JP6931599B2 - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
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Description
L1/2L2≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1)
60°≦θ≦70° ・・・(2)
(上記式(1)及び(2)中、L1は、上記基板固定部に上記基板を固定したときの上記複数の噴射ノズルと上記基板との距離(mm)である。L2は、上記中央噴射ノズルと上記外側噴射ノズルとの距離(mm)である。θは、上記基板固定部に上記基板を固定したときの上記基板の表面と上記外側噴射ノズルの開口面とがなす角の角度(°)である。)
L1/(L2+87)≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1’)
図1の蒸着装置10は、蒸着源11及び基板固定部12を備える。なお、蒸着装置10は、適切な真空度が維持される真空チャンバ(図示しない)内に配置される。真空チャンバには、真空チャンバ内の気体を排出させて、真空チャンバ内の圧力を低下させる真空ポンプ、真空チャンバ内に一定の気体を注入して、真空チャンバ内の圧力を上昇させるベンティング手段などが備えられていてよい。
L1/2L2≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1)
60°≦θ≦70° ・・・(2)
上記L1は、基板固定部12に基板Xを固定したときの複数の噴射ノズル13と基板Xとの距離(mm)である。具体的には、各噴射ノズル13の開口面16a〜16cの中心を結ぶ直線Mと、基板Xにおける蒸着面(図1における下側の面)との間の距離である。なお、直線Mと蒸着面とは平行である。
上記L2は、中央噴射ノズル13aと外側噴射ノズル13b、13cとの距離(mm)である。具体的には、中央噴射ノズル13aの開口面16aの中心と、各外側噴射ノズル13b、13cの開口面16b、16cの中心との距離である。
上記θは、基板固定部12に基板Xを固定したときの基板Xの表面(蒸着面)と外側噴射ノズル13b、13cの開口面16b、16cとがなす角の角度(°)である。
L1/(L2+87)≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1’)
本発明の一実施形態に係る蒸着方法は、当該蒸着装置10を用いて蒸着を行う工程を備える。
本発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲でその構成を変更することもできる。例えば、上記実施の形態では、複数の噴射ノズルが、1つの中央噴射ノズル及び一対の外側噴射ノズルの合計3つの噴射ノズルからなる構成としたが、4以上の噴射ノズルを有するものであってもよい。但し、上記実施の形態のように、噴射ノズルの数を可能な限り減らし、3つの噴射ノズルとすることにより、シャドーをより十分に低減することができる。従って、上記複数の噴射ノズルは、上記中央噴射ノズル及び上記一対の外側噴射ノズルの3つの噴射ノズルからなることが好ましい。
図1に記載した構造を有する蒸着装置により、幅925mmの基板に対して真空蒸着を行った。なお、θ=65°(tan65°≒2.14)、L1=500mm、L2=190mm)とした。
θ=50°の蒸着装置としたこと以外は実施例1と同様に真空蒸着を行った。
θ=80°の蒸着装置としたこと以外は実施例1と同様に真空蒸着を行った。
得られた蒸着膜の膜厚を分光エリプソメーター(Horiba社の「UVISEL M200−VIS−AG−200S」)を用いて測定した。測定結果を模式的に示したグラフを図3に示す。
11 蒸着源
12 基板固定部
13 噴射ノズル
13a 中央噴射ノズル
13b、13c 外側噴射ノズル
14 蒸着材収容室
15 拡散室
15A 拡散室の上面
16(16a、16b、16c) 開口面
17a 中央噴射ノズルの軸
17b、17c 各外側噴射ノズルの先端部分における軸
X 基板
Y マスク
Z 蒸着膜
M 複数の噴射ノズルにおける各開口面の中心を結ぶ直線
N 交点
P 噴射ノズルの蒸着量の分布を表す曲線
Q 基板表面における、中央噴射ノズルの開口面の中心の対向位置(基板表面の中心)
R 基板表面における、左側の外側噴射ノズルの開口面の中心の対向位置
S シャドー
L1 複数の噴射ノズルと基板との距離
L2 中央噴射ノズルと外側噴射ノズルとの距離
θ 基板の表面と外側噴射ノズルの開口面とがなす角の角度
Claims (3)
- 直線状に配置され、蒸着材を噴射する複数の噴射ノズルを有する蒸着源、及び
上記複数の噴射ノズルと平行に基板を固定する基板固定部
を備え、
上記複数の噴射ノズルが、
上記基板に平行な開口面を有する中央噴射ノズル、及び
上記中央噴射ノズルに対して左右対称に配置され、外側に向かって傾斜している開口面を有する一対の外側噴射ノズル
からなり、
下記式(1)及び式(2)を満たす蒸着装置。
L1/2L2≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1)
60°≦θ≦70° ・・・(2)
(上記式(1)及び(2)中、L1は、上記基板固定部に上記基板を固定したときの上記複数の噴射ノズルと上記基板との距離(mm)である。L2は、上記中央噴射ノズルと上記外側噴射ノズルとの距離(mm)である。θは、上記基板固定部に上記基板を固定したときの上記基板の表面と上記外側噴射ノズルの開口面とがなす角の角度(°)である。) - 式(1’)をさらに満たす請求項1に記載の蒸着装置。
L1/(L2+87)≦tanθ≦L1/L2 ・・・(1’) - 請求項1又は請求項2に記載の蒸着装置を用いて蒸着を行う工程を備える蒸着方法。
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