JP7032629B2 - 除染液供給装置 - Google Patents
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Description
そして、従来、上記単一の蒸発器63への除染液(過酸化水素水)の供給は、特許文献2に開示された除染液供給装置が用いられている。
このような問題を解決する方法としては、各作業室に除染ガス発生装置を設けることが考えられ、例えば特許文献3にはそのような装置が開示されている。しかしながら、特許文献3は、各蒸発器41~45に各ポンプ21a~25aによって除染液を供給することを開示するだけであり、詳細な構成は示唆されていない。
また、上記特許文献2の除染液供給装置を各除染ガス発生装置に設ける構成も考えられるが、その場合には、各除染ガス発生装置に応じた台数の除染液供給装置が必要になるため、装置コストが上昇するという問題が生じる。
さらに、特許文献2の装置においては次のような問題が指摘されている。第1に、除染液供給通路5(配管)が長大化すると、エア抜き(通路5内を空の状態から先端まで液を満たす)およびエア置換(エアを導入して通路5内を空にする)までに非常に時間が掛かるという問題がある。第2に、仮に通路5にリークがあってもそのことを検出できないという問題があった。
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記各分岐通路には、該各分岐通路における上記送液手段よりも上流側の位置に上記分岐通路に気体を供給する気体供給手段が設けられており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
また、請求項2に記載した本発明は、除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記主供給通路の一端および他端が上記貯溜容器と接続されており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とするものである。
上記アイソレータ2と第2操作室4とを区画する壁面2Aおよび両操作室3,4を区画する壁面4A、及び第1操作室3の外方側の壁面3Aに開閉扉D1~D3が開閉自在に設けられている。また、アイソレータ2と接続室5とを区画する上記壁面2B、および接続室5とインキュベータ6とを区画する壁面6Aにも開閉扉D4、D5が開閉自在に設けられている。
これらの開閉扉D1~D5の閉鎖状態では、アイソレータ2、両操作室3,4、接続室5及びインキュベータ6の内部は、それぞれ気密を保持して外部環境から隔離されるようになっている。
無菌作業室としてのアイソレータ2及び両操作室3,4には、図示しない作業グローブが設けられており、所要時に作業者が外部から上記作業グローブに手を差し込んでからアイソレータ2、両操作室3,4への物品O(細胞を収容した容器や機材等)の搬入出や所要の作業を行うようになっている。
第1供給ユニットU1は、アイソレータ2の天面を覆ったケーシング21と、このケーシング21内で除染ガスGを発生させる除染ガス発生装置11と、ケーシング21内で発生した除染ガスGをアイソレータ2の内部へ送気する3台のファン22と、アイソレータ2の天面に取り付けられて除染ガスGをアイソレータ2内へ通過させるHEPAフィルタF1とを備えている。
図3に示すように、除染ガス発生装置11は、所定高さに支持されたヒータ23と、その上面に載置されたヒータプレート24とから構成されている。ヒータ23とヒータプレート24が蒸発器として機能するようになっている。除染ガスGを発生させる際には、予めヒータ23及びヒータプレート24が所定温度に加熱されている。そして、後に詳述する除染液供給装置12の分岐管41からヒータプレート24上に除染液W(過酸化水素水)が滴下して供給されると、除染液Wがヒータプレート24により加熱されて蒸発することで除染ガスG(過酸化水素ガス)が発生するようになっている。
第2供給ユニットU2は上述した第1供給ユニットU1と同様に構成されており、前述したように、これら両供給ユニットU1、U2はアイソレータ2の天面に配置されている。
そして、第1供給ユニットU1、第2供給ユニットU2の各除染ガス発生装置11によって除染ガスGを発生させている状態において、各供給ユニットU1、U2のファン22が同期して作動されると、各供給ユニットU1、U2のケーシング21内で発生した除染ガスGがHEPAフィルタF1を通過してアイソレータ2内に供給されるようになっている。
そして、第3供給ユニットU3の除染ガス発生装置11によって除染ガスGを発生させている状態において、第3供給ユニットU3のファン22が作動されると、第3供給ユニットU3のケーシング21内で発生した除染ガスGがHEPAフィルタF1を通過して第2操作室4に供給されるようになっている。
これと同様に、第4供給ユニットU4の除染ガス発生装置11によって除染ガスGを発生させている状態において、第4供給ユニットU4のファン22が作動されると、第4供給ユニットU4のケーシング21内で発生した除染ガスGがHEPAフィルタF1を通過して第1操作室4に供給されるようになっている。さらに、これと同様に、第5供給ユニットU5の除染ガス発生装置11によって発生した除染ガスGが接続室5に供給されるようになっている。
本実施例においては、第1供給ユニットU1~第5供給ユニットU5が、除染ガスGをアイソレータ2、両操作室3,4に供給するための除染ガス供給装置となっている。そして、該除染ガス供給装置によって、アイソレータ2、各操作室3、4、接続室5内に除染ガスGを供給することで、それらアイソレータ2等の内部が除染されるようになっている。
所要時に制御装置10が各給気手段17A~17Eの開閉弁を個別に開放させ、かつ、それらの隣接位置のファン22を作動させると、各ケーシング21内に外気が取り込まれるとともに、HEPAフィルタF1によって外気が無菌化されてからアイソレータ2内と各室3~5内に供給されるようになっている。
本実施例では、培養作業開始時において、アイソレータ2内、各室3~5内及びインキュベータ6内を除染ガスGで除染し、その後にそれらの内部の気体を各排気手段13~16によって排気するようにしている。そして、その際に上記各給気手段17A~17Eによってアイソレータ2、各室3~5、インキュベータ6内に無菌化された外気が供給されるようになっている。各排気手段13~16と各給気手段17A~17Eとによって、アイソレータ2、各室3~5及びインキュベータ6内をエアレーションするエアレーション手段が構成されている。
第1排気手段13は、上記接続室5に接続されて外気に連通させた排気管27と、この排気管27の途中に順次設けた流量調整機能付きの開閉弁28、触媒29、およびブロワ30とを備えている。接続室5に対する排気管27の接続部にHEPAフィルタF1が取り付けられている。上記触媒29は、除染ガスGの過酸化水素成分を捕捉して分解する機能を備えている。
接続室5内が除染ガスGによって除染された後に、開閉弁28が開放されるとともにブロワ30が作動されると、接続室5内の気体はHEPAフィルタF1、排気管27とそれに設けた開閉弁28、触媒29及びブロワ30を介して外部に排出されるようになっている。この時には、上記第5給気手段17Eが作動されるので、無菌化された外気が第5供給ユニットU5のケーシング21を介して接続室5内に供給される。つまり、接続室5のエアレーションが行われるようになっている。
培養作業開始時にアイソレータ2、各室3、4内が除染ガスGによって除染された後に、第2排気手段14~第4排気手段16の開閉弁28が開放されるとともにブロワ30が作動されるようになっている。その際には、各給気手段17A~17Dも作動される。そのため、アイソレータ2内の気体は、第2排気手段14を介して外部に排出されるとともに、アイソレータ2内に第1給気手段17A、第2給気手段17Bによって無菌化された外気が供給される。また、これと同時に、各室3、4内の気体は各排気手段15、16を介して排出されるとともに、各室3、4内に第3給気手段17C、第4給気手段17Dを介して無菌化された外気が供給されるようになっている。これにより、アイソレータ2、各室3、4内のエアレーションが行われるようになっている。
すなわち、開閉扉D3が閉鎖されるとともに開閉扉D1、D2、D4、D5が開放された状態において、各供給ユニットU1~U5から除染ガスGを供給してアイソレータ2、各室3~5及びインキュベータ6内が除染される。その後、各排気手段13~16及び各給気手段17A~17Eが同期して作動されることにより、アイソレータ2、各室3~5及びインキュベータ6内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉D2が閉鎖されるとともに開閉扉D3が開閉されて第1操作室3に細胞を収容した容器等の物品Oが搬入される。すると、第4供給ユニットU4から除染ガスGが第1操作室3に供給されるので、第1操作室3及び物品Oが除染ガスGにより除染される。この後、第4排気手段16と第4給気手段17Dが作動されるので、第1操作室3内の除染ガスGを含んだ気体が外部へ排出されるとともに無菌化された外気が第1操作室3内に供給される。これにより、第1操作室3内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉D1が閉鎖されるとともに開閉扉D2が開閉されて物品Oは第1操作室3から第2操作室4内に搬入される。この後、第3排気手段15が作動されるとともに第3給気手段17Cが作動されるので、第2操作室4内に無菌化された外気が供給される。つまり、ここでは除染は行わずに第2操作室4内のエアレーションが行われる。
次に、開閉扉D4、D5が閉鎖されるとともに開閉扉D1が開閉されて物品Oは第2操作室4からアイソレータ2内に搬入される。そして、この後、アイソレータ2内の物品Oに対して所要の処理が施される。
この後、接続室5の開閉扉D4、D5が開閉されてアイソレータ2からインキュベータ6内へ物品O(細胞を収容した容器)が搬入される。その後、開閉扉D4、D5が閉鎖されるとともに、インキュベータ6を接続室5から離脱させて、次の新たなインキュベータ6が接続室5に接続される。このようにして、順次、接続室5を介してインキュベータ6内に物品Oを搬入して、各インキュベータ6内で細胞の培養が行われるようになっている。
すなわち、図2に示すように、除染液供給装置12は、除染液W(過酸化水素水)を貯溜するタンク31と、除染液Wを貯溜した状態のタンク31の重量を計測する重量計32と、除染液Wを上記各供給ユニットU1~U5の除染ガス発生装置11へ供給するための除染液供給通路33とを備えている。
貯溜手段としてのタンク31には、所要量の除染液Wが貯溜されている。除染液Wを含めたタンク31の重量は重量計32によって計測され、重量計32が計測した重量は常時制御装置10へ伝達されている。制御装置10は、重量計32から伝達される重量を基にして、上記タンク31内に貯溜されている除染液Wの量を認識できるようになっている。
主供給通路40は、タンク31から各供給ユニットU1~U5の除染ガス発生装置11の隣接位置にわたって配置されている。主供給通路40の一端40Aは、タンク31内の除染液Wの中に浸漬されており、他方、主供給通路40の他端40Bは、タンク31内に挿入されて除染液Wの液面よりも上方となる空間部に位置している。なお、主供給通路40の他端40Bは除染液Wの中に浸漬させても良い。
主供給通路40における他端40Bに近い位置にローラポンプ(ぜん動ポンプ)からなるポンプP1が設けられており、このポンプP1の作動は制御装置10によって制御されるようになっている。主供給通路40におけるポンプP1の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。ポンプP1が駆動されると、主供給通路40の一端40Aから除染液Wが吸引されて各分岐通路41~44が接続された箇所を流通して他端40Bに向けて送液されるようになっている。つまり、タンク31内の除染液Wは、主供給通路40の一端40Aから吸引されて各分岐通路41~45との接続箇所を流通して他端40Bからタンク31に戻されるようになっている。
主供給通路40における上記ポンプP1よりも上流側の位置であって、各供給ユニットU1~U5の除染ガス発生装置11に近接する位置に各分岐通路41~45が設けられている。
第1供給ユニットU1用の分岐通路41における主供給通路40との接続部41Aに近い位置に、気体供給手段としての三方切換え弁Vが設けられており、それと分岐通路41の先端41Bとの間にはポンプP2が設けられている。分岐通路41におけるポンプP2の装着箇所は軟質樹脂製のチューブで構成されている。三方切換え弁VとポンプP2の作動は制御装置10によって制御されるようになっている。この図2に示すように、各分岐通路41~45のほとんどの領域は、対応する各供給ユニットU1~U5のケーシング21内に収容されている。
三方切換え弁Vは、分岐通路41を開放して主供給通路40と除染ガス発生装置11との連通を許容する第1位置と、主供給通路40と除染ガス発生装置11との連通を遮断して分岐通路41内に大気を導入する第2位置とに切換え可能となっている。通常では、三方切換え弁Vは分岐通路41内に大気を導入する第2位置にあって、分岐通路41を閉鎖している。なお、分岐通路41を開放する第1位置にあっても良く、この場合は、分岐通路41がローラポンプ(ぜん動ポンプ)からなるポンプP2のローラによって押しつぶされることで閉鎖される。三方切換え弁Vの外気取り入れ口にはごみを除去するためのフィルタF3が設けられている。
三方切換え弁Vが第1位置にある状態でポンプP2が駆動されると、タンク31内の除染液Wは主供給通路40と分岐通路41を流通してから第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に供給されるようになっている。
図3に示すように、分岐通路41の先端41Bは、第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11が備えるヒータプレート24の上方に支持されており、上記ポンプP2によって送液されてきた除染液Wは、先端41Bからヒータプレート24に滴下されて蒸発して除染ガスGが発生するようになっている。
上記主供給通路40、各分岐通路41~45は導管からなり、主供給通路40に配置されたポンプP1は、分岐通路41~45に配置されたポンプP2よりも送液能力が大きくなっている。また、ポンプP1、P2としては、ローラポンプ(ぜん動ポンプ)が用いられている。また、各分岐通路41~45の長さは、それぞれ約100mm程度に設定されている。
以上のように、除染液供給装置12の除染液供給通路33は、除染液Wを各供給ユニットU1~U5の除染ガス発生装置11に向けて送液する主供給通路40と、それから分岐して各除染ガス発生装置11に接続された5本の分岐通路41~45を備えており、単一のタンク31から各供給ユニットU1~U5に除染液Wを供給できるようになっている。
先ず、主供給通路40のエア抜きと重量計の重量のリセット(キャリブレーション)が行われる。具体的には、先ず、ポンプP1を駆動させることにより、タンク31内の除染液Wが一端40Aから主供給通路40内に吸引されてから内部を流通した後に他端40Bからタンク31に戻される。これにより、主供給通路40内のエア抜きが行われて、その内部が除染液Wで満たされると、ポンプP1を停止する。その状態において、重量計32から制御装置10に重量が伝達されているので、制御装置10はキャリブレーションして重量計32の重量0点を設定する。
次に、例えば100gの除染液Wを第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に供給する場合を説明する。
この場合には、分岐通路42~45のポンプP2が停止し、かつ、分岐通路41の三方切換え弁Vが第1位置にあり、分岐通路42~25の各三方切換え弁Vが第2位置にある状態において、分岐通路41のポンプP2を駆動させてから重量計32の計測重量が100g減少したらポンプP2を停止させる。但し、第1回目においては、分岐通路41の内部空間が接続部41Aから先端41Bまでが空でエアが入っているので、分岐通路41の接続部41Aから三方切換え弁Vまでの区間の重量分だけ除染液Wが多く減少するようにポンプP2を駆動させる。他方、2回目以降においては、接続部41Aから先端41Bまでの内部空間はエア抜きされて除染液Wで満たされているので、100gの除染液Wを供給する場合には、重量計32の計測重量が100g減少するようにポンプP2を駆動させる。
このようにポンプP2が駆動されることにより、分岐通路41及び主供給通路40を介してタンク31内の除染液Wが吸引された後に分岐通路41の先端41Bから第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に滴下して供給される(図3参照)。
そして、ポンプP2が停止された後に、分岐通路41の三方切換え弁Vが第1位置から第2位置に切り換えられるので、三方切換え弁Vから分岐通路41内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Vの位置から先端41Bまでの区間に残存した除染液Wが先端41Bから除染ガス発生装置11へ排出されて供給される。この時点においては、接続部41Aと三方切換え弁Vまでの間の分岐通路41内には除染液Wが残留しているが、上述の通り、第1回目においては、この区間の重量分だけ除染液Wが多く減少するようにポンプP2を駆動しているため、全体では合計して100gの除染液Wが分岐通路41を介して第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に供給されたことになる。
この後、第2供給ユニットU2の除染ガス発生装置11に除染液Wを供給する際には、分岐通路41の三方切換え弁Vが第2位置にある状態のままとし、各分岐通路41、43~45の三方切換え弁Vが第2位置にある状態で、分岐通路42の三方切換え弁Vを第2位置から第1位置へ切り換え、分岐通路42のポンプP2を駆動させて、その後、重量計32の計測重量が100g減少したらポンプP2を停止させる。この時の処理は、前述した分岐通路41を介して除染液Wを第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に供給する場合と同様である。そして、この後、分岐通路42の三方切換え弁Vが第1位置から第2位置に切り換えられるので、三方切換え弁Vから分岐通路42内に外気が導入される。これにより、三方切換え弁Vの位置から先端42Bまでの区間に残存した除染液Wが先端42Aから第2供給ユニットU2の除染ガス発生装置11へ排出されて供給される。そして、この後、前述した第1供給ユニットU1、第2供給ユニットU2の除染ガス発生装置11への除染液Wの供給処理と同様にして、残りの各分岐通路43~45を介して順次各供給ユニットU3~U5の除染ガス発生装置11に100gの除染液Wが供給されるようになっている。
また、除染液供給通路33の各分岐通路41~45の長さは約100mm程度に設定されており、長さが数mにも及んだ従来品と比較して、除染液供給通路33の長さを大幅に短縮することができる。そのため、主供給通路40と分岐通路41~45とからなる除染液供給通路33内のエア抜き及びエア置換の作業を迅速に行うことができる。
また、本実施例の除染液供給装置12においては、除染液供給通路33のリークやポンプP2の故障を容易に検出することができる。つまり、各分岐通路41~45のポンプP2を駆動させて除染液Wを順次各供給ユニットU1~U5の除染ガス発生装置11に除染液Wを供給する際に、ポンプP2を駆動させているにも拘らず重量計32の計測重量が変化しない場合には、除染液供給通路33(主供給通路40、分岐通路41~45)に漏れがあること、あるいはポンプP1、P2の故障等のトラブルが発生していることを制御装置10によって的確に検出することができる。
また、除染液供給通路33の漏れは次のようにして検出することも可能である。すなわち、ポンプP1による主供給通路40のエア抜きの際に、ポンプP1によって一端40Aから他端40Bへと除染液Wを循環させておき、その状態での重量計32の計測重量を制御装置10によって監視するようにしても良い。この場合には、重量計32による計測重量が減少すると、主供給通路40に漏れがあると判定することができる。
この第2実施例の除染液供給装置12により第1供給ユニットU1に対して100gの除染液Wを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプP1を運転して主供給通路40を除染液Wで満たし、重量計32のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路41~45の三方切換え弁Vは上記第1実施例と同様に第2位置に位置している。
次に、分岐通路41の三方切換え弁Vを第1位置に切り換えるとともに、分岐通路41のポンプP2を重量計32の計測重量が100g減少するまで運転する。なお、その際、上記第1実施例のように第1回目だけ100gよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分(100g)だけ重量計32の計測重量が減少するようにポンプP2を運転する。
重量計32の計測重量が100g減少した時点で、分岐通路41の三方切換え弁Vを第2位置に切り換えた状態でポンプP2を運転し、フィルタF3から大気を導入し、三方切換え弁Vから分岐通路41の先端41Bまでの区間に残留する除染液Wを第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に滴下する。
また、この大気の導入作動と同時に、重量計32の計測重量が100g減少した時点で、外気通路34の切換え弁35を開放しながらポンプP1を運転し、フィルタF2と外気通路34を介して主供給通路40を大気で置換する。この際、ポンプP1の運転速度は、第1供給ユニットU1の除染ガス発生装置11に滴下するポンプP2の運転速度よりも大きくできる。そのため、分岐通路41の三方切換え弁Vから先端41Bまでの区間に残留する除染液Wを除染ガス発生装置11に全て滴下させるまでの間に、外気通路34から導入した大気で主供給通路40内を置換することができる。
次に、分岐通路41の三方切換え弁Vを第1位置に切り換えた状態でポンプP2を運転することにより、接続部41Aから三方切換え弁Vまでの区間に残留する除染液Wを除染ガス発生装置11に供給し、100g全ての除染液Wが除染ガス発生装置11に供給される。この間、外気通路34の切換え弁35は開放状態を維持してあるので、ポンプP2の運転に伴って、外気通路34及び主供給通路40を介して接続部41Aから分岐通路41に大気が導入される。
なお、上記外気通路4を介して主供給通路40に外気を導入している間に、接続部41Aから三方切換え弁Vまでに残留する除染液Wは、その区間に留まり、その間、前述したフィルタ3を介して大気を分岐通路41に導入している際に、三方切換え弁Vから先端41Bまでの区間の除染液Wが随時分岐通路41から排出されるため、除染液Wが存在しない区間が生じることになる。しかしながら、上述した通り、この第2実施例は、上記第1実施例のように第1回目の除染液Wの供給時において、目標重量値に加え、三方切換え弁Vから接続部41Aまでの残留除染液Wの重量を加えた分だけ、ポンプP2を多く運転する操作が必要ない。上述した供給ユニットU1へ除染液Wの供給作動と同様にして、順次各供給ユニットU2~U5へ除染液Wが供給される。
この第2実施例によれば上記第1実施例と同様の作用・効果が得られるだけでなく、重量計32で検知した重量分だけを確実に供給することができるので、より精度が高い除染作業が可能となる。
この第3実施例の除染液供給装置12により第1供給ユニットU1に対して100gの除染液Wを供給する場合には次のような処理が行われる。
すなわち、先ず、ポンプP1を運転して主供給通路40を除染液Wで満たし、重量計32のキャリブレーションを行う。この間、各分岐通路41~45のポンプP2は停止している。
次に、分岐通路41のポンプP2を、重量計32の計測重量が100g減少するまで運転する。その際、上記第1実施例のように第1回目だけ100gよりも多く減少するような運転は行わず、毎回目標重量分(100g)だけ重量計32が減少するようにポンプP2を運転する。
重量計32の計測重量が100g減少した時点で、外気通路34の切換え弁35を開放しながらポンプP1を運転し、フィルタF2と外気通路34を介して主供給通路40に大気を導入して、該主供給通路40を大気で置換する。この際、ポンプP1の運転速度は、除染ガス発生装置11に除染液Wを滴下するポンプP2の運転速度よりも大きくできる。そのため、主供給通路40を迅速に大気で置換することができる。
ポンプP2を運転することにより、接続部41Aから先端41Bまでの区間に残留する除染液Wを除染ガス発生装置11に供給し、100g全ての除染液Wの供給が完了する。なお、この間、外気通路34の切換え弁35は開放状態に維持されているので、ポンプP2の運転に伴って外気通路34及び主供給通路40を介して分岐通路41に大気が導入される。
以下、各供給ユニットU2~U5に関しても同様の処理が行われる。 このような第3実施例の除染液供給装置12であっても、上記第2実施例と同様の作用・効果を得ることができ、さらに、各分岐通路41~45の三方切換え弁Vを省略したことにより、装置のコストダウンを図ることができる。
第1実施例に関して段落0015及び図1に示したように、開閉扉D3が閉鎖されるとともに、開閉扉D1、D2、D4、D5が開放された状態において、各供給ユニットU1~U5に例えば合計で310gの除染液Wを供給して除染ガスGをアイソレータ2、各室3~5に供給する場合について以下に説明する。
ここで、容積の大きなアイソレータ2に配置された供給ユニットU1、U2については各100g、容積が小さな各操作室3、4の供給ユニットU3、U4については各50g、さらに最も小さな容積の接続室5の供給ユニットU5については、10gの除染液Wを供給する場合について説明する。
この場合、各分岐通路41のポンプP2の流量を、所定時間で上記合計重量の供給が可能な流量(X、Y、Zml/SEC)に設定する。この状態で、主供給通路40に除染液Wが満たされたら、各分岐通路41~45の三方切換え弁Vを一斉に第1位置に切り換えるとともに、各ポンプP2を上記設定流量にて運転し、重量計32の計測重量が310g減少した時点で、各ポンプP2を停止させる。この後は、上述した第1実施例から第3実施例に開示したいずれかの形態で除染液Wの供給を完了する。
なお、例えばアイソレータ2のみに除染ガスGを供給する場合においては、それ用の供給ユニットU1、U2のポンプP2を同じ流量で運転して、合計の目標重量分だけ重量計32の計測重量が減少したら、ポンプP2を停止するように除染液Wを供給する。
このような第4実施例であっても上記第1実施例と同様の作用・効果を得ることができる。
また、図2に示す位置にポンプP1を配置した場合であっても、該ポンプP1を連続運転させた状態で、各分岐通路41~45用のポンプP2、三方切換え弁Vを作動させることで、各除染ガス発生装置11に除染液Wを供給しても良い。この場合には、ポンプP1の流量はポンプP2の流量よりも大きくても小さくても良い。
また、上記第1実施例においては、主供給通路40は、その一端40Aから吸引した除染液Wを他端40Bからタンク31に戻すように構成されているが、主供給通路40は、少なくとも一端40Aから吸引した除染液Wを第4供給ユニットU4用の分岐通路44の位置まで供給できる長さであれば良い。
また、上記第1実施例の各供給ユニットU1~U5の三方切換え弁Vの代わりに次のような構成を用いてもよい。つまり、図2に示した外気通路34とそれに設けた二方切換え弁からなる切換え弁35と同じ構成を、各分岐通路41~45の三方切換え弁Vの代わりに用いても良い。
また、上記各実施例ではローラポンプからなるポンプP1、P2を用いているが、ポンプP1、P2としてはローラポンプ以外のポンプを用いても良い。その場合、各分岐通路41~45にそれらを閉鎖するための開閉弁を設ける必要がある。
また、上記重量計32は必須ではなく、それを省略しても良い。この場合には、各分岐通路41~44のポンプP2の回転量を検出することにより、所定量の除染液Wを供給したことを制御装置10が確認する構成となる。
31‥タンク(貯溜容器) 33‥除染液供給通路
40‥主供給通路 41~45‥分岐通路
U1‥第1供給ユニット(除染ガス供給装置)
U2‥第2供給ユニット(除染ガス供給装置)
U3‥第3供給ユニット(除染ガス供給装置)
U4‥第4供給ユニット(除染ガス供給装置)
U5‥第5供給ユニット(除染ガス供給装置)
G‥除染ガス W‥除染液
P1‥ポンプ(給液手段) P2‥ポンプ(送液手段)
V‥三方切換え弁(気体供給手段)
Claims (2)
- 除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記各分岐通路には、該各分岐通路における上記送液手段よりも上流側の位置に上記分岐通路に気体を供給する気体供給手段が設けられており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とする除染液供給装置。 - 除染液を貯溜する貯溜容器と、上記貯溜容器内の除染液を下流側機器に供給するための除染液供給通路と、除染液供給通路に設けられて貯溜容器の除染液を下流側機器に向けて送液する送液手段とを備えた除染液供給装置において、
上記除染液供給通路は、上記貯溜容器と接続される主供給通路と、該主供給通路から分岐して下流側機器に除染液を供給するための複数の分岐通路とを備え、
上記主供給通路には、上記貯溜容器から該主供給通路へと除染液を供給する給液手段が設けられ、上記送液手段は、上記各分岐通路に設けられ、
上記主供給通路の一端および他端が上記貯溜容器と接続されており、
上記下流側機器は、アイソレータシステムに設けられた複数の除染ガス発生装置であって、当該除染ガス発生装置は除染液を蒸発させて除染ガスを発生させることを特徴とする除染液供給装置。
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001518816A (ja) | 1997-04-08 | 2001-10-16 | ステリス コーポレイション | 一体化気相除染剤生成システムを備えた気相式除染アイソレーター装置 |
JP2006320486A (ja) | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Earekkusu:Kk | 除染システム、及び除染方法 |
JP2014155593A (ja) | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Earekkusu:Kk | 除染システム |
JP2015146799A (ja) | 2014-01-07 | 2015-08-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 給水装置、および給水システム |
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