JP6988978B2 - バリア性フィルム - Google Patents
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樹脂基材と、第1の化学気相蒸着層と、第2の化学気相蒸着層とをこの順に備えるバリア性フィルムであって、
前記第1の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C1が15%以上25%以下であり、
前記第2の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C2が1%以上20%以下であり、
前記第1の化学気相蒸着層中の炭素の割合C1と前記第2の化学気相蒸着層中の炭素の割合C2が、C1>C2を満たし、
水蒸気透過度が、5.0×10−2g/m2/day以下である、バリア性フィルムが提供される。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムは、全光線透過率が80%以上であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムは、L*a*b*表示系におけるb*が2以下であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムは、温度85℃および湿度85%の環境下で120時間保存後の水蒸気透過度が、5.0×10−2g/m2/day以下であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層の厚さT1と前記第2の化学気相蒸着層の厚さT2が、T1<T2を満たすことが好ましい。
本発明の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層の厚さT1が、10nm以上50nm未満であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記第2の化学気相蒸着層の厚さT2が、50nm以上500nm以下であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層側の前記樹脂基材の表面粗さRaが、5nm以下であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムが、前記樹脂基材と前記第1の化学気相蒸着層の間に、平坦化層をさらに備え、前記第1の化学気相蒸着層側の前記平坦化層の表面粗さRaが、5nm以下であることが好ましい。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムは包装材料用である。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムを含む、包装製品が提供される。
本発明の態様においては、前記バリア性フィルムを含む、電気・電子製品が提供される。
本発明によるバリア性フィルムは、樹脂基材と、第1の化学気相蒸着層と、第2の化学気相蒸着層とをこの順に備えるバリア性フィルムである。バリア性フィルムは、樹脂基材と第1の化学気相蒸着層との間に、平坦化層をさらに備えても良い。
本発明によるバリア性フィルムを構成する樹脂基材としては、下記の化学気相蒸着層を担持できるものであれば特に限定されず、公知の種々の樹脂基材を用いることができる。
例えば、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂のフィルムを用いることができる。
本発明によるバリア性フィルムを構成する蒸着層は、化学気相成長法(CVD法)により形成される蒸着膜である。バリア性フィルムは、樹脂基材側から順に、第1の化学気相蒸着層と、第2の化学気相蒸着層とを備える。本発明において、化学気相蒸着層は、物理気相成長法(PVD法)により得られる蒸着膜に比べて、厚膜な蒸着層を形成し易く、また屈曲性に優れるため、バリア性フィルムの蒸着層としてより好適である。
第2の化学気相蒸着層は、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C2が、1%以上20%以下であり、好ましくは5%以上15%以下であり、さらに好ましくは、7.5%以上12.5%以下である。
さらに、第1の化学気相蒸着層中の炭素の割合C1と第2の化学気相蒸着層中の炭素の割合C2は、C1>C2を満たすものである。
第1の化学気相蒸着層中の炭素の割合C1および第2の化学気相蒸着層中の炭素の割合C2が上記条件を満たすことで、加熱処理時における樹脂基材の熱伸びに対する追従性が向上し、特に高温高湿環境下での保存後であっても水蒸気バリア性に優れる。
さらには、第1の化学気相蒸着層の厚さT1は、好ましくは10nm以上50nm未満であり、より好ましくは11nm以上30nm以下であり、さらに好ましくは15nm以上25nm以下である。
第2の化学気相蒸着層の厚さT2は、好ましくは50nm以上500nm以下であり、より好ましくは75nm以上400nm以下であり、さらに好ましくは100nm以上300nm以下である。
第1の化学気相蒸着層の厚さT1および第2の化学気相蒸着層の厚さT2が上記条件を満たすことで、バリア性フィルムは、高温高湿環境下での保存後であっても水蒸気バリア性に優れる。化学気相蒸着層の厚さは、CVD法による蒸着の際のフィルム搬送速度を調節することで、所望の範囲に調節することができる。
バリア性フィルムは、樹脂基材と第1の化学気相蒸着層との間に、平坦化層をさらに備えてもよい。平坦化層は、第1の化学気相蒸着層と接する側の表面粗さRaが、好ましくは5nm以下であり、より好ましくは3nm以下であり、さらに好ましくは2nm以下であり、さらにより好ましくは1nm以下である。第1の化学気相蒸着層と接する側の平坦化層の表面粗さRaが上記数値を満たせば、第1の化学気相蒸着層との密着性が向上し、水蒸気バリア性、特に高温高湿環境下での保存後であっても水蒸気バリア性に優れる。
本発明によるバリア性フィルムの製造方法は、樹脂基材上に、有機珪素化合物の1種以上を含む製膜用モノマーガスを原料とし、キャリアガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、かつ、プラズマ発生装置等を利用するプラズマ化学気相成長法を用いて珪素酸化物を含む第1および第2の化学気相蒸着層を形成することができる。
酸素ガス:不活性ガス=1:0〜20:0〜5(単位:slm、スタンダードリッターミニットの略)のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物等を使用することができる。
このような製膜用混合ガス組成物を用いることで、珪素酸化物を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の1種類以上の元素からなる化合物の少なくとも1種類を化学結合等により含有する蒸着膜を形成することができる。製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を調整することで、第1および第2の化学気相蒸着層に含まれるケイ素、酸素、および炭素の割合を適宜調整することができる。
本発明によるバリア性フィルムは、高度なバリア性を要求される様々な分野の製品に適用することができる。例えば、包装製品や、太陽電池、有機発光ダイオード、および表示装置等の電気・電子製品に用いることができる。
本発明によるバリア性フィルムは、包装材料として特に好適に用いることができる。例えば、医薬品、化粧品、化学品、飲食品等の用途に用いることができる。バリア性フィルムは、透明性に優れ、かつ高温高湿環境下での保存後であっても水蒸気バリア性に優れたものであるため、内容物の視認性や高度な水蒸気バリア性が要求される、医薬品用包装材料として特に好適に用いることができる。
本発明の他の目的は、透明性に優れ、かつ高温高湿環境下での保存後であっても水蒸気バリア性に優れたバリア性フィルムを提供することである。
樹脂基材と、第1の化学気相蒸着層と、第2の化学気相蒸着層とをこの順に備えるバリア性フィルムであって、
前記第1の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C1が15%以上40%以下であり、
前記第2の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C2が1%以上20%以下であり、
前記第1の化学気相蒸着層中の炭素の割合C1と前記第2の化学気相蒸着層中の炭素の割合C2が、C1>C2を満たし、
水蒸気透過度が、5.0×10−2g/m2/day以下である、バリア性フィルムが提供される。
本発明の他の態様においては、前記バリア性フィルムは、全光線透過率が80%以上であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記バリア性フィルムは、L*a*b*表示系におけるb*が2以下であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記バリア性フィルムは、温度85℃および湿度85%の環境下で120時間保存後の水蒸気透過度が、5.0×10−2g/m2/day以下であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層の厚さT1と前記第2の化学気相蒸着層の厚さT2が、T1<T2を満たすことが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層の厚さT1が、10nm以上50nm未満であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記第2の化学気相蒸着層の厚さT2が、50nm以上500nm以下であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記第1の化学気相蒸着層側の前記樹脂基材の表面粗さRaが、5nm以下であることが好ましい。
本発明の他の態様においては、前記バリア性フィルムが、前記樹脂基材と前記第1の化学気相蒸着層の間に、平坦化層をさらに備え、前記第1の化学気相蒸着層側の前記平坦化層の表面粗さRaが、5nm以下であることが好ましい。
[実施例1]
樹脂基材として二軸延伸PETフィルム(東洋紡(株)製:A4100、厚さ100μm、表面粗さRa1.2nm)を用意した。該PETフィルムの一方の面上に、プラズマCVD装置を用いて、下記の条件で蒸着膜組成比Si:O:Cが30:52:18である第1の化学気相蒸着層を形成した。
(第1の化学気相蒸着層の蒸着条件1)
・投入電力 0.3kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 5Pa
・膜厚 22nm
・フィルム搬送速度 2m/min
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件1)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 110nm
・フィルム搬送速度 0.5m/min
第1の化学気相蒸着層を形成せずに、PETフィルム上に、第2の化学気相蒸着層を直接形成した以外は、実施例1と同様にしてバリア性フィルムを得た。
第2の化学気相蒸着層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にしてバリア性フィルムを得た。
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが25:30:45である第1の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例1と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第1の化学気相蒸着層の蒸着条件2)
・投入電力 0.3kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/0sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 5Pa
・膜厚 22nm
・フィルム搬送速度 2m/min
樹脂基材として二軸延伸PETフィルム(東洋紡(株)製:A4300、厚さ100μm、表面粗さRa6.5nm)を用いた以外は、実施例1と同様にしてバリア性フィルムを得た。
樹脂基材として二軸延伸PETフィルム(東洋紡(株)製:A4300、厚さ100μm、表面粗さRa6.5nm)を用意した。該PETフィルムの一方の面上に平坦化層(主成分アクリル樹脂、表面粗さRa0.8nm)を設けた。次に、該平坦化層上に、プラズマCVD装置を用いて、実施例1と同様にして、第1の化学気相蒸着層を形成した。
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件2)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 59nm
・フィルム搬送速度 1.0m/min
第2の化学気相蒸着層の蒸着条件1で、蒸着膜組成比Si:O:Cが31:59:10である第2の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが31:59:10である第2の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件3)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 232nm
・フィルム搬送速度 0.2m/min
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが31:59:10である第2の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件4)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 422nm
・フィルム搬送速度 0.1m/min
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが30:52:18である第1の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第1の化学気相蒸着層の蒸着条件3)
・投入電力 0.3kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 5Pa
・膜厚 11nm
・フィルム搬送速度 4m/min
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが30:49:21である第1の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第1の化学気相蒸着層の蒸着条件4)
・投入電力 0.3kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 200/200/1500sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 5Pa
・膜厚 22nm
・フィルム搬送速度 2m/min
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが57:31:12である第2の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件5)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/900sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 110nm
・フィルム搬送速度 0.5m/min
下記の条件で、蒸着膜組成比Si:O:Cが29:47:24である第2の化学気相蒸着層を形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
(第2の化学気相蒸着層の蒸着条件6)
・投入電力 0.7kW
・原料ガス組成 HMDSO
・He/Mn/O2 100/100/150sccm
・電極用Ar 100sccm
・成膜圧力 3.5Pa
・膜厚 110nm
・フィルム搬送速度 0.5m/min
第1の化学気相蒸着層を形成せずに、平坦化層上に、第2の化学気相蒸着層を直接形成した以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
第2の化学気相蒸着層を形成しなかった以外は、実施例2と同様にしてバリア性フィルムを得た。
上記の実施例および比較例で製造したバリア性フィルムに下記の測定を行った。
バリア性フィルムの水蒸気透過度を、水蒸気透過度測定機(MOCON社製:PERMATRAN)を用いて、JIS K7129Bに準拠して、または、または、Tecnolox製DELTA PARMを用いて、ISO 15106−5に準拠して温度40℃および湿度90%の環境下で測定した。また、バリア性フィルムを温度85℃および湿度85%の環境下で120時間保存後に、同様に水蒸気透過度を測定した。測定結果は、下記の表1に示される通りであった。
バリア性フィルムの全光線透過率を、株式会社村上採光研究所製 HAZE METER HM−150を用いて、JIS K7361に準拠して測定した。測定結果は、下記の表1に示される通りであった。
バリア性フィルムのヘイズを、株式会社村上採光研究所製 HAZE METER HM−150を用いて、JIS K7136に準拠して測定した。測定結果は、下記の表1に示される通りであった。
バリア性フィルムのL*a*b*表示系におけるb*を、日本分光株式会社製 紫外可視近赤外分光光度計 V−7100を用いて、JIS Z8701−1999に準拠して測定した。測定結果は、下記の表1に示される通りであった。
11 樹脂基材
12 第1の化学気相蒸着層
13 第2の化学気相蒸着層
14 平坦化層
Claims (12)
- 樹脂基材と、第1の化学気相蒸着層と、第2の化学気相蒸着層とをこの順に備えるバリア性フィルムであって、
前記第1の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C1が15%以上25%以下であり、
前記第2の化学気相蒸着層が、ケイ素、酸素、および炭素を含み、ケイ素、酸素、および炭素の3元素の合計100%に対して、炭素の割合C2が1%以上20%以下であり、
前記第1の化学気相蒸着層中の炭素の割合C1と前記第2の化学気相蒸着層中の炭素の割合C2が、C1>C2を満たし、
水蒸気透過度が、5.0×10−2g/m2/day以下である、バリア性フィルム。 - 全光線透過率が80%以上である、請求項1に記載のバリア性フィルム。
- L * a * b * 表示系におけるb * が3以下である、請求項1または2に記載のバリア性フィルム。
- 温度85℃および湿度85%の環境下で120時間保存後の水蒸気透過度が、5.0×10 −2 g/m 2 /day以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 前記第1の化学気相蒸着層の厚さT 1 と前記第2の化学気相蒸着層の厚さT 2 が、T 1 <T 2 を満たす、請求項1〜4のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 前記第1の化学気相蒸着層の厚さT 1 が、10nm以上50nm未満である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 前記第2の化学気相蒸着層の厚さT 2 が、50nm以上500nm以下である、請求項1〜6のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 前記第1の化学気相蒸着層側の前記樹脂基材の表面粗さRaが、5nm以下である、請求項1〜7のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 前記バリア性フィルムが、前記樹脂基材と前記第1の化学気相蒸着層の間に、平坦化層をさらに備え、前記第1の化学気相蒸着層側の前記平坦化層の表面粗さRaが、5nm以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 包装材料用である、請求項1〜9のいずれか一項に記載のバリア性フィルム。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載のバリア性フィルムを含む、包装製品。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載のバリア性フィルムを含む、電気・電子製品。
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