JP6958106B2 - 偏向装置、表示装置および偏向装置の製造方法 - Google Patents

偏向装置、表示装置および偏向装置の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、ホログラム素子を備えた偏向装置、表示装置、および偏向装置の製造方法に関するものである。
表示装置において、画像光投射装置から出射された画像光を偏向素子によって観察者の眼に入射させる場合、偏向素子としてホログラム素子を用いれば、ホログラム素子であれば、観察者の顔面に沿うように湾曲させた形状とすることもできる(特許文献1参照)。かかるホログラム素子として、特許文献1には、湾曲した支持基板の一方面に積層された構造が記載されている。但し、特許文献1では、ホログラム素子を眼鏡フレーム等のホルダー部に固定する構造については記載されていない。
特開2015−191026号公報
特許文献1に記載の構成において、図18に示すように、湾曲部21を有する支持基板20にホログラム素子30を積層するとともに、支持基板20に対して、湾曲部21に第1屈曲部281および第2屈曲部282を介して連接する第1平板部291および第2平板部292を設ければ、第1平板部291および第2平板部292をホルダー部61の第1固定部611および第2固定部612に固定することができる。
しかしながら、図18に示す構造の場合、第1固定部611と第2固定部612との間に第1屈曲部281および第2屈曲部282が存在するため、例えば、環境温度が変化して支持基板20が膨張した際、支持基板20では、第1屈曲部281と第2屈曲部282との間で湾曲部21が大きく変形する。その結果、点線L30で示すように、ホログラム素子30が大きく変形するという問題点がある。かかる変形が発生すると、図19に示すように、ホログラム素子30の干渉縞39が点線で示す状態から実線で示す状態に変化してしまい、回折角度が大きく変化してしまう。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ホログラム素子の変形を抑制することのできる偏向装置、表示装置、および偏向装置の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明に係る偏向装置の一態様は、板厚方向に交差する第1方向に沿って湾曲して前記板厚方向の一方側に凸曲面を向けた湾曲部を有する支持基板と、前記湾曲部の前記板厚方向の一方面または他方面に積層され、前記湾曲部に向けて入射した光を偏向して出射するホログラム素子と、前記支持基板を支持するホルダー部と、を有し、前記ホルダー部は、前記湾曲部における前記第1方向の一方側の部分である第1被支持部に前記板厚方向で重なって前記第1被支持部と固定された第1固定部と、前記湾曲部における前記第1方向の他方側の部分である第2被支持部に前記板厚方向で重なって前記第2被支持部と固定された第2固定部と、を有していることを特徴とする。
本発明では、支持基板の湾曲部にホログラム素子が積層されており、ホログラム素子は、湾曲部に向けて入射した光を偏向して出射する。また、ホルダー部の第1固定部および第2固定部は各々、支持基板の湾曲部において第1方向で離間する第1被支持部および第2被支持部に板厚方向で重なって第1被支持部および第2被支持部と固定されている。このため、支持基板では、ホルダー部の第1固定部と第2固定部との間(支持基板の第1被支持部と第2被支持部との間)に屈曲部が存在しない。従って、支持基板に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板の第1方向に沿った変形がホルダー部によって抑制される。それ故、ホログラム素子の第1方向に沿った変形が抑制されるので、ホログラム素子の第1方向での回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
本発明において、前記ホルダー部は、前記支持基板より熱膨張係数が小さい態様を採用することができる。かかる態様によれば、環境温度が変化して支持基板に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板の変形がホルダー部によって効果的に抑制される。
本発明において、前記ホルダー部は、前記支持基板より弾性率が大きい態様を採用することができる。かかる態様によれば、環境温度が変化して支持基板に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板の変形がホルダー部によって効率的に抑制される。
本発明において、前記第1固定部は、前記支持基板の前記第1方向の一方側の側面である第1側面に重なるように屈曲して前記第1側面と固定され、前記第2固定部は、前記支持基板の前記第1方向の他方側の側面である第2側面に重なるように屈曲して前記第2側面と固定されている態様を採用することができる。かかる態様によれば、支持基板の変形がホルダー部によって効果的に抑制される。
本発明において、前記支持基板は、前記第1方向の全体が前記湾曲部になっている態様を採用してもよい。
本発明において、前記支持基板は、前記湾曲部に対して第1屈曲部を介して前記第1方向の一方側で連接する第1平板部を備え、前記第1固定部は、前記第1被支持部および前記第1平板部に前記厚さ方向で重なって前記第1被支持部および前記第1平板部と固定されている態様を採用することができる。かかる態様によれば、第1固定部と第1平板部との重なり部分を利用して支持基板とホルダー部との固定を行うことができる。
本発明において、前記支持基板は、前記湾曲部に対して第2屈曲部を介して前記第1方向の他方側で連接する第2平板部を備え、前記第2固定部は、前記第2被支持部および前記第2平板部に前記厚さ方向で重なって前記第2被支持部および前記第2平板部と固定されている態様を採用してもよい。かかる態様によれば、第2固定部と第2平板部との重なり部分を利用して支持基板とホルダー部との固定を行うことができる。
本発明において、前記板厚方向からみたとき、前記湾曲部は、前記第1方向の中央部分における前記第1方向と交差する第2方向の幅が、前記第1方向の一方側の前記第2方向の幅、および前記第1方向の他方側の前記第2方向の幅より広い態様を採用することができる。
本発明において、前記ホログラム素子の前記支持基板とは反対側の面には、前記板厚方向において前記湾曲部と重なる領域に支持フィルムが積層されている態様を採用してもよい。
本発明において、前記支持フィルムの前記ホログラム素子とは反対側の面には、前記板厚方向において前記湾曲部と重なる領域にカバー基板が積層されている態様を採用してもよい。
本発明において、前記湾曲部は、前記第1方向と交差する第2方向に沿って湾曲している態様を採用することができる。
この場合、前記ホログラム素子は、前記湾曲部に向けて入射した光を前記第1方向および前記第2方向で偏向する態様を採用してもよい。
本発明において、前記湾曲部は、前記第1方向と交差する第2方向に沿って湾曲し、前記ホログラム素子は、前記湾曲部に向けて入射した光を前記第1方向および前記第2方向で偏向し、前記ホルダー部は、前記支持基板の前記第1方向および前記板厚方向と交差する第2方向の一方側の端部を保持する第3固定部と、前記支持基板の前記第2方向の他方側の端部を保持する第4固定部と、を備え、前記第3固定部は、前記湾曲部における前記第2方向の一方側の部分である第3被支持部に前記板厚方向で重なって前記第3被支持部と固定され、前記第4固定部は、前記湾曲部における前記第2方向の一方側の部分である第3被支持部に前記板厚方向で重なって前記第4被支持部と固定されている態様を採用することができる。かかる態様によれば、ホログラム素子が、湾曲部に向けて入射した光を第1方向および第2方向で偏向して出射する。また、ホルダー部の第3固定部および第4固定部は各々、支持基板の湾曲部において第2方向で離間する第3被支持部および第4被支持部に板厚方向で重なって第3被支持部および第4被支持部と固定されている。このため、支持基板では、ホルダー部の第3固定部と第4固定部との間(支持基板の第3被支持部と第4被支持部との間)に屈曲部が存在しない。従って、支持基板に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板の第2方向に沿った変形がホルダー部によって抑制される。それ故、ホログラム素子の第2方向に沿った変形が抑制されるので、ホログラム素子の第2方向での回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
本発明を適用した偏向装置を備えた表示装置の一態様は、前記板厚方向の他方側から前記湾曲部に向けて前記第1方向の一方側から画像光を投射する画像光投射装置を有していることを特徴とする。
本発明に係る表示装置において、前記支持基板を保持し、前記ホログラム素子を観察者の眼前に配置するように観察者の頭部に装着されるフレームを有し、前記ホルダー部は、前記フレームの一部である態様を採用することができる。
本発明において、前記第1方向は、左右方向であり、前記板厚方向は、前後方向である態様を採用することができる。本発明において、前記第1方向は、上下方向であり、前記板厚方向は、前後方向である態様を採用してもよい。
本発明を適用した偏向装置の製造方法の一態様は、前記ホログラム素子を形成するためのホログラム材料層を前記支持基板に形成した後、前記支持基板を前記ホルダー部に固定し、この状態で前記ホログラム材料層に対して物体光および参照光を照射する干渉露光工程を行うことを特徴とする。かかる態様であれば、干渉露光工程等において、支持基板に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板の変形がホルダー部によって抑制される。それ故、ホログラム素子の変形が抑制されるので、ホログラム素子の回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
本発明の実施形態1に係る表示装置の外観の一態様を示す説明図である。 図1に示す表示装置の光学系の一態様を示す説明図である。 本発明の実施形態1に係る偏向装置の斜視図である。 図3に示す偏向装置の横断面図である。 図3に示す偏向装置に用いたホログラム素子の説明図である。 球面波対応のホログラム素子の説明図である。 本発明の実施形態2に係る偏向装置の横断面図である。 本発明の実施形態3に係る偏向装置の横断面図である。 本発明の実施形態4に係る偏向装置の横断面図である。 本発明の実施形態5に係る偏向装置の横断面図である。 本発明の実施形態6に係る偏向装置の横断面図である。 本発明の実施形態7に係る偏向装置の正面図である。 本発明の実施形態8に係る偏向装置の斜視図である。 図13に示す偏向装置の縦断面図である。 本発明の実施形態9に係る表示装置の外観の一態様を示す説明図である。 本発明の実施形態10に係る表示装置の外観の一態様を示す説明図である。 図16に示す表示装置に用いた偏向装置の縦断面図である。 参考例に係る表示装置に用いた偏向装置の横断面図である。 参考例における問題を示す説明図である。
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、左右方向(横方向)にXを付し、上下方向にYを付し、前後方向にZを付して説明する。
[実施の形態1]
(表示装置の構成)
図1は、本発明の実施形態1に係る表示装置100の外観の一態様を示す説明図である。図1において、本実施形態の表示装置100は、頭部装着型の表示装置として構成されている。表示装置100は、右眼用画像光投射装置50aと、右眼用画像光投射装置50aから投射された画像光を偏向して観察者の右眼Eaに入射させる右眼用ホログラム素子30aと、左眼用画像光投射装置50bと、左眼用画像光投射装置50bから投射された画像光を偏向して観察者Mの左眼Ebに入射させる左眼用ホログラム素子30bとを有している。
表示装置100は、例えば、眼鏡のような形状に形成されている。具体的には、表示装置100は、右眼用画像光投射装置50a、右眼用ホログラム素子30a、左眼用画像光投射装置50b、および左眼用ホログラム素子30bを保持するフレーム60を有しており、フレーム60は観察者の頭部に装着される。フレーム60は、右眼用ホログラム素子30aを支持する右眼用ホルダー部61aと、および左眼用ホログラム素子30bを支持する左眼用ホルダー部61bとを有している。また、フレーム60は、観察者の右耳にかけられる右側のテンプル62aと、観察者の左耳にかけられる左側のテンプル62bとを有しており、テンプル62a、62bの各々に右眼用画像光投射装置50aおよび左眼用画像光投射装置50bが設けられる。フレーム60によって表示装置100を頭部に装着した際、右眼用ホログラム素子30aは右眼Eaの前に位置し、左眼用ホログラム素子30bは左眼Ebの前に位置する。
(左眼用光学系1bの構成)
図2は、図1に示す表示装置100の光学系の一態様を示す説明図である。図1に示す表示装置100において、右眼用画像光投射装置50aから右眼Eaに到る右眼用光学系1aと、左眼用画像光投射装置50bから左眼Ebに到る左眼用光学系1bは基本的な構成が同一である。このため、図2には、左眼用光学系1bのみを示し、右眼用光学系1aの説明を省略する。また、図2では、画像光の中央と両端の画角の光線を記載している。また、補正用回折素子31以降の光線は、図の簡略化の為に各画角の中心光線のみを記載し、他の光線を省略してある。
図2に示すように、左眼用光学系1bにおいて、左眼用画像光投射装置50bは、画像光L0を出射する画像光生成装置51bと、画像光生成装置51bから出射された画像光L0を投射する投射光学系52bとを有している。また、左眼用画像光投射装置50bは、補正用回折素子53b、および補正系光学部54bを備えている。画像光生成装置51bで生成された画像は、投射光学系52b、補正用回折素子53b、および補正系光学部54bを介して左眼用ホログラム素子30bに出射され、左眼用ホログラム素子30bによって、観察者の眼Ebに向けて偏向される。
画像光生成装置51bは、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示パネルを備えている。なお、画像光生成装置51bは、表示パネルとして、光源(図示せず)から出射された光源光を変調する液晶パネルを備えている態様であってもよい。投射光学系52bは、レンズ、ミラー等の光学素子によって構成される。投射光学系52bは、画像光の放射角度を制御する機能を有し、画像光生成装置51bは各位置から出射された画像光を各位置に対応する角度を有する平行状態の光束に調整する。補正用回折素子53bは、左眼用ホログラム素子30bと基本的な構成が同一であり、本形態では、凹曲面を備えた反射型体積ホログラフィック素子によって構成されている。補正用回折素子53bは、左眼用ホログラム素子30bでの回折角度に対する波長依存性を補正する。補正系光学部54bは、レンズ、ミラー等の光学素子によって構成される。補正系光学部54bは、画像光L0の歪み等の収差を補正する機能を有しており、補正用回折素子53bで偏向された画像光L0を左眼用ホログラム素子30bに効率的に導くことができる。
画像光生成装置51bとしては、例えば、光源部と、光源部から出射された光束を走査する走査光学系と、導光系とを有する態様等を採用してもよい。この場合、光源部に用いたレーザー素子は、表示すべき画像の各ドットに対応する光強度に変調した光束を出射し、走査光学系は、光源部から出射された変調光を2次元的に走査して画像を生成する。
左眼用ホログラム素子30bは、反射型体積ホログラフィック素子であり、部分透過性のコンバイナーを構成している。このため、外光も左眼用ホログラム素子30bを介して左眼Ebに入射するため、利用者は、表示装置100で形成した画像光L0aと外光(背景)とが重畳した画像を認識することができる。ここで、左眼用ホログラム素子30bは、観察者の左眼Ebの側とは反対側に凸曲面を向けるように湾曲しており、左眼用画像光投射装置50bは、左眼用ホログラム素子30bの凹曲面になっている側から画像光L0を投射する。
このように構成した表示装置100において、左眼用ホログラム素子30bは、左眼用ホルダー部61b、および左眼用ホルダー部61bに支持された左眼用支持基板20bとともに、左眼用偏向装置10bを構成しており、左眼用ホログラム素子30bは、左眼用支持基板20bの板厚方向の一方面に積層されている。
(偏向装置10の構成)
上述した左眼用偏向装置10bは、右眼用偏向装置10aと左右対称に構成されており、基本的な構成は同一である。従って、以下の説明では、左眼用偏向装置10b、左眼用ホルダー部61b、左眼用偏向装置10b、左眼用支持基板20b、および左眼用ホログラム素子30bについては、左眼用および右眼用にかかわらず、偏向装置10、ホルダー部61、支持基板20、およびホログラム素子30として説明する。また、以下の説明では、第1方向にX1を付し、第2方向にY1を付し、支持基板20の板厚方向にZ1を付して説明する。また、第1方向X1の一方側にX1aを付し、他方側にX1bを付し、第2方向Y1の一方側にY1aを付し、第2方向Y1の他方側にY1bを付し、板厚方向Z1の一方側にZ1aを付し、板厚方向Z1の他方側にZ1bを付して説明する。本実施形態において、第1方向X1は図1におけるX方向(左右方向、横方向)に相当し、第2方向Y1は図1におけるY方向(上下方向)に相当し、第3方向Z1は図1におけるZ方向(前後方向)に相当する。第3方向Z1において、一方側Z1aは観察者の眼とは反対側に相当し、他方側Z1bは観察者の眼の側に位置する。
図3は、本発明の実施形態1に係る偏向装置10の斜視図である、図4は、図3に示す偏向装置10の横断面図である。図3および図4に示すように、本実施形態の偏向装置10は、透光性の支持基板20と、支持基板20に積層されたホログラム素子30と、支持基板20を支持するホルダー部61とを有している。
支持基板20は、板厚方向Z2に交差する第1方向X1に沿って湾曲して板厚方向Z1の一方側Z1aに凸曲面210を向けた湾曲部21を有している。ホログラム素子30は、湾曲部21の板厚方向Z1の一方側Z1aの面(一方面211)、または他方側Z1b(他方面212)に積層されており、板厚方向Z1の他方側Z1bから湾曲部21に向けて入射した光Lを第1方向X1で偏向して出射する。本実施形態において、ホログラム素子30は、凸曲面210からなる一方面211に積層されている。従って、ホログラム素子30は、板厚方向Z1の一方側Z1aに凸曲面を向けるように湾曲している。
本実施形態において、湾曲部21は、板厚方向Z1および第1方向X1と交差する第2方向Y1に沿っても湾曲している。また、ホログラム素子30は、板厚方向Z1の他方側Z1bから湾曲部21に向けて入射した光Lを第2方向Y1でも偏向して出射する。
ここで、支持基板20およびホログラム素子30は、第1方向X1の寸法が第2方向Y1の寸法より大である。また、ホログラム素子30は、第1方向X1における偏向角度範囲(回折角度範囲)が第2方向Y1における偏向角度範囲(回折角度範囲)より広い。従って、ホログラム素子30では、第2方向Y1に沿う方向より第1方向X1に沿う方向で変形が発生しやすく、かかる変形が発生した場合の偏向方向(回折方向)への影響が第2方向Y1より第1方向X1で大きい。従って、かかる構成に対応して、本実施形態では、ホルダー部61は、以下のように構成されている。
まず、ホルダー部61は、支持基板20の第1方向X1の一方側X1aの部分を支持する第1固定部611と、支持基板20の第1方向X1の他方側X1bの部分を支持する第2固定部612とを有している。また、ホルダー部61は、第1固定部611および第2固定部612の第2方向Y1の一方側Y1aの端部同士を連結する第1連結部613と、第1固定部611および第2固定部612の第2方向Y1の他方側Y1bの端部同士を連結する第2連結部614とを有している。従って、ホルダー部61は、第1固定部611、第2固定部612、第1連結部613、および第2連結部614によって囲まれた開口部610を有している。
第1固定部611は、支持基板20の湾曲部21における第1方向X1の一方側X1aの部分である第1被支持部216に板厚方向Z1の他方側Z1bから重なって第1被支持部216が接着等の方法で固定されている。第2固定部612は、湾曲部21における第1方向X1の他方側X1bの部分である第2被支持部217に板厚方向Z1の他方側Z1bから重なって第2被支持部217が接着等の方法で固定されている。従って、支持基板20は、第1被支持部216と第2被支持部217との間(第1固定部611と第2固定部612との間)が連続して湾曲し、屈曲部が存在しない。
本実施形態において、支持基板20は、第1方向X1の全体が湾曲部21である。このため、第1被支持部216は、湾曲部21の第1方向X1の一方側X1aの端部からなり、第2被支持部217は、湾曲部21の第1方向X1の他方側X1bの端部からなる。また、第1被支持部216および第2被支持部217は、全体が湾曲部21の一部であるため、全体が湾曲した形状、あるいは斜めに傾いた形状になっている。従って、第1固定部611および第2固定部612も、第1被支持部216および第2被支持部217と同様、全体が湾曲した形状、あるいは斜めに傾いた形状になっている。
第1連結部613は、支持基板20に対して第2方向Y1の一方側Y1aで離間する位置で第1方向X1に延在し、第2連結部614は、支持基板20に対して第2方向Y1の他方側Y1bで離間する位置で第1方向X1に延在している。第1連結部613、および第2連結部614は、第1方向X1で直線的に延在している構造であってもよいが、本実施形態において、第1連結部613、および第2連結部614は、支持基板20の湾曲部21に沿うように第1方向X1に沿って湾曲している。
支持基板20は、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリアミド樹脂(PA)等のプラスチックであり、厚さが500μmから5000μmである。ホルダー部61は、チタン、ステンレス、アルミニウム等の金属や、シリカ等のフィラーが充填されたプラスチックからなる。このため、支持基板20とホルダー部61とは熱膨張係数が異なる。また、支持基板20とホルダー部61とは弾性率も異なる。例えば、支持基板20の熱膨張係数は、60ppm/℃から80ppm/℃であるのに対して、ホルダー部61の熱膨張係数は、30ppm/℃以下であり、ホルダー部61の熱膨張係数は、支持基板20の熱膨張係数より小さい。また、支持基板20の弾性率は、350kg/mm以下であるのに対して、ホルダー部61の弾性率は、1000kg/mm以上であり、ホルダー部61の弾性率は、支持基板20の弾性率より大きい。
ホログラム素子30は、アクリル系ポリマー等の感光性モノマーがウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース樹脂等のバインダー樹脂に分散したホログラム材料を支持基板20に塗布した後、干渉露光した層であり、干渉露光によって、図18に示す干渉縞39が、屈折率の変化、透過率の変化、凹凸パターン等の形状変化として記録されている。従って、湾曲部21に向けて入射した光を、第1方向X1および第2方向Y1において干渉縞の延在方向やピッチ等に対応する角度方向に向けて回折して偏向し、出射する。ここで、ホログラム素子30は、厚さが5μmから25μmであり、弾性率は350kg/mm以下である。また、ホログラム素子30の弾性率は、支持基板20の弾性率よりも低い。従って、ホログラム素子30は、支持基板20が変形した際、支持基板20の変形に追従して変形する。
しかるに本実施形態では、図3および図4を参照して説明したように、ホルダー部61の第1固定部611および第2固定部612は各々、支持基板20の湾曲部21において第1方向Z1で離間する第1被支持部216および第2被支持部217に板厚方向Z1で重なって第1被支持部216および第2被支持部217と固定されている。このため、支持基板20では、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間(支持基板20の第1被支持部216と第2被支持部217との間)に屈曲部が存在しない。従って、環境温度の変化によって支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向X1に沿った変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30の第1方向X1に沿った変形が抑制されるので、ホログラム素子30の第1方向X1における回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
特に本実施形態において、ホルダー部61は、支持基板20より熱膨張係数が小さい。このため、環境温度が変化して支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の変形がホルダー部61によって効率的に抑制される。
また、ホルダー部61は、支持基板20より弾性率が大きい。このため、環境温度が変化して支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の変形がホルダー部61によって効率的に抑制される。
(偏向装置10の製造方法)
図5は、図3に示す偏向装置10に用いたホログラム素子30の説明図である。図6は、球面波対応のホログラム素子30の説明図である。
本実施形態では、偏向装置10を製造する際、図3および図4に示すように、ホログラム素子30を形成するためのホログラム材料層35を支持基板20に積層した後、支持基板20をホルダー部61に固定し、この状態でホログラム材料層35に対して干渉露光工程を行い、その後、加熱する。その結果、感光性モノマーが干渉縞39を形成した状態で固化し、この状態がバインダー樹脂によって固定される。
干渉露光工程では、図5に示すように、参照光Lrおよび物体光Lsを用いてホログラム材料層35に干渉露光を行うことにより、図18に示す干渉縞39を形成することができる。その際、物体光Lsが平面波であれば、複数の干渉縞が直線的に並列した状態に形成される。本実施形態では、ホログラム素子30には、赤色光(R)、緑色光(G)、および青色光(B)が入射し、これらの色光を所定の方向に回折して出射する。従って、ホログラム素子30では、赤色光(R)の波長に対応するピッチを有する第1干渉縞39(R)、緑色光(G)の波長に対応するピッチを有する第2干渉縞39(G)、青色光(B)の波長に対応するピッチを有する第3干渉縞39(B)が厚さ方向に積層されている。ここで、赤色光(R)の波長に対応するピッチは、緑色光(G)の波長に対応するピッチ、および青色光(B)の波長に対応するピッチより長く、緑色光(G)の波長に対応するピッチは、青色光(B)の波長に対応するピッチより長い。かかる干渉縞39(第1干渉縞39(R)、第2干渉縞39(G)および第3干渉縞39(B))は各々、屈折率の変化、透過率の変化、凹凸パターン等の形状変化として各ホログラムホログラム材料層35に記録されている。ここで、干渉縞39は、ホログラム素子30の入射面に対して一方方向に傾いている。従って、例えば、法線方向から単一波長の球面波からなる光線L1が入射したときに、1つの方向に回折効率が最も高い球面波からなる回折光L2を出射する。
図5には、第1干渉縞39(R)、第2干渉縞39(G)、および第3干渉縞39(B)の存在が分かりやすいよう、第1干渉縞39(R)、第2干渉縞39(G)、および第3干渉縞39(B)が異なる層に形成される場合を示してあるが、1つの層に複数種類の干渉縞が形成される場合があり、この場合、1つの層に対して複数の色光に対応した光で同時に干渉露光を行う。
また、ホログラム素子30に入射する光が球面波である場合、干渉露光時に、例えば物体光Lsとして球面波を用いる。その結果、図6に模式的に示すように、湾曲した複数の干渉縞が並列した状態に形成される。従って、例えば、法線方向から単一波長の球面波からなる光線L1が入射したときに、1つの方向に回折効率が最も高い球面波からなる回折光L2を出射する。
かかる製造方法によれば、干渉露光工程等を行った際、ホログラム材料層35の膨張、あるいはホログラム材料層35の収縮が発生し、支持基板20が反ろうとする。ここで、支持基板20が反ると、図18を参照して説明したように、干渉縞39が、点線で示す状態から実線で示すようにずれてしまう。しかるに本実施形態では、ホルダー部61の第1固定部611および第2固定部612は各々、支持基板20の湾曲部21において第1方向Z1で離間する第1被支持部216および第2被支持部217に板厚方向Z1で重なって第1被支持部216および第2被支持部217と固定されている。このため、支持基板20では、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間(支持基板20の第1被支持部216と第2被支持部217との間)に屈曲部が存在しない。従って、ホログラム材料層35に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向X1に沿った変形がホルダー部61によって抑制されているため、ホログラム材料層35に膨張や収縮が発生しにくい。それ故、ホログラム素子30の干渉縞39が第1方向X1に沿って変形しにくいので、第1方向X1に沿う方向で回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
特に本実施形態において、ホルダー部61は、支持基板20より弾性率が大きい。このため、支持基板20の第1方向X1に沿った変形がホルダー部61によって効率的に抑制されるため、ホログラム素子30の干渉縞39が第1方向X1に沿って変形しにくいので、第1方向X1に沿う方向で回折角度が変化する等の事態が発生しにくい。
[実施形態2]
図7は、本発明の実施形態2に係る偏向装置10の横断面図である。本実施形態および後述する実施形態の基本的な構成は、実施形態1と同様であるので、対応する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
実施形態1では、ホルダー部61の第1固定部611および第2固定部612が支持基板20の湾曲部21の他方面211のみを支持していた。これに対して、本実施形態では、図7に示すように、第1固定部611は、支持基板20の第1方向X1の一方側X1aの側面である第1側面26に重なるように屈曲して第1側面26が接着等の方法で固定されている。また、第2固定部612は、支持基板20の第1方向X1の他方側X1bの側面である第2側面27に重なるように屈曲して第2側面27が接着剤等の方法で固定されている。その他の構成は実施形態1と同様である。
このような態様によれば、支持基板20の第1方向X1の両側面(第1側面26および第2側面27)がホルダー部61によって固定されている。このため、支持基板20の第1方向X1における膨張、収縮等の変形がホルダー部61によって効果的に抑制することができる。それ故、ホログラム素子30の第1方向X1に沿った変形をより効果的に抑制することができる。
[実施形態3]
図8は、本発明の実施形態3に係る偏向装置10の横断面図である。実施形態1、2では、支持基板20の第1方向X1の全体が湾曲部21であった。これに対して、本実施形態では、図8に示すように、支持基板20は、湾曲部21に対して第1屈曲部281を介して第1方向X1の一方側X1aで連接する第1平板部291を有している。また、支持基板20は、湾曲部21に対して第2屈曲部282を介して第1方向X1の他方側X1bで連接する第2平板部292を備えている。
かかる構成に対応して、ホルダー部61の第1固定部611は、支持基板20の第1屈曲部281に対応する位置で屈曲し、湾曲部21の端部である第1被支持部216および第1平板部291に厚さ方向Z1で重なって第1被支持部216および第1平板部291と固定されている。また、ホルダー部61の第2固定部612は、支持基板20の第2屈曲部282に対応する位置で屈曲し、湾曲部21の端部である第2被支持部217および第2平板部292に厚さ方向Z1で重なって第2被支持部217および第2平板部292と固定されている。その他の構成は実施形態1と同様である。
このような態様によれば、第1固定部611と支持基板20の第1平板部291との重なり部分では、接着に加えて、ネジ止めを行うのが容易である。また、第2固定部612と支持基板20の第2平板部292との重なり部分では、接着に加えて、ネジ止めを行うのが容易である。また、本実施形態では、支持基板20に第1平板部291および第2平板部292を設けた場合でも、支持基板20では、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間(支持基板20の第1被支持部216と第2被支持部217との間)に屈曲部が存在しない。従って、支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向X1に沿った変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30の第1方向X1に沿った変形が抑制される等、実施形態1と同様な効果を奏する。
[実施形態4]
図9は、本発明の実施形態4に係る偏向装置10の横断面図である。実施形態3では、ホルダー部61の第1固定部611および第2固定部612が支持基板20の板厚方向Z1の他方側Z1bの面のみを支持していた。これに対して、本実施形態では、図9に示すように、第1固定部611は、支持基板20の第1方向X1の一方側X1aの側面である第1側面26に重なるように屈曲して第1側面26が接着等の方法で固定されている。また、第2固定部612は、支持基板20の第1方向X1の他方側X1bの側面である第2側面27に重なるように屈曲して第2側面27が接着剤等の方法で固定されている。その他の構成は実施形態1と同様である。
このような態様によれば、支持基板20の第1方向X1の両側面(第1側面26および第2側面27)がホルダー部61によって固定されている。このため、支持基板20の第1方向X1における膨張、収縮等の変形がホルダー部61によって効果的に抑制することができる。それ故、ホログラム素子30の第1方向X1に沿った変形をより効果的に抑制することができる。
[実施形態5]
図10は、本発明の実施形態5に係る偏向装置10の横断面図である。実施形態1等では、ホログラム素子30に対して支持基板20とは反対側が開放状態にあった。これに対して、本実施形態では、図10に示すように、ホログラム素子30に対して支持基板20とは反対側には、支持基板20の湾曲部21に対して板厚方向Z1で重なる領域に透光性の支持フィルム41が積層されている。支持フィルム41は、ホログラム素子30と同一のサイズを有している。支持フィルム41は、支持基板20と同様、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリアミド樹脂(PA)等のフィルムである。支持フィルム20は、厚さが50μmから3000μmであり、熱膨張係数および弾性率は、支持基板20と同等である。その他の構成は実施形態1と同様である。
このように構成した場合も、実施形態1と同様、支持基板20では、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間(支持基板20の第1被支持部216と第2被支持部217との間)に屈曲部が存在しない。従って、支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30およびカバー基板40の第1方向X1に沿った変形が抑制される等、実施形態1と同様な効果を奏する。なお、本実施形態のカバー基板40を用いた態様は、実施形態1に限らず、実施形態2〜4に適用してもよい。
[実施形態6]
図11は、本発明の実施形態6に係る偏向装置10の横断面図である。本実施形態では、図11に示すように、実施形態5と同様、ホログラム素子30に対して支持基板20とは反対側には、支持基板20の湾曲部21に対して板厚方向Z1で重なる領域に透光異性の支持フィルム41が積層されている。本形態では、さらに、支持フィルム41に対してホログラム素子30とは反対側に支持基板20の湾曲部21に対して板厚方向Z1で重なる領域に透光性のカバー基板42が積層されている。カバー基板42は、ホログラム素子30より大きく、支持基板20においてホログラム素子30が保持されている部分と同一のサイズを有している。カバー基板42は、支持基板20と同様、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリアミド樹脂(PA)等の基板である。カバー基板45は、支持基板20と同様、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリアミド樹脂(PA)等のプラスチック製であり、厚さが500μmから5000μmである。カバー基板45は、熱膨張係数および弾性率は、支持基板20と同等である。その他の構成は実施形態1と同様である。なお、本実施形態のカバー基板45を用いた態様は、実施形態1に限らず、実施形態2〜4に適用してもよい。
[実施形態7]
図12は、本発明の実施形態7に係る偏向装置10の正面図である。実施形態1等では、支持基板20およびホログラム素子30の第2方向Y1の幅が第1方向X1のいずれの位置でも等しかった。これに対して、本実施形態では、図12に示すように、板厚方向Z1からみたとき、支持基板20の湾曲部21、およびホログラム素子30は、第1方向Z1の中央部分における第2方向Y1の幅が、第1方向X1の一方側Z1aの第2方向Y1の幅、および第1方向X1の他方側X1bの第2方向Y1の幅より広い。このため、ホルダー部61の第1連結部613および第2連結部614は、第1方向X1に沿って第2方向Y1に向けて外側に湾曲している。その他の構成は実施形態1と同様である。なお、本実施形態の支持基板20の湾曲部21、およびホログラム素子30の形状に関する態様は、実施形態1に限らず、実施形態2〜7に適用してもよい。
[実施形態8]
図13は、本発明の実施形態8に係る偏向装置10の斜視図である。図14は、図13に示す偏向装置10の縦断面図である。実施形態1〜5等では、支持基板20が第1方向X1の両側のみでホルダー部61に固定されていた。これに対して、本実施形態では、図13および図14に示すように、ホルダー部61では、第1連結部613によって、支持基板20の第2方向Y1の一方側Y1aの端部を保持する第3固定部618が構成されている。さらに、ホルダー部61では、第2連結部614によって、支持基板20の第2方向Y1の他方側Y1bの端部を保持する第4固定部619が構成されている。ここで、支持基板20の湾曲部21は、第1方向X1および第2方向Y1に沿って湾曲し、ホログラム素子30は、湾曲部21に向けて入射した光を第1方向X1および第2方向Y1で偏向する。
このように構成した偏向装置10において、第3固定部618は、支持基板20の湾曲部21の第2方向Y1の一方側Y1aの端部である第3被支持部218に板厚方向Z1で重なって第3被支持部218と固定されている。また、第4固定部619は、支持基板20の湾曲部21の第2方向Y1の他方側Y1bの端部である第4被支持部219に板厚方向Z1で重なって第4被支持部219と固定されている。
また、本形態では、実施形態1と同様、第1固定部611および第2固定部612は各々、支持基板20の湾曲部21の第1被支持部216、および第2被支持部217と固定されている。このため、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間(第1被支持部216と第2被支持部217との間)、およびホルダー部61の第3固定部618と第4固定部619との間(第3被支持部218と第4被支持部219との間)に支持基板20の屈曲部が存在しない。従って、支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向X1および第2方向Y1における変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30およびカバー基板40の第1方向X1および第2方向Y1における変形が抑制されるので、ホログラム素子30の第1方向X1および第2方向Y1における回折角度が変化する等の事態が発生しにくい等の効果を奏する。
[実施形態9]
図15は、本発明の実施形態9に係る表示装置100の外観の一態様を示す説明図である。実施形態1〜7では、右眼用画像光投射装置50a、および左眼用画像光投射装置50bが各々、フレーム60の右側のテンプル62a、および左側のテンプル62bが設けられていた。これに対して、本実施形態では、図15に示すように、右眼用画像光投射装置50a、および左眼用画像光投射装置50bが各々、フレーム60の右眼用ホルダー部61a、および左眼用ホルダー部61bの上側に設けられている。かかる構成においても、支持基板20およびホログラム素子30は、第1方向X1の寸法が第2方向Y1の寸法より大である。
このように構成した表示装置100でも、図3および図4を参照して説明したように、ホルダー部61の第1固定部611は、支持基板20の湾曲部21の第1方向X1の一方側X1aの端部(第1被支持部216)と固定されている。また、ホルダー部61の第2固定部612は、支持基板20の湾曲部21の第1方向X1の他方側X1bの端部(第2被支持部217)と固定されている。従って、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間に支持基板20の屈曲部が存在しない。従って、支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向X1に沿った変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30およびカバー基板40の第1方向X1に沿った変形が抑制されるので、ホログラム素子30の第1方向X1における回折角度が変化する等の事態が発生しにくい等、実施形態1と同様な効果を奏する。その他の構成は実施形態1と同様である。
[実施形態10]
図16は、本発明の実施形態10に係る表示装置100の外観の一態様を示す説明図である。図17は、図16に示す表示装置100に用いた偏向装置10の縦断面図である。実施形態1〜8では、第1方向X1が図1におけるX方向(左右方向)であり、第2方向Y1が図1におけるY方向(上下方向)であり、第3方向Z1が図1におけるZ方向(前後方向)であった。これに対して、本実施形態では、図16および図17に示すように、第1方向Y2が図1におけるY方向(上下方向)であり、第2方向X2が図1におけるX方向(左右方向)であり、板厚方向Z2が図1におけるZ方向(前後方向)である。従って、右眼用画像光投射装置50a、および左眼用画像光投射装置50bは各々、フレーム60の右眼用ホルダー部61a、および左眼用ホルダー部61bの上側に設けられている。かかる構成においては、支持基板20およびホログラム素子30は、第2方向X2の寸法が第1方向Y2の寸法より大である。
このように構成した表示装置100に用いる偏向装置10では、図17に示すように、ホルダー部61の第1連結部613によって、支持基板20の湾曲部21の第1方向Y2の一方側Y2aの端部(第1被支持部216)と固定された第1固定部611が構成されている。また、ホルダー部61の第2連結部614によって、支持基板20の湾曲部21の第1方向Y2の他方側Y1aの端部(第2被支持部217)と固定された第2固定部612が構成されている。
かかる態様によれば、ホルダー部61の第1固定部611と第2固定部612との間に支持基板20の屈曲部が存在しない。従って、支持基板20に膨張や収縮が発生しようとした場合でも、支持基板20の第1方向Y2における変形がホルダー部61によって抑制される。それ故、ホログラム素子30およびカバー基板40の第1方向Y2に沿った変形が抑制されるので、ホログラム素子30の第1方向Y2における回折角度が変化する等の事態が発生しにくい等の同様な効果を奏する。その他の構成は実施形態1と同様である。
[実施形態11]
実施形態9、10に示すように、右眼用画像光投射装置50a、および左眼用画像光投射装置50bが各々、フレーム60の右眼用ホルダー部61a、および左眼用ホルダー部61bの上側に設けられて場合に、実施形態8を参照して説明した態様を採用してもよい。例えば、図15に示す態様において、第1固定部611および第2固定部612が各々、支持基板20の湾曲部21の第1被支持部216、および第2被支持部217に板厚方向Z1で重なって、第1被支持部216、および第2被支持部217と固定されている。さらに、第1連結部613からなる第3固定部、および第2連結部614からなる第4固定部は、支持基板20の湾曲部21の第2方向Y1の両端部にある第3被支持部、および第4被支持部に板厚方向Z1で重なって、第3被支持部、および第4被支持部と固定されている。
[他の実施の形態]
上記実施の形態では、表示装置100が頭部装着型であるため、偏向装置10では、ホログラム素子30が入射した光をX方向およびY方向に偏向したが、他の表示装置に偏向装置10が用いられる場合、ホログラム素子30が、入射した光を一方方向(第1方向)のみに偏向する場合に本発明を適用してもよい。また、上記実施の形態では、表示装置100が頭部装着型であるため、偏向装置10では、ホログラム素子30がX方向およびY方向に沿って湾曲していたが、ホログラム素子30が、X方向およびY方向のうちの一方方向(第1方向)のみに沿って湾曲している場合に本発明を適用してもよい。上記実施の形態では、画像光投射装置が光源部と走査光学系とを備えた構成を例示したが、画像光投射装置が液晶パネルや有機エレクトロルミネッセンス表示パネル等を備えている場合に本発明を適用してもよい。
1a…右眼用光学系、1b…左眼用光学系、10…偏向装置、10a…右眼用偏向装置、10b…左眼用偏向装置、20…支持基板、20b…左眼用支持基板、21…湾曲部、26…第1側面、27…第2側面、30…ホログラム素子、30a…右眼用ホログラム素子、30b…左眼用ホログラム素子、35…ホログラム材料層、39…干渉縞、41…支持フィルム、42…カバー基板、50a…右眼用画像光投射装置、50b…左眼用画像光投射装置、51b…画像光生成装置、52b…投射光学系、60…フレーム、61…ホルダー部、61a…右眼用ホルダー部、61b…左眼用ホルダー部、62a,62b…テンプル、100…表示装置、210…凸曲面、216…第1被支持部、217…第2被支持部、218…第3被支持部、219…第4被支持部、281…第1屈曲部、282…第2屈曲部、291…第1平板部、292…第2平板部、610…開口部、611…第1固定部、612…第2固定部、613…第1連結部、614…第2連結部、618…第3固定部、619…第4固定部、L0…画像光、X1,Y2…第1方向、X2、Y1…第2方向、Z1,Z2…板厚方向、Lr…参照光、Ls…物体光。

Claims (17)

  1. 板厚方向に交差する第1方向に沿って湾曲して前記板厚方向の一方側に凸曲面を向けた湾曲部を有する支持基板と、
    前記湾曲部の前記板厚方向の一方面または他方面に積層され、前記湾曲部に向けて入射した光を偏向して出射するホログラム素子と、
    前記支持基板を支持するホルダー部と、
    を有し、
    前記ホルダー部は、前記湾曲部における前記第1方向の一方側の部分である第1被支持部に前記板厚方向で重なって前記第1被支持部と固定された第1固定部と、前記湾曲部における前記第1方向の他方側の部分である第2被支持部に前記板厚方向で重なって前記第2被支持部と固定された第2固定部と、を有し
    前記支持基板は、前記湾曲部に対して第1屈曲部を介して前記第1方向の一方側で連接する第1平板部を備え、
    前記第1固定部は、前記第1被支持部および前記第1平板部に前記厚さ方向で重なって前記第1被支持部および前記第1平板部と固定されていることを特徴とする偏向装置。
  2. 請求項1に記載の偏向装置において、
    前記ホルダー部は、前記支持基板より熱膨張係数が小さいことを特徴とする偏向装置。
  3. 請求項1または2に記載の偏向装置において、
    前記ホルダー部は、前記支持基板より弾性率が大きいことを特徴とする偏向装置。
  4. 請求項1から3までの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記第1固定部は、前記支持基板の前記第1方向の一方側の側面である第1側面に重なるように屈曲して前記第1側面と固定され、
    前記第2固定部は、前記支持基板の前記第1方向の他方側の側面である第2側面に重なるように屈曲して前記第2側面と固定されていることを特徴とする偏向装置。
  5. 請求項1から4までの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記支持基板は、前記第1方向の全体が前記湾曲部になっていることを特徴とする偏向装置。
  6. 請求項1から5までの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記支持基板は、前記湾曲部に対して第2屈曲部を介して前記第1方向の他方側で連接する第2平板部を備え、
    前記第2固定部は、前記第2被支持部および前記第2平板部に前記厚さ方向で重なって前記第2被支持部および前記第2平板部と固定されていることを特徴とする偏向装置。
  7. 請求項1からまでの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記板厚方向からみたとき、前記湾曲部は、前記第1方向の中央部分における前記第1方向と交差する第2方向の幅が、前記第1方向の一方側の前記第2方向の幅、および前記第1方向の他方側の前記第2方向の幅より広いことを特徴とする偏向装置。
  8. 請求項1からまでの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記ホログラム素子の前記支持基板とは反対側の面には、前記板厚方向において前記湾曲部と重なる領域に支持フィルムが積層されていることを特徴とする偏向装置。
  9. 請求項に記載の偏向装置において、
    前記支持フィルムの前記ホログラム素子とは反対側の面には、前記板厚方向において前記湾曲部と重なる領域にカバー基板が積層されていることを特徴とする偏向装置。
  10. 請求項1からまでの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記湾曲部は、前記第1方向と交差する第2方向に沿って湾曲していることを特徴とする偏向装置。
  11. 請求項10に記載の偏向装置において、
    前記ホログラム素子は、前記湾曲部に向けて入射した光を前記第1方向および前記第2方向で偏向することを特徴とする偏向装置。
  12. 請求項1からまでの何れか一項に記載の偏向装置において、
    前記湾曲部は、前記第1方向と交差する第2方向に沿って湾曲し、
    前記ホログラム素子は、前記湾曲部に向けて入射した光を前記第1方向および前記第2方向で偏向し、
    前記ホルダー部は、前記支持基板の前記第1方向および前記板厚方向と交差する第2方向の一方側の端部を保持する第3固定部と、前記支持基板の前記第2方向の他方側の端部を保持する第4固定部と、を備え、
    前記第3固定部は、前記湾曲部における前記第2方向の一方側の部分である第3被支持部に前記板厚方向で重なって前記第3被支持部と固定され、
    前記第4固定部は、前記湾曲部における前記第2方向の一方側の部分である第4被支持部に前記板厚方向で重なって前記第4被支持部と固定されていることを特徴とする偏向装置。
  13. 請求項1から12までの何れか一項に記載の偏向装置を備えた表示装置であって、
    前記板厚方向の他方側から前記湾曲部に向けて前記第1方向の一方側から画像光を投射する画像光投射装置を有していることを特徴とする表示装置。
  14. 請求項13に記載の偏向装置を備えた表示装置であって、
    前記支持基板を保持し、前記ホログラム素子を観察者の眼前に配置するように観察者の頭部に装着されるフレームを有し、
    前記ホルダー部は、前記フレームの一部であることを特徴とする表示装置。
  15. 請求項14に記載の表示装置において、
    前記第1方向は、左右方向であり、
    前記板厚方向は、前後方向であることを特徴とする表示装置。
  16. 請求項14に記載の表示装置において、
    前記第1方向は、上下方向であり、
    前記板厚方向は、前後方向であることを特徴とする表示装置。
  17. 板厚方向に交差する第1方向に沿って湾曲して前記板厚方向の一方側に凸曲面を向けた湾曲部を有する支持基板と、前記湾曲部の前記板厚方向の一方面または他方面に積層され、前記湾曲部に向けて入射した光を偏向して出射するホログラム素子と、前記支持基板を支持するホルダー部と、を有し、前記ホルダー部は、前記湾曲部における前記第1方向の一方側の部分である第1被支持部に前記板厚方向で重なって前記第1被支持部と固定された第1固定部と、前記湾曲部における前記第1方向の他方側の部分である第2被支持部に前記板厚方向で重なって前記第2被支持部と固定された第2固定部と、を有している偏向装置の製造方法であって、
    前記ホログラム素子を形成するためのホログラム材料層を前記支持基板に形成した後、前記支持基板を前記ホルダー部に固定し、
    この状態で前記ホログラム材料層に対して物体光および参照光を照射する干渉露光工程を行うことを特徴とする偏向装置の製造方法。
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