JP7029314B2 - Chemical control valve and substrate processing equipment - Google Patents

Chemical control valve and substrate processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP7029314B2
JP7029314B2 JP2018040760A JP2018040760A JP7029314B2 JP 7029314 B2 JP7029314 B2 JP 7029314B2 JP 2018040760 A JP2018040760 A JP 2018040760A JP 2018040760 A JP2018040760 A JP 2018040760A JP 7029314 B2 JP7029314 B2 JP 7029314B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow path
valve chamber
opening
wall
closing valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018040760A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019157888A (en
Inventor
真人 柏山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2018040760A priority Critical patent/JP7029314B2/en
Priority to TW108104752A priority patent/TWI732178B/en
Priority to CN201910117565.0A priority patent/CN110246776B/en
Priority to KR1020190022511A priority patent/KR102225758B1/en
Publication of JP2019157888A publication Critical patent/JP2019157888A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7029314B2 publication Critical patent/JP7029314B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68764Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel

Description

本発明は、半導体基板、液晶表示装置や有機EL(electroluminescence)表示装置などのFPD(Flat Panel Display)用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等の基板に対して供給される薬液を制御するための薬液制御弁およびこれを備えた基板処理装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor substrate, a substrate for FPD (Flat Panel Display) such as a liquid crystal display device and an organic EL (electroluminescence) display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a ceramic substrate, and a solar cell. The present invention relates to a chemical liquid control valve for controlling a chemical liquid supplied to a substrate such as a substrate for use, and a substrate processing apparatus provided with the control valve.

従来の薬液制御弁201は、図7に示すように、流量調整弁202と開閉弁(ON・OFF弁)203とを備えている(例えば、特許文献1,2参照)。流量調整弁202は、供給する薬液の流量を調整する。一方、開閉弁203は、薬液を供給させ、また、薬液の供給を停止させる。流量調整弁202と開閉弁203との間は、V字流路205または特許文献2に記載された円弧状流路(以下、「V字流路205等」と呼ぶ)で接続されている。そのため、流量調整弁202から送られた薬液は、V字流路205等を通過して開閉弁203に送られる。 As shown in FIG. 7, the conventional chemical solution control valve 201 includes a flow rate adjusting valve 202 and an on-off valve (ON / OFF valve) 203 (see, for example, Patent Documents 1 and 2). The flow rate adjusting valve 202 adjusts the flow rate of the supplied chemical solution. On the other hand, the on-off valve 203 supplies the chemical solution and stops the supply of the chemical solution. The flow rate adjusting valve 202 and the on-off valve 203 are connected by a V-shaped flow path 205 or an arc-shaped flow path described in Patent Document 2 (hereinafter, referred to as “V-shaped flow path 205 or the like”). Therefore, the chemical solution sent from the flow rate adjusting valve 202 passes through the V-shaped flow path 205 and the like and is sent to the on-off valve 203.

特開2001-263507号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-263507 特開2017-207121号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-207121

このような従来の薬液制御弁201には次のような問題がある。上述のように、流量調整弁202から送られた薬液は、V字流路205等を通過して開閉弁203に送られる。V字流路205等に薬液を通過させると、薬液制御弁201の入口から出口までの薬液の置換特性を悪くさせるおそれがある。仮に、薬液の置換特性が悪いと、留まっている古い薬液に起因して液体中にゴミが生じるおそれがある。そのため、薬液制御弁201における薬液の置換特性を向上させることが好ましい。 Such a conventional chemical solution control valve 201 has the following problems. As described above, the chemical solution sent from the flow rate adjusting valve 202 passes through the V-shaped flow path 205 and the like and is sent to the on-off valve 203. If the chemical solution is passed through the V-shaped flow path 205 or the like, the replacement characteristics of the chemical solution from the inlet to the outlet of the chemical solution control valve 201 may be deteriorated. If the replacement characteristics of the chemical solution are poor, dust may be generated in the liquid due to the old chemical solution remaining. Therefore, it is preferable to improve the replacement characteristics of the chemical solution in the chemical solution control valve 201.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、薬液の置換特性を向上させることができる薬液制御弁およびこれを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a chemical solution control valve capable of improving the chemical solution replacement characteristics and a substrate processing apparatus provided with the chemical solution control valve.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と直角な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びる前記中間流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記開閉用弁室と接続する第2流路と、前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、を備えていることを特徴とするものである。 The present invention has the following configuration in order to achieve such an object. That is, the chemical liquid control valve according to the present invention is formed so as to have a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall which is a surface perpendicular to the first outer wall, and the first outer wall is recessed. A flow rate adjusting valve chamber, an opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block, wherein the flow rate adjusting valve chamber is formed. And the intermediate flow path extending at right angles to either the first outer wall or the second outer wall, and the flow rate block formed inside the flow path block. It has a first flow path connected to the adjustment valve chamber, a second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber, and a needle arranged in the flow rate adjustment valve chamber. It has a needle moving mechanism that closes the flow rate adjusting valve chamber and moves the needle to adjust the flow rate of the chemical solution, and an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber for opening / closing. It is characterized by being provided with an opening / closing valve body moving mechanism for moving the opening / closing valve body in order to close the valve chamber and supply the chemical solution and stop the supply thereof.

本発明に係る薬液制御弁によれば、流路ブロックは、第1外壁と、第1外壁と直角な面である第2外壁とを有する。ニードルが配置される流量調整用弁室は、流路ブロックの第1外壁が凹むように形成されている。一方、開閉用弁体が配置される開閉用弁室は、第2外壁が凹むように形成されている。中間流路は、流量調整用弁室と開閉用弁室とを接続するが、中間流路は、第1外壁および第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びている。このような構成により、中間流路を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。 According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall which is a surface perpendicular to the first outer wall. The flow rate adjusting valve chamber in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arranged is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow path extends at a right angle to either the first outer wall or the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like.

また、本発明に係る薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁に対して直角に延びる前記中間流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記開閉用弁室と接続する第2流路と、前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、
を備えていることを特徴とするものである。
Further, the chemical liquid control valve according to the present invention has a first outer wall, a single flow path block having a second outer wall facing the first outer wall and a plane parallel to the first outer wall, and the first outer wall. A flow rate adjusting valve chamber formed so that the outer wall is recessed, an opening / closing valve chamber formed so as to have the second outer wall recessed, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block. The flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber are connected to each other, and are formed inside the flow path block and the intermediate flow path extending at right angles to the first outer wall and the second outer wall. The first flow path connected to the flow rate adjusting valve chamber, the second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber, and the flow rate adjusting valve chamber are arranged. It has a needle moving mechanism that closes the flow rate adjusting valve chamber and moves the needle to adjust the flow rate of the chemical solution, and an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber. An opening / closing valve body moving mechanism that moves the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and supply the chemical solution and stop the supply thereof.
It is characterized by having.

本発明に係る薬液制御弁によれば、流路ブロックは、第1外壁と、第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁とを有する。ニードルが配置される流量調整用弁室は、流路ブロックの第1外壁が凹むように形成されている。一方、開閉用弁体が配置される開閉用弁室は、第2外壁が凹むように形成されている。中間流路は、流量調整用弁室と開閉用弁室とを接続するが、中間流路は、第1外壁および第2外壁に対して直角に延びている。このような構成により、中間流路を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。 According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall. The flow rate adjusting valve chamber in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arranged is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow path extends at right angles to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like.

また、上述の薬液制御弁において、前記第1流路および前記第2流路は各々、直線状であって、前記中間流路に対して直角に延びることが好ましい。金型に材料を流し込んで流路ブロックを形成する際に、中間流路を形成するために金型内に挿入する第1ピン部材と、第1流路および第2流路を形成するために金型内に挿入する第2ピン部材および第3ピン部材の各々とを直角に配置することができる。そのため、第1ピン部材と、第2ピン部材および第3ピン部材の各々とが斜めに配置される(直角でない)場合に比べて、中間流路、第1流路および第2流路を容易に形成することができる。 Further, in the above-mentioned chemical solution control valve, it is preferable that the first flow path and the second flow path are linear and extend at right angles to the intermediate flow path. In order to form a first pin member to be inserted into the mold to form an intermediate flow path and a first flow path and a second flow path when the material is poured into the mold to form a flow path block. Each of the second pin member and the third pin member to be inserted into the mold can be arranged at a right angle. Therefore, the intermediate flow path, the first flow path, and the second flow path are easier than in the case where the first pin member and each of the second pin member and the third pin member are diagonally arranged (not at right angles). Can be formed into.

また、上述の薬液制御弁において、前記第1流路は、前記第2流路と平行であり、前記第1流路における前記流量調整用弁室と接続する部分と反対側の第1接続口は、前記第2流路における前記開閉用弁室と接続する部分と反対側の第2接続口と同じ方向を向いて開口していることが好ましい。金型に材料を流し込んで流路ブロックを形成する際に、第1流路および第2流路を形成するために金型内に挿入する第2ピン部材および第3ピン部材を同じ方向に移動することができる。そのため、第2ピン部材が金型内に挿入される向きが第3ピン部材の向きと異なる場合に比べて、第1流路および第2流路を容易に形成することができる。 Further, in the above-mentioned chemical liquid control valve, the first flow path is parallel to the second flow path, and the first connection port on the side opposite to the portion of the first flow path connected to the flow rate adjusting valve chamber. Is preferably opened so as to face the same direction as the second connection port on the side opposite to the portion of the second flow path connected to the opening / closing valve chamber. When the material is poured into the mold to form the flow path block, the second pin member and the third pin member to be inserted into the mold to form the first flow path and the second flow path are moved in the same direction. can do. Therefore, the first flow path and the second flow path can be easily formed as compared with the case where the direction in which the second pin member is inserted into the mold is different from the direction in which the third pin member is inserted.

また、上述の薬液制御弁において、前記流路ブロックは、PFAで形成されていることが好ましい。流路ブロックがPFAで形成されると、流路ブロックの表面がその内部よりも硬い層(膜)であるスキン層で覆われる。流路ブロックの内部に薬液が染み込んでしまうと、結果的に、流路ブロックの内部からごみを引き出してしまうおそれがある。しかしながら、スキン層が薬液の染み込みを防止するので、薬液の清浄度を悪化させるおそれを抑制することができる。 Further, in the above-mentioned chemical solution control valve, it is preferable that the flow path block is formed of PFA. When the flow path block is formed of PFA, the surface of the flow path block is covered with a skin layer which is a harder layer (film) than the inside thereof. If the chemical solution soaks into the inside of the flow path block, as a result, dust may be pulled out from the inside of the flow path block. However, since the skin layer prevents the chemical solution from penetrating, it is possible to suppress the possibility of deteriorating the cleanliness of the chemical solution.

また、本発明に係る基板処理装置は、基板を保持し、保持した基板を回転する保持回転部と、前記保持回転部に保持された基板に対して薬液を吐出するノズルと、前記ノズルに接続された薬液配管と、前記ノズルから吐出される薬液の流量を調整し、かつ前記ノズルから薬液を吐出させ、薬液吐出を停止させる薬液制御弁と、を備え、前記薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と直角な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びる前記中間流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、前記流路ブロックの内部に形成された第2流路であって、前記開閉用弁室と接続すると共に、前記薬液配管を介して前記ノズルに接続される前記第2流路と、前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、を備えていること特徴とするものである。 Further, the substrate processing apparatus according to the present invention is connected to a holding rotating portion that holds the substrate and rotates the held substrate, a nozzle that discharges a chemical solution to the substrate held by the holding rotating portion, and the nozzle. The chemical liquid control valve is provided with a chemical liquid pipe, a chemical liquid control valve that adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge. A single flow path block having a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall, a flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed, and the second outer wall being recessed. An opening / closing valve chamber formed in the above, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block, which is connected between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber. The intermediate flow path extending at right angles to either the first outer wall or the second outer wall, the first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber, and the said. A second flow path formed inside the flow path block, which is connected to the opening / closing valve chamber, the second flow path connected to the nozzle via the chemical liquid pipe, and the flow rate adjustment. It has a needle arranged in the valve chamber, a needle moving mechanism that closes the flow rate adjusting valve chamber and moves the needle to adjust the flow rate of the chemical solution, and an opening / closing mechanism arranged in the opening / closing valve chamber. It has a valve body, and is characterized by having an opening / closing valve body moving mechanism that closes the opening / closing valve chamber and moves the opening / closing valve body in order to supply and stop the supply of the chemical solution. It is something to do.

本発明に係る基板処理装置によれば、薬液制御弁を備えている。薬液制御弁において、流路ブロックは、第1外壁と、第1外壁と直角な面である第2外壁とを有する。ニードルが配置される流量調整用弁室は、流路ブロックの第1外壁が凹むように形成されている。一方、開閉用弁体が配置される開閉用弁室は、第2外壁が凹むように形成されている。中間流路は、流量調整用弁室と開閉用弁室とを接続するが、中間流路は、第1外壁および第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びている。このような構成により、中間流路を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。 According to the substrate processing apparatus according to the present invention, a chemical liquid control valve is provided. In the chemical liquid control valve, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall which is a surface perpendicular to the first outer wall. The flow rate adjusting valve chamber in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arranged is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow path extends at a right angle to either the first outer wall or the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like.

また、本発明に係る基板処理装置は、基板を保持し、保持した基板を回転する保持回転部と、前記保持回転部に保持された基板に対して薬液を吐出するノズルと、前記ノズルに接続された薬液配管と、前記ノズルから吐出される薬液の流量を調整し、かつ前記ノズルから薬液を吐出させ、薬液吐出を停止させる薬液制御弁と、を備え、前記薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁に対して直角に延びる前記中間流路と、前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、前記流路ブロックの内部に形成された第2流路であって、前記開閉用弁室と接続すると共に、前記薬液配管を介して前記ノズルに接続される前記第2流路と、前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、を備えていることを特徴とするものである。 Further, the substrate processing apparatus according to the present invention is connected to a holding rotating portion that holds the substrate and rotates the held substrate, a nozzle that discharges a chemical solution to the substrate held by the holding rotating portion, and the nozzle. The chemical liquid control valve is provided with a chemical liquid pipe, a chemical liquid control valve that adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge. A single flow path block having a second outer wall facing the first outer wall and a surface parallel to the first outer wall, and a flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed. , The opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed, and the linear intermediate flow path formed inside the flow path block, the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber. A first flow that is formed inside the flow path block and is connected to the flow rate adjusting valve chamber and the intermediate flow path extending at right angles to the first outer wall and the second outer wall. A second flow path formed inside the flow path block, which is connected to the opening / closing valve chamber and is connected to the nozzle via the chemical liquid pipe, and the second flow path. A needle moving mechanism having a needle arranged in the flow rate adjusting valve chamber, closing the flow rate adjusting valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical solution, and an arrangement in the opening / closing valve chamber. The opening / closing valve body is provided with an opening / closing valve body moving mechanism that closes the opening / closing valve chamber and moves the opening / closing valve body in order to supply and stop the supply of the chemical solution. It is characterized by being.

本発明に係る基板処理装置によれば、薬液制御弁を備えている。薬液制御弁において、流路ブロックは、第1外壁と、第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁とを有する。ニードルが配置される流量調整用弁室は、流路ブロックの第1外壁が凹むように形成されている。一方、開閉用弁体が配置される開閉用弁室は、第2外壁が凹むように形成されている。中間流路は、流量調整用弁室と開閉用弁室とを接続するが、中間流路は、第1外壁および第2外壁に対して直角に延びている。このような構成により、中間流路を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。 According to the substrate processing apparatus according to the present invention, a chemical liquid control valve is provided. In the chemical liquid control valve, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall. The flow rate adjusting valve chamber in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arranged is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow path extends at right angles to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like.

なお、本明細書は、次のような薬液制御弁の製造方法に係る発明も開示している。 The present specification also discloses the following inventions relating to a method for manufacturing a chemical control valve.

(1)本発明に係る薬液制御弁の製造方法は、第1内壁および、前記第1内壁と直角な面である第2内壁を内部空間に有する一対の金型であって、流量調整用弁室を形成するために前記第1内壁に設けられた第1突出部と、開閉用弁室を形成するために前記第2内壁に設けられた第2突出部と、前記第1突出部と前記第2突出部とを接続させると共に、前記第1内壁および第2内壁のいずれか一方に対して直角に延びる方向に挿入された直線状の第1ピン部材とを有する前記一対の金型を準備する工程と、前記第1突出部と接続するように、直線状の第2ピン部材を前記内部空間に挿入する工程と、前記第2突出部と接続するように、直線状の第3ピン部材を前記内部空間に挿入する工程と、前記第2ピン部材および前記第3ピン部材を前記内部空間に挿入した後、加熱されて溶けた樹脂を前記内部空間に流し込む工程と、前記内部空間に流し込まれた樹脂が冷却されて固まった後、単一の流路ブロックとなる樹脂を一対の金型から取り外す工程と、を備えていることを特徴とするものである。 (1) The method for manufacturing a chemical liquid control valve according to the present invention is a pair of molds having a first inner wall and a second inner wall which is a surface perpendicular to the first inner wall in an internal space, and is a flow control valve. A first protruding portion provided on the first inner wall for forming a chamber, a second protruding portion provided on the second inner wall for forming an opening / closing valve chamber, the first protruding portion and the above. The pair of molds having a linear first pin member inserted in a direction extending at right angles to either the first inner wall or the second inner wall while connecting to the second protrusion is prepared. A step of inserting a linear second pin member into the internal space so as to be connected to the first protruding portion, and a linear third pin member so as to be connected to the second protruding portion. Into the internal space, after inserting the second pin member and the third pin member into the internal space, and then pouring the heated and melted resin into the internal space, and pouring into the internal space. It is characterized by comprising a step of removing a resin to be a single flow path block from a pair of molds after the resin is cooled and hardened.

本発明に係る薬液制御弁の製造方法によれば、一対の金型は、第1内壁および、第1内壁と直角な面である第2内壁を内部空間に有する。一対の金型は、流量調整用弁室を形成するために第1内壁に設けられた第1突出部と、開閉用弁室を形成するために第2内壁に設けられた第2突出部と、第1突出部と前記第2突出部とを接続させると共に、第1内壁および第2内壁のいずれか一方に対して直角に延びる方向に挿入された直線状の第1ピン部材とを有する。このような構造で流路ブロックを形成することで、中間流路を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。なお、従来の薬液制御弁において、V字流路は、形成後に、流量調整用弁室および開閉用弁室の2方向から切削することで形成される。本発明によれば、切削することなく直線状の中間流路31を形成することができる。 According to the method for manufacturing a chemical liquid control valve according to the present invention, the pair of molds has a first inner wall and a second inner wall which is a surface perpendicular to the first inner wall in the inner space. The pair of molds includes a first protrusion provided on the first inner wall for forming the flow control valve chamber and a second protrusion provided on the second inner wall for forming the opening / closing valve chamber. It has a linear first pin member inserted in a direction extending at a right angle to either the first inner wall or the second inner wall while connecting the first protruding portion and the second protruding portion. By forming the flow path block with such a structure, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like. In the conventional chemical solution control valve, the V-shaped flow path is formed by cutting from two directions of the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber after the formation. According to the present invention, a linear intermediate flow path 31 can be formed without cutting.

本発明に係る薬液制御弁およびこれを備えた基板処理装置によれば、薬液の置換特性を向上させることができる。 According to the chemical solution control valve and the substrate processing apparatus provided with the chemical solution control valve according to the present invention, the replacement characteristics of the chemical solution can be improved.

実施例に係る基板処理装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the substrate processing apparatus which concerns on Example. 実施例に係る薬液制御弁の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the chemical solution control valve which concerns on Example. (a)は、XY方向における一対の金型の横断面図であり、(b)は、XZ方向における一対の金型の縦断面図である。(A) is a cross-sectional view of a pair of molds in the XY direction, and (b) is a vertical cross-sectional view of the pair of molds in the XY direction. 変形例に係る薬液制御弁の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the chemical liquid control valve which concerns on a modification. (a)、(b)は、変形例に係る薬液制御弁の概略構成図である。(A) and (b) are schematic block diagrams of the chemical liquid control valve which concerns on a modification. (a)、(b)は、変形例に係る薬液制御弁の概略構成図である。(A) and (b) are schematic block diagrams of the chemical liquid control valve which concerns on a modification. 従来の薬液制御弁の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the conventional chemical solution control valve.

以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成図である。図2は、実施例に係る薬液制御弁の概略構成図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a chemical solution control valve according to an embodiment.

<基板処理装置1の構成>
図1を参照する。基板処理装置1は、ノズル2と保持回転部3とを備えている。ノズル2は、保持回転部3で保持された基板Wに対して薬液を吐出するものである。薬液は、例えば、レジスト液、反射防止膜形成用の塗布液、シンナー等の溶剤、純水(DIW)等のリンス液、現像液、またはエッチング液である。
<Structure of substrate processing device 1>
See FIG. The substrate processing device 1 includes a nozzle 2 and a holding rotation unit 3. The nozzle 2 discharges the chemical solution to the substrate W held by the holding rotation unit 3. The chemical solution is, for example, a resist solution, a coating solution for forming an antireflection film, a solvent such as thinner, a rinsing solution such as pure water (DIW), a developing solution, or an etching solution.

保持回転部3は、基板Wを保持し、保持した基板Wを回転するものである。保持回転部3は、スピンチャック4と回転駆動部5とを備えている。スピンチャック4は、回転軸AX周りに回転可能に構成されている。スピンチャック4は、例えば、基板Wの裏面を真空吸着することにより基板Wを略水平姿勢で保持する。一方、回転駆動部5は、スピンチャック4を回転軸AX周りに回転させる駆動を行う。回転駆動部5は、電動モータ等で構成されている。 The holding rotation unit 3 holds the substrate W and rotates the held substrate W. The holding rotation unit 3 includes a spin chuck 4 and a rotation drive unit 5. The spin chuck 4 is configured to be rotatable around the rotation axis AX. The spin chuck 4 holds the substrate W in a substantially horizontal posture by, for example, vacuum-sucking the back surface of the substrate W. On the other hand, the rotation drive unit 5 drives the spin chuck 4 to rotate around the rotation axis AX. The rotary drive unit 5 is composed of an electric motor or the like.

また、基板処理装置1は、薬液供給源7、薬液配管8a,8b、ポンプPおよび薬液制御弁9を備えている。薬液供給源7は、例えば、薬液を貯留するタンクまたはボトルで構成されている。薬液配管8a,8bの一端は、薬液供給源7に接続され、その他端は、ノズル2に接続されている。 Further, the substrate processing device 1 includes a chemical liquid supply source 7, chemical liquid pipes 8a and 8b, a pump P, and a chemical liquid control valve 9. The chemical solution supply source 7 is composed of, for example, a tank or a bottle for storing the chemical solution. One end of the chemical liquid pipes 8a and 8b is connected to the chemical liquid supply source 7, and the other end is connected to the nozzle 2.

薬液供給源7とノズル2との間の薬液配管8aには、ポンプPが設けられている。ポンプPとノズル2との間の薬液配管8a,8bには、薬液制御弁9が設けられている。ポンプPは薬液を送る機構である。薬液制御弁9は、ノズル2から吐出させる薬液の流量を調整し、かつ、ノズル2から薬液を吐出させ、薬液吐出を停止させる。薬液制御弁9の詳細は後述する。なお、薬液配管8a,8bには、例えば、異物除去フィルタおよび、液だれ防止のためのサックバック弁の少なくともいずれかが設けられていてもよい。 A pump P is provided in the chemical liquid pipe 8a between the chemical liquid supply source 7 and the nozzle 2. A chemical liquid control valve 9 is provided in the chemical liquid pipes 8a and 8b between the pump P and the nozzle 2. The pump P is a mechanism for sending a chemical solution. The chemical liquid control valve 9 adjusts the flow rate of the chemical liquid to be discharged from the nozzle 2, and discharges the chemical liquid from the nozzle 2 to stop the chemical liquid discharge. Details of the chemical control valve 9 will be described later. The chemical liquid pipes 8a and 8b may be provided with, for example, at least one of a foreign matter removing filter and a sackback valve for preventing dripping.

基板処理装置1は、1または2以上の制御部11と、操作部13とを備えている。制御部11は、中央演算処理装置(CPU)を有している。制御部11は、基板処理装置1および薬液制御弁9の各構成を制御する。操作部13は、入力部、表示部および記憶部を備えている。記憶部は、ROM(Read-only Memory)、RAM(Random-Access Memory)、およびハードディスク等で構成されている。記憶部には、例えば基板処理の各種条件が記憶されている。 The substrate processing device 1 includes one or more control units 11 and an operation unit 13. The control unit 11 has a central processing unit (CPU). The control unit 11 controls each configuration of the substrate processing device 1 and the chemical liquid control valve 9. The operation unit 13 includes an input unit, a display unit, and a storage unit. The storage unit is composed of a ROM (Read-only Memory), a RAM (Random-Access Memory), a hard disk, and the like. For example, various conditions for substrate processing are stored in the storage unit.

<薬液制御弁9の構成>
図2を参照する。薬液制御弁9は、単一の流路ブロック21、ニードル移動機構23および開閉用弁体移動機構25を備えている。
<Structure of chemical control valve 9>
See FIG. The chemical liquid control valve 9 includes a single flow path block 21, a needle moving mechanism 23, and an opening / closing valve body moving mechanism 25.

流路ブロック21は、例えばPFA(パーフルオロアルコキシアルカン:perfluoroalkoxyalkane)などの熱可塑性および溶融流動性を有するフッ素樹脂その他の樹脂で形成されている。流路ブロック21は、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン:polytetrafluoroethylene)などのフッ素樹脂で形成されていてもよい。 The flow path block 21 is made of a fluororesin or other resin having thermoplasticity and melt fluidity, such as PFA (perfluoroalkoxyalkane). The flow path block 21 may be formed of a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene).

なお、流路ブロック21は、PFAで形成されていることが好ましい。流路ブロック21が射出成形によってPFAで形成されると、流路ブロック21の表面がその内部よりも硬い層(膜)であるスキン層で覆われる。流路ブロック21の内部に薬液が染み込んでしまうと、結果的に、流路ブロック21の内部からごみを引き出してしまうおそれがある。しかしながら、スキン層が薬液の染み込みを防止するので、薬液の清浄度を悪化させるおそれを抑制することができる。 The flow path block 21 is preferably formed of PFA. When the flow path block 21 is formed of PFA by injection molding, the surface of the flow path block 21 is covered with a skin layer which is a harder layer (film) than the inside thereof. If the chemical solution soaks into the inside of the flow path block 21, dust may be pulled out from the inside of the flow path block 21 as a result. However, since the skin layer prevents the chemical solution from penetrating, it is possible to suppress the possibility of deteriorating the cleanliness of the chemical solution.

流路ブロック21は、第1外壁(面)21aと第2外壁(面)21bとを有する。第2外壁21bは、第1外壁21aとほぼ直角な面である。流路ブロック21の第1外壁(外面)21aには、流量調整用弁室27が設けられている。流路ブロック21の第2外壁(外面)21bには、開閉用弁室29が設けられている。流量調整用弁室27は、第1外壁21aの一部が凹むように形成されている。すなわち、流量調整用弁室27は、第1外壁21aに凹状に形成されている。開閉用弁室29は、第2外壁21bの一部が凹むように形成されている。すなわち、開閉用弁室29は、流路ブロック21の第2外壁21bに凹状に形成されている。 The flow path block 21 has a first outer wall (face) 21a and a second outer wall (face) 21b. The second outer wall 21b is a surface substantially perpendicular to the first outer wall 21a. A flow rate adjusting valve chamber 27 is provided on the first outer wall (outer surface) 21a of the flow path block 21. An opening / closing valve chamber 29 is provided on the second outer wall (outer surface) 21b of the flow path block 21. The flow rate adjusting valve chamber 27 is formed so that a part of the first outer wall 21a is recessed. That is, the flow rate adjusting valve chamber 27 is formed in a concave shape on the first outer wall 21a. The opening / closing valve chamber 29 is formed so that a part of the second outer wall 21b is recessed. That is, the opening / closing valve chamber 29 is formed in a concave shape on the second outer wall 21b of the flow path block 21.

流路ブロック21の内部には、中間流路31、第1流路33および第2流路35が形成されている。中間流路31、第1流路33および第2流路35は各々、直線状に形成されている。中間流路31は、流量調整用弁室27と開閉用弁室29との間を接続させるように形成されている。また、中間流路31は、第2外壁21bとほぼ直角に延びるように形成されている。 An intermediate flow path 31, a first flow path 33, and a second flow path 35 are formed inside the flow path block 21. The intermediate flow path 31, the first flow path 33, and the second flow path 35 are each formed in a straight line. The intermediate flow path 31 is formed so as to connect between the flow rate adjusting valve chamber 27 and the opening / closing valve chamber 29. Further, the intermediate flow path 31 is formed so as to extend substantially at a right angle to the second outer wall 21b.

第1流路33の一端は、流量調整用弁室27と接続する。第1流路33の他端は、流路ブロック21の外部である、ポンプPが設けられた薬液配管8aと接続する。第2流路35の一端は、開閉用弁室29と接続する。第2流路35の他端は、流路ブロック21の外部である、ノズル2が設けられた薬液配管8bと接続する。すなわち、第2流路35は、薬液配管8bを介してノズル2が接続されている。 One end of the first flow path 33 is connected to the flow rate adjusting valve chamber 27. The other end of the first flow path 33 is connected to the chemical liquid pipe 8a provided with the pump P, which is the outside of the flow path block 21. One end of the second flow path 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29. The other end of the second flow path 35 is connected to the chemical liquid pipe 8b provided with the nozzle 2 which is the outside of the flow path block 21. That is, the nozzle 2 is connected to the second flow path 35 via the chemical liquid pipe 8b.

第1流路33および第2流路35は各々、中間流路31に対して直角に延びるように形成されている。また、第1流路33は、第2流路35と平行である。そして、第1流路33における流量調整用弁室27と接続する部分と反対側の第1接続口37は、第2流路35における開閉用弁室29と接続する部分と反対側の第2接続口39と同じ方向を向いて開口している。すなわち、第1流路33を通過する薬液の向きが第2流路35を通過する薬液の向きと逆向きになるように、第1流路33および第2流路35が形成されている。 The first flow path 33 and the second flow path 35 are each formed so as to extend at right angles to the intermediate flow path 31. Further, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. The first connection port 37 on the side opposite to the portion connected to the flow rate adjusting valve chamber 27 in the first flow path 33 is the second on the opposite side to the portion connected to the opening / closing valve chamber 29 in the second flow path 35. It is open facing the same direction as the connection port 39. That is, the first flow path 33 and the second flow path 35 are formed so that the direction of the chemical solution passing through the first flow path 33 is opposite to the direction of the chemical solution passing through the second flow path 35.

ニードル移動機構23は、流路ブロック21に取り付けられている。ニードル移動機構23は、ニードル41を有する。ニードル移動機構23は、流量調整用弁室27を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するためにニードル41を移動させるように構成されている。 The needle moving mechanism 23 is attached to the flow path block 21. The needle moving mechanism 23 has a needle 41. The needle moving mechanism 23 is configured to close the flow rate adjusting valve chamber 27 and move the needle 41 in order to adjust the flow rate of the chemical solution.

なお、図2において、流量調整用弁室27は、第1延長流路40aを有している。第1延長流路40aは、流量調整用弁室27の底部以外の例えば内側壁に設けられている。中間流路31が第1延長流路40aに接続されることで、中間流路31は、流量調整用弁室27に接続される。また、開閉用弁室29は、第2延長流路40bを有している。第2延長流路40bは、開閉用弁室29の底部に設けられている。第2流路35が第2延長流路40bに接続されることで、第2流路35は、開閉用弁室29に接続される。 In FIG. 2, the flow rate adjusting valve chamber 27 has a first extension flow path 40a. The first extension flow path 40a is provided on, for example, an inner side wall other than the bottom of the flow rate adjusting valve chamber 27. By connecting the intermediate flow path 31 to the first extension flow path 40a, the intermediate flow path 31 is connected to the flow rate adjusting valve chamber 27. Further, the opening / closing valve chamber 29 has a second extension flow path 40b. The second extension flow path 40b is provided at the bottom of the opening / closing valve chamber 29. By connecting the second flow path 35 to the second extension flow path 40b, the second flow path 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29.

ニードル移動機構23は、ニードル41の他に、ハウジング43、電動モータ45および変換機構47を備えている。ニードル41は、流量調整用弁室27内に配置されている。また、ニードル41は、流量調整用弁室27に設けられた開口部49と対向するように配置されている。開口部49は円形に形成されている。開口部49は第1流路33に接続されている。ニードル41の先端部41aは円錐状に形成されている。ニードル41の円錐状の先端部41aは、開口部49に通される。すなわち、ニードル41を横移動(X方向移動)させることで、円錐状の先端部41aと開口部49との隙間が調整される(図2参照)。これにより、その隙間を流れる薬液の流量が調整される。ハウジング43は、ニードル41が通るように構成されている。ハウジング43は、流量調整用弁室27を塞いでいる。 In addition to the needle 41, the needle moving mechanism 23 includes a housing 43, an electric motor 45, and a conversion mechanism 47. The needle 41 is arranged in the flow rate adjusting valve chamber 27. Further, the needle 41 is arranged so as to face the opening 49 provided in the flow rate adjusting valve chamber 27. The opening 49 is formed in a circular shape. The opening 49 is connected to the first flow path 33. The tip portion 41a of the needle 41 is formed in a conical shape. The conical tip 41a of the needle 41 is passed through the opening 49. That is, by laterally moving the needle 41 (moving in the X direction), the gap between the conical tip 41a and the opening 49 is adjusted (see FIG. 2). As a result, the flow rate of the chemical solution flowing through the gap is adjusted. The housing 43 is configured to allow the needle 41 to pass through. The housing 43 closes the flow rate adjusting valve chamber 27.

電動モータ45は、ニードル41を駆動させる。電動モータ45は、例えばステッピングモータまたはサーボモータで構成されている。電動モータ45がサーボモータで構成される場合は、ロータリーエンコーダなどのセンサが設けられるので、ニードル41の横方向の移動量または位置を正確に得ることができる。変換機構47は、電動モータ45とニードル41との間に設けられ、電動モータ45が出力する回転をニードル41の直線移動に変換する。変換機構47は、例えばねじ軸とガイド部とを有して構成されている。 The electric motor 45 drives the needle 41. The electric motor 45 is composed of, for example, a stepping motor or a servo motor. When the electric motor 45 is composed of a servomotor, a sensor such as a rotary encoder is provided, so that the lateral movement amount or position of the needle 41 can be accurately obtained. The conversion mechanism 47 is provided between the electric motor 45 and the needle 41, and converts the rotation output by the electric motor 45 into the linear movement of the needle 41. The conversion mechanism 47 includes, for example, a screw shaft and a guide portion.

開閉用弁体移動機構25は、流路ブロック21に取り付けられている。開閉用弁体移動機構25は、ダイアフラム51を有する。開閉用弁体移動機構25は、開閉用弁室29を塞ぐと共に、第2流路35を開閉するためにダイアフラム51を移動させるように構成されている。ダイアフラム51は本発明の開閉用弁体に相当する。 The opening / closing valve body moving mechanism 25 is attached to the flow path block 21. The opening / closing valve body moving mechanism 25 has a diaphragm 51. The opening / closing valve body moving mechanism 25 is configured to close the opening / closing valve chamber 29 and move the diaphragm 51 to open / close the second flow path 35. The diaphragm 51 corresponds to the opening / closing valve body of the present invention.

開閉用弁体移動機構25は、ダイアフラム51の他に、ハウジング53、可動部材55、隔壁57、可動仕切り部材59、バネ61、吸排気口63および調整ねじ部65を備えている。 In addition to the diaphragm 51, the opening / closing valve body moving mechanism 25 includes a housing 53, a movable member 55, a partition wall 57, a movable partition member 59, a spring 61, an intake / exhaust port 63, and an adjusting screw portion 65.

ダイアフラム51は、例えばPTFEまたはPFA等のフッ素樹脂で構成されている。ダイアフラム51の周縁部は、開閉用弁室29の内側壁に固定されている。ダイアフラム51は、ダイアフラム51の上下の移動方向を横切るように、後述する弁座75側と隔壁57側との間を隔てている。ダイアフラム51の中央の肉厚部51aは、可動部材55に固定されている。ハウジング53は、開閉用弁室29を塞いでいる。 The diaphragm 51 is made of a fluororesin such as PTFE or PFA. The peripheral edge of the diaphragm 51 is fixed to the inner side wall of the opening / closing valve chamber 29. The diaphragm 51 is separated from the valve seat 75 side and the partition wall 57 side, which will be described later, so as to cross the vertical movement direction of the diaphragm 51. The thick portion 51a at the center of the diaphragm 51 is fixed to the movable member 55. The housing 53 closes the opening / closing valve chamber 29.

円盤状の隔壁57は、ハウジング53の内側壁に設けられている。隔壁57は、可動仕切り部材59側とダイアフラム51側とを隔てている。隔壁57の中央部には、可動部材55が挿入されている。可動部材55は、隔壁57に対して摺動可能である。可動仕切り部材59は、ダイアフラム51の反対側の可動部材55に固定されている。可動仕切り部材59は、ハウジング53の内側壁に対して摺動可能である。可動仕切り部材59は、バネ61側と隔壁57側との間を隔てている。可動部材55と隔壁57との接触部分、および可動仕切り部材59とハウジング53の内側壁との接触部分はシールされている。 The disk-shaped partition wall 57 is provided on the inner side wall of the housing 53. The partition wall 57 separates the movable partition member 59 side and the diaphragm 51 side. A movable member 55 is inserted in the central portion of the partition wall 57. The movable member 55 is slidable with respect to the partition wall 57. The movable partition member 59 is fixed to the movable member 55 on the opposite side of the diaphragm 51. The movable partition member 59 is slidable with respect to the inner side wall of the housing 53. The movable partition member 59 separates the spring 61 side and the partition wall 57 side. The contact portion between the movable member 55 and the partition wall 57 and the contact portion between the movable partition member 59 and the inner wall surface of the housing 53 are sealed.

バネ61は、ハウジング53の天井53aと可動仕切り部材59との間に配置されている。バネ61は、常時、下方向(ダイアフラム51が存在する方向)に押すように設けられている。吸排気口63は、ハウジング53内における可動仕切り部材59と隔壁57との間の空間に気体を出し入れする開口である。気体配管67は、ボンベや工場内の配管などの気体供給源69と吸排気口63とを接続させる。気体配管67には、例えば三方弁71が設けられる。三方弁71は、気体供給源69からハウジング53内への気体の供給、およびハウジング53内からの気体の排気を選択的に切り替える。 The spring 61 is arranged between the ceiling 53a of the housing 53 and the movable partition member 59. The spring 61 is provided so as to always push downward (the direction in which the diaphragm 51 is present). The intake / exhaust port 63 is an opening for allowing gas to flow in and out of the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57 in the housing 53. The gas pipe 67 connects a gas supply source 69 such as a cylinder or a pipe in a factory to an intake / exhaust port 63. The gas pipe 67 is provided with, for example, a three-way valve 71. The three-way valve 71 selectively switches the supply of gas from the gas supply source 69 into the housing 53 and the exhaust of gas from the inside of the housing 53.

調整ねじ部65は、雄ネジ65aを有する。この雄ネジ65aと、ハウジング53の天井53a付近に設けられた雌ネジ53bとが噛み合うように構成されている。調整ねじ部65は、可動仕切り部材59と分離している。雄ネジ65aの位置により、可動仕切り部材59、可動部材55、およびダイアフラム51の肉厚部51a等の上方向移動が制限される。なお、開口部73は第2流路35に接続されている。弁座75は、開口部73の周囲に設けられ、ダイアフラム51の肉厚部51aを受けるものである。 The adjusting screw portion 65 has a male screw 65a. The male screw 65a and the female screw 53b provided near the ceiling 53a of the housing 53 are configured to mesh with each other. The adjusting screw portion 65 is separated from the movable partition member 59. The position of the male screw 65a limits the upward movement of the movable partition member 59, the movable member 55, the thick portion 51a of the diaphragm 51, and the like. The opening 73 is connected to the second flow path 35. The valve seat 75 is provided around the opening 73 and receives the thick portion 51a of the diaphragm 51.

<薬液制御弁9の製造方法>
次に、薬液制御弁9の製造方法についての一例を説明する。図3(a)は、XY方向における一対の金型の横断面図である。図3(b)は、XZ方向における一対の金型の縦断面図である。また、図3(b)は、図3(a)における第1突出部87および第2ピン部材90部分の縦断面図である。
<Manufacturing method of chemical control valve 9>
Next, an example of a method for manufacturing the chemical solution control valve 9 will be described. FIG. 3A is a cross-sectional view of a pair of molds in the XY direction. FIG. 3B is a vertical sectional view of a pair of molds in the XZ direction. Further, FIG. 3B is a vertical cross-sectional view of the first protruding portion 87 and the second pin member 90 portion in FIG. 3A.

〔ステップS01〕一対の金型81,82を準備する工程
一対の金型81,82を準備する。一対の金型81,82が対向配置されると、一対の金型81,82には、内部空間83が形成される。図3(a)、図3(b)において、太い間隔で示される右下の斜線のハッチングが内部空間83である。内部空間83は、樹脂が満たされる空間である。一対の金型81,82は、第1内壁(面)85と第2内壁(面)86とを内部空間83に有する。第2内壁86は、第1内壁85とほぼ直角な面である。
[Step S01] Step of preparing a pair of molds 81 and 82 Prepare a pair of molds 81 and 82. When the pair of molds 81 and 82 are arranged to face each other, an internal space 83 is formed in the pair of molds 81 and 82. In FIGS. 3A and 3B, the hatching of the lower right diagonal line shown by the thick interval is the internal space 83. The internal space 83 is a space filled with resin. The pair of molds 81 and 82 has a first inner wall (face) 85 and a second inner wall (face) 86 in the internal space 83. The second inner wall 86 is a plane substantially perpendicular to the first inner wall 85.

一対の金型81,82は、流量調整用弁室27を形成するための第1突出部87と、開閉用弁室29を形成するための第2突出部88と、中間流路31を形成するための直線状の第1ピン部材89とを備えている。第1突出部87は、一対の金型81,82における内部空間83の第1内壁85に設けられている。第1突出部87には、第1延長流路40aに対応する第1接続凸部87aが設けられている。第2突出部88は、第2内壁86に設けられている。第2突出部88には、第2延長流路40bに対応する第2接続凸部88aが設けられている。 The pair of molds 81 and 82 form a first protruding portion 87 for forming the flow rate adjusting valve chamber 27, a second protruding portion 88 for forming the opening / closing valve chamber 29, and an intermediate flow path 31. It is provided with a linear first pin member 89 for the purpose. The first protrusion 87 is provided on the first inner wall 85 of the internal space 83 in the pair of molds 81 and 82. The first protruding portion 87 is provided with a first connecting convex portion 87a corresponding to the first extension flow path 40a. The second protrusion 88 is provided on the second inner wall 86. The second protruding portion 88 is provided with a second connecting convex portion 88a corresponding to the second extension flow path 40b.

第1ピン部材89は、第1突出部87と第2突出部88との間を接続させるように、第2内壁86に対してほぼ直角に延びる方向に挿入されている。第1突出部87は、横方向(X方向)に移動可能である。第1突出部87は、一対の金型81,82の内部空間83に挿入される。また、図3(a)に示すように、第2突出部88と第1ピン部材89は、一体的に構成されている。一体となった第2突出部88および第1ピン部材89は、縦方向(Y方向)に移動可能であり、一対の金型81,82の内部空間83に挿入される。第1ピン部材89の先端部89aは、第1突出部87の第1接続凸部87aに接触される。 The first pin member 89 is inserted in a direction extending substantially at right angles to the second inner wall 86 so as to connect between the first protruding portion 87 and the second protruding portion 88. The first protrusion 87 is movable in the lateral direction (X direction). The first protruding portion 87 is inserted into the internal space 83 of the pair of molds 81 and 82. Further, as shown in FIG. 3A, the second protruding portion 88 and the first pin member 89 are integrally configured. The integrated second protrusion 88 and the first pin member 89 are movable in the vertical direction (Y direction) and are inserted into the internal space 83 of the pair of molds 81 and 82. The tip portion 89a of the first pin member 89 is in contact with the first connecting convex portion 87a of the first protruding portion 87.

なお、第2突出部88および第1ピン部材89は、一体的ではなく、個別に移動するように構成されていてもよい。 The second protrusion 88 and the first pin member 89 may be configured to move individually rather than integrally.

〔ステップS02〕第2ピン部材90を挿入する工程
第1突出部87と接続するように、直線状の第2ピン部材90を内部空間83に挿入する。第2ピン部材90は、横方向(X方向)に移動可能である。第2ピン部材90の先端部90aは、第1突出部87に接触される。第2ピン部材90は、第1流路33を形成するためのものである。
[Step S02] Step of Inserting the Second Pin Member 90 The linear second pin member 90 is inserted into the internal space 83 so as to be connected to the first protruding portion 87. The second pin member 90 is movable in the lateral direction (X direction). The tip 90a of the second pin member 90 is in contact with the first protrusion 87. The second pin member 90 is for forming the first flow path 33.

〔ステップS03〕第3ピン部材91を挿入する工程
第2突出部88と接続するように、直線状の第3ピン部材91を内部空間83に挿入する。第3ピン部材91は、横方向(X方向)に移動可能である。第3ピン部材91の先端部91aは、第2突出部88の第2接続凸部88aに接触される。第3ピン部材91は、第2流路35を形成するためのものである。
[Step S03] Step of Inserting the Third Pin Member 91 The linear third pin member 91 is inserted into the internal space 83 so as to be connected to the second protruding portion 88. The third pin member 91 is movable in the lateral direction (X direction). The tip portion 91a of the third pin member 91 is in contact with the second connecting convex portion 88a of the second protruding portion 88. The third pin member 91 is for forming the second flow path 35.

〔ステップS04〕樹脂を流し込む工程
第1突出部87、第2突出部88、第1ピン部材89、第2ピン部材90および第3ピン部材91を内部空間83に挿入した後(すなわちステップS01~S03の後)、加熱されて溶けた樹脂(例えばPFA)を内部空間83に流し込む。図示しない射出成形機の加熱シリンダの内部の樹脂は、加熱されることによって溶かされる。すなわち、一対の金型81,82内に流し込まれる樹脂は、加熱により流動化する樹脂である。そして、加熱シリンダによって一対の金型81,82の内部空間83に流し込まれる。
[Step S04] Step of pouring the resin After inserting the first protruding portion 87, the second protruding portion 88, the first pin member 89, the second pin member 90 and the third pin member 91 into the internal space 83 (that is, steps S01 to S01 to After S03), the heated and melted resin (for example, PFA) is poured into the internal space 83. The resin inside the heating cylinder of an injection molding machine (not shown) is melted by heating. That is, the resin poured into the pair of molds 81 and 82 is a resin that is fluidized by heating. Then, it is poured into the internal space 83 of the pair of molds 81 and 82 by the heating cylinder.

〔ステップS05〕流路ブロック(成形品)を取り外す工程
内部空間83に流し込まれた樹脂が冷却されて固まった後、一対の金型81,82内から第1突出部87、第2突出部88、第1ピン部材89、第2ピン部材90および第3ピン部材91を引き抜く。その後、単一の流路ブロック21として樹脂を一対の金型81,82から取り外す。この取り外しは、一対の金型81,82が上下方向(図3(b)のZ方向)に相対的に移動されることで行われる。なお、内部空間83に流し込まれた樹脂が一対の金型81,82の内壁(符号85,86等)、第1突出部87、第2突出部88、第1ピン部材89、第2ピン部材90および第3ピン部材91と接する部分にスキン層が形成される。
[Step S05] Step of removing the flow path block (molded product) After the resin poured into the internal space 83 is cooled and solidified, the first protruding portion 87 and the second protruding portion 88 are provided from inside the pair of molds 81 and 82. , The first pin member 89, the second pin member 90, and the third pin member 91 are pulled out. Then, the resin is removed from the pair of molds 81 and 82 as a single flow path block 21. This removal is performed by relatively moving the pair of molds 81 and 82 in the vertical direction (Z direction in FIG. 3B). The resin poured into the internal space 83 is the inner wall (reference numerals 85, 86, etc.) of the pair of molds 81, 82, the first protruding portion 87, the second protruding portion 88, the first pin member 89, and the second pin member. A skin layer is formed at a portion in contact with the 90 and the third pin member 91.

〔ステップS06〕ニードル移動機構および開閉用弁体移動機構を取り付ける工程
一対の金型81,82から取り外された流路ブロック21に対して、図2に示す開口部49および弁座75の表面を研磨するため等の処理が行われる。そして、ニードル移動機構23および開閉用弁体移動機構25その他の部品を流路ブロック21に取り付ける。
[Step S06] Step of Attaching Needle Moving Mechanism and Opening / Closing Valve Body Moving Mechanism The surfaces of the opening 49 and the valve seat 75 shown in FIG. 2 are formed on the flow path block 21 removed from the pair of molds 81 and 82. Processing such as for polishing is performed. Then, the needle moving mechanism 23, the opening / closing valve body moving mechanism 25, and other parts are attached to the flow path block 21.

なお、後述する変形例などの流路ブロック21の構造によっては、一対の金型81,82、第1突出部87、第2突出部88等は、次のように構成されていてもよい。例えば、第1突出部87は、金型81に対して移動せずに、金型81の第1内壁85に固定されていてもよい。同様に、第2突出部88は、金型82に対して移動せずに金型82の第2内壁86に固定されていてもよい。また、後述する図4の構成に対応して、第2内壁86は、第1内壁85と対向する面であってもよい。 Depending on the structure of the flow path block 21 such as the modification described later, the pair of molds 81, 82, the first protruding portion 87, the second protruding portion 88, and the like may be configured as follows. For example, the first protruding portion 87 may be fixed to the first inner wall 85 of the mold 81 without moving with respect to the mold 81. Similarly, the second protrusion 88 may be fixed to the second inner wall 86 of the mold 82 without moving with respect to the mold 82. Further, the second inner wall 86 may be a surface facing the first inner wall 85, corresponding to the configuration of FIG. 4 described later.

なお、従来の薬液制御弁9において、図7に示すV字流路205は、形成後に、流量調整用弁室および開閉用弁室の2方向から切削することで形成される。すなわち、金型の制約により、図7に示すV字流路205は直線状に形成できなかった。また、例えば、流路ブロック21がPFAで形成される場合、V字流路205部分でPFAのスキン層を削ってしまうため、流路ブロック21(PFA)の内部に薬液が染み込んでしまうおそれがある。本実施例に係る薬液制御弁9の製造方法によれば、切削することなく直線状の中間流路31を形成することができる。 In the conventional chemical solution control valve 9, the V-shaped flow path 205 shown in FIG. 7 is formed by cutting from two directions of the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber after the formation. That is, due to the restrictions of the mold, the V-shaped flow path 205 shown in FIG. 7 could not be formed linearly. Further, for example, when the flow path block 21 is formed of PFA, the skin layer of PFA is scraped at the V-shaped flow path 205 portion, so that the chemical solution may permeate into the flow path block 21 (PFA). be. According to the method for manufacturing a chemical solution control valve 9 according to the present embodiment, a linear intermediate flow path 31 can be formed without cutting.

<基板処理装置および薬液制御弁の動作>
次に、基板処理装置1および薬液制御弁9の動作について説明する。
<Operation of substrate processing equipment and chemical control valve>
Next, the operation of the substrate processing device 1 and the chemical liquid control valve 9 will be described.

図1を参照する。図示しない搬送機構は、保持回転部3上に基板Wを搬送する。保持回転部3は、基板Wの裏面を吸着することにより基板Wを保持する。その後、保持回転部3は、保持した基板Wを回転させる。ノズル2は、図示しない移動機構により基板Wの上方に移動されている。制御部11は、薬液制御弁9を操作することにより、基板W上にノズル2から薬液を吐出させる。 See FIG. A transport mechanism (not shown) transports the substrate W onto the holding rotation unit 3. The holding rotating portion 3 holds the substrate W by adsorbing the back surface of the substrate W. After that, the holding rotation unit 3 rotates the holding substrate W. The nozzle 2 is moved above the substrate W by a moving mechanism (not shown). The control unit 11 operates the chemical solution control valve 9 to discharge the chemical solution onto the substrate W from the nozzle 2.

図2に示す薬液制御弁9において、まず、開閉用弁体移動機構25の動作を説明する。ダイアフラム51の肉厚部51aは、バネ61の弾性力(復元力)により、開閉用弁室29の開口部73の周囲に設けられた弁座75に押し当てられている(図2の破線で示された肉厚部51a参照)。この状態は、開閉用弁室29から第2流路35に薬液を流通させない閉状態である。閉状態のとき、ノズル2から薬液が吐出されない。 In the chemical liquid control valve 9 shown in FIG. 2, first, the operation of the opening / closing valve body moving mechanism 25 will be described. The thick portion 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75 provided around the opening 73 of the opening / closing valve chamber 29 by the elastic force (restoring force) of the spring 61 (in the broken line in FIG. 2). See the indicated wall thickness portion 51a). This state is a closed state in which the chemical solution is not circulated from the opening / closing valve chamber 29 to the second flow path 35. When in the closed state, the chemical solution is not discharged from the nozzle 2.

三方弁71を操作することにより、気体配管67および吸排気口63を介して、気体供給源69からハウジング53内における可動仕切り部材59と隔壁57との間の空間に気体が送られる。これにより、可動仕切り部材59がバネ61の弾性力に反発して持ち上げられ、これに伴い、可動部材55およびダイアフラム51の肉厚部51aが持ち上げられる(図2の実線で示された肉厚部51a参照)。この状態は、薬液を流通させる開状態である。開状態のとき、ノズル2から薬液が吐出される。 By operating the three-way valve 71, gas is sent from the gas supply source 69 to the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57 in the housing 53 via the gas pipe 67 and the intake / exhaust port 63. As a result, the movable partition member 59 is lifted by repelling the elastic force of the spring 61, and the thick portion 51a of the movable member 55 and the diaphragm 51 is lifted accordingly (the thick portion shown by the solid line in FIG. 2). See 51a). This state is an open state in which the chemical solution is circulated. When in the open state, the chemical solution is discharged from the nozzle 2.

ここで、開状態になったときの薬液の流れを具体的に説明する。図1に示すポンプPは、薬液供給源7から薬液配管8aを通じて薬液制御弁9の第1流路33に薬液を送る。図2に示す第1流路33に送られた薬液は、ニードル41の先端部41aと開口部49との隙間を通過し、流量調整用弁室27に送られる。その後、薬液は、中間流路31を通じて流量調整用弁室27から開閉用弁室29に送られる。なお、中間流路31は、直線状で構成されているので、図7に示すV字流路205等に比べて薬液を円滑に送ることができる。 Here, the flow of the chemical solution when it is in the open state will be specifically described. The pump P shown in FIG. 1 sends a chemical solution from the chemical solution supply source 7 to the first flow path 33 of the chemical solution control valve 9 through the chemical solution pipe 8a. The chemical solution sent to the first flow path 33 shown in FIG. 2 passes through the gap between the tip portion 41a of the needle 41 and the opening 49, and is sent to the flow rate adjusting valve chamber 27. After that, the chemical solution is sent from the flow rate adjusting valve chamber 27 to the opening / closing valve chamber 29 through the intermediate flow path 31. Since the intermediate flow path 31 is formed in a linear shape, the chemical solution can be smoothly sent as compared with the V-shaped flow path 205 and the like shown in FIG. 7.

その後、薬液は、弁座75の開口部73および第2流路35を通じて開閉用弁室29から薬液配管8bに送られる。薬液配管8bに送られた薬液は、ノズル2に送られて、ノズル2から薬液が吐出される。 After that, the chemical solution is sent from the opening / closing valve chamber 29 to the chemical solution pipe 8b through the opening 73 of the valve seat 75 and the second flow path 35. The chemical solution sent to the chemical solution pipe 8b is sent to the nozzle 2, and the chemical solution is discharged from the nozzle 2.

また、ニードル移動機構23の動作について説明する。ニードル移動機構23は、ニードル41の先端部41aと開口部49との隙間を調整することにより、第1流路33その他流路ブロック21内の薬液の流量を調整する。ニードル41は、電動モータ45の回転駆動により移動される。変換機構47は、電動モータ45の回転をニードル41の直線移動に変換する。ニードル41は、横方向(X方向)に移動される。 Further, the operation of the needle moving mechanism 23 will be described. The needle moving mechanism 23 adjusts the flow rate of the chemical liquid in the first flow path 33 and other flow path blocks 21 by adjusting the gap between the tip portion 41a of the needle 41 and the opening portion 49. The needle 41 is moved by the rotational drive of the electric motor 45. The conversion mechanism 47 converts the rotation of the electric motor 45 into the linear movement of the needle 41. The needle 41 is moved laterally (X direction).

薬液が吐出された後、制御部11は、三方弁71を操作することで、気体供給源69からの気体の供給を停止すると共に、図2に示すハウジング53内の気体を、吸排気口63等を通じて排気する。これにより、バネ61の弾性力によりダイアフラム51の肉厚部51aが押し下げられ、そして、肉厚部51aが弁座75に押し当てられる(閉状態)。閉状態のとき、ノズル2から薬液が吐出されない。 After the chemical liquid is discharged, the control unit 11 operates the three-way valve 71 to stop the supply of gas from the gas supply source 69 and to suck the gas in the housing 53 shown in FIG. 2 into the intake / exhaust port 63. Exhaust through etc. As a result, the thick portion 51a of the diaphragm 51 is pushed down by the elastic force of the spring 61, and the thick portion 51a is pressed against the valve seat 75 (closed state). When in the closed state, the chemical solution is not discharged from the nozzle 2.

ノズル2からの薬液の吐出が終了後、ノズル2は、基板Wの上方から基板外に退避される。保持回転部3は、保持される基板Wの回転を停止し、その後、基板Wの保持を解除する。図示しない搬送機構は、保持回転部3上の基板Wを他の装置、載置部またはキャリア等に移動させる。 After the discharge of the chemical solution from the nozzle 2 is completed, the nozzle 2 is retracted from above the substrate W to the outside of the substrate. The holding rotation unit 3 stops the rotation of the held substrate W, and then releases the holding of the substrate W. A transfer mechanism (not shown) moves the substrate W on the holding rotation unit 3 to another device, a mounting unit, a carrier, or the like.

本実施例によれば、流路ブロック21は、第1外壁21aと、第1外壁21aと直角な面である第2外壁21bとを有する。ニードル41が配置される流量調整用弁室27は、流路ブロック21の第1外壁21aが凹むように形成されている。一方、ダイアフラム51が配置される開閉用弁室29は、第2外壁21bが凹むように形成されている。中間流路31は、流量調整用弁室27と開閉用弁室29とを接続するが、中間流路31は、第1外壁21aおよび第2外壁21bのいずれか一方に対して直角に延びている。このような構成により、中間流路31を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。なお、置換特性は、新しい薬液が第1接続口37に流入して、元の薬液を押し出しつつ第2接続口39に到達する時間で表される特性である。 According to this embodiment, the flow path block 21 has a first outer wall 21a and a second outer wall 21b which is a surface perpendicular to the first outer wall 21a. The flow rate adjusting valve chamber 27 in which the needle 41 is arranged is formed so that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber 29 in which the diaphragm 51 is arranged is formed so that the second outer wall 21b is recessed. The intermediate flow path 31 connects the flow rate adjusting valve chamber 27 and the opening / closing valve chamber 29, and the intermediate flow path 31 extends at a right angle to either the first outer wall 21a or the second outer wall 21b. There is. With such a configuration, the intermediate flow path 31 can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like. The replacement characteristic is a characteristic represented by the time when a new chemical solution flows into the first connection port 37 and reaches the second connection port 39 while pushing out the original chemical solution.

また、第1流路33および第2流路35は各々、直線状であって、中間流路31に対して直角に延びている。一対の金型81,82に樹脂を流し込んで流路ブロック21を形成する際に、中間流路31を形成するために一対の金型81,82内に挿入する第1ピン部材89と、第1流路33および第2流路35を形成するために一対の金型81,82内に挿入する第2ピン部材90および第3ピン部材91の各々とを直角に配置することができる。そのため、第1ピン部材89と、第2ピン部材90および第3ピン部材91の各々とが斜めに配置される(直角でない)場合に比べて、中間流路31、第1流路33および第2流路35を容易に形成することができる。 Further, the first flow path 33 and the second flow path 35 are each linear and extend at right angles to the intermediate flow path 31. When the resin is poured into the pair of molds 81 and 82 to form the flow path block 21, the first pin member 89 to be inserted into the pair of molds 81 and 82 to form the intermediate flow path 31 and the first pin member 89. Each of the second pin member 90 and the third pin member 91 to be inserted into the pair of molds 81 and 82 for forming the first flow path 33 and the second flow path 35 can be arranged at right angles. Therefore, as compared with the case where the first pin member 89 and each of the second pin member 90 and the third pin member 91 are diagonally arranged (not at right angles), the intermediate flow path 31, the first flow path 33, and the first The two flow paths 35 can be easily formed.

また、第1流路33は、第2流路35と平行である。第1流路33における流量調整用弁室27と接続する部分と反対側の第1接続口37は、第2流路35における開閉用弁室29と接続する部分と反対側の第2接続口39と同じ方向を向いて開口している。一対の金型81,82に樹脂を流し込んで流路ブロック21を形成する際に、第1流路33および第2流路35を形成するために一対の金型81,82内に挿入する第2ピン部材90および第3ピン部材91を同じ方向に移動することができる。そのため、第2ピン部材90が金型内に挿入される向きが第3ピン部材91の向きと異なる場合に比べて、第1流路33および第2流路35を容易に形成することができる。 Further, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. The first connection port 37 on the side opposite to the portion connected to the flow rate adjusting valve chamber 27 in the first flow path 33 is the second connection port on the opposite side to the portion connected to the opening / closing valve chamber 29 in the second flow path 35. It opens in the same direction as 39. When the resin is poured into the pair of molds 81 and 82 to form the flow path block 21, the first flow path 33 and the second flow path 35 are inserted into the pair of molds 81 and 82 in order to form the first flow path 33 and the second flow path 35. The 2-pin member 90 and the third pin member 91 can be moved in the same direction. Therefore, the first flow path 33 and the second flow path 35 can be easily formed as compared with the case where the direction in which the second pin member 90 is inserted into the mold is different from the direction in which the third pin member 91 is inserted. ..

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例では、開閉用弁室29が設けられた第2外壁21bは、流量調整用弁室27が設けられた第1外壁21aと直角な面であった。この点、図4のように、第2外壁21bは、第1外壁21aと対向する共に第1外壁21aとほぼ平行な面であってもよい。すなわち、第2外壁(面)21bは、流路ブロック21を挟んで第1外壁(面)21aの反対側に設けられる。また、第2外壁21bは、第1外壁21aに対してほぼ平行である。 (1) In the above-described embodiment, the second outer wall 21b provided with the opening / closing valve chamber 29 is a surface perpendicular to the first outer wall 21a provided with the flow rate adjusting valve chamber 27. In this regard, as shown in FIG. 4, the second outer wall 21b may be a surface facing the first outer wall 21a and substantially parallel to the first outer wall 21a. That is, the second outer wall (face) 21b is provided on the opposite side of the first outer wall (face) 21a with the flow path block 21 interposed therebetween. Further, the second outer wall 21b is substantially parallel to the first outer wall 21a.

流量調整用弁室27は、流路ブロック21の第1外壁21aの一部が凹むように形成されている。開閉用弁室29は、流路ブロック21の第2外壁21bの一部が凹むように形成されている。図4のように、流量調整用弁室27は、開閉用弁室29と対向するように配置されている。 The flow rate adjusting valve chamber 27 is formed so that a part of the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. The opening / closing valve chamber 29 is formed so that a part of the second outer wall 21b of the flow path block 21 is recessed. As shown in FIG. 4, the flow rate adjusting valve chamber 27 is arranged so as to face the opening / closing valve chamber 29.

直線状の中間流路31は、開閉用弁室29と流量調整用弁室27と接続させるように形成されている。また、中間流路31は、第1外壁21aおよび第2外壁21bに対して直角に延びている。第1流路33および第2流路35は、各々、中間流路31に対して直角に延びている。第1流路33は、流量調整用弁室27に接続されている。一方、第2流路35は、開閉用弁室29に接続されている。 The linear intermediate flow path 31 is formed so as to connect the opening / closing valve chamber 29 and the flow rate adjusting valve chamber 27. Further, the intermediate flow path 31 extends at a right angle to the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. The first flow path 33 and the second flow path 35 each extend at right angles to the intermediate flow path 31. The first flow path 33 is connected to the flow rate adjusting valve chamber 27. On the other hand, the second flow path 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29.

図4に示すダイアフラム51は、縦方向(Y方向)に移動する。そして、本変形例のニードル41も、縦方向に移動する。ニードル41の先端部41aは、流量調整用弁室27と中間流路31との接続部分の開口部49に通される。 The diaphragm 51 shown in FIG. 4 moves in the vertical direction (Y direction). Then, the needle 41 of this modification also moves in the vertical direction. The tip portion 41a of the needle 41 is passed through the opening 49 of the connection portion between the flow rate adjusting valve chamber 27 and the intermediate flow path 31.

本変形例によれば、流路ブロック21は、第1外壁21aと、第1外壁21aと対向すると共に第1外壁21aと平行な面である第2外壁21bとを有する。ニードル41が配置される流量調整用弁室27は、流路ブロック21の第1外壁21aが凹むように形成されている。一方、ダイアフラム51が配置される開閉用弁室29は、第2外壁21bが凹むように形成されている。中間流路31は、流量調整用弁室27と開閉用弁室29とを接続するが、中間流路31は、第1外壁21aおよび第2外壁21bに対して直角に延びている。このような構成により、中間流路31を直線状に形成することができる。そのため、V字流路等が原因で薬液の悪化するおそれがある薬液の置換特性を向上させることができる。 According to this modification, the flow path block 21 has a first outer wall 21a and a second outer wall 21b facing the first outer wall 21a and parallel to the first outer wall 21a. The flow rate adjusting valve chamber 27 in which the needle 41 is arranged is formed so that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. On the other hand, the opening / closing valve chamber 29 in which the diaphragm 51 is arranged is formed so that the second outer wall 21b is recessed. The intermediate flow path 31 connects the flow rate adjusting valve chamber 27 and the opening / closing valve chamber 29, and the intermediate flow path 31 extends at right angles to the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. With such a configuration, the intermediate flow path 31 can be formed linearly. Therefore, it is possible to improve the replacement characteristics of the chemical solution, which may be deteriorated due to the V-shaped flow path or the like.

(2)上述した実施例では、中間流路31は、例えば図2のように、開閉用弁室29が設けられた第2外壁21bにほぼ直角に延びるように形成されていた。この点、中間流路31は、図5(a)のように、流量調整用弁室27が設けられた第1外壁21aにほぼ直角に延びるように形成されてもよい。 (2) In the above-described embodiment, the intermediate flow path 31 is formed so as to extend substantially at right angles to the second outer wall 21b provided with the opening / closing valve chamber 29, for example, as shown in FIG. At this point, the intermediate flow path 31 may be formed so as to extend substantially at right angles to the first outer wall 21a provided with the flow rate adjusting valve chamber 27, as shown in FIG. 5A.

(3)上述した実施例および変形例(1)では、図2および図4のように、開閉用弁室29の底部の開口部73は、第2流路35に接続されていた。この点、図5(b)のように、開閉用弁室29の底部の開口部73は、中間流路31に接続されていてもよい。 (3) In the above-mentioned Examples and Modifications (1), as shown in FIGS. 2 and 4, the opening 73 at the bottom of the opening / closing valve chamber 29 was connected to the second flow path 35. In this regard, as shown in FIG. 5B, the opening 73 at the bottom of the opening / closing valve chamber 29 may be connected to the intermediate flow path 31.

(4)上述した実施例および各変形例では、図2および図4のように、流量調整用弁室27の底部の開口部49には、ニードル41の移動方向に延びる中間流路31または第1流路33が接続されていた。この点、図5(b)のように、流量調整用弁室27の底部の開口部49には、第3延長流路40cを介して、ニードル41の移動方向と直交する方向に延びる中間流路31(または第1流路33)が接続されてもよい。第3延長流路40cは、開口部49からニードル41の移動方向に延びて、中間流路31と接続されている。 (4) In the above-described embodiment and each modification, as shown in FIGS. 2 and 4, the opening 49 at the bottom of the flow rate adjusting valve chamber 27 has an intermediate flow path 31 or a first intermediate flow path 31 extending in the moving direction of the needle 41. One flow path 33 was connected. In this regard, as shown in FIG. 5B, an intermediate flow extending in the opening portion 49 at the bottom of the flow rate adjusting valve chamber 27 in a direction orthogonal to the moving direction of the needle 41 via the third extension flow path 40c. The road 31 (or the first flow path 33) may be connected. The third extension flow path 40c extends from the opening 49 in the moving direction of the needle 41 and is connected to the intermediate flow path 31.

なお、図5(a)、図5(b)並びに後述する図6(a)、図6(b)において、ニードル移動機構23および開閉用弁体移動機構25は簡略化されて示されている。 In FIGS. 5 (a) and 5 (b) and FIGS. 6 (a) and 6 (b) described later, the needle moving mechanism 23 and the opening / closing valve body moving mechanism 25 are shown in a simplified manner. ..

(5)上述した実施例および各変形例では、ニードル移動機構23は、電動モータ45と変換機構47とを備え、電動モータ45が出力する回転を変換機構47によって、ニードル41の直線移動に変換するように構成していた。しかしながら、これに限られるものではない。電動モータ45の代わりに作業者が手動で動かすハンドルやつまみを設け、ハンドルやつまみの回転をニードル41の直線移動に変換するように構成してもよい。 (5) In the above-described embodiment and each modification, the needle moving mechanism 23 includes an electric motor 45 and a conversion mechanism 47, and the rotation output by the electric motor 45 is converted into a linear movement of the needle 41 by the conversion mechanism 47. It was configured to do. However, it is not limited to this. Instead of the electric motor 45, a handle or a knob manually operated by the operator may be provided so as to convert the rotation of the handle or the knob into the linear movement of the needle 41.

(6)上述した実施例および各変形例では、例えば図2および図4のように、第1流路33の一端の第1接続口37は、第2流路35の一端の第2接続口39と同じ方向を向いていた。すなわち、第1接続口37および第2接続口39は共に、図2および図4において、右向きに開口していた。この点、図6(a)および図6(b)のように、第1接続口37は、第2接続口39と逆向きに開口してもよい。すなわち、図6(c)および図6(d)において、第1接続口37は、左向きに開口し、第2接続口39は、右向きに開口する。 (6) In the above-described embodiment and each modification, for example, as shown in FIGS. 2 and 4, the first connection port 37 at one end of the first flow path 33 is the second connection port at one end of the second flow path 35. It was facing the same direction as 39. That is, both the first connection port 37 and the second connection port 39 were opened to the right in FIGS. 2 and 4. In this regard, as shown in FIGS. 6A and 6B, the first connection port 37 may be opened in the opposite direction to the second connection port 39. That is, in FIGS. 6 (c) and 6 (d), the first connection port 37 opens to the left and the second connection port 39 opens to the right.

なお、図6(a)および図6(b)において、第1接続口37は、第2接続口39と逆向き、すなわち、第2接続口39に対して中間流路31周りに180度反対に向いて開口している。この点、第1接続口37は、第2接続口39に対して、中間流路31周りに例えば90°を向いて(すなわち0度および180度を除く向きに)開口してもよい。 In FIGS. 6 (a) and 6 (b), the first connection port 37 faces the opposite direction to the second connection port 39, that is, 180 degrees opposite to the second connection port 39 around the intermediate flow path 31. It is open toward. In this regard, the first connection port 37 may be opened with respect to the second connection port 39, for example, 90 ° around the intermediate flow path 31 (that is, in a direction other than 0 degrees and 180 degrees).

(7)上述した実施例および各変形例では、開閉用弁体移動機構25は、気体によりダイアフラム51を駆動させていた。この点、開閉用弁体移動機構25は、ニードル移動機構23と同様に、電動モータによりダイアフラム51を駆動させてもよい。電動モータによる回転は、変換機構により直線移動に変換される。よれにより、ダイアフラム51の肉厚部51aを弁座75に押し当てたり、肉厚部51aを弁座75から離したりする。 (7) In the above-described embodiment and each modification, the opening / closing valve body moving mechanism 25 drives the diaphragm 51 with a gas. In this respect, the opening / closing valve body moving mechanism 25 may drive the diaphragm 51 by an electric motor in the same manner as the needle moving mechanism 23. The rotation by the electric motor is converted into linear movement by the conversion mechanism. Due to the twist, the thick portion 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75, and the thick portion 51a is separated from the valve seat 75.

1 … 基板処理装置
2 … ノズル
3 … 保持回転部
8a,8b … 薬液配管
9 … 薬液制御弁
11 … 制御部
21 … 単一の流路ブロック
21a … 第1外壁
21b … 第2外壁
23 … ニードル移動機構
25 … 開閉用弁体移動機構
27 … 流量調整用弁室
29 … 開閉用弁室
31 … 中間流路
33 … 第1流路
35 … 第2流路
37 … 第1接続口
39 … 第2接続口
41 … ニードル
51 … ダイアフラム
1 ... Board processing device 2 ... Nozzle 3 ... Holding rotating part 8a, 8b ... Chemical solution piping 9 ... Chemical solution control valve 11 ... Control unit 21 ... Single flow path block 21a ... 1st outer wall 21b ... 2nd outer wall 23 ... Needle movement Mechanism 25 ... Opening / closing valve body moving mechanism 27 ... Flow rate adjusting valve chamber 29 ... Opening / closing valve chamber 31 ... Intermediate flow path 33 ... First flow path 35 ... Second flow path 37 ... First connection port 39 ... Second connection Mouth 41 ... Needle 51 ... Diaphragm

Claims (7)

第1外壁および、前記第1外壁と直角な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、
前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、
前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、
前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びる前記中間流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記開閉用弁室と接続する第2流路と、
前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、
前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、
を備えていることを特徴とする薬液制御弁。
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a plane perpendicular to the first outer wall.
The flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed,
The opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed,
A linear intermediate flow path formed inside the flow path block, which connects between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and is either the first outer wall or the second outer wall. The intermediate flow path extending at right angles to one of them,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber,
A needle moving mechanism having a needle arranged in the flow rate adjusting valve chamber, closing the flow rate adjusting valve chamber, and moving the needle in order to adjust the flow rate of the chemical solution.
An opening / closing valve body having an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber, and moving the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and supply and stop the supply of the chemical solution. The movement mechanism and
A chemical control valve characterized by being equipped with.
第1外壁および、前記第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、
前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、
前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、
前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁に対して直角に延びる前記中間流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記開閉用弁室と接続する第2流路と、
前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、
前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、
を備えていることを特徴とする薬液制御弁。
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall.
The flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed,
The opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed,
A linear intermediate flow path formed inside the flow path block, which connects between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, with respect to the first outer wall and the second outer wall. With the intermediate flow path extending at a right angle
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber,
A needle moving mechanism having a needle arranged in the flow rate adjusting valve chamber, closing the flow rate adjusting valve chamber, and moving the needle in order to adjust the flow rate of the chemical solution.
An opening / closing valve body having an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber, and moving the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and supply the chemical solution and stop the supply thereof. The movement mechanism and
A chemical control valve characterized by being equipped with.
請求項1または2に記載の薬液制御弁において、
前記第1流路および前記第2流路は各々、直線状であって、前記中間流路に対して直角に延びることを特徴とする薬液制御弁。
In the drug solution control valve according to claim 1 or 2.
A chemical liquid control valve characterized in that each of the first flow path and the second flow path is linear and extends at a right angle to the intermediate flow path.
請求項1から3のいずれかに記載の薬液制御弁において、
前記第1流路は、前記第2流路と平行であり、
前記第1流路における前記流量調整用弁室と接続する部分と反対側の第1接続口は、前記第2流路における前記開閉用弁室と接続する部分と反対側の第2接続口と同じ方向を向いて開口していることを特徴とする薬液制御弁。
In the drug solution control valve according to any one of claims 1 to 3.
The first flow path is parallel to the second flow path and is parallel to the second flow path.
The first connection port on the side opposite to the portion connected to the flow rate adjusting valve chamber in the first flow path is the second connection port on the opposite side to the portion connected to the opening / closing valve chamber in the second flow path. A chemical control valve characterized by opening in the same direction.
請求項1から4のいずれかに記載の薬液制御弁において、
前記流路ブロックは、PFAで形成されていることを特徴とする薬液制御弁。
In the drug solution control valve according to any one of claims 1 to 4.
The flow path block is a chemical liquid control valve characterized in that it is formed of PFA.
基板を保持し、保持した基板を回転する保持回転部と、
前記保持回転部に保持された基板に対して薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルに接続された薬液配管と、
前記ノズルから吐出される薬液の流量を調整し、かつ前記ノズルから薬液を吐出させ、薬液吐出を停止させる薬液制御弁と、を備え、
前記薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と直角な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、
前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、
前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、
前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁のいずれか一方に対して直角に延びる前記中間流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、
前記流路ブロックの内部に形成された第2流路であって、前記開閉用弁室と接続すると共に、前記薬液配管を介して前記ノズルに接続される前記第2流路と、
前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、
前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
A holding rotating part that holds the board and rotates the held board,
A nozzle that discharges the chemical solution to the substrate held by the holding rotating portion, and
The chemical solution pipe connected to the nozzle and
A chemical liquid control valve that adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge is provided.
The chemical control valve has a first outer wall and a single flow path block having a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall.
The flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed,
The opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed,
A linear intermediate flow path formed inside the flow path block, which connects between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and is either the first outer wall or the second outer wall. The intermediate flow path extending at right angles to one of them,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block, which is connected to the opening / closing valve chamber and is connected to the nozzle via the chemical solution pipe.
A needle moving mechanism having a needle arranged in the flow rate adjusting valve chamber, closing the flow rate adjusting valve chamber, and moving the needle in order to adjust the flow rate of the chemical solution.
An opening / closing valve body having an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber, and moving the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and supply the chemical solution and stop the supply thereof. The movement mechanism and
A substrate processing apparatus characterized by being equipped with.
基板を保持し、保持した基板を回転する保持回転部と、
前記保持回転部に保持された基板に対して薬液を吐出するノズルと、
前記ノズルに接続された薬液配管と、
前記ノズルから吐出される薬液の流量を調整し、かつ前記ノズルから薬液を吐出させ、薬液吐出を停止させる薬液制御弁と、を備え、
前記薬液制御弁は、第1外壁および、前記第1外壁と対向すると共に前記第1外壁と平行な面である第2外壁を有する単一の流路ブロックと、
前記第1外壁が凹むように形成された流量調整用弁室と、
前記第2外壁が凹むように形成された開閉用弁室と、
前記流路ブロックの内部に形成された直線状の中間流路であって、前記流量調整用弁室と前記開閉用弁室との間を接続させ、前記第1外壁および前記第2外壁に対して直角に延びる前記中間流路と、
前記流路ブロックの内部に形成され、前記流量調整用弁室と接続する第1流路と、
前記流路ブロックの内部に形成された第2流路であって、前記開閉用弁室と接続すると共に、前記薬液配管を介して前記ノズルに接続される前記第2流路と、
前記流量調整用弁室内に配置されたニードルを有し、前記流量調整用弁室を塞ぐと共に、薬液の流量を調整するために前記ニードルを移動させるニードル移動機構と、
前記開閉用弁室内に配置された開閉用弁体を有し、前記開閉用弁室を塞ぐと共に、薬液の供給およびその供給の停止を行うために前記開閉用弁体を移動させる開閉用弁体移動機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
A holding rotating part that holds the board and rotates the held board,
A nozzle that discharges the chemical solution to the substrate held by the holding rotating portion, and
The chemical solution pipe connected to the nozzle and
A chemical liquid control valve that adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge is provided.
The chemical control valve comprises a first outer wall and a single flow path block having a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall.
The flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is recessed,
The opening / closing valve chamber formed so that the second outer wall is recessed,
A linear intermediate flow path formed inside the flow path block, which connects between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, with respect to the first outer wall and the second outer wall. With the intermediate flow path extending at a right angle
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block, which is connected to the opening / closing valve chamber and is connected to the nozzle via the chemical solution pipe.
A needle moving mechanism having a needle arranged in the flow rate adjusting valve chamber, closing the flow rate adjusting valve chamber, and moving the needle in order to adjust the flow rate of the chemical solution.
An opening / closing valve body having an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber, and moving the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and supply the chemical solution and stop the supply thereof. The movement mechanism and
A substrate processing apparatus characterized by being equipped with.
JP2018040760A 2018-03-07 2018-03-07 Chemical control valve and substrate processing equipment Active JP7029314B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018040760A JP7029314B2 (en) 2018-03-07 2018-03-07 Chemical control valve and substrate processing equipment
TW108104752A TWI732178B (en) 2018-03-07 2019-02-13 Chemical liquid control valve and substrate processing device
CN201910117565.0A CN110246776B (en) 2018-03-07 2019-02-15 Chemical liquid control valve and substrate processing apparatus
KR1020190022511A KR102225758B1 (en) 2018-03-07 2019-02-26 Chemical liquid control valve and substrate processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018040760A JP7029314B2 (en) 2018-03-07 2018-03-07 Chemical control valve and substrate processing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019157888A JP2019157888A (en) 2019-09-19
JP7029314B2 true JP7029314B2 (en) 2022-03-03

Family

ID=67882955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018040760A Active JP7029314B2 (en) 2018-03-07 2018-03-07 Chemical control valve and substrate processing equipment

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7029314B2 (en)
KR (1) KR102225758B1 (en)
CN (1) CN110246776B (en)
TW (1) TWI732178B (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102326247B1 (en) * 2020-02-21 2021-11-12 한국기술교육대학교 산학협력단 Exhaust control apparatus
KR102355356B1 (en) 2020-03-25 2022-01-25 무진전자 주식회사 Chemical providing management system of semiconductor process

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001263507A (en) 2000-03-22 2001-09-26 Ckd Corp Flow regulating valve
JP6196538B2 (en) 2013-11-14 2017-09-13 旭化成株式会社 Cover material for press-through pack packaging body, manufacturing method thereof, and packaging body
JP2017207121A (en) 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0442913Y2 (en) * 1984-11-30 1992-10-12
JP2007058352A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid controller
JP2007058339A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid control device
KR20100012792U (en) * 2010-01-22 2010-12-24 홍성정공(주) Pressure Compensated Flow Control Valve
KR101660115B1 (en) * 2010-05-18 2016-09-26 시케이디 가부시키가이샤 Chemical liquid circuit apparatus
JP2015114966A (en) * 2013-12-13 2015-06-22 アドバンス電気工業株式会社 Flow control valve and flow controller using the same
JP6238798B2 (en) * 2014-03-10 2017-11-29 旭有機材株式会社 Flow regulating valve and fluid control apparatus including the same
JP6512426B2 (en) * 2015-01-15 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス Substrate processing equipment
JP6512894B2 (en) * 2015-03-27 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
JP6576217B2 (en) * 2015-11-10 2019-09-18 株式会社Screenホールディングス Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
KR101821863B1 (en) * 2015-11-19 2018-01-25 서문원 Hydraulic pressure buffer solenoid valve and method for operating the solenoid valve
JP6588819B2 (en) * 2015-12-24 2019-10-09 株式会社Screenホールディングス Substrate processing apparatus and substrate processing method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001263507A (en) 2000-03-22 2001-09-26 Ckd Corp Flow regulating valve
JP6196538B2 (en) 2013-11-14 2017-09-13 旭化成株式会社 Cover material for press-through pack packaging body, manufacturing method thereof, and packaging body
JP2017207121A (en) 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Also Published As

Publication number Publication date
TWI732178B (en) 2021-07-01
JP2019157888A (en) 2019-09-19
CN110246776B (en) 2023-02-17
CN110246776A (en) 2019-09-17
KR102225758B1 (en) 2021-03-09
TW201938933A (en) 2019-10-01
KR20190106707A (en) 2019-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7029314B2 (en) Chemical control valve and substrate processing equipment
US7862663B2 (en) Methods for processing a substrate with a flow controlled meniscus
KR102477342B1 (en) Chuck for edge bevel removal and method for centering a wafer prior to edge bevel removal
TWI609721B (en) Treatment liquid supplying apparatus and controlling method of treatment liquid supplying apparatus
JP6439964B2 (en) Substrate processing equipment
KR101825503B1 (en) Process chamber apparatus, systems, and methods for controlling a gas flow pattern
US20140170332A1 (en) Film forming method, non-transitory computer storage medium and film forming apparatus
KR100611060B1 (en) Apparatus for supplying a solution onto a substrate
JP2001146984A (en) Broadband variable conductance valve
JP6576217B2 (en) Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
TW201707055A (en) Substrate processing apparatus
US20070197050A1 (en) Systems and methods for manipulating liquid films on semiconductor substrates
TW202023697A (en) Method and system for wafer cleaning
TWI651770B (en) System, device and method for processing substrate using acoustic energy
TWI541078B (en) Apparatus for cleaning reaction chamber
TWI779466B (en) Substrate processing apparatus
JP2000074229A (en) Valve device
TWI422695B (en) Vapor deposition apparatus
KR102122639B1 (en) Coating device of 3 dimension structure
JP3965969B2 (en) Polishing apparatus, polishing method, semiconductor device, and semiconductor device manufacturing method
JP3579244B2 (en) Nozzle mechanism for gas polishing, gas polishing chamber and polishing apparatus using the mechanism
JP2008195011A (en) Film depositing and molding apparatus
TW559571B (en) Apparatus and method for processing a workpiece
JP2012119576A (en) Liquid supply device and resist development apparatus
JP2012094602A (en) Brush, substrate processing apparatus, and substrate processing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220125

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220218

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7029314

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150