JP6529257B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims description 21
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 399
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 399
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 54
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 49
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 22
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 16
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229960001716 benzalkonium Drugs 0.000 description 1
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Description
tanθ=(2TS/N1)−D1 (1)
で表すことができ、よって、ノズル範囲N1を狭くすることで、入射角θを大きくすることができる。
前記蒸発源1は、該蒸発源1の長手方向に沿って複数の蒸発口部2を有し、
前記蒸発源1と前記蒸発源1に対向する位置に配設された基板3とを、前記蒸発源1の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部2から前記成膜材料を射出することで、基板3上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部2のうち外側に設けられた少なくとも一対の外側蒸発口部2の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源1の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記外側蒸発口部2の内側に位置する内側蒸発口部2のうちの少なくとも一つの蒸発源外開口端は、前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記一対の外側蒸発口部2の蒸発源内開口端が、前記蒸発源1内に突出状態に設けられており、前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置に係るものである。
前記真空槽内に配置され、成膜材料を収容する蒸発源1と、を有し、
前記蒸発源1は、該蒸発源1の長手方向に沿って複数の蒸発口部2を有し、
前記蒸発源1と前記蒸発源1に対向する位置に配設された基板3とを、前記蒸発源1の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部2から前記成膜材料を射出することで、基板3上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部2の外側両端に設けられた最端の外側蒸発口部2の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源1の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部2以外の前記蒸発口部2のうちの少なくとも一つの蒸発源外開口端は、前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部2の蒸発源内開口端は、前記蒸発源1内に突出状態に設けられており、前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置に係るものである。
前記真空槽内に配置され、成膜材料を収容する蒸発源1と、を有し、
前記蒸発源1は、該蒸発源1の長手方向に沿って複数の蒸発口部2を有し、
前記蒸発源1と前記蒸発源1に対向する位置に配設された基板3とを、前記蒸発源1の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部2から前記成膜材料を射出することで、基板3上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部2の外側両端に設けられた最端の外側蒸発口部2の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源1の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部2以外の前記蒸発口部2のうちの前記蒸発源1の長手方向中央部に位置する、隣り合う一対の蒸発口部2の蒸発源外開口端は、互いに向かい合うように夫々前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部2の蒸発源内開口端は、前記蒸発源1内に突出状態に設けられており、前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置に係るものである。
前記蒸発源1は、該蒸発源1の長手方向に沿って複数の蒸発口部2を有し、
前記蒸発源1と前記蒸発源1に対向する位置に配設された基板3とを、前記蒸発源1の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部2から前記成膜材料を射出することで、基板3上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部2のうち外側に設けられた少なくとも一対の外側蒸発口部2の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源1の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記蒸発源1の長手方向中央部に位置する、隣り合う一対の蒸発口部2の蒸発源外開口端は、互いに向かい合うように夫々前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置に係るものである。
前記複数の蒸発源1のうちの少なくとも一つの蒸発源1に設けられた複数の蒸発口部2の蒸発源外開口端の開口端面は、前記蒸発源1と前記基板3との相対移動方向に傾斜していることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の真空蒸着装置に係るものである。
蒸発源外開口端が前記蒸発源1の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有する内側蒸発口部2の成膜材料が通る領域Oは、蒸発源1の長手方向中央側を向いていることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の真空蒸着装置に係るものである。
2 蒸発口部
3 基板
Claims (16)
- 成膜材料を収容する蒸発源を有し、
前記蒸発源は、該蒸発源の長手方向に沿って複数の蒸発口部を有し、
前記蒸発源と前記蒸発源に対向する位置に配設された基板とを、前記蒸発源の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部から前記成膜材料を射出することで、基板上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部のうち外側に設けられた少なくとも一対の外側蒸発口部の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記外側蒸発口部の内側に位置する内側蒸発口部のうちの少なくとも一つの蒸発源外開口端は、前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記一対の外側蒸発口部の蒸発源内開口端が、前記蒸発源内に突出状態に設けられており、前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置。 - 減圧雰囲気を維持する真空槽と、
前記真空槽内に配置され、成膜材料を収容する蒸発源と、を有し、
前記蒸発源は、該蒸発源の長手方向に沿って複数の蒸発口部を有し、
前記蒸発源と前記蒸発源に対向する位置に配設された基板とを、前記蒸発源の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部から前記成膜材料を射出することで、基板上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部の外側両端に設けられた最端の外側蒸発口部の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部以外の前記蒸発口部のうちの少なくとも一つの蒸発源外開口端は、前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部の蒸発源内開口端は、前記蒸発源内に突出状態に設けられており、前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置。 - 減圧雰囲気を維持する真空槽と、
前記真空槽内に配置され、成膜材料を収容する蒸発源と、を有し、
前記蒸発源は、該蒸発源の長手方向に沿って複数の蒸発口部を有し、
前記蒸発源と前記蒸発源に対向する位置に配設された基板とを、前記蒸発源の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部から前記成膜材料を射出することで、基板上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部の外側両端に設けられた最端の外側蒸発口部の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部以外の前記蒸発口部のうちの前記蒸発源の長手方向中央部に位置する、隣り合う一対の蒸発口部の蒸発源外開口端は、互いに向かい合うように夫々前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記最端の外側蒸発口部の蒸発源内開口端は、前記蒸発源内に突出状態に設けられており、前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置。 - 成膜材料を収容する蒸発源を有し、
前記蒸発源は、該蒸発源の長手方向に沿って複数の蒸発口部を有し、
前記蒸発源と前記蒸発源に対向する位置に配設された基板とを、前記蒸発源の長手方向と直交する方向に相対的に移動させ、前記蒸発口部から前記成膜材料を射出することで、基板上に蒸着膜を形成する真空蒸着装置であって、
前記複数の蒸発口部のうち外側に設けられた少なくとも一対の外側蒸発口部の蒸発源外開口端は、夫々前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有し、
前記蒸発源の長手方向中央部に位置する、隣り合う一対の蒸発口部の蒸発源外開口端は、互いに向かい合うように夫々前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記複数の蒸発口部の前記蒸発源の長手方向における配列範囲の幅は、前記基板の前記蒸発源の長手方向における蒸着領域の幅より狭いことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発口部のうち、最端の外側蒸発口部の開口径は、これより内側の蒸発口部の開口径以上の径であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発口部の開口径は、前記蒸発源の長手方向外側に向かって徐々に大きくなることを特徴とする請求項6に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発口部のうち、最端の外側蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面の傾斜角度は、これより内側の蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面の傾斜角度以上の角度であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する前記蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面の傾斜角度は、前記蒸発源の長手方向外側に向かって徐々に大きくなることを特徴とする請求項8に記載の真空蒸着装置。
- 蒸発源外開口端の開口端面が前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する前記蒸発口部から射出される前記成膜材料の前記基板への入射角は40°以上60°以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する前記蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面の傾斜角度は20°以上45°以下であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する前記蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面の傾斜角度は5°以上20°以下であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 異なる成膜材料が収容された複数の蒸発源を有し、
前記複数の蒸発源のうちの少なくとも一つの蒸発源に設けられた複数の蒸発口部の蒸発源外開口端の開口端面は、前記蒸発源と前記基板との相対移動方向に傾斜していることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。 - 蒸発源外開口端が前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有する内側蒸発口部の蒸発源内開口端が、前記蒸発源内に突出状態に設けられ前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有することを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 前記蒸発口部の内部の成膜材料が通る領域は、円筒状の直管であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
- 蒸発源外開口端が前記蒸発源の長手方向外側を向くように傾斜する開口端面を有する外側蒸発口部の成膜材料が通る領域は、蒸発源の長手方向外側を向いており、
蒸発源外開口端が前記蒸発源の長手方向中央側を向くように傾斜する開口端面を有する内側蒸発口部の成膜材料が通る領域は、蒸発源の長手方向中央側を向いていることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014265981A JP6529257B2 (ja) | 2014-12-26 | 2014-12-26 | 真空蒸着装置 |
TW104131265A TWI673379B (zh) | 2014-12-26 | 2015-09-22 | 真空蒸鍍裝置 |
CN201510857298.2A CN105734495B (zh) | 2014-12-26 | 2015-11-30 | 真空蒸镀装置 |
KR1020150174861A KR101989653B1 (ko) | 2014-12-26 | 2015-12-09 | 진공 증착 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014265981A JP6529257B2 (ja) | 2014-12-26 | 2014-12-26 | 真空蒸着装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016125091A JP2016125091A (ja) | 2016-07-11 |
JP2016125091A5 JP2016125091A5 (ja) | 2017-12-21 |
JP6529257B2 true JP6529257B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=56295966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014265981A Active JP6529257B2 (ja) | 2014-12-26 | 2014-12-26 | 真空蒸着装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6529257B2 (ja) |
KR (1) | KR101989653B1 (ja) |
CN (1) | CN105734495B (ja) |
TW (1) | TWI673379B (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102155099B1 (ko) * | 2016-08-02 | 2020-09-11 | 가부시키가이샤 알박 | 진공 증착 장치 |
TWI580807B (zh) * | 2016-10-28 | 2017-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 蒸鍍設備與利用此設備之蒸鍍方法 |
CN111164232A (zh) * | 2017-09-28 | 2020-05-15 | 夏普株式会社 | 蒸镀源及蒸镀装置、以及蒸镀膜制造方法 |
CN111148860B (zh) * | 2017-09-28 | 2022-02-11 | 夏普株式会社 | 蒸镀粒子射出装置及蒸镀装置、以及蒸镀膜制造方法 |
CN108570645B (zh) * | 2017-11-30 | 2023-09-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 真空蒸镀装置及其蒸发头、真空蒸镀方法 |
JP6941547B2 (ja) | 2017-12-06 | 2021-09-29 | 長州産業株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法及び制御板 |
JP6931599B2 (ja) * | 2017-12-06 | 2021-09-08 | 長州産業株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP6983096B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2021-12-17 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置用の蒸着源 |
CN111206205A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206219A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206221A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206207A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206203A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206220A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种镀膜设备及镀膜方法 |
CN111206224A (zh) * | 2018-11-02 | 2020-05-29 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法 |
CN109666898A (zh) * | 2019-01-03 | 2019-04-23 | 福建华佳彩有限公司 | 一种用于点蒸发源的坩埚 |
JP7217635B2 (ja) * | 2019-01-11 | 2023-02-03 | 株式会社アルバック | 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 |
WO2020213228A1 (ja) * | 2019-04-19 | 2020-10-22 | 株式会社アルバック | 蒸着源及び蒸着装置 |
CN110791731B (zh) * | 2019-11-20 | 2022-05-06 | 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 | 一种蒸发源组件 |
CN114318237A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸镀装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100623730B1 (ko) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증발원 어셈블리 및 이를 구비한 증착 장치 |
JP4831841B2 (ja) * | 2009-07-10 | 2011-12-07 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置及び方法 |
KR20120061394A (ko) * | 2010-12-03 | 2012-06-13 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증발원 및 유기물 증착 방법 |
KR102046440B1 (ko) * | 2012-10-09 | 2019-11-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
CN104099571A (zh) * | 2013-04-01 | 2014-10-15 | 上海和辉光电有限公司 | 蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法 |
CN104099570B (zh) * | 2013-04-01 | 2016-10-05 | 上海和辉光电有限公司 | 单点线性蒸发源*** |
-
2014
- 2014-12-26 JP JP2014265981A patent/JP6529257B2/ja active Active
-
2015
- 2015-09-22 TW TW104131265A patent/TWI673379B/zh active
- 2015-11-30 CN CN201510857298.2A patent/CN105734495B/zh active Active
- 2015-12-09 KR KR1020150174861A patent/KR101989653B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI673379B (zh) | 2019-10-01 |
JP2016125091A (ja) | 2016-07-11 |
KR20160079653A (ko) | 2016-07-06 |
CN105734495B (zh) | 2019-12-06 |
TW201627515A (zh) | 2016-08-01 |
CN105734495A (zh) | 2016-07-06 |
KR101989653B1 (ko) | 2019-06-14 |
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