JP6999277B2 - 熱電界エミッタチップ、熱電界エミッタチップを含む電子ビーム装置、および電子ビーム装置を動作させる方法 - Google Patents
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Description
荷電粒子ビーム装置内で1次荷電粒子ビームを提供する電子エミッタなどの荷電粒子源の性能は、特に重要である。一例として、高い放出安定性を有する高輝度の荷電粒子源および/または高放出の電流源が有益である。荷電粒子源は、真空状態で動作し、荷電粒子源の性能は、真空の品質に関係する可能性がある。
電子顕微鏡のための電子源として、熱電界エミッタ(TFE)が、特に輝度が比較的高く、エネルギー幅が比較的小さく、真空標準が適度であり、短期間の放出安定性が良好であり、ビーム電流ノイズが低いために確立されている。しかし、市販のTFEは、チップの全体的な成長のせいで角度強度が長期間にわたって連続して減少し、それによりチップ先端で電界強度の低減を招き、したがって放出電流の低減および角度強度(輝度)の自然発生的な変化が生じるなど、望ましくない安定性の問題を呈することが多い。チップの全体的な成長、電界強度の低減、および放出電流の低減は、いわゆるリング崩壊として知られており、これは通常、エミッタのチップで原子層内の原子が転移し、電子が解放されるせいで生じる。
一実施形態によれば、電子ビームでサンプルを検査する電子ビーム装置が提供される。電子ビーム装置は、電子ビームを放出する熱電界エミッタを含む電子ビーム源を含む。熱電界エミッタは、エミッタチップを含み、エミッタチップは、電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセットと、第1の側部ファセットおよび第2の側部ファセットとを有し、第1の側部ファセットと第2の側部ファセットとの間にエッジファセットが形成され、エッジファセットは、エッジファセット幅を有する。エッジファセット幅は、放出ファセット幅の20%~40%である。電子ビーム源は、熱電界エミッタと抽出装置との間に抽出電圧を印加する抽出装置と、熱電界エミッタを加熱する加熱装置とをさらに含む。電子ビーム装置は、サンプル上へ電子ビームを誘導して集束させる電子ビーム光学系と、電子ビームがサンプルに衝突または到達する際に生成される2次荷電粒子を検出する検出装置とをさらに含む。
さらなる実施形態によれば、電子ビーム源のための熱電界エミッタ用のエミッタチップを作製する方法が提供される。この方法は、エミッタチップ表面を有するエミッタチップを提供するステップと、エミッタチップを加熱することおよびエミッタチップに電界を印加することによってエミッタチップを処理するステップとを含み、電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセット、第1の側部ファセット、第2の側部ファセット、およびエッジファセット幅を有する第1の側部ファセットと第2の側部ファセットとの間のエッジファセットが、特にこの処理するステップによって形成される。エッジファセット幅は、放出ファセット幅の20%~40%になるように形成される。
上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上記で簡単に要約した説明のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は、実施形態に関し、以下に説明する。
本明細書に記載するいくつかの実施形態によれば、第1の部分101および第2の部分102は、同じ1つまたは複数の材料から形成され、以下で詳細に説明するように、1つの結晶性材料、特にモノクリスタルの材料の部分を含むことができる。
放出ファセットは、放出ファセット幅を有する。側部ファセットはそれぞれ、側部ファセット幅を有する。
図2に示す実施形態では、放出ファセット幅を放出ファセット幅140として例示的に示す。側部ファセットはそれぞれ、側部ファセット幅115を有する。図2では、概要をより分かりやすくするために、1つの側部ファセットに対する側部ファセット幅を描く。いくつかの実施形態によれば、放出ファセット幅および/または側部ファセット幅は、1つの方向における放出ファセットまたは側部ファセットの1つの寸法(1つの直径など)、特に放出ファセットまたは側部ファセットの最小の寸法(最小の直径など)として理解することができる。いくつかの実施形態によれば、放出ファセット幅または側部ファセット幅は、それぞれのファセットの平面内またはそれぞれのファセットの境界が縛る平面内で測定することができる。
本明細書に記載する実施形態によるファセットはそれぞれ、ファセットサイズを区切るファセット境界を有することができる。ファセット境界は、1つのファセットが終わる線として説明することができる。図1および図2に例示的に見ることができるように、側部ファセットは、エッジファセット120によって互いから分離され、特に側部ファセットは、エッジファセットが始まるところで終わる。
本明細書では、エッジファセットは、側部ファセット間のストリップまたは帯として理解することができる。いくつかの実施形態では、エッジファセットは、2つの側部ファセット間の実質上まっすぐなストリップまたは帯である。特に、2つの側部ファセット間のエッジファセットは、これらの側部ファセットの境界によって制限される。いくつかの実施形態によれば、エッジファセットは、エッジファセットの2つの側部で2つの側部ファセットによって制限され、1つの側部で放出ファセットによって制限される。
本明細書に記載するいくつかの実施形態では、エッジファセット幅は、放出ファセット幅または側部ファセット幅より小さくすることができる。本明細書に記載する実施形態によれば、エッジファセット幅は、放出ファセット幅の15%~45%、特に20%~40%、さらにより典型的には25%~35%とすることができる。いくつかの実施形態では、エッジファセット幅は、放出ファセット幅の約30%とすることができる。
いくつかの実施形態によれば、放出ファセット幅は、典型的には約100nm~約1000nm、より典型的には約200nm~約500nm、さらにより典型的には約250nm~350nmとすることができる。
他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、熱電界エミッタは、1300Kを超える動作温度範囲など、1000Kを超える動作温度範囲、さらにより典型的には1500Kを超える動作温度範囲を有することができる。いくつかの実施形態では、熱電界エミッタは、約1700K~約2100Kの動作温度を有することができる。
電子ビーム装置では、電子ビーム装置の総性能に対する電子ビーム源の性能(たとえば、ガン性能)を考慮することができる。たとえば、電子ビーム源に対して、電子ビーム源の周りで、たとえばハウジング1100内で、たとえば10-7~10-9Paの範囲内、またはさらには10-10Pa未満の高い真空(低圧)を提供することができる。また、電子エミッタにとって有害になり得る少なくともいくつかの残留ガスの分圧を低くすることも有益である。たとえば、酸素は、エミッタ材料の仕事関数および電子放出に対して悪影響を与える可能性がある。適した真空状態を実現するために、真空ポンピング装置を提供することができ、真空ポンピング装置は、ターボ分子ポンプ、非蒸発性ゲッタポンプなどのイオンゲッタポンプ、クライオポンプ、および前述の装置の任意の組合せからなる群から選択することができる。
サンプルチャンバ1110内にサンプル10を提供することができる。サンプル10は、サンプル支持体(図示せず)上に提供することができる。サンプル支持体は、サンプル10を位置決めするための可動の台とすることができる。たとえば、可動の台は、サンプル10を1つの方向(たとえば、X方向)、2つの方向(たとえば、XおよびY方向)、または3つの方向に動かすように構成することができる。
電子ビーム装置の実施形態では、これらの図には図示されていないアライメントシステム、補正システム、さらなる検出システムなどのような1つまたは複数の他の光学部品を提供することもできる。
集光レンズ、開孔、偏向器、および他の光学部品のような電子ビーム装置に関して説明する素子は、電子ビーム装置をサンプルへ誘導して集束させる荷電粒子ビーム光学系または電子ビーム光学系と呼ぶことができる。
いくつかの実施形態によれば、加熱するステップは、電流加熱装置、加熱フィラメントなどの調整可能な加熱装置によって実行することができる。たとえば、エミッタチップの温度は、加熱装置を流れる電流を調整することによって調整することができる。エミッタチップの温度はまた、支持構造に対する熱電界エミッタの熱的結合、供給ケーブル、および周囲との放射熱交換のようなさらなるパラメータの影響を受けることがある。
ブロック740で、エミッタチップの放出ファセットから電子が放出される。いくつかの実施形態によれば、電子は、100結晶方位を有する放出ファセットおよび/またはエミッタチップが使用される電子ビーム装置の光軸に実質上直交して配置された放出ファセットから放出される。いくつかの実施形態では、放出ファセットは、エミッタのうち、エミッタチップの残り部分より多量の電子を放出するファセットおよび領域とすることができる。
本明細書に記載する他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、電子ビーム装置を動作させる方法は、検査すべきサンプルへ(1次)電子ビームを偏向させ、集束させ、案内するステップをさらに含むことができる。たとえば、図4は、集光レンズ、対物レンズ、偏向装置、開孔など、サンプル位置上に電子ビームを誘導して集束させるために使用することができる素子および装置の一例を示す。また、電子ビーム装置を動作させる方法は、1次電子ビームが衝突する際にサンプルから解放または後方散乱される2次荷電粒子を検出するステップを含むことができる。この方法では、検出の目的で、検出装置を提供することができる。
いくつかの実施形態によれば、温度と電界の均衡は、結果として得られるエミッタチップの形状が、実質上、上記の実施形態に記載したエミッタチップの形状になり、特に長期間の放出が安定するように選択される。たとえば、本明細書に記載する実施形態によるエミッタチップを形成するために、温度の低下(特に、1850Kから約1750Kなど、約50K~約150Kの温度の低下)またはビーム電流設定の増大(たとえば、1.0~1.5倍などの倍数による抽出電圧の増大)を使用することができる。
10 サンプル
100 エミッタチップ
101 第1の部分
102 第2の部分
110 放出ファセット
111 第1の側部ファセット
112 第2の側部ファセット
113 第3の側部ファセット
114 第4の側部ファセット
115 側部ファセット幅
120 エッジファセット
130 さらなる側部ファセット
140 放出ファセット幅
141 エッジファセット幅
170 抽出装置
175 アノード
180 集光レンズ
190 ビーム偏向装置
195 開孔
200 検出装置
300 電子ビーム源
301 加熱装置
1000 電子ビーム装置
1100 ハウジング
1110 サンプルチャンバ
1300 対物レンズ
Claims (14)
- 電子ビームでサンプルを検査する電子ビーム装置であって、
光軸を含み、
電子ビームを放出する熱電界エミッタを備える電子ビーム源を備え、前記熱電界エミッタが、
エミッタチップを備え、前記エミッタチップが、
電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセットと、
第1の側部ファセットおよび第2の側部ファセットとを備え、前記第1の側部ファセットと前記第2の側部ファセットとの間にエッジファセットが形成され、前記エッジファセットが、エッジファセット幅を有し、
前記エッジファセット幅が、前記放出ファセット幅の25%~35%であり、
前記電子ビーム源が、
前記熱電界エミッタと抽出装置との間に抽出電圧を印加する抽出装置と、
前記熱電界エミッタを加熱する加熱装置とをさらに備え、
前記電子ビーム装置が、
前記サンプル上へ前記電子ビームを誘導して集束させる電子ビーム光学系と、
前記電子ビームが前記サンプルに衝突または到達する際に生成される2次荷電粒子を検出する検出装置とをさらに備え、
前記放出ファセット幅は、前記放出ファセットの境界まで広がる平面内で前記放出ファセットの最小の寸法であり、
前記エッジファセット幅は、前記エッジファセットに隣接した前記側部ファセットの側部ファセット境界まで広がる平面内で前記エッジファセットの最小の伸長部である、電子ビーム装置。 - 前記エミッタチップが、結晶性のエミッタチップであり、前記放出ファセットが、100方位を有し、または前記放出ファセットが、前記電子ビーム装置の前記光軸に直交して配置される、請求項1に記載の電子ビーム装置。
- 電子ビーム装置内で電子ビームを放出する熱電界エミッタであって、
エミッタチップを備え、前記エミッタチップが、
電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセットと、
第1の側部ファセットおよび第2の側部ファセットとを備え、前記第1の側部ファセットと前記第2の側部ファセットとの間にエッジファセットが形成され、前記エッジファセットが、エッジファセット幅を有し、
前記エッジファセット幅が、前記放出ファセット幅の25%~35%であり、
前記放出ファセット幅は、前記放出ファセットの境界まで広がる平面内で前記放出ファセットの最小の寸法であり、
前記エッジファセット幅は、前記エッジファセットに隣接した前記側部ファセットの側部ファセット境界まで広がる平面内で前記エッジファセットの最小の伸長部である、熱電界エミッタ。 - 前記第1の側部ファセットおよび前記第2の側部ファセットが、前記放出ファセットの周りに配置される、請求項1または3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記側部ファセットが、前記放出ファセットに対して傾斜している、請求項1または3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記放出ファセットが、100結晶方位又は8角形の形状の少なくとも1つを有する、請求項3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記放出ファセット幅が、200nm~500nmである、請求項3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記エミッタチップが、タングステンを含むエミッタチップであり、ZrOで被覆される、請求項3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記第1の側部ファセットおよび前記第2の側部ファセットが、110結晶方位を有する、請求項3に記載の熱電界エミッタ。
- 前記エッジファセットが、211結晶方位を有する、請求項3に記載の熱電界エミッタ。
- 電子ビーム源のための熱電界エミッタ用のエミッタチップを作製する方法であって、
エミッタチップ表面を備えるエミッタチップを提供するステップと、
前記エミッタチップを加熱することおよび前記エミッタチップに電界を印加することによって前記エミッタチップを処理するステップとを含み、
電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセット、第1の側部ファセット、第2の側部ファセット、およびエッジファセット幅を有する前記第1の側部ファセットと前記第2の側部ファセットとの間のエッジファセットが形成され、
前記エッジファセット幅が、前記放出ファセット幅の25%~35%になるように形成され、
前記放出ファセット幅は、前記放出ファセットの境界まで広がる平面内で前記放出ファセットの最小の寸法であり、
前記エッジファセット幅は、前記エッジファセットに隣接した前記側部ファセットの側部ファセット境界まで広がる平面内で前記エッジファセットの最小の伸長部である、方法。 - 前記第1の側部ファセットおよび前記第2の側部ファセットが、前記放出ファセットの周りに形成される、請求項11に記載のエミッタチップを作製する方法。
- 熱電界エミッタおよび抽出装置を備える電子ビーム源を提供するステップであって、前記熱電界エミッタが、エミッタチップを備え、前記エミッタチップが、
電子放出のために構成され、放出ファセット幅を有する放出ファセットと、
第1の側部ファセットおよび第2の側部ファセットとを備え、前記第1の側部ファセットと前記第2の側部ファセットとの間にエッジファセットが形成され、前記エッジファセットが、エッジファセット幅を有し、
前記エッジファセット幅が、前記放出ファセット幅の25%~35%である、提供するステップと、
前記熱電界エミッタを加熱装置で加熱するステップと、
前記電子ビーム源の前記熱電界エミッタと前記抽出装置との間に抽出電圧を印加するステップと、
前記放出ファセットから電子を放出するステップと
を含み、
前記放出ファセット幅は、前記放出ファセットの境界まで広がる平面内で前記放出ファセットの最小の寸法であり、
前記エッジファセット幅は、前記エッジファセットに隣接した前記側部ファセットの側部ファセット境界まで広がる平面内で前記エッジファセットの最小の伸長部である、電子ビーム装置を動作させる方法。 - 前記エミッタチップによって放出された前記電子を電子ビーム光学系によってサンプルへ誘導するステップをさらに含む、請求項13に記載の電子ビーム装置を動作させる方法。
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