JP6955481B2 - フレキシブル回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
実施形態1においては、絶縁フィルム上に配線が形成された配線形成フィルム(FPCに該当)を準備する工程(準備工程)と、絶縁性の保護フィルムの一方の面に接着剤が形成されているカバーシートを、前記接着剤を前記配線に向かい合わせて前記配線形成フィルムに載せて貼り合わせる工程(貼り合わせ工程)と、前記保護フィルムの一部を除去して前記接着剤の一部を露出させる工程(接着剤露出工程)と、露出した前記接着剤の前記一部のうち上部を除去して前記配線の上面を露出させる工程(配線露出工程)によってフレキシブル回路基板を製造する。
本発明に用いられるカバーシートはポリイミド樹脂を使用することがFPCの耐熱性、寸法安定性、屈曲耐性の点では好ましく、さらには特定の物性を有するポリイミドフィルムを使用することが望ましい。
ポリイミドフィルムを得るに際しては、まず、芳香族ジアミン成分及び芳香族酸無水物成分を有機溶媒中で重合させることにより、ポリアミック酸溶液(以下、ポリアミド酸溶液ともいう)を得る。
熱収縮率(%)=−{(L2−L1)/L1}×100
実施例1では、カバーシートとして、保護フィルムが厚さ12.5μmのカプトン50ENであって、その上にエポキシ系の接着剤20μmが形成された(株)ウノン技研製のカバーシートを用いた。このカバーシートを、片面に回路が形成された回路形成基板に、150℃、3MPa、30分の貼り合わせ条件にて貼り付けた。
実施例2では、実施例1と同じ試験片を用いて、接着剤のエッチング液として過マンガン酸ナトリウムと水酸化ナトリウムとの少なくとも一方が含有されている溶液を用いて接着剤をエッチングした。すなわち、本実施例ではエッチング液に含まれる過マンガン酸塩は、実施例1とは異なり、過マンガン酸ナトリウムである。
実施例3では、2種類のカバーシートを使用してエッチングを行った。
実施例4では、2種類のカバーシートを使用してエッチングを行った。
実施形態2に係るフレキシブル回路基板は、図4に示すフレキシブル回路基板の、保護フィルム12に形成された開口部及び配線露出工程において一部の接着剤15が除去された部分に、図5に示すように、導電部材からなる導電層50が形成されている。導電層50は配線33の上面39の上に載せられていて、接着剤露出工程及び配線露出工程において形成された窪み全体を満たすように形成されている。導電層50は、導電性ペーストの塗布や、めっきなどによって形成することができる。なお、図4に示す実施形態1に係るフレキシブル回路基板の接着剤層15及び配線30の一部に導電層50以外の部材を載置した後に、それらを覆うように導電層50を形成しても構わない。
実施形態3に係るフレキシブル回路基板は、図4に示すフレキシブル回路基板の、保護フィルム12に形成された開口部及び配線露出工程において一部の接着剤15が除去された部分に、図6に示すように、導電部材からなる導電層52が形成されており、この導電層52はめっき層である。導電層52は配線34の上面39の上に載せられていて、接着剤露出工程及び配線露出工程において形成された窪みの底面全体及び側面を被覆するように形成されている。めっき層である導電層52を形成するめっき方法は特に限定されない。なお、図4に示す実施形態1に係るフレキシブル回路基板の接着剤層15及び配線30の一部に導電層52以外の部材を載置した後に、それらを被覆するように導電層52を形成しても構わない。
上述の実施形態は本願発明の例示であって、本願発明はこれらの例に限定されず、これらの例に周知技術や慣用技術、公知技術を組み合わせたり、一部置き換えたりしてもよい。また当業者であれば容易に思いつく改変発明も本願発明に含まれる。
12 保護フィルム
14、15 接着剤
20 配線形成フィルム
22 絶縁フィルム
30,30a 配線
31 配線
32,32a 配線
33 配線
34 配線
39 上面
50,52 導電層
Claims (10)
- 絶縁フィルムと、前記絶縁フィルム上に形成された配線と、前記絶縁フィルム及び前記配線の一部の上に配置された絶縁性の保護フィルムとを備え、
前記保護フィルムは、前記絶縁フィルム及び前記配線に接着剤を介して貼り合わせられており、
前記配線のうち、前記保護フィルムが上に配置されていない部分は、上面が露出しているとともに側方あるいは周囲に前記接着剤が付着しており、
前記絶縁フィルムのうち、前記保護フィルムが上に配置されていない部分には、前記配線が形成されていない部分が存在するとともに当該配線が形成されていない部分の上に前記接着剤が設けられている、フレキシブル回路基板。 - 前記保護フィルムはポリイミド樹脂及びポリエステル樹脂のいずれか一つからなる、請求項1に記載されているフレキシブル回路基板。
- 絶縁フィルムと、前記絶縁フィルム上に形成された配線と、前記絶縁フィルム及び前記配線の一部の上に配置された絶縁性の保護フィルムとを備え、
前記保護フィルムは、前記絶縁フィルム及び前記配線に接着剤を介して貼り合わせられており、
前記保護フィルムが上に配置されていない部分においては、前記配線の側方あるいは周囲に前記接着剤が付着しており、前記配線が形成されていない前記絶縁フィルム上に前記接着剤が設けられているとともに、前記接着剤の表面及び前記配線の上面には導電性部材からなる導電層が載せられている、フレキシブル回路基板。 - 前記導電層はめっき層である、請求項3に記載されているフレキシブル回路基板。
- 絶縁フィルム上に配線が形成された配線形成フィルムを準備する工程と、
絶縁性の保護フィルムの一方の面に接着剤が形成されているカバーシートを、前記接着剤を前記配線に向かい合わせて前記配線形成フィルムに載せて貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記保護フィルムの一部を除去して前記接着剤の一部を露出させる接着剤露出工程と、
露出した前記接着剤の前記一部のうち上部を除去して前記配線の上面を露出させるとともに、前記配線の側方には前記接着剤を残存させる配線露出工程と
を含む、フレキシブル回路基板の製造方法。 - 前記保護フィルムはポリイミド樹脂及びポリエステル樹脂のいずれか一つからなり、前記接着剤露出工程はエッチングにより行われる、請求項5に記載されているフレキシブル回路基板の製造方法。
- 前記配線露出工程は、過マンガン酸塩を含む溶液を用いたエッチングにより行われる、請求項5又は6に記載されているフレキシブル回路基板の製造方法。
- 前記配線露出工程において用いられる前記溶液は、さらに水酸化ナトリウムを含んでいる、請求項7に記載されているフレキシブル回路基板の製造方法。
- 前記配線露出工程において用いられる前記溶液は、
過マンガン酸カリウムの濃度が2質量%以上18.15質量%以下かつ水酸化ナトリウムの濃度が20質量%以下、
又は、過マンガン酸カリウムの濃度が1質量%以上2質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が0.05質量%以上20質量%以下、
又は、過マンガン酸カリウムの濃度が0.5質量%以上1質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が0.05質量%以上18質量%未満、
又は、過マンガン酸カリウムの濃度が0.1質量%以上0.5質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が1.5質量%以上18質量%未満、
又は、過マンガン酸カリウムの濃度が0.05質量%以上0.1質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が1.5質量%以上5質量%未満、
のいずれかである、請求項7又は8に記載されているフレキシブル回路基板の製造方法。 - 前記配線露出工程において用いられる前記溶液は、
過マンガン酸ナトリウムの濃度が2質量%以上20質量%以下かつ水酸化ナトリウムの濃度が20質量%以下、
又は、過マンガン酸ナトリウムの濃度が1質量%以上2質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が0.05質量%以上20質量%以下、
又は、過マンガン酸ナトリウムの濃度が0.5質量%以上1質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が0.05質量%以上18質量%未満、
又は、過マンガン酸ナトリウムの濃度が0.1質量%以上0.5質量%未満かつ水酸化ナトリウムの濃度が1.5質量%以上18質量%未満、
のいずれかである、請求項7又は8に記載されているフレキシブル回路基板の製造方法。
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