JP6997908B1 - 表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されており、
有機層は、種類の異なる複数の発光層、及び、発光分離層を含んでおり、
種類の異なる複数の発光層のそれぞれは、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されており、
発光分離層は、隣接する2つの発光層の間に配置されていると共に、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
表示装置である。
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されている表示装置の製造方法であって、
画素毎に対応するように第1電極を形成する工程、及び、
第1電極を含む全面に、種類の異なる複数の発光層のそれぞれを、連続した共通の層として積層すると共に、隣接する2つの発光層の間に配置される発光分離層を画素の表示色に応じて構成が異なるように形成する工程、
を有する、
表示装置の製造方法である。
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されており、
有機層は、種類の異なる複数の発光層、及び、発光分離層を含んでおり、
種類の異なる複数の発光層のそれぞれは、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されており、
発光分離層は、隣接する2つの発光層の間に配置されていると共に、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
表示装置を有する電子機器である。
1.本開示の表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器、全般に関する説明
2.第1の実施形態
3.第2の実施形態
4.第3の実施形態
5.第4の実施形態
6.第5の実施形態
7.各実施形態に適用される共振器構造の例
8.電子機器の説明、その他
本開示に係る表示装置、本開示に係る電子機器に用いられる表示装置、及び、本開示に係る表示装置の製造方法によって得られる表示装置(以下、これらを単に「本開示の表示装置」と呼ぶ場合がある。)にあっては、上述したように、
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されており、
有機層は、種類の異なる複数の発光層、及び、発光分離層を含んでおり、
種類の異なる複数の発光層のそれぞれは、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されており、
発光分離層は、隣接する2つの発光層の間に配置されていると共に、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
構成とすることができる。この場合において、発光分離層は、画素の表示色に応じて膜厚が相違するように形成されている構成とすることができる。
各発光層は、第1の発光層、第2の発光層、第3の発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として配置されており、
発光分離層は、第1の発光層と第2の発光層との間に配置された第1の発光分離層と、第2の発光層と第3の発光層との間に配置された第2の発光分離層とから成る、
構成とすることができる。この場合において、第1の発光分離層および第2の発光分離層の少なくとも一方は、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている構成とすることができる。第1の発光分離層および第2の発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも1つを用いて形成されている構成とすることができる。
各発光層は、赤色発光層、青色発光層、緑色発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されている、
構成とすることができる。
画素毎に対応するように第1電極を形成する工程、及び、
第1電極を含む全面に、種類の異なる複数の発光層のそれぞれを、連続した共通の層として積層すると共に、隣接する2つの発光層の間に配置される発光分離層を画素の表示色に応じて構成が異なるように形成する工程、
を有する。
隣接する第1電極の間に隔壁部を形成する工程を更に含んでおり、
第1電極を囲む隔壁部の高さと第1電極の幅とが成す比が、画素の発光色に応じて異なるように設定された状態で、発光層を所定の成膜幅でライン蒸着し、発光分離層を発光層の成膜幅よりも広い成膜幅でライン蒸着する、
構成とすることができる。
第1の実施形態は、本開示に係る、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
発光分離層ILR<発光分離層ILB<発光分離層ILG
といった関係である。発光分離層ILの膜厚は0ないし20ナノメートル程度の範囲に設定されることが好ましく、この膜厚範囲内にて上記大小関係を保つように設定することが望ましい。
発光分離層ILR>発光分離層ILB>発光分離層ILG
といった関係となる。
画素10毎に対応するように第1電極31を形成する工程、及び、
第1電極31を含む全面に、種類の異なる複数の発光層のそれぞれを、連続した共通の層として積層すると共に、隣接する2つの発光層の間に配置される発光分離層ILを画素10の表示色に応じて構成が異なるように形成する工程、
を有する製造方法によって製造することができる。
HR/WR>HB/WB>HG/WG
といった関係にある。
HR/WR>HB/WB>HG/WG
といった関係にある。図12に示す基板を用いて図11に示すライン蒸着を行なうことによっても、発光分離層ILは、膜厚が発光部50R<発光部50B<発光部50Gといった関係となるように形成される。
第2の実施形態も、本開示に係る、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
発光分離層ILR<発光分離層ILB<発光分離層ILG
といった大小関係になるように、例えば、0ないし80重量パーセントの範囲内で設定されている。
発光分離層ILR<発光分離層ILB<発光分離層ILG
というように相違する。
第3の実施形態も、本開示に係る、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
発光分離層ILR<発光分離層ILB<発光分離層ILG
といった大小関係になるように設定されている。尚、各膜厚は0ないし20ナノメートル程度の範囲に設定されることが好ましい。
第4の実施形態も、本開示に係る、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
発光分離層ILR<発光分離層ILB<発光分離層ILG
といった大小関係になるように形成されている。尚、各膜厚は0ないし20ナノメートル程度の範囲に設定されることが好ましい。
第5の実施形態も、本開示に係る、表示装置、表示装置の製造方法、及び、電子機器に関する。
発光分離層ILがホール輸送性材料から成る場合、これらの膜厚の関係は、
発光分離層ILR<発光分離層ILW<発光分離層ILB<発光分離層ILG
といった関係である。発光分離層ILの膜厚は0ないし20ナノメートル程度の範囲に設定されることが好ましく、この膜厚範囲内にて上記大小関係を保つように設定することが望ましい。
上述した本開示に係る表示装置に用いられる画素は、発光部で発生した光を共振させる共振器構造を備えている構成とすることができる。以下、図を参照して、共振器構造について説明する。
図20Aは、共振器構造の第1例を説明するための模式的な断面図である。
図20Bは、共振器構造の第2例を説明するための模式的な断面図である。
図21Aは、共振器構造の第3例を説明するための模式的な断面図である。
図21Bは、共振器構造の第4例を説明するための模式的な断面図である。
図22Aは、共振器構造の第5例を説明するための模式的な断面図である。
図22Bは、共振器構造の第6例を説明するための模式的な断面図である。
図23は、共振器構造の第7例を説明するための模式的な断面図である。
以上説明した本開示の表示装置は、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示部(表示装置)として用いることができる。一例として、例えば、テレビジョンセット、デジタルスチルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話機等の携帯端末装置、ビデオカメラ、ヘッドマウントディスプレイ(頭部装着型ディスプレイ)等の表示部として用いることができる。
図24は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラの外観図であり、図24Aにその正面図を示し、図24Bにその背面図を示す。レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルスチルカメラは、例えば、カメラ本体部(カメラボディ)411の正面右側に交換式の撮影レンズユニット(交換レンズ)412を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部413を有している。
図25は、ヘッドマウントディスプレイの外観図である。ヘッドマウントディスプレイは、例えば、眼鏡形の表示部511の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部512を有している。このヘッドマウントディスプレイにおいて、その表示部511として本開示の表示装置を用いることができる。すなわち、本例に係るヘッドマウントディスプレイは、その表示部511として本開示の表示装置を用いることによって作製される。
図26は、シースルーヘッドマウントディスプレイの外観図である。シースルーヘッドマウントディスプレイ611は、本体部612、アーム613および鏡筒614で構成される。
なお、本開示の技術は以下のような構成も取ることができる。
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されており、
有機層は、種類の異なる複数の発光層、及び、発光分離層を含んでおり、
種類の異なる複数の発光層のそれぞれは、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されており、
発光分離層は、隣接する2つの発光層の間に配置されていると共に、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
表示装置。
[A2]
発光分離層は、画素の表示色に応じて膜厚が相違するように形成されている、
上記[A1]に記載の表示装置。
[A3]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも1つを用いて形成されている、
上記[A2]に記載の表示装置。
[A4]
発光分離層は、画素の表示色に応じて構成が異なる材料を用いて形成されている、
上記[A1]に記載の表示装置。
[A5]
発光分離層は、種類の異なる複数の材料が共蒸着されて形成されている、
上記[A1]に記載の表示装置。
[A6]
発光分離層は、画素の表示色に応じて、種類の異なる複数の材料の濃度関係が相違するように形成されている、
上記[A5]に記載の表示装置。
[A7]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも2つが共蒸着されて形成されている、
上記[A5]または[A6]に記載の表示装置。
[A8]
発光分離層は、種類の異なる複数の材料が積層されて形成されている、
上記[A1]に記載の表示装置。
[A9]
発光分離層は、画素の表示色に応じて、種類の異なる複数の材料の積層比率が相違するように形成されている、
上記[A8]に記載の表示装置。
[A10]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも2つが積層されて形成されている、
上記[A8]または[A9]に記載の表示装置。
[A11]
有機層は、それぞれ種類の異なる、第1の発光層、第2の発光層、及び、第3の発光層を含んでおり、
各発光層は、第1の発光層、第2の発光層、第3の発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として配置されており、
発光分離層は、第1の発光層と第2の発光層との間に配置された第1の発光分離層と、第2の発光層と第3の発光層との間に配置された第2の発光分離層とから成る、
上記[A1]に記載の表示装置。
[A12]
第1の発光分離層および第2の発光分離層の少なくとも一方は、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
上記[A11]に記載の表示装置。
[A13]
第1の発光分離層および第2の発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも1つを用いて形成されている、
上記[A11]または[A12]に記載の表示装置。
[A14]
有機層は、赤色発光層、青色発光層、及び、緑色発光層を含んでおり、
各発光層は、赤色発光層、青色発光層、緑色発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されている、
上記[A1]ないし[A13]のいずれかに記載の表示装置。
[A15]
各画素の上面には表示すべき色に応じたカラーフィルタが配置されている、
上記[A1]ないし[A14]のいずれかに記載の表示装置。
[A16]
画素は、発光部で発生した光を共振させる共振器構造を備えている、
上記[A1]ないし[A15]のいずれかに記載の表示装置。
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されている表示装置の製造方法であって、
画素毎に対応するように第1電極を形成する工程、及び、
第1電極を含む全面に、種類の異なる複数の発光層のそれぞれを、連続した共通の層として積層すると共に、隣接する2つの発光層の間に配置される発光分離層を画素の表示色に応じて構成が異なるように形成する工程、
を有する、
表示装置の製造方法。
[B2]
隣接する第1電極の間に隔壁部を形成する工程を更に含んでおり、
第1電極を囲む隔壁部の高さと第1電極の幅とが成す比が、画素の発光色に応じて異なるように設定された状態で、発光層を所定の成膜幅でライン蒸着し、発光分離層を発光層の成膜幅よりも広い成膜幅でライン蒸着する、
上記[B1]に記載の表示装置の製造方法。
第1電極と有機層と第2電極とが積層されて成る発光部を含む画素が、2次元マトリクス状に配列して形成されており、
有機層は、種類の異なる複数の発光層、及び、発光分離層を含んでおり、
種類の異なる複数の発光層のそれぞれは、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されており、
発光分離層は、隣接する2つの発光層の間に配置されていると共に、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
表示装置を有する電子機器。
[C2]
発光分離層は、画素の表示色に応じて膜厚が相違するように形成されている、
上記[C1]に記載の電子機器。
[C3]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも1つを用いて形成されている、
上記[C2]に記載の電子機器。
[C4]
発光分離層は、画素の表示色に応じて構成が異なる材料を用いて形成されている、
上記[C1]に記載の電子機器。
[C5]
発光分離層は、種類の異なる複数の材料が共蒸着されて形成されている、
上記[C1]に記載の電子機器。
[C6]
発光分離層は、画素の表示色に応じて、種類の異なる複数の材料の濃度関係が相違するように形成されている、
上記[C5]に記載の電子機器。
[C7]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも2つが共蒸着されて形成されている、
上記[C5]または[C6]に記載の電子機器。
[C8]
発光分離層は、種類の異なる複数の材料が積層されて形成されている、
上記[C1]に記載の電子機器。
[C9]
発光分離層は、画素の表示色に応じて、種類の異なる複数の材料の積層比率が相違するように形成されている、
上記[C8]に記載の電子機器。
[C10]
発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも2つが積層されて形成されている、
上記[C8]または[C9]に記載の電子機器。
[C11]
有機層は、それぞれ種類の異なる、第1の発光層、第2の発光層、及び、第3の発光層を含んでおり、
各発光層は、第1の発光層、第2の発光層、第3の発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として配置されており、
発光分離層は、第1の発光層と第2の発光層との間に配置された第1の発光分離層と、第2の発光層と第3の発光層との間に配置された第2の発光分離層とから成る、
上記[C1]に記載の電子機器。
[C12]
第1の発光分離層および第2の発光分離層の少なくとも一方は、画素の表示色に応じて構成が異なるように形成されている、
上記[C11]に記載の電子機器。
[C13]
第1の発光分離層および第2の発光分離層は、ホール輸送性材料、電子輸送性材料、及び、両電荷輸送性材料のうち少なくとも1つを用いて形成されている、
上記[C11]または[C12]に記載の電子機器。
[C14]
有機層は、赤色発光層、青色発光層、及び、緑色発光層を含んでおり、
各発光層は、赤色発光層、青色発光層、緑色発光層の順で、各画素に亘って連続した共通の層として、積層されている、
上記[C1]ないし[C13]のいずれかに記載の電子機器。
[C15]
各画素の上面には表示すべき色に応じたカラーフィルタが配置されている、
上記[C1]ないし[C14]のいずれかに記載の電子機器。
[C16]
画素は、発光部で発生した光を共振させる共振器構造を備えている、
上記[C1]ないし[C15]のいずれかに記載の電子機器。
Claims (18)
- 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素と、
前記画素間に配置されて前記画素それぞれを区画する隔壁部と、
を備え、
前記画素それぞれは、
基板上の第1電極と、
前記第1電極上の第1の発光層と、
前記第1の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層と、
前記第1発光分離層上の第2の発光層と、
前記第2の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層と、
前記第2発光分離層上の第3の発光層と、
前記第3の発光層上の第2電極と、
前記基板上であって前記基板と前記第1電極との間に位置する反射板と、
前記反射板と前記第1電極との間に位置する光学調整層と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記画素それぞれにおける前記光学調整層の膜厚は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで異なる、
表示装置。 - 前記第1の発光層は、赤色の波長帯の光を出射し、
前記第2の発光層は、青色の波長帯の光を出射し、
前記第3の発光層は、緑色の波長帯の光を出射する
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1電極の上面から前記第2電極の下面までの距離は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素で等しい
請求項1又は2に記載の表示装置。 - 前記第1発光分離層の膜厚は、20nm(ナノメートル)以下である
請求項1~3の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記第2発光分離層の膜厚は、20nm以下である
請求項1~4の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記画素それぞれにおける前記反射板の上面の高さ方向の位置は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで揃っている
請求項1~5の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記複数の画素は、第4画素をさらに含む
請求項1~6の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記第1画素と前記第2画素とは、前記積層方向と垂直な第1方向において隣接し、
前記第3画素と前記第4画素とは、前記第1方向において隣接し、
前記第1画素と前記第4画素と、及び、前記第2画素と前記第3画素とは、それぞれ前記積層方向と垂直であって前記第1方向と垂直な第2方向において隣接する
請求項7に記載の表示装置。 - 前記第1画素の前記発光部の面積と、前記第2画素の前記発光部の面積と、前記第3画素の前記発光部の面積とは、互いに異なる
請求項1~8の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記第1画素の前記第1電極の幅と、前記第2画素の前記第1電極の幅と、前記第3画素の前記第1電極の幅とは、前記積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なる
請求項1~9の何れか1項に記載の表示装置。 - 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素と、
前記画素間に配置されて前記画素それぞれを区画する隔壁部と、
を備え、
前記画素それぞれは、
基板上の第1電極と、
前記第1電極上の第1の発光層と、
前記第1の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層と、
前記第1発光分離層上の第2の発光層と、
前記第2の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層と、
前記第2発光分離層上の第3の発光層と、
前記第3の発光層上の第2電極と、
前記基板上であって前記基板と前記第1電極との間に位置する反射板と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記画素それぞれにおける前記第1電極の膜厚は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで異なる、
表示装置。 - 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素と、
前記画素間に配置されて前記画素それぞれを区画する隔壁部と、
を備え、
前記画素それぞれは、
基板上の第1電極と、
前記第1電極上の第1の発光層と、
前記第1の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層と、
前記第1発光分離層上の第2の発光層と、
前記第2の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層と、
前記第2発光分離層上の第3の発光層と、
前記第3の発光層上の第2電極と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記画素それぞれにおける前記第1電極は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで異なる光学定数を有する材料を含む、
表示装置。 - 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素と、
前記画素間に配置されて前記画素それぞれを区画する隔壁部と、
を備え、
前記画素それぞれは、
基板上の第1電極と、
前記第1電極上の第1の発光層と、
前記第1の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層と、
前記第1発光分離層上の第2の発光層と、
前記第2の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層と、
前記第2発光分離層上の第3の発光層と、
前記第3の発光層上の第2電極と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記複数の画素のうちの少なくとも1つは、
前記基板上であって前記基板と前記第1電極との間に位置する反射板と、
前記反射板と前記第1電極との間に位置する光学調整層と、
をさらに備え、
前記複数の画素のうちの少なくとも他の2つそれぞれにおける前記第1電極は、互いに異なる光学定数を有する材料を含む、
表示装置。 - 前記ホール輸送性材料は、銅フタロシアニン、ヘキサアザトリフェニレン(HAT)、及び、α-NPD〔N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-〔1,1'-biphenyl〕-4,4'-diamineのうちの少なくとも1つを含み、
前記電子輸送性材料は、BCP(2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン)、8-ヒドロキシキノリンの金属錯体、8-ヒドロキシキノリンの誘導体の金属錯体、8-ヒドロキシキノリンの含窒素複素環誘導体、及び、8-ヒドロキシキノリンの誘導体の含窒素複素環誘導体のうちの少なくとも1つを含む、
請求項1~11の何れか1項に記載の表示装置。 - 前記画素それぞれは、前記第2電極上に位置し、特定の波長成分の光を透過させるカラーフィルタをさらに備える、
請求項1~12の何れか1項に記載の表示装置。 - 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素を備える表示装置の製造方法であって、
基板上に反射板を形成する工程と、
前記反射板上に光学調整層を形成する工程と、
前記光学調整層上に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に前記画素それぞれを区画する隔壁部を形成する工程と、
少なくとも前記隔壁部の開口内に露出する前記第1電極上に第1の発光層を形成する工程と、
前記第1の発光層上に電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層を形成する工程と、
前記第1発光分離層上に第2の発光層を形成する工程と、
前記第2の発光層上に電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層を形成する工程と、
前記第2発光分離層上に第3の発光層を形成する工程と、
前記第3の発光層上に第2電極を形成する工程と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記画素それぞれにおける前記光学調整層の膜厚は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで異なる、
表示装置の製造方法。 - 前記第1発光分離層及び前記第2発光分離層のうちの少なくとも1つは、マスク蒸着法又は転写法を用いて形成される、
請求項16に記載の表示装置の製造方法。 - 2次元マトリクス状に配列された、第1画素と第2画素と第3画素とを含む複数の画素と、
前記画素間に配置されて前記画素それぞれを区画する隔壁部と、
を備え、
前記画素それぞれは、
基板上の第1電極と、
前記第1電極上の第1の発光層と、
前記第1の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第1発光分離層と、
前記第1発光分離層上の第2の発光層と、
前記第2の発光層上に位置し、電子輸送性材料及びホール輸送性材料のうちの少なくとも一つを含む第2発光分離層と、
前記第2発光分離層上の第3の発光層と、
前記第3の発光層上の第2電極と、
前記基板上であって前記基板と前記第1電極との間に位置する反射板と、
前記反射板と前記第1電極との間に位置する光学調整層と、
を備え、
前記第1画素、前記第2画素及び前記第3画素のうちの少なくとも1つの画素において、前記第1発光分離層と前記第2発光分離層との膜厚が異なり、
前記第1画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第2画素の発光部に対応する前記第1電極の幅と、前記第3画素の発光部に対応する前記第1電極の幅とは、前記第1の発光層と前記第1発光分離層と前記第2の発光層と前記第2発光分離層と前記第3の発光層とが積層する積層方向と垂直な少なくとも一方向において互いに異なり、
前記画素それぞれにおける前記光学調整層の膜厚は、前記第1画素と前記第2画素と前記第3画素とで異なる、
表示装置を有する電子機器。
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