JP7036286B1 - 光半導体装置 - Google Patents

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Abstract

第1の金属ブロック(3)及び温度制御モジュール(4)が金属ステム(1)の上面に実装されている。第2の金属ブロック(5)が温度制御モジュール(4)の上に実装されている。第1及び第2の誘電体基板(6,7)がそれぞれ第1及び第2の金属ブロック(3,5)の側面に実装されている。第1及び第2の信号線路(8,10)がそれぞれ第1及び第2の誘電体基板(6,7)に形成されている。半導体光変調素子(13)が第2の誘電体基板(7)に実装されている。レンズキャップ(19)が、金属ステム(1)の上面に接合され、金属ステム(1)に電気的に接続され、半導体光変調素子(13)等を気密封止する。第1の金属ブロック(3)とレンズキャップ(19)の内壁との最小距離が0.37mmより小さい。第2の金属ブロック(5)とレンズキャップ(19)の内壁との最小距離が1.36mmより小さい。

Description

本開示は、半導体光変調素子等をレンズキャップで気密封止した光半導体装置に関する。
移動通信システム等において、携帯通信端末が普及し、情報のクラウド化などによりデータ通信量が急激に増加している。これに伴い、より大容量の光通信システムが必要であり、信号の高速大容量伝送が可能な光通信デバイスが求められている。高速通信が可能な半導体光集積素子として、電界吸収型半導体光変調器(EAM: Electro-absorption Modulator)と分布帰還形半導体レーザ(DFB-LD: Distributed Feedback Laser Diode)を集積したEML(Electro-absorption Modulator integrated Laser)が用いられている。
金属ステムに第1の金属ブロックと温度制御モジュールを実装し、温度制御モジュールの上に第2の金属ブロックを実装し、第1及び第2の金属ブロックの側面にそれぞれ第1及び第2の誘電体基板を実装し、第2の誘電体基板に半導体光変調素子を実装した光半導体装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
日本特開2011-197360号公報
特許文献1の装置にレンズキャップを実装すると共振が発生し帯域が制限され、良好な光波形を得ることができないという問題があった。解決策としてレンズキャップの外形を大きくし、共振点を高周波側へずらすことが考えられる。しかし、CANパッケージでは小型化が求められているため、レンズキャップの外形を大きくすることできない。
本開示は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的はレンズキャップの外形を大きくすることなく、良好な光波形を得ることができる光半導体装置を得るものである。
本開示に係る光半導体装置は、金属ステムと、前記金属ステムを貫通するリードピンと、前記金属ステムの上面に実装された第1の金属ブロックと、前記第1の金属ブロックの側面に実装された第1の誘電体基板と、前記第1の誘電体基板に形成された第1の信号線路と、前記金属ステムの前記上面に実装された温度制御モジュールと、前記温度制御モジュールの上に実装された第2の金属ブロックと、前記第2の金属ブロックの側面に実装された第2の誘電体基板と、前記第2の誘電体基板に形成された第2の信号線路と、前記第2の誘電体基板に実装された半導体光変調素子と、前記リードピンと前記第1の信号線路の一端を接続する接続部材と、前記第1の信号線路の他端と前記第2の信号線路の一端とを接続する第1のボンディングワイヤと、前記第2の信号線路の他端と前記半導体光変調素子とを接続する第2のボンディングワイヤと、前記金属ステムの前記上面に接合され、前記金属ステムに電気的に接続され、前記第1及び第2の金属ブロック、前記第1及び第2の誘電体基板、前記温度制御モジュール、前記第1及び第2の信号線路、前記半導体光変調素子、及び前記第1から第2のボンディングワイヤを気密封止するレンズキャップとを備え、前記第1の金属ブロックと前記レンズキャップの内壁との最小距離が0.37mmより小さく、前記第2の金属ブロックと前記レンズキャップの前記内壁との最小距離が1.36mmより小さいことを特徴とする。
本開示では、第1の金属ブロックとレンズキャップとの内壁の最小距離を0.37mmより小さくし、第2の金属ブロックとレンズキャップの内壁との最小距離を1.36mmより小さくする。これより、第1及び第2の金属ブロックが、グランドとなっているレンズキャップに近づきグランドが強化される。このため、共振点が減少し、周波数応答特性が改善し、広帯域化が可能となる。よって、レンズキャップの外形を大きくすることなく、良好な光波形を得ることができる。
図1は、実施の形態1に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。 実施の形態1に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。 実施の形態1に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。 実施の形態1に係る光半導体装置の変形例1を示す正面側斜視図である。 実施の形態1に係る光半導体装置の変形例1を示す背面側斜視図である。 実施の形態1に係る光半導体装置の変形例2を示す正面側斜視図である。 実施の形態1に係る光半導体装置の変形例2を示す背面側斜視図である。 第2の金属ブロックとレンズキャップの内壁の最小距離を変化させた場合の周波数応答特性のシミュレーション結果を示す図である。 第1の金属ブロックとレンズキャップの内壁の最小距離を変化させた場合の周波数応答特性のシミュレーション結果を示す図である。 比較例と実施の形態1に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。 実施の形態2に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。 実施の形態2に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。 実施の形態2に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。 比較例と実施の形態2に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。 実施の形態3に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。 実施の形態3に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。 実施の形態3に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。 比較例と実施の形態3に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。 実施の形態4に係る光半導体装置を示す断面図である。
実施の形態に係る光半導体装置について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。図2は、実施の形態1に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。図3は、実施の形態1に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。
金属ステム1は円形の板状である。信号線路用のリードピン2が金属ステム1を貫通し、ガラス材を介して金属ステム1に固定されている。金属ステム1及びリードピン2は、例えば銅、鉄、アルミニウム又はステンレスなどの金属からなり、金メッキやニッケルメッキなどを表面に施してもよい。なお、信号線路用のリードピン2だけでなく、温度制御モジュールの電力供給用のリードピン、EAM-LD実装時のレーザダイオード部への電力供給用のリードピンなど、複数のリードピンを設けてもよい。
第1の金属ブロック3及び温度制御モジュール4が金属ステム1の上面に実装されている。第1の金属ブロック3はリードピン2の近傍に配置されている。第2の金属ブロック5が温度制御モジュール4の上に実装されている。第1の金属ブロック3は、例えば銅、鉄、アルミニウム又はステンレスなどの金属からなる。ただし、第1の金属ブロック3は、セラミック又は樹脂などの絶縁体に金属が被覆された構造でもよい。第2の金属ブロック5は、例えばCuなどの熱伝導率の高い材料の表面にAuメッキなどが施された金属材料のブロックである。温度制御モジュール4は、放熱面と冷却面との間に挟まれたペルチェ素子を有する。放熱面は金属ステム1に接合され、冷却面には第2の金属ブロック5が実装されている。第1及び第2の誘電体基板6,7がそれぞれ第1及び第2の金属ブロック3,5の側面に実装されている。
なお、組み立て性の観点から金属ブロックを第1の金属ブロック3と第2の金属ブロック5に分離している。また、分離することにより、外部から金属ステム1を介して第2の誘電体基板7及び第2の金属ブロック5に流入する熱量を低減できる。このため、温度制御モジュール4の消費電力を低減することができる。
第1の信号線路8及びグランド導体9が第1の誘電体基板6に形成されている。第1の信号線路8及びグランド導体9は、互いに一定の間隔をあけて配置され、コプレナ線路を構成している。グランド導体9は、第1の誘電体基板6に形成されたビア(不図示)を介して第1の金属ブロック3に接続されている。
第2の信号線路10、グランド導体11及び整合抵抗12が第2の誘電体基板7に形成されている。第2の信号線路10及びグランド導体11は、互いに一定の間隔をあけて配置され、コプレナ線路を構成している。グランド導体11は第2の誘電体基板7の側面にも形成されている。
半導体光変調素子13が第2の誘電体基板7に実装されている。半導体光変調素子13は、例えば、InGaAsP系量子井戸吸収層を用いた電界吸収型光変調器と分布帰還型レーザダイオードとをモノリシックに集積した変調器集積型レーザ(EAM-LD)、又はMZ(Mach-Zehnder)半導体光変調器などである。半導体光変調素子13において発生した熱は第2の金属ブロック5及び金属ステム1を介して拡散される。
接続部材14がリードピン2と第1の信号線路8の一端を接続する。接続部材14は、例えばはんだであるが、ボンディングワイヤでもよい。ボンディングワイヤ15が第1の信号線路8の他端と第2の信号線路10の一端とを接続する。ボンディングワイヤ16が第2の信号線路10の他端と半導体光変調素子13とを接続する。ボンディングワイヤ17が半導体光変調素子13と整合抵抗12の一端とを接続する。ボンディングワイヤ18が整合抵抗12の他端と第2の金属ブロック5とを接続する。
レンズキャップ19が、金属ステム1の上面に接合され、金属ステム1に電気的に接続され、第1及び第2の金属ブロック3,5、第1及び第2の誘電体基板6,7、温度制御モジュール4、第1及び第2の信号線路8,10、半導体光変調素子13、接続部材14及びボンディングワイヤ15~18等を気密封止する。レンズキャップ19は例えば銅、鉄、アルミニウム又はステンレスなどの金属からなり、テーパー型又はストレート型である。ただし、レンズキャップ19はセラミック又は樹脂などの絶縁体に金属が被覆された構造でもよい。
第1の金属ブロック3の横幅はa、奥行きはb、高さはcである。第1の金属ブロック3の背面は、円筒状のレンズキャップ19の内壁に沿った曲面形状となっている。第1の金属ブロック3の横幅a又は奥行きbを従来よりも大きくすることで第1の金属ブロック3の背面とレンズキャップ19の内壁が近接している。この結果、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19の内壁との最小距離d1が0.37mmより小さく、ここでは0.10mmになっている。
第2の金属ブロック5の横幅はd、奥行きはe、高さはfである。第2の金属ブロック5の断面はL字形状であり、側面の一部はレンズキャップ19の内壁に沿った曲面形状となっている。第2の金属ブロック5の横幅d又は奥行きeを従来よりも大きくすることで第2の金属ブロック5の側面とレンズキャップ19の内壁が近接している。この結果、第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁との最小距離d2が1.36mmより小さく、ここでは0.10mmになっている。
図4は、実施の形態1に係る光半導体装置の変形例1を示す正面側斜視図である。図5は、実施の形態1に係る光半導体装置の変形例1を示す背面側斜視図である。レンズキャップ19は円筒状であるが、レンズキャップ19の内壁の一部が第1の金属ブロック3に向かって突出している。これにより両者が近接して、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19の内壁との最小距離d1が0.37mmより小さく、第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁との最小距離d2が1.36mmより小さくなっている。
図6は、実施の形態1に係る光半導体装置の変形例2を示す正面側斜視図である。図7は、実施の形態1に係る光半導体装置の変形例2を示す背面側斜視図である。レンズキャップ19の内壁の一部が第1の金属ブロック3及び第2の金属ブロック5に向かって突出している。これにより両者が近接して、最小距離d1が0.37mmより小さく、最小距離d2が1.36mmより小さくなっている。
図8は、第2の金属ブロックとレンズキャップの内壁の最小距離を変化させた場合の周波数応答特性のシミュレーション結果を示す図である。周波数応答特性は通過特性S21である。第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁の最小距離d2を1.36mm、0.5mm、0mmとした。第1の金属ブロック3とレンズキャップ19の内壁の距離は全て0.37mmとした。最小距離d2が1.36mmよりも小さくなると、特に30GHzまでの領域において共振による落ち込みが減少し、改善されることが分かる。
図9は、第1の金属ブロックとレンズキャップの内壁の最小距離を変化させた場合の周波数応答特性のシミュレーション結果を示す図である。第1の金属ブロック3とレンズキャップ19の内壁の最小距離d1を0.37mm、0mmとした。第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁の距離は全て1.36mmとした。最小距離d1が0.37mmよりも小さくなると、共振による落ち込みが減少し、改善されることが分かる。
図10は、比較例と実施の形態1に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。比較例は、最小距離d2が1.36mm、最小距離d1が0.37mmの場合である。実施の形態1では、比較例に比べて共振点が減少し、周波数応答特性の落ち込みが小さくなっていることが分かる。
以上説明したように、本実施の形態では、第1及び第2の金属ブロック3,5の形状を比較例から変更して、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19との内壁の最小距離を0.37mmより小さくし、第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁との最小距離を1.36mmより小さくする。これより、第1及び第2の金属ブロック3,5が、グランドとなっているレンズキャップ19に近づきグランドが強化される。このため、共振点が減少し、周波数応答特性が改善し、広帯域化が可能となる。よって、レンズキャップ19の外形を大きくすることなく、良好な光波形を得ることができる。
実施の形態2.
図11は、実施の形態2に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。図12は、実施の形態2に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。図13は、実施の形態2に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。
本実施の形態では、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19との内壁の最小距離d1が0mm、第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁の最小距離d2が0.30mmである。即ち、第1の金属ブロック3がレンズキャップ19の内壁に接している。レンズキャップ19の内壁の一部が突出して第1の金属ブロック3の後面に接する構造になっている。これに限らず、レンズキャップ19の内壁が第1の金属ブロック3の側面、後面、上面の何れか1つ又は複数の面に接する構造になっていればよい。
また、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19をはんだ又は導電性樹脂などで接着して電気的に接続してもよい。例えば、第1の金属ブロック3の側面又は後面に予備はんだ又は導電性樹脂を施し、レンズキャップ19を実装後に加熱し、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19を接着させる。
図14は、比較例と実施の形態2に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。実施の形態2では、比較例に比べて共振点が減少し、周波数応答特性の落ち込みが小さくなっていることが分かる。
以上説明したように、本実施の形態では、レンズキャップ19と第1の金属ブロック3が接して、実施の形態1よりもグランドが強化される。このため、共振点が減少し、周波数応答特性が改善し、広帯域化が可能となる。よって、レンズキャップ19の外形を大きくすることなく、良好な光波形を得ることができる。
実施の形態3.
図15は、実施の形態3に係る光半導体装置を示す正面側斜視図である。図16は、実施の形態3に係る光半導体装置を示す背面側斜視図である。図17は、実施の形態3に係る光半導体装置の内部を示す上面図である。
本実施の形態では、第1の金属ブロック3とレンズキャップ19との内壁の最小距離d1が0mm、第2の金属ブロック5とレンズキャップ19の内壁の最小距離d2も0mmである。即ち、第1の金属ブロック3だけでなく、第2の金属ブロック5もレンズキャップ19の内壁に接している。
レンズキャップ19の内壁の一部が突出して第1の金属ブロック3の側面と後面、第2の金属ブロック5の後面に接する構造になっている。これに限らず、レンズキャップ19の内壁が、第1の金属ブロック3の側面、後面、上面の何れか1つ又は複数の面、及び第2の金属ブロック5の後面と上面の何れか1つ又は複数の面に接する構造になっていればよい。
また、第1及び第2の金属ブロック3,5とレンズキャップ19をはんだ又は導電性樹脂などで接着して電気的に接続してもよい。例えば、第1の金属ブロック3の側面又は後面と第2の金属ブロック5の後面に予備はんだ又は導電性樹脂を施し、レンズキャップ19を実装後に加熱し第1及び第2の金属ブロック3,5とレンズキャップ19を接着させる。
図18は、比較例と実施の形態3に係る光半導体装置の周波数応答特性を比較した3次元電磁界シミュレーション結果を示す図である。実施の形態3では、比較例に比べて共振点が減少し、周波数応答特性の落ち込みが小さくなっていることが分かる。
以上説明したように、本実施の形態では、レンズキャップ19と第1及び第2の金属ブロック3,5が接して、実施の形態2よりもグランドが強化される。このため、共振点が減少し、周波数応答特性が改善し、広帯域化が可能となる。よって、レンズキャップ19の外形を大きくすることなく、良好な光波形を得ることができる。
実施の形態4.
図19は、実施の形態4に係る光半導体装置を示す断面図である。レンズキャップ19のレンズが平板ガラス20である。このため、レンズと半導体光変調素子13の位置関係がずれたとしても、焦点距離又は結合効率などの光学特性に影響がないため、レンズキャップ19の構造ばらつきと実装精度を緩和することができる。その他の構成及び効果は実施の形態1と同様である。
また、実施の形態2,3に平板ガラス20を適用することもできる。この場合、第1及び第2の金属ブロック3,5の少なくとも一方とレンズキャップ19が接しているが、光軸ずれの影響を無視することができる。また、戻り光又はエタロン効果の防止のために、平板ガラス20の厚みにチルトをつけるか又は角度をつけてレンズキャップ19に接合してもよい。
1 金属ステム、2 リードピン、3 第1の金属ブロック、4 温度制御モジュール、5 第2の金属ブロック、6 第1の誘電体基板、7 第2の誘電体基板、8 第1の信号線路、10 第2の信号線路、13 半導体光変調素子、14 接続部材、15 ボンディングワイヤ、16 ボンディングワイヤ、19 レンズキャップ、20 平板ガラス

Claims (6)

  1. 金属ステムと、
    前記金属ステムを貫通するリードピンと、
    前記金属ステムの上面に実装された第1の金属ブロックと、
    前記第1の金属ブロックの側面に実装された第1の誘電体基板と、
    前記第1の誘電体基板に形成された第1の信号線路と、
    前記金属ステムの前記上面に実装された温度制御モジュールと、
    前記温度制御モジュールの上に実装された第2の金属ブロックと、
    前記第2の金属ブロックの側面に実装された第2の誘電体基板と、
    前記第2の誘電体基板に形成された第2の信号線路と、
    前記第2の誘電体基板に実装された半導体光変調素子と、
    前記リードピンと前記第1の信号線路の一端を接続する接続部材と、
    前記第1の信号線路の他端と前記第2の信号線路の一端とを接続する第1のボンディングワイヤと、
    前記第2の信号線路の他端と前記半導体光変調素子とを接続する第2のボンディングワイヤと、
    前記金属ステムの前記上面に接合され、前記金属ステムに電気的に接続され、前記第1及び第2の金属ブロック、前記第1及び第2の誘電体基板、前記温度制御モジュール、前記第1及び第2の信号線路、前記半導体光変調素子、前記接続部材、及び前記第1及び第2のボンディングワイヤを気密封止するレンズキャップとを備え、
    前記第1の金属ブロックと前記レンズキャップの内壁との最小距離が0.37mmより小さく、
    前記第2の金属ブロックと前記レンズキャップの前記内壁との最小距離が1.36mmより小さいことを特徴とする光半導体装置。
  2. 前記レンズキャップの前記内壁の一部が前記第1の金属ブロックに向かって突出していることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
  3. 前記レンズキャップの前記内壁の一部が前記第1及び第2の金属ブロックに向かって突出していることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
  4. 前記第1の金属ブロックは前記レンズキャップの前記内壁に接することを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の光半導体装置。
  5. 前記第1及び第2の金属ブロックは前記レンズキャップの前記内壁に接することを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の光半導体装置。
  6. 前記レンズキャップのレンズが平板ガラスであることを特徴とする請求項1~5の何れか1項に記載の光半導体装置。
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