JP6933286B1 - 温度制御方法、温度制御装置およびプログラム - Google Patents
温度制御方法、温度制御装置およびプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6933286B1 JP6933286B1 JP2020156596A JP2020156596A JP6933286B1 JP 6933286 B1 JP6933286 B1 JP 6933286B1 JP 2020156596 A JP2020156596 A JP 2020156596A JP 2020156596 A JP2020156596 A JP 2020156596A JP 6933286 B1 JP6933286 B1 JP 6933286B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- change
- detection
- unit
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 56
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 184
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 132
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 87
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 60
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 14
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 241000269800 Percidae Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000003936 working memory Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/20—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature
- G05D23/22—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature the sensing element being a thermocouple
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
Description
上述の開示において、調整部無効化ステップは、行列Aから、少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除するステップを含む。
上述の開示において、調整部無効化手段は、行列Aから、少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除する手段を含む。
まず、本発明が適用される場面の一例について説明する。図1は、本実施の形態に係る加熱システムの構成の一例を模式的に示す図である。図1の加熱システムは、対象(ワーク60)の温度調整するヒータ等の「調整部」の設定温度を制御するためにFB(フィードバック)制御系を採用する。図1に示す加熱システムは、FB(フィードバック)制御系の一例であるPID制御系を含む。本明細書において、「PID制御系」は、比例動作(Proportional Operation:P動作)を行なう比例要素、積分動作(Integral Operation:I動作)を行なう積分要素、および微分動作(Derivative Operation:D動作)を行なう微分要素のうち、少なくとも一つの要素を含む制御系を総称する用語である。すなわち、本明細書において、PID制御系は、比例要素、積分要素および微分要素のいずれをも含む制御系に加えて、一部の制御要素、例えば比例要素および積分要素のみを含む制御系(PI制御系)なども包含する概念である。本実施の形態では、例えば、温度の単位は℃である。
本実施の形態に係る加熱システムをより具体的に説明する。図1を参照して、CVD装置2は、熱処理盤である熱板90を介した伝熱によってワーク60を加熱する。CVD装置2は、熱板90に配置されたヒータ81、82、83および84と、各ヒータ81〜84について、温度を検出(計測)する温度センサ71、72,73および74と、ワーク60の温度(例えば、ワーク60の表面温度)を検出(計測)するための温度センサ61、62、63および64とを備える。各ヒータ81〜84は、熱板90上のワーク60を均一に加熱可能なように、熱板90においてに略等間隔のゾーン毎に備えられるとともに、温度センサ61〜64は、ワーク60の表面全体の温度を検出可能なように、ワーク60の表面において、上記に述べた略等間隔のヒータのゾーンに対応して配置される。これにより、各温度センサ61〜64の検出温度は、主に、当該温度センサに対応のゾーンに配置されたヒータの発熱に伴う温度の変化を示し得る。
PLC100を備える制御システム1の構成を説明する。図2は、本実施の形態に係る制御システム1の構成を示す模式図である。図2を参照して、制御システム1は、FA(Factory Automation)の生産ラインに適用されて、ネットワークNWに接続された1または複数のPLC100を含む。PLC100は、ネットワークNWを介してデータを相互に遣り取りすることができるとともに、例えばUSB(Universal Serial Bus)ケーブル13を介してサポート装置200と通信する。
図3は、図1のPLC100のプロセッサユニット10のハードウェア構成を示す模式図である。図3を参照して、プロセッサユニット10は、プロセッサ101と、チップセット103と、メインメモリ104と、不揮発性メモリ106と、GUI(Graphical User Interface)を提供し得るタッチパネル108と、USBコネクタ110と、システムバスコントローラ120と、システムバスコネクタ130と、ネットワークコントローラ140と、通信コネクタ150と、フィールドネットワークコントローラ151と、フィールド通信コネクタ152と、外部メモリR/W(Reader/Writer)141を含む。チップセット103と他のコンポーネントとの間は、各種のバスを介してそれぞれ結合されている。
図4は、本発明の実施の形態に係るサポート装置200のハードウェア構成の一例を示す模式図である。図4を参照して、サポート装置200は、典型的には、汎用のコンピュータで構成される。なお、メンテナンス性の観点からは、可搬性に優れたノート型のパーソナルコンピュータであってもよい。
図5を参照して、試験用のワーク60を用いて干渉行列Aと温度モデル37を取得する処理を説明する。図5は、実施の形態に係る温度モデルを取得するためのPLC100が備えるコンポーネント構成を模式的に示す図である。図6は、干渉行列Aを取得する手順を説明する図である。図5を参照して、PLC100のプロセッサユニット10は、GUIを介して温度モデル条件を受付ける条件受付部31と、受付けられた条件に基づきヒータ81〜84それぞれの設定温度(設定温度SV)を演算するヒータ設定温度演算部32と、各ヒータに算出された設定温度を紐付けるヒータ温度設定部33と、各ヒータの操作量MVを算出するPID演算部34と、算出された各ヒータの操作量MVに基づく制御信号DVを当該ヒータに出力するヒータ出力部35と、温度モデル37を生成する温度モデル生成部44と温度モデル37を変更する温度モデル変更部45を有する温度モデル管理部36とを備える。温度制御プログラム1131が実行されることにより、条件受付部31、ヒータ設定温度演算部32、ヒータ温度設定部33,PID演算部34およびヒータ出力部35が実現されて、管理プログラム115が実行されることにより温度モデル管理部36が実現される。また、温度モデル生成プログラム1151が実行されることにより、温度モデル生成部44が実現されて、温度モデル変更プログラム1152が実行されることにより温度モデル変更部45が実現される。
図7は、本実施の形態に係るヒータ設定温度を温度モデル37を用いて変更する手順を模式的に示す図である。上述の手順で検査用のワーク60を利用して温度モデル37が取得されると、その後の、ワーク60の生産時には、PLC100は、温度モデル37を用いて、ヒータ81〜84の設定温度SVを変化させながら、ワーク60の温度を目標温度となるように調整する。
図8は、本実施の形態に係る温度モデルを用いた温度調整のためのコンポーネント構成の一例を示す図である。図8を参照して、PLC100のプロセッサユニット10は、ワーク目標温度受付部38、機器の故障を検出する故障検出部40、故障検出部40により検出された故障に関する情報を含むアラームを出力するアラーム出力部41、およびヒータ81〜84それぞれの設定温度SVを算出するヒータ設定温度算出部39、ヒータ温度設定部33、PID演算部34およびヒータ出力部35、干渉行列Aを用いた温度モデル37を管理する温度モデル管理部36を備える。図8に示すコンポーネントのうち、ヒータ温度設定部33、PID演算部34、ヒータ出力部35およびモデル管理部36は、図5で説明したものと同様の構成であるので説明は繰返さない。ワーク目標温度受付部38、ヒータ設定温度算出部39およびアラーム出力部41は、温度制御プログラム1131が実行されることにより実現されて、故障検出部40は故障検出プログラム1150が実行されることにより実現される。
温度モデル管理部36は、故障検出部40によって予め定められた状態(故障)であるヒータまたは温度センサが検出されたとき、温度モデル変更部45により不揮発性メモリ106に格納されている干渉行列Aを干渉行列A1に変更する(書換える)とともに、不揮発性メモリ106に格納されている温度モデル37を干渉行列A1を用いて変更する(書換える)。
図9は、本実施の形態に係る温度モデル生成の処理フローチャートである。図10は、本実施の形態に係るワークの温度調整処理を示すフローチャートである。図9のフローチャートは、主に温度モデル生成プログラム1151が実行されることにより実現される。図10のフローチャートは、主に、温度制御プログラム1131および温度モデル変更プログラム1152が実行されることにより実現される。
図11、図12および図13は、発明者の実験結果の一例を模式的に示す図である。図11、図12および図13を参照して、変更後の温度モデル37を用いた温度制御の利点を説明する。図11に示す稼働正常時は、PLC100は、干渉行列Aを用いた温度モデル37によって各ヒータ81〜84の発熱量を制御する。例えば、ワーク60の温度を100度に設定された場合、正常時は、図12に示すように、各温度センサ71〜74の検出温度PV2は、105度、100度、90度および110度を示し、各温度センサ61〜64の検出温度PV1は100度、99度、100度および101度を示し、ワーク60の温度は目標温度100度に近接する。
本実施の形態では、アラームを含む温度制御に関する情報を表示するとともに、ユーザの操作を受付けるために、グラフィックベースのユーザインターフェイスであるGUIが提供される。GUIは、GUIプログラム116が実行されることにより、例えばPLC100のタッチパネル108またはサポート装置200のタッチパネル217を介したツールとして提供される。
図15は、本実施の形態に係るスケジューリングの一例を示す図である。図15を参照して、スケジューラ117は、予め定められた周期70において、IOプログラム1133を実行することによるIO処理、制御プログラム114を実行することによる制御演算処理、および温度モデル変更プログラム1152を実行することによる処理91の各プロセスに、CPUなどのプロセッサ101の割当てるとともに、割当てを切替えることにより、各プログラムの実行順序を管理する。処理91は、故障検出プログラム1150の故障検出処理92および故障検出時に実行される温度モデル変更プログラム1152の温度モデル変更処理93を含む。スケジューラ117は、この切替えを、例えば、各プログラムについて予め定められた優先度に従い実施する。
本実施の形態では、PLC100は、上記に述べた温度制御のもとで生産される各ワーク60の生産に関する生産情報1300を収集し、収集した生産情報1300を不揮発性メモリ106に格納する。
本実施の形態では、図5および図8に示されたコンポーネントは、プロセッサ101などの1つ以上のプロセッサがプログラムを実行すること提供されるが、PLC100は、これらコンポーネントの一部または全部を、専用のハードウェア回路(たとえば、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)またはFPGA(Field-Programmable Gate Array)など)を用いて実装してもよい。あるいは、PLC100の主要部を、汎用的なアーキテクチャに従うハードウェアを用いて実現してもよい。この場合には、仮想化技術を用いて、用途の異なる複数のOSを並列的に実行させるとともに、各OS上で必要なアプリケーションを実行させるようにしてもよい。
上述の実施の形態はCVD装置2によるワーク60の薄膜形成の熱処理に適用したが、他の種類の熱処理に適用してもよい。また、ワーク60の温度を調整する「調整部」は、ハロゲンヒータなど空気中に放射された熱によって非接触でワーク60の温度を調整する機器を含んでもよい。また、「調整部」は、ワーク60の加熱処理への適用に限定されず、ペルチェ素子や冷却器などを用いたワーク60の冷却処理に適用してもよく、または、加熱と冷却を併用するシーンに適用してもよい。
上述したような本実施の形態は、以下のような技術思想を含む。
[構成1]
対象(60)の温度を調整する複数の調整部(81〜84)それぞれの設定温度(SV)を、前記対象の複数の検出点(61〜64)で検出した各検出温度(PV1)が目標温度となるように制御するステップ(S5)と、
各前記複数の調整部について、当該調整部の設定温度変化と、当該設定温度変化による各前記複数の検出点における温度変化の度合いとの関係を示すメモリ(106)に格納された関係情報を用いて、各調整部の前記設定温度を変更するステップ(S9、T2)と、を備え、
前記変更するステップは、
前記複数の調整部のうち、予め定められた状態である少なくとも1つの調整部を検出するステップ(T21)と、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの調整部に対応する前記関係を無効化することにより変更する調整部無効化ステップ(T23)と、
前記各調整部について、前記各検出点における目標温度と検出温度との差および前記メモリに格納されている前記関係情報を用いて、当該調整部の前記設定温度の変更量(H)を決定するステップを含む、温度制御方法。
[構成2]
前記関係情報は、複数の要素ajk(但し、1≦j≦m、1≦k≦n、mは前記検出点の個数を示し、nは前記調整部の個数を示す)から構成される(式1)の行列Aを含み、
[構成3]
前記調整部無効化ステップは、
前記行列Aから、前記少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除するステップを含む、構成2に記載の温度制御方法。
[構成4]
前記変更するステップは、さらに、
前記複数の検出点のうち、検出温度が閾値を超える状態である少なくとも1つの検出点を検出するステップと、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの検出点と前記複数の調整部との関係を無効化することにより変更する検出点無効化ステップと、を含む、構成1から3のいずれか1に記載の温度制御方法。
[構成5]
前記関係情報は、複数の要素ajk(但し、1≦j≦m、1≦k≦n、mは前記検出点の個数を示し、nは前記調整部の個数を示す)から構成される(式1)の行列Aを含み、
前記検出点無効化ステップは、
前記行列Aにおいて、前記少なくとも1つの検出点に対応するj番目の行を削除するステップを含む、構成4に記載の温度制御方法。
対象(60)の温度を調整する複数の調整部(81〜84)それぞれの設定温度(SV)を、前記対象の複数の検出点(61〜64)で検出した各検出温度(PV1)が目標温度となるように制御する手段(34)と、
各前記複数の調整部について、当該調整部の設定温度変化と、当該設定温度変化による各前記複数の検出点における温度変化の度合いとの関係を示すメモリ(106)に格納された関係情報を用いて、各調整部の前記設定温度を変更する手段(39、40、45)と、を備え、
前記変更する手段は、
前記複数の調整部のうち、予め定められた状態である少なくとも1つの調整部を検出する手段(40)と、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの調整部に対応する前記関係を無効化することにより変更する調整部無効化手段(45)と、
前記各調整部について、前記各検出点における目標温度と検出温度との差および前記メモリに格納されている前記関係情報を用いて、当該調整部の前記設定温度の変更量(H)を決定する手段(39)を含む、温度制御装置(100)。
前記関係情報は、複数の要素ajk(但し、1≦j≦m、1≦k≦n、mは前記検出点の個数を示し、nは前記調整部の個数を示す)から構成される(式1)の行列Aを含み、
前記調整部無効化手段は、
前記行列Aから、前記少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除する手段を含む、構成7に記載の温度制御装置。
前記変更する手段は、さらに、
前記複数の検出点のうち、検出温度が閾値を超える状態である少なくとも1つの検出点を検出する手段と、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの検出点と前記複数の調整部との関係を無効化することにより変更する検出点無効化手段と、を含む、構成6から8のいずれか1に記載の温度制御装置。
前記関係情報は、複数の要素ajk(但し、1≦j≦m、1≦k≦n、mは前記検出点の個数を示し、nは前記調整部の個数を示す)から構成される(式1)の行列Aを含み、
前記検出点無効化手段は、
前記行列Aにおいて、前記少なくとも1つの検出点に対応するj番目の行を削除する手段を含む、構成9に記載の温度制御装置。
構成1〜5のいずれか1に記載の温度制御方法をコンピュータ(101)に実行させるためのプログラム(1131、115、1152、1150)。
Claims (11)
- 対象の温度を調整する複数の調整部それぞれの設定温度を、前記対象の複数の検出点で検出した各検出温度が目標温度となるように制御するステップと、
各前記複数の調整部について、当該調整部の設定温度変化と、当該設定温度変化による各前記複数の検出点における温度変化の度合いとの関係を示すメモリに格納された関係情報を用いて、各調整部の前記設定温度を変更するステップと、を備え、
前記変更するステップは、
前記複数の調整部のうち、予め定められた状態である少なくとも1つの調整部を検出するステップと、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの調整部に対応する前記関係を無効化することにより変更する調整部無効化ステップと、
前記各調整部について、各検出点における目標温度と検出温度との差および前記メモリに格納されている前記関係情報を用いて、当該調整部の前記設定温度の変更量を決定するステップを含む、温度制御方法。 - 前記調整部無効化ステップは、
前記行列Aから、前記少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除するステップを含む、請求項2に記載の温度制御方法。 - 前記変更するステップは、さらに、
前記複数の検出点のうち、検出温度が閾値を超える状態である少なくとも1つの検出点を検出するステップと、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの検出点と前記複数の調整部との関係を無効化することにより変更する検出点無効化ステップと、を含む、請求項1から3のいずれか1項に記載の温度制御方法。 - 対象の温度を調整する複数の調整部それぞれの設定温度を、前記対象の複数の検出点で検出した各検出温度が目標温度となるように制御する手段と、
各前記複数の調整部について、当該調整部の設定温度変化と、当該設定温度変化による各前記複数の検出点における温度変化の度合いとの関係を示すメモリに格納された関係情報を用いて、各調整部の前記設定温度を変更する手段と、を備え、
前記変更する手段は、
前記複数の調整部のうち、予め定められた状態である少なくとも1つの調整部を検出する手段と、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの調整部に対応する前記関係を無効化することにより変更する調整部無効化手段と、
前記各調整部について、各検出点における目標温度と検出温度との差および前記メモリに格納されている前記関係情報を用いて、当該調整部の前記設定温度の変更量を決定する手段を含む、温度制御装置。 - 前記調整部無効化手段は、
前記行列Aから、前記少なくとも1つの調整部に対応するk番目の列を削除する手段を含む、請求項7に記載の温度制御装置。 - 前記変更する手段は、さらに、
前記複数の検出点のうち、検出温度が閾値を超える状態である少なくとも1つの検出点を検出する手段と、
前記メモリに格納されている前記関係情報を、前記少なくとも1つの検出点と前記複数の調整部との関係を無効化することにより変更する検出点無効化手段と、を含む、請求項6から8のいずれか1項に記載の温度制御装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の温度制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020156596A JP6933286B1 (ja) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | 温度制御方法、温度制御装置およびプログラム |
CN202111049352.2A CN114200979A (zh) | 2020-09-17 | 2021-09-08 | 温度控制方法、温度控制装置以及记录介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020156596A JP6933286B1 (ja) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | 温度制御方法、温度制御装置およびプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6933286B1 true JP6933286B1 (ja) | 2021-09-08 |
JP2022050156A JP2022050156A (ja) | 2022-03-30 |
Family
ID=77549985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020156596A Active JP6933286B1 (ja) | 2020-09-17 | 2020-09-17 | 温度制御方法、温度制御装置およびプログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6933286B1 (ja) |
CN (1) | CN114200979A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001265447A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-28 | Omron Corp | 制御装置、温度調節器および熱処理装置 |
JP2002175123A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-06-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 温度制御方法、熱処理装置、及び半導体装置の製造方法 |
WO2005010970A1 (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2007011982A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Omron Corp | 制御方法、温度制御方法、調整装置、温度調節器、プログラム、記録媒体および熱処理装置 |
JP2008299697A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Omron Corp | 制御方法、温度制御方法、補正装置、温度調節器、およびプログラム |
-
2020
- 2020-09-17 JP JP2020156596A patent/JP6933286B1/ja active Active
-
2021
- 2021-09-08 CN CN202111049352.2A patent/CN114200979A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001265447A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-28 | Omron Corp | 制御装置、温度調節器および熱処理装置 |
JP2002175123A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-06-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 温度制御方法、熱処理装置、及び半導体装置の製造方法 |
WO2005010970A1 (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2007011982A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Omron Corp | 制御方法、温度制御方法、調整装置、温度調節器、プログラム、記録媒体および熱処理装置 |
JP2008299697A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Omron Corp | 制御方法、温度制御方法、補正装置、温度調節器、およびプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114200979A (zh) | 2022-03-18 |
JP2022050156A (ja) | 2022-03-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20210264076A1 (en) | Information processing system and simulation method | |
CN107068588B (zh) | 基板处理装置和基板处理装置的调整方法 | |
JP5578990B2 (ja) | エネルギー総和抑制制御装置、電力総和抑制制御装置および方法 | |
JP2006113724A (ja) | 制御方法、温度制御方法、温度調節器、熱処理装置、プログラムおよび記録媒体 | |
TW201028808A (en) | Self-diagnostic semiconductor equipment | |
KR20130087056A (ko) | 처리 장치의 이상 판정 시스템 및 그 이상 판정 방법 | |
US20190061282A1 (en) | Heater System for Fiber Placement Machine | |
TWI659280B (zh) | 基板支持組件之熱安定性的決定方法、非暫態電腦可讀媒體、及控制系統 | |
JP2022102821A (ja) | 情報処理装置、情報処理システム及び部品発注方法 | |
JP6933286B1 (ja) | 温度制御方法、温度制御装置およびプログラム | |
KR101963963B1 (ko) | 설계 평가 지원 시스템 | |
US20180143654A1 (en) | Warm-up compensation system and method | |
CN114512416A (zh) | 探针异常识别方法及装置、存储介质和电子设备 | |
US6732007B1 (en) | Method and apparatus for implementing dynamic qualification recipes | |
JP5028939B2 (ja) | 異常検出装置、異常検出方法、温度調節器および熱処理装置 | |
JP6687650B2 (ja) | 熱変位補正装置及び機械学習装置 | |
KR102467933B1 (ko) | 디지털 트윈 기반의 온도분포 예측방법 및 온도분포 예측장치 | |
CN114200976A (zh) | 控制方法、控制装置以及记录介质 | |
JP5264468B2 (ja) | 制御装置および制御方法 | |
JP2008299697A (ja) | 制御方法、温度制御方法、補正装置、温度調節器、およびプログラム | |
JP6988950B2 (ja) | シミュレーション方法、シミュレーションプログラムおよびシミュレータ | |
KR20220166601A (ko) | 기판의 온도균일도 제어장치 및 제어방법 | |
WO2024122320A1 (ja) | 温度制御装置、温度制御方法、プログラム、プローバ及び学習モデル生成方法 | |
JP5478446B2 (ja) | 省エネルギー余裕算出装置、省エネルギー総余裕算出装置および方法 | |
KR20080082054A (ko) | 반도체 제조 설비에서의 다중 제어 방식의 온도 조절 장치및 그 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210427 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20210427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210720 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210802 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6933286 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |