JP7032639B2 - ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法 - Google Patents

ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7032639B2
JP7032639B2 JP2017246631A JP2017246631A JP7032639B2 JP 7032639 B2 JP7032639 B2 JP 7032639B2 JP 2017246631 A JP2017246631 A JP 2017246631A JP 2017246631 A JP2017246631 A JP 2017246631A JP 7032639 B2 JP7032639 B2 JP 7032639B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
desflurane
difluoromethyl
tetrafluoroethyl ether
chloroform
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017246631A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019112339A (ja
Inventor
絵里 西澤
進也 秋葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP2017246631A priority Critical patent/JP7032639B2/ja
Priority to US16/955,598 priority patent/US10899692B2/en
Priority to CN201880082971.1A priority patent/CN111556859B/zh
Priority to PCT/JP2018/039795 priority patent/WO2019123834A1/ja
Publication of JP2019112339A publication Critical patent/JP2019112339A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7032639B2 publication Critical patent/JP7032639B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01—Preparation of ethers
    • C07C41/34—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C41/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by liquid-liquid treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B63/00—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives
    • C07B63/02—Purification; Separation; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01—Preparation of ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01—Preparation of ethers
    • C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C07C41/22—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by introduction of halogens; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01—Preparation of ethers
    • C07C41/34—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C07C41/44—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatments giving rise to a chemical modification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02—Ethers
    • C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
    • C07C43/04—Saturated ethers
    • C07C43/12—Saturated ethers containing halogen
    • C07C43/123—Saturated ethers containing halogen both carbon chains are substituted by halogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/63—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/90—Catalytic systems characterized by the solvent or solvent system used
    • B01J2531/98—Phase-transfer catalysis in a mixed solvent system containing at least 2 immiscible solvents or solvent phases
    • B01J2531/985—Phase-transfer catalysis in a mixed solvent system containing at least 2 immiscible solvents or solvent phases in a water / organic solvent system
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/24—Nitrogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0235—Nitrogen containing compounds
    • B01J31/0239—Quaternary ammonium compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、吸入麻酔剤として知られるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法に関する。
ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテル（一般名デスフルラン、以下、デスフルランと呼ぶことがある）は、適切な麻酔深度が得られ覚醒がよい全身吸入麻酔剤として知られる。
デスフルランの製造方法としては、以下に示す様に、式（２）で表されるメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを塩素と反応させ塩素化し、式（３）で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルとした後、さらに無水フッ化水素と反応させフッ素化し、式（１）で表されるデスフルランを得る方法が知られ、特許文献１～３に開示されている。
Figure 0007032639000001
***国特許２３６１０５８号 特開平２－１０４５４５号公報 特開平６－０８７７７７号公報
本発明は、高純度のデスフルランを得ることのできる、デスフルランの精製方法およびデスフルランの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、以下の式に示す無水フッ化水素を用いたフッ素化反応により、式（３）で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルをフッ素化し、式（１）で表されるデスフルラン合成した。
そうしたところ、デスフルランの他に、副生物として式（４）で表されるクロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテル、式（Ａ）で表されるクロロホルムおよび式（Ｂ）で表されるジクロロフルオロメタンが生成した（実施例の［調製例１］参照）。
Figure 0007032639000002
式（４）で表されるクロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルは、式（３）で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－トラフルオロエチルエーテルが有する１個の塩素原子がフッ素原子に置換された化合物である。残りのもう１個の塩素原子がさらにフッ素原子に置換されると式（１）で表されるデスフルランとなる。
また、クロロホルムおよびジクロロフルオロメタンは、無水フッ化水素を使用する過酷な条件下でフッ素化反応を行ったことで、式（１）、（３）、（４）で表されるエーテル化合物のエーテル部位（－Ｏ－）が切断して生じたと推測された。
そこで、本発明者らは、副生物であるクロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテル、クロロホルム、ジクロロフルオロメタンを除去しデスフルランのみを得るために、デスフルラン、クロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテル、クロロホルムおよびジクロロフルオロメタンを含む生成物を精密蒸留した。そうしたところ、クロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルおよびジクロロフルオロメタンは除去されたものの、クロロホルムは除去できなかった。
本発明者らは、クロロホルムを除去できない原因が、デスフルランとクロロホルムとが共沸組成を形成し分離できないことにあることを確認した（実施例の［デスフルランとクロロホルム共沸組成形成］参照）。
そこで、本発明者らは、この問題を解決するために鋭意検討を行ったところ、クロロホルムを含むデスフルランを水と相間移動触媒の存在下、塩基に接触させることで、クロロホルムは分解されるが、意外なことに、デスフルランは分解されないことがわかり、発明を完成させるに至った。
本発明は、以下の発明１～９を含む。
［発明１］
式（１）
Figure 0007032639000003
 で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルと、トリハロメタンを含む混合物を、
水と相間移動触媒の存在下、塩基と接触させ、トリハロメタンを分解する工程を含む、
ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明２］
トリハロメタンがクロロホルムである、発明１のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明３］
相間移動触媒がアンモニウム塩の相間移動触媒である、発明１または発明２のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明４］
相間移動触媒の量が、ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、３０質量％以下である、発明１～３のジフルオロメチル-１，２，２，２-テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明５］
塩基がアルカリ金属の水酸化物である、発明１～４のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明６］
アルカリ金属の水酸化物を、ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、１００質量％以下用いる、発明５のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明７］
混合物を、相間移動触媒存在下、塩基と接触させる際の温度が５℃以上、５０℃以下である、発明１～６のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
［発明８］
発明１～７の精製方法を含む、
ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの製造方法。
［発明９］
さらに、式（２）
Figure 0007032639000004
 で表されるメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを塩素にて塩素化し、式（３）
Figure 0007032639000005
 で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルとした後、無水フッ化水素と反応させフッ素化し、
式（１）
Figure 0007032639000006
 で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを得る工程を含む、
発明８のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの製造方法。
本発明のデスフルランの精製方法によれば、トリハロメタンを含むデスフルランから、デスフルランが分解することなく副生物であるトリハロメタンのみを分解し、高純度のデスフルランを得ることができる。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は以下の実施様態に限定されるものではなく、本発明の主旨を損なわない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良が加えられたものも本発明の範囲に入る。
クロロホルムを分解する方法として、クロロホルムに水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを作用させてジクロロカルベン（ＣＣｌ2）とするライマー・チーマン反応等が知られている。
しかしながら、クロロホルム２５０ｐｐｍを含むデスフルランを、濃度３０％水酸化ナトリウム水溶液と接触させても、クロロホルムは１００ｐｐｍまでしか減少せず、検出限界（１ｐｐｍ）以下まで減少させることはできなかった（比較例１）。
また、クロロホルムを２５０ｐｐｍ含むデスフルランを、エタノール中でナトリウムエチラートと接触させたところ、クロロホルムを分解することができた。しかしながら、目的物であるデスフルランが分解した（比較例５）。
クロロホルムは不整脈を誘発する事、肝臓、腎臓に悪影響を与えること、および発がん性が疑われており、極力除去することが好ましい。米国ではデスフルラン中のクロロホルムは６０ｐｐｍ以下に規制され（米国薬局方ＵＳＰ３９に記載）、欧州では２０ｐｐｍ以下に規制される（欧州薬局方ＥＰ９．０に記載）。
１．デスフルランの精製方法
本発明のデスフルランの精製方法は
式（１）
Figure 0007032639000007
 で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルと、トリハロメタンを含む混合物を、
水と相間移動触媒の存在下、塩基と接触させ、トリハロメタンを分解する工程を含む。
［トリハロメタン］
本発明のデスフルランの精製方法において、分解するトリハロメタンとしては、クロロホルム、ジクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、トリフルオロメタンを挙げることができる。しかしながら、デスフルランと共沸するトリハロメタン以外は、塩基と接触させることなく蒸留によって除去することが可能である。本発明のデスフルランの精製方法において除去するトリハロメタンとしては、好ましくはクロロホルムである。
［相間移動触媒］
本発明のデスフルランの精製方法において使用する相間移動触媒は、特に限定されないが、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、エーテル類に属する相間移動触媒を挙げることができる。相間移動触媒を使用することで、トリハロメタンと塩基の反応を円滑に進行させることができる。
相間移動触媒としては、例えば、アンモニウム塩であるテトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、またはテトラブチルアンモニウムヨージド、ホスホニウム塩であるテトラブチルホスホニウムブロミド、トリフェニルエチルホスホニウムブロミド、またはトリフェニルメチルホスホニウムブロミド、１，４，７，１０，１３，１６－ヘキサオキサシクロオクタデカン（通称１８クラウン－６）、またはポリエチレングリコール（通称ポリエチレングリコール２００、ポリエチレングリコール４００、ＣＡＳ番号：２５３２２－６８－３）を例示することができる。
これらの相間移動触媒の中でも、水に対する溶解度が高く、トリハロメタンと塩基との反応を円滑に進行することのできるアンモニウム塩が好ましく、その中でも、特にテトラブチルアンモニウムブロミドが好ましい。これらの相間移動触媒は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの相間移動触媒は、和光純薬株式会社および東京化成株式会社等の試薬メーカー、または化学品メーカーから入手可能である。
相間移動触媒の量は、デスフルランの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、３０質量％以下である。好ましくは０．０１質量％以上、２０質量％以下であり、特に好ましくは、０．０１質量％以上、１０質量％以下である。０．００１質量％未満では、トリハロメタンの除去が十分に行えない虞がある。３０質量％を超えて使用する必要はない。
［塩基］
本発明のデスフルランの精製方法において使用する塩基には、アルカリ金属の炭酸水素塩、炭酸塩、または水酸化物を挙げることができる。
例えば、アルカリ金属の炭酸水素塩である炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウム、アルカリ金属の炭酸塩である炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウム、アルカリ金属の水酸化物である水酸化リチウム、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを挙げることができる。
これらの塩基の中でも、水に対する溶解度が高くトリハロメタンとの反応が円滑に進行する水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウムが特に好ましい。これらの塩基は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの塩基は、和光純薬株式会社および東京化成株式会社等の試薬メーカーから入手可能である。
塩基の種類にもよるが、その使用量は、デスフルランの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、１００質量％以下であり、好ましくは０．１質量％以上、５０質量％以下である。０．００１質量％未満では、トリハロメタンの除去が十分に行えない虞がある。また過剰に使用することに特に制限はないが、トリハロメタン除去後のデスフルランの分離操作、具体的には２層分離を容易に行うためには塩基は少ない方が好ましく、アルカリ金属の水酸化物の使用量は、１００質量％を超えて使用する必要はない。
反応時の水溶液の塩基濃度は、１質量％以上、５０質量％以下であり、好ましくは１０質量%以上、３０質量％以下である。１質量％未満では、トリハロメタンの除去が十分に行えない虞がある。濃度が高いことに制限はないが、アルカリ金属の水酸化物が析出する虞があり、水溶液の濃度は、５０質量％を超える必要はない。
［温度］
本発明のデスフルランの精製方法において、デスフルランとトリハロメタンを含む混合物を、相間移動触媒存在下、塩基と接触させる際の温度は、５℃以上、５０℃以下である。５℃未満では、トリハロメタンの除去が十分に行えない虞があり、アルカリ金属水酸化物が凝固する虞がある。温度が高いとトリハロメタンの除去は速くなるが、５０℃を超える必要はない。
［圧力］
本発明のデスフルランの精製方法において、デスフルランとトリハロメタンを含む混合物を、相間移動触媒存在下、塩基と接触させる際の圧力は、絶対圧基準で０．１ＭＰａ以上、３．０ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは０．１ＭＰａ以上、１．０ＭＰａ以下、特に好ましくは０．１ＭＰａ以上、０．３ＭＰａ以下である。
［有機溶剤］
本発明のデスフルランの精製方法において、デスフルランとトリハロメタンを含む混合物を、相間移動触媒存在下、塩基と接触させる際は水のみの存在下でもよいが、さらに有機溶剤を加えてもよい。有機溶剤を用いることで、トリハロメタンを分解後、デスフルランを分離する操作が簡便となることがある。有機溶剤としては、水溶性の低い有機溶剤が好ましい。
有機溶剤は、非水溶性でデスフルランを溶解し且つトリハロメタンの分解を阻害しないものであればよく、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、酸アミドまたは低級エーテルを挙げることができる。
例えば、脂肪族炭化水素であるｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサンまたはｎ－ヘプタン、芳香族炭化水素であるベンゼン、トルエンまたはキシレン、ニトリルであるアセトニトリル、プロピオニトリル、フェニルアセトニトリル、イソブチロニトリルまたはベンゾニトリル、酸アミドであるジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルホルムアミド、ホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはＮ－メチルピロリドン、低級エーテルであるジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，４－ジオキサン、１，２－エポキシエタン、１、４－ジオキサン、ジブチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテルまたは置換基を有するテトラヒドロフランを例示することができる。これらの有機溶剤は、単独または組み合わせてもよい。
水溶性の有機溶剤は、層分離で水層に止まり、排水処理が煩雑になり好ましくない。
例えば、メタノールやエタノールは、デスフルランおよび塩基の溶解性はともに高く、トリハロメタンの分解には効果的であるが、デスフルランの分解を促進する虞があること、およびトリハロメタン除去後にデスフルランを回収する際に層分離ができず、好ましくない。
有機溶剤の使用量はデスフルラン１ｍｏｌに対して、０．０３リットル（Ｌと表記することがある）以上、１０Ｌ以下が好ましい、さらに好ましくは０．０５Ｌ以上、１０Ｌ以下であり、特に好ましくは０．０７以上、７Ｌ以下である。
［分離工程］
本発明のデスフルランの精製方法は、さらにデスフルランとトリハロメタンの分解物を分離する分離工程を含んでいてもよい。
デスフルランとトリハロメタンを含む混合物を相間移動触媒存在下、塩基と接触させた後、２層に分離した反応物では、デスフルランは有機層、トリハロメタンから生じた分解生成物は水層に分配される。例えば、クロロホルムが水酸化ナトリウムと接触した際に生じるギ酸ナトリウムは水層に分配されるので、２層分離で分取した有機層からはギ酸ナトリウムを含まないデスフルランを得ることができる。
好ましくは、その後、有機層からのエバポレータによる有機溶剤の留去、フラッシュ蒸留、精密蒸留などを経て、純度の高いデスフルランを得ることができる。
２．デスフルランの製造方法
本発明のデスフルランの製造方法は、デスフルランとトリハロメタンを含む混合物を、相間移動触媒存在下、塩基と接触させ、トリハロメタンを分解する工程を含む、トリハロメタンの製造方法である。
即ち、
式（１）
Figure 0007032639000008
 で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルと、トリハロメタンを含む混合物を、
水と相間移動触媒の存在下、塩基と接触させ、トリハロメタンを分解する工程を含む、
デスフルランの製造方法である。
さらに、本発明のデスフルランの製造方法は、
式（２）
Figure 0007032639000009
 で表されるメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを塩素にて塩素化し、式（３）
Figure 0007032639000010
 で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルとした後、さらに無水フッ化水素と反応させフッ素化し、
式（１）
Figure 0007032639000011
 で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを得る工程を含む。
本発明のデスフルランの製造方法は、さらに上述のデスフルランを分離する工程を含む。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、これらの実施態様に限られない。
ここで、組成分析値の「％」は、原料または生成物をガスクロマトグラフィーによって測定して得られた組成の「面積％」を表す。検出器には、水素炎イオン化型検出器（通称、ＦＩＤ（Flame Ionization Detector））を用いた。また、水分の測定には、カールフィッシャー測定器を使用した。
［デスフルランの製造］
攪拌器および圧力計を備えた内容積３０Ｌのステンレス鋼製耐圧反応器内に、ジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを５．００ｋｇ（純度９５．６％）および無水フッ化水素を５．９６ｋｇ（１０当量）仕込んだ後、反応器内を攪拌しつつ、徐々に加熱し１００℃とした。反応器内の圧力を２．１ＭＰａに維持しつつ生成する塩化水素を系外に排出し、１００℃で８時間反応さ、室温に戻した後に脱気した。次いで、反応器内に未反応のフッ化水素を吸収させるための水１０ｋｇを加え２層分離させた。有機層をガスクロマトグラフィーにより組成分析したところ、デスフルランが８３．８％、反応中間体である、クロロフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルが１０．００％、副生物であるクロロホルムが０．０７％、ジクロロフルオロオメタンが０．４７％、その他の不純物が合計で６．７０％であった。
得られた有機層を理論段数２５段の蒸留塔を用いて常圧で精密蒸留した。主留分をガスクロマトグラフィーで組成分析したところ、デスフルランが９９．８９％、クロロホルムが０．０９％、その他の不純物が合計で０．０２％であった。
［デスフルランとクロロホルムの共沸の確認］
デスフルランとクロロホルムの気液平衡を測定した。デスフルラン（沸点２３℃）単体２．０ｇにクロロホルム（沸点６１．２℃）を０．１４ｇ添加後、加熱し、気相中と液相中のデスフルランとクロロホルムの組成をガスクロマトグラフィーにより測定した。その結果、気相、液相ともに組成は、デスフルラン９９．３％～９９．４％、クロロホルム０．０６％～０．０７％、蒸気温度は２３．６℃～２３．７℃であった。このように、デスフルランとクロロホルムは共沸組成を形成していた。
［デスフルランの精製］
実施例１
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド（以下、ＰＴＣ－１と呼ぶことがある）を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で１．５時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１６０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８６ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９３％で得られていた。
実施例２
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度４８質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてＰＴＣ－１を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、室温（約２５℃）にて反応器内を攪拌しつつ、４時間経過した後、脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層を分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ、検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１５０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８３ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９２％で得られた。
実施例３
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてＰＴＣ－１を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１７０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．７９ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９０％で得られた。
実施例４
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度３２００ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてＰＴＣ－１を０．１０ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で１４時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１７０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８３ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９２％で得られた。
実施例５
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度４８質量％の水酸化カリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてＰＴＣ－１を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で１．５時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層分離にした。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１６０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．９４ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９７％で得られた。
実施例６
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてテトラエチルアンモニウムクロリド（以下、ＰＴＣ－２と呼ぶことがある）を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は２００ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８８ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９４％で得られた。
実施例７
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてトリブチルベンジルアンモニウムクロリド（以下、ＰＴＣ－３と呼ぶことがある）を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ６ｐｐｍであり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１８０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８０ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９０％で得られた。
実施例８
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてテトラブチルアンモニウムヨージド（以下、ＰＴＣ－４と呼ぶことがある）を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。反応器内の内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ、１８ｐｐｍであり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１７０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８２ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９１％で得られた。
実施例９
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてテトラブチルホスホニウムブロミド（以下、ＰＴＣ－５と呼ぶことがある）を０．０２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１４０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８６ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９３％で得られた。
実施例１０
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてポリエチレングリコール４００（以下、ＰＥＧ４００と呼ぶことがある）を０．２ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ５０℃に加熱し、５０℃に保った状態で５時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は１９０ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．８０ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９０％で得られた。
実施例１１
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、および相間移動触媒としてポリエチレングリコール２００（以下、ＰＥＧ２００と呼ぶことがある）を０．２０ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で５時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であり、カールフィッシャー測定器で測定した水分値は２００ｐｐｍであった。
有機層のフラッシュ蒸留を常圧下で行った。主留分は１．７９ｇであり、主留分をガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが回収率９０％で得られた。
実施例１２
攪拌機、還流器およびジャケットを備えた内容積１Ｌの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを５００．０ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を５００．０ｇ、および相間移動触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド（以下、ＰＴＣ－１と呼ぶことがある）を５．０ｇ仕込んだ。
次いで、ジャケット内に４０℃の温水を入れ、内容物を４０℃に保った状態で攪拌しつつ２７時間還流させた後、ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であった。
その後、ジャケット内の水を５０℃に加熱し、有機層を回収した。回収率は９４％であり、水分値は１６０ｐｐｍであった。
得られた有機層を理論段数１０段の蒸留塔を用い常圧下で精密蒸留した。精密蒸留後の主留分は４６５．０ｇであり、ガスクロマトグラフィーで測定したところ、純度９９．９５％以上のデスフルランが、回収率９３％で得られていた。
比較例１
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ１００ｐｐｍであった。
比較例２
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、水酸化ナトリウムペレットを０．４０ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で３時間加温した後、室温に戻し脱気した。ガスクロマトグラフィーにより内容物のクロロホルム含量を測定したところ２５０ｐｐｍであり、クロロホルムは分解されていなかった。
比較例３
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．０ｇ０、およびヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）を２．０ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーにより有機層中のクロロホルム含量を測定したところ、２５０ｐｐｍであり、クロロホルムは分解されていなかった。
比較例４
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、およびイソプロパノール（ＩＰＡ）を２．００ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。内容物を分液ロートに移したところ、有機層と水層の２層に分離した。ガスクロマトグラフィーによりの有機層中のクロロホルム含量を測定したところ、２５０ｐｐｍであり、クロロホルムは分解されていなかった。
比較例５
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度２０質量％のナトリウムエチラート（ＮａＯＥｔ）エタノール溶液を２．００ｇ仕込んだ。次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、ガスクロマトグラフィーにより内容物中のクロロホルム含量を測定したところ、検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であった。しかしながら、ガスクロマトグラフィーによりデスフルランが分解していることを確認した。
比較例６
攪拌機および圧力計を備えた内容積１００ｍＬの耐圧ガラス反応器に、濃度２５０ｐｐｍのクロロホルムを含むデスフルランを２．００ｇ、濃度３０質量％の水酸化ナトリウム水溶液を２．００ｇ、およびメタノール（ＭｅＯＨ）を２．００ｇ仕込んだ。
次いで、反応器内を攪拌しつつ４０℃に加熱し、４０℃に保った状態で７時間加温した後、室温に戻し脱気した。ガスクロマトグラフィーにより内容物中のクロロホルム含量を測定したところ、検出限界以下（１ｐｐｍ以下）であった。しかしながら、ガスクロマトグラフィーによりデスフルランが分解していることを確認した。
表１に実施例１～１１におけるデスフルラン中のクロロホルムの分解の結果を示す。
Figure 0007032639000012
表１中の相間移動触媒について以下に示す。
Figure 0007032639000013
表２に比較例１～６におけるデスフルラン中のクロロホルム分解の結果を示す。
Figure 0007032639000014

Claims (8)

  1. 式（１）
    Figure 0007032639000015
     で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルと、トリハロメタンを含む混合物を、
    水と相間移動触媒の存在下、アルカリ金属の水酸化物と接触させ、トリハロメタンを分解する工程を含むジフルオロメチル－１，２，２，２-テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  2. トリハロメタンがクロロホルムである、請求項１に記載のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  3. 相間移動触媒がアンモニウム塩の相間移動触媒である、請求項１または請求項２に記載のジフルオロメチル-１，２，２，２-テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  4. 相間移動触媒の量が、ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、３０質量％以下である、請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載のジフルオロメチル-１，２，２，２-テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  5. アルカリ金属の水酸化物を、ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの質量を基準とする百分率で表わして０．００１質量％以上、１００質量％以下用いる、請求項１に記載のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  6. 混合物を、相間移動触媒存在下、アルカリ金属の水酸化物と接触させる際の温度が５℃以上、５０℃以下である、請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法。
  7. 請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の精製方法を含む、
    ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの製造方法。
  8. さらに、式（２）
    Figure 0007032639000016
     で表されるメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを塩素にて塩素化し、式（３）
    Figure 0007032639000017
     で表されるジクロロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルとした後、無水フッ化水素と反応させフッ素化し、
    式（１）
    Figure 0007032639000018
     で表されるジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルを得る工程を含む、
    請求項７に記載のジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの製造方法。
JP2017246631A 2017-12-22 2017-12-22 ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法 Active JP7032639B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017246631A JP7032639B2 (ja) 2017-12-22 2017-12-22 ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法
US16/955,598 US10899692B2 (en) 2017-12-22 2018-10-26 Purification method and production method of difluoromethyl-1, 2, 2, 2-tetrafluoroethyl ether
CN201880082971.1A CN111556859B (zh) 2017-12-22 2018-10-26 二氟甲基-1,2,2,2-四氟***的精制方法和制造方法
PCT/JP2018/039795 WO2019123834A1 (ja) 2017-12-22 2018-10-26 ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017246631A JP7032639B2 (ja) 2017-12-22 2017-12-22 ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019112339A JP2019112339A (ja) 2019-07-11
JP7032639B2 true JP7032639B2 (ja) 2022-03-09

Family

ID=66994036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017246631A Active JP7032639B2 (ja) 2017-12-22 2017-12-22 ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10899692B2 (ja)
JP (1) JP7032639B2 (ja)
CN (1) CN111556859B (ja)
WO (1) WO2019123834A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008530118A (ja) 2005-02-15 2008-08-07 ヘイロウカーボン プロダクツ コーポレイション フッ化水素からのデスフルランの分離／精製方法
JP2009286731A (ja) 2008-05-29 2009-12-10 Central Glass Co Ltd ハロゲン化α−フルオロエーテル類の製造方法
JP2016033128A (ja) 2014-07-28 2016-03-10 セントラル硝子株式会社 ２−クロロ−１，３，３，３−テトラフルオロプロペンの製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2361058A1 (de) 1973-12-07 1975-06-19 Hoechst Ag 1.2.2.2-tetrafluoraethyl-chlorfluormethylaether und verfahren zu dessen herstellung
ZA848053B (en) * 1983-10-31 1985-07-31 Sun Tech Inc Method for purifying a mixture of perfluorocarbons
CA1262346A (en) 1983-10-31 1989-10-17 Thomas W. Bierl Purification of fluorocarbons
US5458674A (en) * 1993-08-24 1995-10-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Organic separation from HF
JPH01301636A (ja) 1988-05-31 1989-12-05 Central Glass Co Ltd １，２，２，２−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造法
US4972040A (en) 1988-07-18 1990-11-20 Boc, Inc. Process for the preparation of CHF2 OCHFCF3
GB9023370D0 (en) 1990-10-26 1990-12-05 Rhone Poulenc Chemicals Synthesis of fluorinated substituted ethanes
US5205914A (en) * 1992-08-14 1993-04-27 Anaquest, Inc. Synthesis of desflurane
JPH10101595A (ja) * 1996-09-30 1998-04-21 Tokuyama Corp フッ素系不活性液体の精製方法
JPH11130703A (ja) * 1997-10-24 1999-05-18 Tokuyama Corp フッ素系不活性液体の精製方法
JP3030335B2 (ja) * 1997-12-19 2000-04-10 工業技術院長 含フッ素エーテルの精製方法
JP4087488B2 (ja) 1998-03-03 2008-05-21 セントラル硝子株式会社 フルオロメチル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルエーテルの精製方法
DE602005026841D1 (de) * 2004-11-17 2011-04-21 Minrad Inc Verfahren zur herstellung von 1,2,2,2-tetrafluor-ethyl-difluor-methylether
CN102617298A (zh) * 2012-02-24 2012-08-01 华东理工大学 一种地氟醚的合成方法
US10683252B2 (en) * 2016-12-29 2020-06-16 Central Glass Company, Limited Production method for 1,2,2,2-tetrafluoroethyl difluoromethyl ether (desflurane)

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008530118A (ja) 2005-02-15 2008-08-07 ヘイロウカーボン プロダクツ コーポレイション フッ化水素からのデスフルランの分離／精製方法
JP2009286731A (ja) 2008-05-29 2009-12-10 Central Glass Co Ltd ハロゲン化α−フルオロエーテル類の製造方法
JP2016033128A (ja) 2014-07-28 2016-03-10 セントラル硝子株式会社 ２−クロロ−１，３，３，３−テトラフルオロプロペンの製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
日本薬学会編，知っておきたい有機反応１００，2006年，pp. 193-195

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019112339A (ja) 2019-07-11
WO2019123834A1 (ja) 2019-06-27
CN111556859A (zh) 2020-08-18
US20200339494A1 (en) 2020-10-29
US10899692B2 (en) 2021-01-26
CN111556859B (zh) 2022-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107848917B (zh) 1-氯-2,3,3-三氟丙烯的制造方法
JP6225028B2 (ja) 高純度ｅ−１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン及びその製造方法
JP5884130B2 (ja) ２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンの液相フッ素化で２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンを製造する方法
JP2593571B2 (ja) １，２，２，２―テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造方法
JP6237862B1 (ja) ヘキサフルオロイソプロパノール及び、フルオロメチル ヘキサフルオロイソプロピルエーテル（セボフルラン）の製造方法
JP2014148544A (ja) ２，３，３，３−テトラフルオロプロペンの製造方法
CN107250088A (zh) 1‑氯‑2,3,3‑三氟丙烯的制造方法
EP3339280A1 (en) Process for making tetrafluoropropene
JP5244109B2 (ja) クロロメチル２，２，２―トリフロオロ−１−（トリフルオロメチル）エチルエーテルの製造方法
JP4922181B2 (ja) １，２，２，２−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造のための方法
JP7032639B2 (ja) ジフルオロメチル－１，２，２，２－テトラフルオロエチルエーテルの精製方法および製造方法
JP5338240B2 (ja) フッ化水素の分離方法
KR100934295B1 (ko) 불소화된 에테르의 합성
JP5610917B2 (ja) クロロプロパンの製造方法
WO2018186460A1 (ja) トリフルオロメチルピリジン類の精製方法
WO2011018466A1 (en) Process for the manufacture of sevoflurane
JP2019202971A (ja) １，２，２，２−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテル（デスフルラン）の製造方法
US6414204B1 (en) Process for producing allyl chloride
WO2019064863A1 (ja) １，２，２，２－テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテル（デスフルラン）の製造方法
JP6360084B2 (ja) ２−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンの液相フッ素化で２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロペンを製造する方法
JPH08325179A (ja) ２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピオン酸の製造方法及び１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロパンの製造方法
FR3107273A1 (fr) Procédé de préparation de composés iodofluorooléfines
JP2022188826A (ja) クロロ置換フェニルトリフルオロメチルケトン類の製造方法
JP2020011926A (ja) ハロゲン化エーテル類の製造方法
JP2004099481A (ja) トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20190627

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220125

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7032639

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150