JP6953276B2 - 描画装置およびその制御方法 - Google Patents
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Description
本実施形態では、まず、オゾン生成器161が正常に駆動され、オゾン生成器161からの状態信号が実行状態である場合(S10のYES)、電子鏡筒102内にオゾンガスが導入される(S20)。このとき、オゾン生成器161、真空ポンプ162および第1ピエゾバルブ163が駆動され、電子鏡筒102内にオゾンガスが導入される。
制御部110は、電子鏡筒102内の圧力を圧力計166から取得し、電子鏡筒102内のオゾンガスの圧力を調整する(S30)。
窒素ガスの供給停止後、ステップS20へ戻り、制御部110は、オゾンで電子鏡筒102内の圧力を調整する(S20〜S40)。
上記実施形態では、制御部110は、オゾン生成器161からの状態信号、圧力計171からの圧力値、または、流量計172からの流量値を用いてオゾン生成器161の復帰を判断している。これに対し、本変形例1では、制御部110は、オゾンガスバッファ167内の圧力値あるいはオゾンガスバッファ167から供給されるオゾンガスの流量を用いてオゾン生成器161の復帰を判断する。
上記実施形態では、制御部110は、圧力計168で測定された圧力値が所定範囲の閾値を下回ったとき、第2ピエゾバルブ165を空けて窒素ガスを供給する。これに対し、変形例2において、制御部110は、オゾン生成器161からの状態信号、圧力計171からの圧力値、または、流量計172からの流量値を用いて窒素ガスの供給を開始する。
なお、流量、圧力は必ずしも絶対値が測定される必要はなく、相対値、変動値が測定されてもよい。また、必ずしも値を測定する必要はなく、変動が検知されればよい。
Claims (5)
- 処理対象に荷電粒子ビームを照射し、該処理対象に所定のパターンを描画する描画部と、
前記描画部に供給されるクリーニングガスを生成するクリーニングガス生成部と、
前記クリーニングガス生成部と前記描画部との間に設けられ、前記描画部へのガスの供給量を調節する第1バルブと、
前記描画部内の圧力を測定する第1圧力計と、
前記クリーニングガス生成部と前記第1バルブとの間に供給される補償ガスを導入する補償ガス導入部と、
前記補償ガス生成部と前記第1バルブとの間に設けられ、前記補償ガスの供給量を調節する第2バルブと、
前記第1および第2バルブを制御する制御部と、
前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量を計測する流量計または前記クリーニングガス生成部内の圧力を測定する第2圧力計とを備え、
前記制御部は、前記クリーニングガスが所定の流量で前記描画部に供給されるように前記第1バルブを制御し、
前記描画部内の圧力が閾値以下となった場合、前記クリーニングガス生成部が前記クリーニングガスの生成を停止した場合、及び、前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量または前記第2圧力計において前記クリーニングガス生成部内の圧力の低下を検知した場合の少なくともいずれかにおいて、前記制御部は、前記補償ガスを供給して前記描画部内が所定の圧力になるように前記第2バルブを制御する、描画装置。 - 処理対象に荷電粒子ビームを照射し、該処理対象に所定のパターンを描画する描画部と、
前記描画部に供給されるクリーニングガスを生成するクリーニングガス生成部と、
前記クリーニングガス生成部と前記描画部との間に設けられ、前記描画部へのガスの供給量を調節する第1バルブと、
前記描画部内の圧力を測定する第1圧力計と、
前記クリーニングガス生成部と前記第1バルブとの間に供給される補償ガスを導入する補償ガス導入部と、
前記補償ガス生成部と前記第1バルブとの間に設けられ、前記補償ガスの供給量を調節する第2バルブと、
前記第1および第2バルブを制御する制御部と、
前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量変動を検知する流量計または前記クリーニングガス生成部内の圧力を検知する第2圧力計とを備え、
前記制御部は、前記クリーニングガスが所定流量で前記描画部に供給されるように前記第1バルブを制御し、
前記クリーニングガス生成部が前記クリーニングガスの生成を再開した場合、および、前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量または前記クリーニングガス生成部内の圧力が閾値を超えた場合の少なくともいずれかにおいて、前記制御部は、前記補償ガスの供給を停止して前記描画部内が所定圧力になるように前記第2バルブを制御する、描画装置。 - 前記クリーニングガスは、オゾンガスであり、
前記補償ガスは、不活性ガスまたは酸素ガスである、請求項1または請求項2に記載の描画装置。 - 処理対象に荷電粒子ビームを照射し、該処理対象に所定のパターンを描画する描画部と、クリーニングガスを生成するクリーニングガス生成部と、前記クリーニングガス生成部と前記描画部との間に設けられた第1バルブと、前記クリーニングガス生成部と前記第1バルブとの間に供給される補償ガスを導入する補償ガス導入部と、前記補償ガス生成部と前記第1バルブとの間に設けられた第2バルブと、前記第1および第2バルブを制御する制御部とを備える描画装置の制御方法であって、
クリーニングガスが所定流量で前記描画部に供給されるように前記第1バルブを制御し、
前記描画部内の圧力が閾値以下となった場合、前記クリーニングガス生成部が前記クリーニングガスの生成を停止した場合、及び、前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量または前記第2圧力計において前記クリーニングガス生成部内の圧力の低下を検知した場合の少なくともいずれかにおいて、前記補償ガスを供給するように前記第2バルブを制御することを具備する、描画装置の制御方法。 - 処理対象に荷電粒子ビームを照射し、該処理対象に所定のパターンを描画する描画部と、クリーニングガスを生成するクリーニングガス生成部と、前記クリーニングガス生成部と前記描画部との間に設けられた第1バルブと、前記クリーニングガス生成部と前記第1バルブとの間に供給される補償ガスを導入する補償ガス導入部と、前記補償ガス生成部と前記第1バルブとの間に設けられた第2バルブと、前記第1および第2バルブを制御する制御部とを備える描画装置の制御方法であって、
前記クリーニングガスが所定流量で前記描画部に供給されるように前記第1バルブを制御し、
前記クリーニングガス生成部が前記クリーニングガスの生成を再開した場合、および、前記クリーニングガス生成部から供給される前記クリーニングガスの流量または前記クリーニングガス生成部内の圧力が閾値を超えた場合の少なくともいずれかにおいて、前記補償ガスの供給を停止して前記描画部内が所定圧力になるように前記第2バルブを制御する、ことを具備する描画装置の制御方法。
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