、樹脂組成物を塗布後１００～１５０℃で乾燥させた後に、２００～５００℃で１時間～３時間連続的または断続的に熱硬化処理を行うことで、耐熱性の良好な仮保護膜を得ることができる。熱硬化処理の温度が、２００℃以上であれば、（Ｂ）溶媒を十分に除去でき、耐熱性が向上する。より好ましくは２５０℃以上であり、さらに好ましくは３００℃以上である。さらに、熱硬化処理の温度が、５００℃以下であれば、（Ａ）ポリイミド膜の酸化劣化を防止し、仮保護膜を温和な条件で除去することができる。より好ましくは４３０℃以下であり、さらに好ましくは４１０℃以下である。 Examples of the method for applying the resin composition for a temporary protective film of the present invention on the main surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate include a spin coater, a roll coater, screen printing, and a slit die coater. Further, by applying the resin composition, drying it at 100 to 150 ° C., and then continuously or intermittently performing a thermosetting treatment at 200 to 500 ° C. for 1 hour to 3 hours, a temporary protective film having good heat resistance is provided. Can be obtained. When the temperature of the thermosetting treatment is 200 ° C. or higher, the solvent (B) can be sufficiently removed and the heat resistance is improved. It is more preferably 250 ° C. or higher, and even more preferably 300 ° C. or higher. Further, when the temperature of the thermosetting treatment is 500 ° C. or lower, the (A) polyimide film can be prevented from oxidative deterioration and the temporary protective film can be removed under mild conditions. It is more preferably 430 ° C or lower, and even more preferably 410 ° C or lower.
また、熱硬化処理は窒素雰囲気下で行うことが好ましい。窒素雰囲気下で熱硬化処理を行うことで、（Ａ）ポリイミド膜の酸化劣化を防止し、仮保護膜を温和な条件で除去することができる。 Further, it is preferable that the thermosetting treatment is performed in a nitrogen atmosphere. By performing the thermosetting treatment in a nitrogen atmosphere, the (A) polyimide film can be prevented from oxidative deterioration, and the temporary protective film can be removed under mild conditions.
仮保護膜の厚みは、０．１μｍ以上６０μｍ以下が好ましい。厚みが０．１μｍ以上であると半導体電子回路形成基板の主面の破損を防止することができる。より好ましくは、０．５μｍ以上であり、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。また、厚みが６０μｍ以下であると、仮保護膜の除去工程の時間が短くすることができる。より好ましくは５０μｍ以下であり、さらに好ましくは４０μｍ以下である。 The thickness of the temporary protective film is preferably 0.1 μm or more and 60 μm or less. When the thickness is 0.1 μm or more, it is possible to prevent the main surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate from being damaged. It is more preferably 0.5 μm or more, and further preferably 1.0 μm or more. Further, when the thickness is 60 μm or less, the time of the temporary protective film removing step can be shortened. It is more preferably 50 μm or less, still more preferably 40 μm or less.
（２）前記半導体電子回路形成基板の裏面を加工する工程について、説明する。 (2) The process of processing the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate will be described.
本発明では、半導体電子回路形成基板の裏面を加工する工程であれば特に制限はない。
半導体電子回路形成基板の裏面加工する場合、半導体電子回路を形成した主面を下側にして搬送や裏面加工をするため、主面に形成した半導体電子回路が破損するおそれがある。本発明の仮保護膜用樹脂組成物は、半導体電子回路形成基板の裏面加工する際の、一時的な主面の仮保護膜として用いることができる。特に、２００～５００℃の熱処理工程がある裏面工程の一時的な主面の仮保護膜として好適に用いることができる
２００～５００℃の熱処理装置は、特に制限はなく、オーブンのように高温雰囲気で加熱する装置や、ホットプレートのように仮保護膜と熱板が接して加熱する装置などに用いることができる。本発明の仮保護膜用樹脂組成物を用いることで、主面の破損を防止し、仮保護膜が熱処理装置に付着することなく、２００～５００℃の裏面工程行うことができる。
（３）前記仮保護膜を有機溶媒またはアルカリ水溶液で除去する工程について、説明する。
In the present invention, there is no particular limitation as long as it is a step of processing the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate.
When the back surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is processed, the semiconductor electronic circuit formed on the main surface may be damaged because the transport or the back surface processing is performed with the main surface on which the semiconductor electronic circuit is formed facing down. The resin composition for a temporary protective film of the present invention can be used as a temporary protective film for a temporary main surface when the back surface of a semiconductor electronic circuit forming substrate is processed. In particular, the heat treatment apparatus at 200 to 500 ° C., which can be suitably used as a temporary protective film for the temporary main surface of the back surface process having a heat treatment step at 200 to 500 ° C., is not particularly limited and has a high temperature atmosphere like an oven. It can be used for a device for heating with a hot plate, a device for heating a temporary protective film and a hot plate in contact with each other, such as a hot plate. By using the resin composition for a temporary protective film of the present invention, damage to the main surface can be prevented, and the back surface process at 200 to 500 ° C. can be performed without the temporary protective film adhering to the heat treatment apparatus.
(3) A step of removing the temporary protective film with an organic solvent or an alkaline aqueous solution will be described.
本発明の仮保護膜は、有機溶媒またはアルカリ水溶液で除去することができる。
有機溶媒には、アミン系溶媒を含むことが好ましい。具体的には、モノメタノールアミン、ジメタノールアミン、トリメタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミンなどが挙げられるが、これに限定されない。コストの観点から、モノエタノールアミンがより好ましい。アミン系溶媒は、ポリイミド樹脂のイミド基を開環させ有機溶剤に溶解しやすくする効果があり、洗浄時間を短縮することができる。
The temporary protective film of the present invention can be removed with an organic solvent or an alkaline aqueous solution.
The organic solvent preferably contains an amine-based solvent. Specific examples thereof include, but are not limited to, monomethanolamine, dimethanolamine, trimethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and dimethylamine. From a cost standpoint, monoethanolamine is more preferred. The amine-based solvent has the effect of opening the imide group of the polyimide resin and making it easier to dissolve in the organic solvent, and can shorten the cleaning time.
有機溶媒の溶解性の効果を損なわない範囲でその他の溶媒を添加することができる。例えば、エチレングリゴールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、３－メチル－２－ブタノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、その他、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリドンＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド、Ｎ－エチル，Ｎ，２－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－２－メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，２－トリメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ－エチル－Ｎ，２－ジメチル－２－ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオンアミドＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラエチルウレアなどが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。 Other solvents can be added as long as the solubility effect of the organic solvent is not impaired. For example, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ale, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, and ethylene glycol. Acetates such as monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, acetylacetone , Methylpropylketone, Methylbutylketone, Methylisobutylketone, Cyclopentanone, 2-Heptanone and other ketones, Butyl alcohol, Isobutyl alcohol, Pentanol, 4-Methyl-2-pentanol, 3-Methyl-2-butanol , 3-Methyl-3-methoxybutanol, alcohols such as diacetone alcohol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and others, N-methyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone N, N- Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, N, N, 2-trimethylpropionamide, N-ethyl, N,2-dimethylpropionamide, N, N-diethyl-2-methylpropionamide , N, N, 2-trimethyl-2-hydroxypropionamide, N-ethyl-N, 2-dimethyl-2-hydroxypropionamide, N, N-diethyl-2-hydroxy-2-methylpropionamide N, N, N', N'-tetraethylurea and the like can be mentioned. These may be used alone or may use two or more kinds.
アルカリ水溶液として、具体的には、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水溶液などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を用いても良い。有機溶媒とアルカリ水溶液の混合液を用いても良い。 Specific examples of the alkaline aqueous solution include aqueous solutions of sodium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide and the like. These may be used alone or may use two or more kinds. A mixed solution of an organic solvent and an alkaline aqueous solution may be used.
仮保護膜を除去する際の有機溶媒またはアルカリ水溶液の温度は、２０～７０℃が好ましい。半導体電子回路形成基板の少なくとも一部が、耐熱性保護膜である場合、有機溶媒またはアルカリ水溶液の温度が７０℃を超えると、耐熱性保護膜が破損するおそれがある。より好ましくは、６０℃以下であり、さらに好ましくは、５０℃以下である。有機溶媒またはアルカリ水溶液の温度が２０℃未満の場合、有機溶媒またはアルカリ水溶液の冷却装置が必要であり、コストの観点から好ましくない。 The temperature of the organic solvent or alkaline aqueous solution for removing the temporary protective film is preferably 20 to 70 ° C. When at least a part of the semiconductor electronic circuit forming substrate is a heat-resistant protective film, if the temperature of the organic solvent or the alkaline aqueous solution exceeds 70 ° C., the heat-resistant protective film may be damaged. More preferably, it is 60 ° C. or lower, and even more preferably 50 ° C. or lower. When the temperature of the organic solvent or the alkaline aqueous solution is less than 20 ° C., a cooling device for the organic solvent or the alkaline aqueous solution is required, which is not preferable from the viewpoint of cost.
本発明において、耐熱性保護膜とは、最終製品である半導体電子部品に組み込まれる保護膜を言う。例えば、ポリイミド系耐熱性樹脂（東レ株式会社製セミコファインＳＰシリーズ等）や、ポリベンゾオキサゾール系耐熱性樹脂（旭化成株式会社製パイメルＡＭ－２７０シリーズ等）が挙げられる。 In the present invention, the heat-resistant protective film means a protective film incorporated in a semiconductor electronic component which is a final product. Examples thereof include polyimide-based heat-resistant resins (Semicofine SP series manufactured by Toray Industries, Inc.) and polybenzoxazole-based heat-resistant resins (Pymel AM-270 series manufactured by Asahi Kasei Corporation).
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
熱処理装置への付着評価、仮保護膜除去時間評価、仮保護膜除去後の目視評価、耐熱性保護膜の膜厚評価の評価方法について述べる。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
An evaluation method for evaluation of adhesion to a heat treatment apparatus, evaluation of temporary protective film removal time, visual evaluation after removal of temporary protective film, and evaluation of film thickness of heat-resistant protective film will be described.
（１）熱処理装置への付着評価
厚さ７５０μｍの８インチシリコンウエハ（信越化学工業（株)社製）上に、耐熱性保護膜であるポリイミドコーティング剤セミコファインＳＰ－３４１（商品名、東レ（株）製）を硬化後の厚みが８μｍになるようにスピンコーターで回転数を調整して塗布し、１２０℃で１０分熱処理して乾燥した後、３２０℃で３０分間熱処理して硬化を行い、耐熱性保護膜付きシリコン基板を得た。
(1) Evaluation of adhesion to heat treatment equipment A polyimide coating agent Semicofine SP-341 (trade name, Toray Industries, Inc.), which is a heat-resistant protective film, is placed on an 8-inch silicon wafer (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with a thickness of 750 μm. Co., Ltd.) was applied by adjusting the rotation speed with a spin coater so that the thickness after curing was 8 μm, heat-treated at 120 ° C for 10 minutes to dry, and then heat-treated at 320 ° C for 30 minutes to cure. , A silicon substrate with a heat-resistant protective film was obtained.
次に、耐熱性保護膜付きシリコン基板上に、下記合成例１～１０、製造例１で作成した仮保護膜用樹脂組成物を、下記表２に記載の硬化後膜厚になるようにスピンコーターで回転数を調整して塗布し、１２０℃で１０分熱処理して乾燥した後、窒素オーブンで下記表２に記載の硬化温度で６０分間熱処理して硬化を行い、仮保護膜積層シリコン基板を得た。 Next, the resin compositions for the temporary protective film prepared in Synthesis Examples 1 to 10 and Production Example 1 below are spun on a silicon substrate with a heat-resistant protective film so as to have the thickness after curing shown in Table 2 below. The coating film is applied by adjusting the number of rotations with a coater, heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes to dry, and then heat-treated in a nitrogen oven at the curing temperature shown in Table 2 below for 60 minutes to cure the temporary protective film laminated silicon substrate. Got
上記方法で作製した仮保護膜積層シリコン基板の仮保護膜面と、ホットプレートの熱板とが接するように設置し、１０分間の熱処理を行い、その後、ウエハ用ピンセットで仮保護膜積層シリコン基板をピックアップした。熱処理温度は、下記表２に記載した。
このとき、仮保護膜積層シリコン基板をピックアップできれば熱処理装置への付着評価“Ａ”、ホットプレートに接着してピックアップできなければ熱処理装置への付着評価“Ｃ”とした。
The temporary protective film laminated silicon substrate produced by the above method is installed so that the temporary protective film surface and the hot plate of the hot plate are in contact with each other, and heat treatment is performed for 10 minutes. Was picked up. The heat treatment temperatures are listed in Table 2 below.
At this time, if the temporary protective film laminated silicon substrate could be picked up, the adhesion evaluation to the heat treatment apparatus was "A", and if it could not be adhered to the hot plate and picked up, the adhesion evaluation to the heat treatment apparatus was "C".
また、評価後のホットプレートを肉眼で観察し、仮保護膜の残渣の有無を確認した。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：ホットプレートに仮保護膜の残渣無し
Ｂ：ホットプレートに仮保護膜の残渣有り。
In addition, the hot plate after the evaluation was observed with the naked eye to confirm the presence or absence of the residue of the temporary protective film. The evaluation criteria are as follows.
A: No temporary protective film residue on the hot plate B: Temporary protective film residue on the hot plate.
（２）仮保護膜除去時間評価
上記で熱処理装置への付着評価をした仮保護膜積層シリコン基板を、下記表２に記載の除去液、温度条件で浸漬し、仮保護膜を除去した。評価基準は下記のとおりである。なお、表２において、有機溶剤とあるのは後述する製造例１で製造した有機溶剤のことである。
Ａ：１０分以内に除去できた。
Ｂ：１０分以上２０分以内に除去できた。
Ｃ：２０分以上３０分以内に除去できた。
Ｄ：３０分以内に除去できなかった。
(2) Evaluation of Temporary Protective Film Removal Time The temporary protective film laminated silicon substrate evaluated for adhesion to the heat treatment apparatus was immersed in the removal liquid and temperature conditions shown in Table 2 below to remove the temporary protective film. The evaluation criteria are as follows. In Table 2, the organic solvent refers to the organic solvent produced in Production Example 1 described later.
A: It could be removed within 10 minutes.
B: It could be removed within 10 minutes or more and 20 minutes or less.
C: It could be removed within 20 minutes or more and 30 minutes or less.
D: Could not be removed within 30 minutes.
（３）仮保護膜除去後の目視評価
上記で仮保護膜除去評価をした耐熱性保護膜付きシリコン基板を肉眼で観察し、搬送時に付いたキズの有無を確認した。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：キズ無し
Ｂ：キズ有り
（４）耐熱性保護膜の膜厚評価
上記で仮保護膜除去後の目視評価をした耐熱性保護膜付きシリコン基板の耐熱性保護膜の膜厚を測定し、初期膜厚８μｍと比較した。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：耐熱性保護膜の膜厚に変化無し
Ｂ：耐熱性保護膜の膜減りが１μｍ以下
Ｃ：耐熱性保護膜の膜減りが１μｍ以上。
(3) Visual evaluation after removal of temporary protective film The silicon substrate with heat-resistant protective film evaluated for removal of temporary protective film was visually observed to confirm the presence or absence of scratches during transportation. The evaluation criteria are as follows.
A: No scratches B: Scratches (4) Evaluation of film thickness of heat-resistant protective film Measure the film thickness of the heat-resistant protective film of the silicon substrate with heat-resistant protective film that was visually evaluated after removing the temporary protective film. It was compared with the initial film thickness of 8 μm. The evaluation criteria are as follows.
A: No change in the film thickness of the heat-resistant protective film B: The film thickness of the heat-resistant protective film is 1 μm or less C: The film thickness of the heat-resistant protective film is 1 μm or more.
以下の合成例、製造例に示してある酸二無水物、ジアミン、架橋剤、および溶媒の略記号の名称は下記の通りである。
ＯＤＰＡ：３，３’，４，４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＰＭＤＡ：ピロメリット酸二無水物
ＢＡＨＦ： ２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
ＡＢＰＳ：４,４’－ジヒドロキシ－３,３’－ジアミノフェニルスルホン
ＦＤＡ：９，９－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）フルオレン
ＡＰＢ：１，３－ビス（３－アミノフェノキシ）ベンゼン
ＳｉＤＡ：１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ビス（３－アミノ プロピル）ジシロキサン
ＤＭＩＢ：Ｎ，Ｎ，２－トリメチルプロピオンアミド
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＧＢＬ：γ－ブチロラクトン
ＤＭＭ：ジプロピレングリコールジメチルエーテル。
The names of the abbreviations for acid dianhydrides, diamines, cross-linking agents, and solvents shown in the following synthesis examples and production examples are as follows.
ODPA: 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride PMDA: pyromellitic acid dianhydride BAHF: 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane ABPS: 4 , 4'-Dihydroxy-3,3'-Diaminophenyl sulfone FDA: 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene APB: 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene SiDA: 1, 1,3,3-Tetramethyl-1,3-bis (3-aminopropyl) disiloxane DMIB: N, N, 2-trimethylpropionamide NMP: N-methyl-2-pyrrolidone GBL: γ-butyrolactone DMM: di Propylene glycol dimethyl ether.
合成例１（ポリイミドの重合）
温度計、乾燥窒素導入口、温水・冷却水による加熱・冷却装置、および、撹拌装置を付した反応釜に、ＢＡＨＦ ３４７．９ｇ（０．９５ｍｏｌ）、ＳｉＤＡ １２．４ｇ（０．０５ｍｏｌ）をＤＭＩＢ １７３５．５ｇと共に仕込み、溶解させた後、ＰＭＤＡ ２１８．１ｇ（１ｍｏｌ）を添加し、５０℃で１時間、続いて１６０℃で４時間反応させて、仮保護膜用樹脂組成物である２５質量％のポリイミド溶液（ＰＡ１）を得た。
Synthesis Example 1 (Polyimide Polymerization)
DMIB 347.9 g (0.95 mol) of BAHF and 12.4 g (0.05 mol) of SiDA in a reaction kettle equipped with a thermometer, a dry nitrogen inlet, a heating / cooling device with hot / cooling water, and a stirring device. After charging and dissolving with 1735.5 g, PMDA 218.1 g (1 mol) was added and reacted at 50 ° C. for 1 hour, followed by 160 ° C. for 4 hours to 25 mass of the resin composition for a temporary protective film. % Polyimide solution (PA1) was obtained.
ポリイミド溶液を室温に戻し、析出物の有無を目視評価で確認し、結果を表１にまとめた。また、ポリイミド樹脂中の水酸基の含有量を下記のように計算し、結果を表１にまとめた。
＜ポリイミド樹脂中の水酸基の含有量＞
１．ポリイミド樹脂原料のトータル量を計算する。
The polyimide solution was returned to room temperature, the presence or absence of precipitates was visually evaluated, and the results are summarized in Table 1. In addition, the content of hydroxyl groups in the polyimide resin was calculated as follows, and the results are summarized in Table 1.
<Contents of hydroxyl groups in polyimide resin>
1. 1. Calculate the total amount of polyimide resin raw material.
３４７．９ｇ（ＢＡＨＦ）＋１２．４ｇ（ＳｉＤＡ）＋２１８．１ｇ（ＰＭＤＡ）＝５７８．４ｇ
２．ポリイミド樹脂原料のトータル量から、イミド化反応による脱水量を引き、ポリイミド樹脂の重量を計算する。（脱水量は１．８ｍｏｌと仮定）
５７８．４ｇ－（１８．０ｇ／ｍｏｌ×１．８ｍｏｌ）＝５４６．０ｇ（ポリイミド樹脂の重量）
３．ポリイミド樹脂中の水酸基重量を計算する。（ＢＡＨＦ中に2個有する。）
１７.０ｇ／ｍｏｌ×０．９５ｍｏｌ×２＝３２．３ｇ（ポリイミド樹脂中の水酸基重量）
４．ポリイミド樹脂中の水酸基含有量を計算する。
（３２．３ｇ／５４６．０ｇ＊１００＝５．９ｗｔ％
合成例２～１０（ポリイミドの重合）
酸二無水物、ジアミン、溶媒の種類と仕込量を表１のように変えた以外は合成例１と同様の操作を行い、仮保護膜用樹脂組成物である２５質量％のポリイミド溶液（ＰＡ２～ＰＡ１０）を得た。
ポリイミド溶液を室温に戻し、析出物の有無を目視評価で確認し、結果を表１に記載した。また、ポリイミド樹脂中の水酸基の含有量を合成例１と同様に計算し、結果を表１に記載した。
347.9 g (BAHF) + 12.4 g (SiDA) + 218.1 g (PMDA) = 578.4 g
2. 2. The weight of the polyimide resin is calculated by subtracting the amount of dehydration due to the imidization reaction from the total amount of the polyimide resin raw material. (Assuming that the amount of dehydration is 1.8 mol)
578.4 g- (18.0 g / mol x 1.8 mol) = 546.0 g (weight of polyimide resin)
3. 3. Calculate the weight of hydroxyl groups in the polyimide resin. (Has two in BAHF.)
17.0 g / mol x 0.95 mol x 2 = 32.3 g (weight of hydroxyl group in polyimide resin)
4. Calculate the hydroxyl group content in the polyimide resin.
(32.3g / 546.0g * 100 = 5.9wt%
Synthesis Examples 2 to 10 (Polyimide Polymerization)
The same operation as in Synthesis Example 1 was performed except that the types and amounts of acid dianhydride, diamine, and solvent were changed as shown in Table 1, and a 25% by mass polyimide solution (PA2) which is a resin composition for a temporary protective film was performed. ~ PA10) was obtained.
The polyimide solution was returned to room temperature, the presence or absence of precipitates was visually evaluated, and the results are shown in Table 1. In addition, the content of hydroxyl groups in the polyimide resin was calculated in the same manner as in Synthesis Example 1, and the results are shown in Table 1.
製造例１（有機溶剤の調整）
撹拌装置を付した反応釜に、モノエタノールアミン３０ｇ、ＤＭＭ３０ｇ、Ｎ－メチル－２－ピロリドン３０ｇを仕込み、室温で１時間撹拌して、有機溶剤を得た。
Production Example 1 (Adjustment of organic solvent)
30 g of monoethanolamine, 30 g of DMM, and 30 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged in a reaction vessel equipped with a stirrer and stirred at room temperature for 1 hour to obtain an organic solvent.
実施例１
厚さ７５０μｍの８インチシリコンウエハ（信越化学工業（株)社製）上に、耐熱性保護膜であるポリイミドコーティング剤セミコファインＳＰ－３４１（商品名、東レ（株）製）を乾燥後の厚みが８μｍになるようにスピンコーターで回転数を調整して塗布し、１２０℃で１０分熱処理して乾燥した後、３２０℃で３０分間熱処理して硬化を行い、耐熱性保護膜付きシリコン基板を得た。
Example 1
The thickness of the polyimide coating agent Semicofine SP-341 (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.), which is a heat-resistant protective film, after drying on an 8-inch silicon wafer (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with a thickness of 750 μm. The silicon substrate with a heat-resistant protective film was obtained by adjusting the rotation speed with a spin coater so that Obtained.
次に、耐熱性保護膜付きシリコン基板上に、合成例１で作成した仮保護膜用樹脂組成物を、４μｍの硬化後膜厚になるようにスピンコーターで回転数を調整して塗布し、１２０℃で１０分熱処理して乾燥した後、窒素オーブンで３００℃６０分間熱処理して硬化を行い、仮保護膜積層シリコン基板を得た。得られた仮保護膜積層シリコン基板を用いて熱処理装置への付着評価、仮保護膜除去時間評価、仮保護膜除去後の目視評価、耐熱性保護膜の膜厚評価を行い、結果を表２にまとめた。 Next, the resin composition for a temporary protective film prepared in Synthesis Example 1 was applied onto a silicon substrate with a heat-resistant protective film by adjusting the number of rotations with a spin coater so as to have a film thickness after curing of 4 μm. After heat-treating at 120 ° C. for 10 minutes and drying, heat treatment was performed at 300 ° C. for 60 minutes in a nitrogen oven for curing to obtain a temporary protective film laminated silicon substrate. Using the obtained temporary protective film laminated silicon substrate, adhesion evaluation to the heat treatment equipment, temporary protective film removal time evaluation, visual evaluation after temporary protective film removal, and film thickness evaluation of the heat resistant protective film were performed, and the results are shown in Table 2. I summarized it in.
実施例２～２５
仮保護膜樹脂組成物、仮保護膜の硬化後膜厚と硬化温度を表２のごとく変えた以外は、実施例１と同様の操作を行い、仮保護膜積層シリコン基板を得た。
Examples 2 to 25
The same operation as in Example 1 was carried out except that the temporary protective film resin composition, the film thickness after curing of the temporary protective film and the curing temperature were changed as shown in Table 2, to obtain a temporary protective film laminated silicon substrate.
得られた仮保護膜積層シリコン基板を用いて表２に記載の条件で、熱処理装置への付着評価、仮保護膜除去時間評価、仮保護膜除去後の目視評価、耐熱性保護膜の膜厚評価を行い、結果を表２にまとめた。 Using the obtained temporary protective film laminated silicon substrate, under the conditions shown in Table 2, evaluation of adhesion to the heat treatment equipment, evaluation of temporary protective film removal time, visual evaluation after removal of temporary protective film, film thickness of heat resistant protective film Evaluation was performed and the results are summarized in Table 2.
比較例１～３
仮保護膜樹脂組成物、仮保護膜の硬化後膜厚と硬化温度を表２のごとく変えた以外は、実施例１と同様の操作を行い、仮保護膜積層シリコン基板を得た。
Comparative Examples 1 to 3
The same operation as in Example 1 was carried out except that the temporary protective film resin composition, the film thickness after curing of the temporary protective film and the curing temperature were changed as shown in Table 2, to obtain a temporary protective film laminated silicon substrate.
得られた仮保護膜積層シリコン基板を用いて熱処理装置への付着評価、仮保護膜除去時間評価、仮保護膜除去後の目視評価、耐熱性保護膜の膜厚評価を行い、結果を表２にまとめた。 Using the obtained temporary protective film laminated silicon substrate, adhesion evaluation to the heat treatment equipment, temporary protective film removal time evaluation, visual evaluation after temporary protective film removal, and film thickness evaluation of the heat resistant protective film were performed, and the results are shown in Table 2. I summarized it in.
Claims (10)
前記（Ａ）水酸基を樹脂全体の３．３～７．０質量％含むポリイミド樹脂が、一般式（１）で表されるジアミンの残基を含み、一般式（２）で表される酸二無水物の残基および／または一般式（５）で表される酸二無水物の残基を含む仮保護膜用樹脂組成物。
The polyimide resin containing the hydroxyl group (A) in an amount of 3.3 to 7.0 % by mass based on the total amount of the resin contains a residue of a diamine represented by the general formula (1) and is represented by the general formula (2). A resin composition for a temporary protective film containing an anhydride residue and / or an acid dianhydride residue represented by the general formula (5) .
The method for manufacturing a semiconductor electronic component according to any one of claims 5 to 9 , wherein at least a part of the main surface of the semiconductor electronic circuit forming substrate is a heat-resistant protective film.
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Citations (8)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004055813A (en) | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004055813A (en) | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device and its manufacturing method |
| JP2009235311A (en) | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toray Ind Inc | Polyimide resin and heat-resistant resin composition using the same |
| JP2010285535A (en) | 2009-06-11 | 2010-12-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | Polyimide resin for primer layer and laminated board using the same |
| JP2015501065A (en) | 2012-01-13 | 2015-01-08 | エルジー・ケム・リミテッド | Insulating material for electronic devices |
| JP2014040503A (en) | 2012-08-21 | 2014-03-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Method of manufacturing polyimide resin, method of manufacturing polyimide film, method of manufacturing polyamic acid solution, polyimide film and polyamic acid solution |
| JP2015151515A (en) | 2014-02-18 | 2015-08-24 | 東京応化工業株式会社 | Manufacturing method of polyimide resin, manufacturing method of polyimide membrane, manufacturing method of polyamic acid solution, polyimide membrane and polyamic acid solution |
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