JP4359592B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
C 基板の標的部分
C1 液体供給システム制御器
C2 基板テーブル制御器
e1、e2 位置誤差信号
Fc1、Fc2 制御器の出力信号
Fd 外乱力
Fd推定 推定外乱力
Hlp 低域フィルタ
IF 位置センサ
IH 液体供給システム(封止部材)
IL 照明系(照明器)
MA パターン形成装置(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
PL 投影系(レンズ)
PM 第1の位置決め装置
Pr1、Pr2 プロセス
PW 第2の位置決め手段
r1、r2 基準値
W 基板(ウェハ)
WT 基板テーブル(ウェハ・テーブル)
y1 液体供給システムの位置の量
y2 基板テーブルの位置の量
Claims (13)
- リソグラフィ装置に使用するためのシステムであって、
第1の可動要素と、
表面が前記第1の可動要素に接触している第2の可動要素と、
前記第2の可動要素の位置の量を制御するように構成された第2の要素の位置制御器と、
外乱力フィードフォワード信号を前記第2の要素の制御器に供給するように構成されたフィードフォワード制御経路とを含み、
前記フィードフォワード制御経路は、前記第1の可動要素の位置の量から外乱力を推定するように構成された外乱力推定器を有し、
前記第1の可動要素は、前記基板テーブルによって保持された前記基板にビームを伝達するために液体を収容するように配置された少なくとも1つの液体供給システム、前記液体の残留分を前記基板から除去するように配置された液体除去システム、又は前記基板のレベルを測定するように構成されたレベルセンサを含む、システム。 - 前記位置の量が、位置、速度、加速度、ジャーク、又はそれらの任意の組合せを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記接触が直接的な接触又は中間媒体を使用する接触を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記中間媒体が液体又は気体を含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記第2の可動要素は基板を保持するように構成された基板テーブルを含み、前記第2の要素の制御器は前記基板テーブルの位置の量を制御するための基板テーブル制御器を含み、前記第1の可動要素は前記基板テーブルによって保持された前記基板の表面に接触して動作する、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の可動要素の前記位置の量を制御するための第1の要素の制御器を備え、前記外乱力推定器は、前記第1の要素の制御器の信号から前記外乱力を推定するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記外乱力推定器が、前記第1の要素の制御器の制御器入力から前記第2の要素の制御器の制御器出力までの第1の経路と、前記第1の要素の制御器の制御器出力から前記第2の要素の制御器の前記制御器出力までの第2の経路とを含み、
前記第1の経路は伝達関数を含み、前記伝達関数は、前記第1の要素の位置の量を算定するために、第1の要素の位置決めアクチュエータのアクチュエータ入力信号と第1の要素のセンサ出力信号との間の関係式を決定する第1の位置決めプロセス伝達関数の逆数であり、前記第2の経路は単位伝達関数を含む、請求項6に記載のシステム。 - 前記第1及び第2の経路のそれぞれが低域フィルタを含む、請求項7に記載のシステム。
- 前記第1及び第2の経路のそれぞれが時間遅延を含む、請求項7に記載のシステム。
- 前記第1及び第2の経路のそれぞれの前記位置決め量が、位置、速度、加速度、又はジャークを含む、請求項7に記載のシステム。
- デバイス製造方法であって、
a)基板テーブル制御器を使用して基板テーブルの位置の量を制御するステップと、
b)基板の表面に接触する第1の可動要素を前記基板に対して位置決めするステップと、
c)前記第1の要素の位置の量から外乱力を推定するステップと、
d)前記推定された外乱力に基づいて、フィードフォワード制御経路を介して外乱力フィードフォワード信号を前記基板テーブル制御器に供給するステップと、
e)パターンをパターン形成装置から前記基板の上に転写するステップとを含み、
前記第1の可動要素は、前記基板テーブルによって保持された前記基板にビームを伝達するために液体を収容するように配置された少なくとも1つの液体供給システム、前記液体の残留分を前記基板から除去するように配置された液体除去システム、又は前記基板のレベルを測定するように構成されたレベルセンサを含む、方法。 - 基板テーブル制御器を使用して、基板の表面に接触している第1の可動要素に対して、基板テーブルの位置の量を制御する方法を実施するためのコンピュータによって実行可能な機械実行可能命令を含むコンピュータ・プログラムであって、前記コンピュータ・プログラムは、
前記第1の要素の位置の量から外乱力を推定するステップと、
推定された外乱力に基づいて、フィードフォワード制御経路を介して外乱力フィードフォワード信号を前記基板テーブル制御器に供給するステップとを含み、
前記第1の可動要素は、前記基板テーブルによって保持された前記基板にビームを伝達するために液体を収容するように配置された少なくとも1つの液体供給システム、前記液体の残留分を前記基板から除去するように配置された液体除去システム、又は前記基板のレベルを測定するように構成されたレベルセンサを含む、コンピュータ・プログラム。 - リソグラフィ装置であって、
(a)放射のビームを調整するように構成された照明系と、
(b)放射のパターン形成したビームを形成するために放射の前記ビームをパターン形成するように構成されたパターン形成装置を支持するようになっているパターン形成装置支持体と、
(c)基板を保持するように構成された基板支持体と、
(d)放射の前記パターン形成したビームを前記基板上の標的部分の上に投影するように構成された投影系と、
(e)第1の可動要素を、表面が前記第1の可動要素に接触している第2の可動要素に対して位置決めするように構成された位置決めシステムとを具備し、
前記システムは、
(i)前記第2の可動要素の位置の量を制御するように構成された第2の要素の位置制御器と、
(ii)外乱力フィードフォワード信号を前記第2の要素の制御器に供給するように構成されたフィードフォワード制御経路とを含み、前記フィードフォワード制御経路は、前記第1の可動要素の位置の量から外乱力を推定するように構成された外乱力推定器を含み、
前記第1の可動要素は、前記基板テーブルによって保持された前記基板にビームを伝達するために液体を収容するように配置された少なくとも1つの液体供給システム、前記液体の残留分を前記基板から除去するように配置された液体除去システム、又は前記基板のレベルを測定するように構成されたレベルセンサを含む、リソグラフィ装置。
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