JP6924411B2 - Manufacturing method of lead frame and semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、リードフレームおよび半導体装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame and a semiconductor device.

近年、基板に実装される半導体装置の小型化および薄型化が要求されてきている。このような要求に対応すべく、従来、リードフレームを用い、その搭載面に搭載した半導体素子を封止樹脂によって封止するとともに、裏面側にリードの一部分を露出させて構成された、いわゆるＱＦＮ（Quad Flat Non-lead）タイプの半導体装置が種々提案されている。 In recent years, there has been a demand for miniaturization and thinning of semiconductor devices mounted on a substrate. In order to meet such demands, a so-called QFN is conventionally configured by using a lead frame, sealing a semiconductor element mounted on the mounting surface with a sealing resin, and exposing a part of the lead on the back surface side. Various (Quad Flat Non-lead) type semiconductor devices have been proposed.

従来、ＱＦＮパッケージを作製する工程において、樹脂封止後にリードフレームを切断し、リードフレームをパッケージ毎に分離することが行われている。このようにリードフレームを切断する際、まず１回目のソーイングにより、リードフレームを約半分の厚みだけカットし、その後、１回目のソーイングに使用されるブレードよりも薄いブレードを使用して、２回目のソーイングを行い、リードフレームを互いに分離する方法が知られている（例えば特許文献１参照）。 Conventionally, in the process of producing a QFN package, the lead frame is cut after sealing with a resin, and the lead frame is separated for each package. When cutting the lead frame in this way, the lead frame is first cut by about half the thickness by the first sewing, and then the second time by using a blade thinner than the blade used for the first sewing. There is known a method of sewing the lead frames to separate the lead frames from each other (see, for example, Patent Document 1).

米国特許第７１８３６３０号明細書U.S. Pat. No. 7,183,630

上述したように２回のソーイング工程によりリードフレームを切断する場合、１回目のソーイングではリードフレームを所定の深さ（例えば約半分）だけカットする。この１回目のソーイングを行う際、ソーイングの深さを適宜確認しながら半導体装置を生産することが好ましい。しかしながら、ソーイングに用いられるブレードは経時的に劣化するため、時間の経過とともにソーイングの深さが浅くなる。このため、高い頻度でソーイングの深さを確認する必要が生じ、半導体装置の生産性が低下してしまうという問題がある。 When the lead frame is cut by the two sewing steps as described above, the lead frame is cut by a predetermined depth (for example, about half) in the first sewing. When performing this first sewing, it is preferable to produce the semiconductor device while appropriately checking the sewing depth. However, since the blade used for sewing deteriorates with time, the depth of sewing becomes shallower with the passage of time. Therefore, it becomes necessary to check the sewing depth with high frequency, and there is a problem that the productivity of the semiconductor device is lowered.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、１回目のソーイングでリードフレームを約半分の厚みだけカットした際、その深さが適当であるかを簡易的な方法で確認することが可能な、リードフレームおよび半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such a point, and when the lead frame is cut by about half the thickness in the first sewing, it is confirmed by a simple method whether the depth is appropriate. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a lead frame and a semiconductor device, which is possible.

本発明は、リードフレームにおいて、外周領域と、前記外周領域内に配置されたパッケージ領域と、前記パッケージ領域の周囲から前記外周領域に延びるとともに、裏面側から前記リードフレームの厚み方向の一部を切除する領域である、ステップカット領域とを備え、前記ステップカット領域上に、表面側から薄肉化されることにより深さ確認マークが形成されている、リードフレームである。 In the present invention, in the lead frame, the outer peripheral region, the package region arranged in the outer peripheral region, the outer peripheral region extending from the periphery of the package region, and a part of the lead frame in the thickness direction from the back surface side. It is a lead frame having a step cut region, which is a region to be cut, and a depth confirmation mark is formed on the step cut region by thinning from the surface side.

本発明は、前記パッケージ領域の周囲にコネクティングバーが配置され、前記深さ確認マークは、前記コネクティングバーに設けられている、リードフレームである。 In the present invention, a connecting bar is arranged around the package area, and the depth confirmation mark is a lead frame provided on the connecting bar.

本発明は、前記深さ確認マークは、表面側から薄肉化された一対の薄肉部と、前記一対の薄肉部の間に位置し、薄肉化されていない中間部とを有する、リードフレームである。 The present invention is a lead frame in which the depth confirmation mark has a pair of thin-walled portions thinned from the surface side and an intermediate portion that is located between the pair of thin-walled portions and is not thinned. ..

本発明は、前記中間部の側面に、テーパー面が形成されている、リードフレームである。 The present invention is a lead frame in which a tapered surface is formed on the side surface of the intermediate portion.

本発明は、前記パッケージ領域の周囲に、互いに直交する２つのコネクティングバーと、前記２つのコネクティングバーを互いに連結する連結部とが配置され、前記深さ確認マークは、前記連結部に設けられている、リードフレームである。 In the present invention, two connecting bars orthogonal to each other and a connecting portion connecting the two connecting bars to each other are arranged around the package area, and the depth confirmation mark is provided on the connecting portion. It is a lead frame.

本発明は、半導体装置の製造方法において、前記リードフレームを準備する工程と、前記リードフレームを封止樹脂により封止する工程と、前記ステップカット領域に沿って、前記リードフレームの厚み方向の一部を切除する工程と、前記パッケージ領域毎に前記リードフレーム及び前記封止樹脂を切断する工程とを備えた、半導体装置の製造方法である。 According to the present invention, in a method for manufacturing a semiconductor device, a step of preparing the lead frame, a step of sealing the lead frame with a sealing resin, and one in the thickness direction of the lead frame along the step cut region. It is a method of manufacturing a semiconductor device including a step of cutting a portion and a step of cutting the lead frame and the sealing resin for each package region.

本発明によれば、１回目のソーイングでリードフレームを約半分の厚みだけカットした際、その深さが適当であるかを簡易的な方法で確認することができる。 According to the present invention, when the lead frame is cut by about half the thickness in the first sewing, it can be confirmed by a simple method whether the depth is appropriate.

図１は、本発明の一実施の形態によるリードフレームの一部を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a part of a lead frame according to an embodiment of the present invention. 図２は、本発明の一実施の形態によるリードフレームの一部を示す底面図。FIG. 2 is a bottom view showing a part of a lead frame according to an embodiment of the present invention. 図３は、本発明の一実施の形態によるリードフレームを示す断面図（図１のIII−III線断面図）。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a lead frame according to an embodiment of the present invention (cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1). 図４（ａ）−（ｃ）は、それぞれコネクティングバーを示す拡大平面図。4 (a)-(c) are enlarged plan views showing connecting bars, respectively. 図５は、本発明の一実施の形態による半導体装置を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図６は、本発明の一実施の形態による半導体装置を示す断面図（図５のVI−VI線断面図）。FIG. 6 is a cross-sectional view (VI-VI line cross-sectional view of FIG. 5) showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図７（ａ）−（ｅ）は、本発明の一実施の形態によるリードフレームの製造方法を示す断面図。7 (a)-(e) are cross-sectional views showing a method of manufacturing a lead frame according to an embodiment of the present invention. 図８（ａ）−（ｄ）は、本発明の一実施の形態による半導体装置の製造方法（前半）を示す断面図。8 (a)-(d) are cross-sectional views showing a method (first half) of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図９（ａ）−（ｃ）は、本発明の一実施の形態による半導体装置の製造方法（後半）を示す断面図。9 (a)-(c) are cross-sectional views showing a method (second half) of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図１０（ａ）（ｂ）は、ステップカット後のコネクティングバーを示す断面図。10 (a) and 10 (b) are cross-sectional views showing a connecting bar after step cutting. 図１１は、本発明の一変形例（変形例１）によるリードフレームの一部を示す平面図。FIG. 11 is a plan view showing a part of a lead frame according to a modification of the present invention (modification example 1). 図１２（ａ）（ｂ）は、本発明の一変形例（変形例１）における、ステップカット後のコネクティングバーを示す断面図。12 (a) and 12 (b) are cross-sectional views showing a connecting bar after step cutting in one modification (modification 1) of the present invention. 図１３は、本発明の一変形例（変形例２）によるリードフレームの一部を示す平面図。FIG. 13 is a plan view showing a part of a lead frame according to a modification (modification 2) of the present invention. 図１４は、本発明の一変形例（変形例３）によるリードフレームの一部を示す平面図。FIG. 14 is a plan view showing a part of a lead frame according to a modification (modification 3) of the present invention. 図１５は、本発明の一変形例（変形例４）によるリードフレームの一部を示す平面図。FIG. 15 is a plan view showing a part of a lead frame according to a modification (modification 4) of the present invention.

以下、本発明の一実施の形態について、図１乃至図１０を参照して説明する。なお、以下の各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 10. In each of the following figures, the same parts are designated by the same reference numerals, and some detailed description may be omitted.

リードフレームの構成
まず、図１乃至図４により、本実施の形態によるリードフレームの概略について説明する。図１は、本実施の形態によるリードフレームの一部を示す平面図であり、図２は、本実施の形態によるリードフレームの一部を示す底面図であり、図３は、本実施の形態によるリードフレームを示す断面図であり、図４（ａ）−（ｃ）は、それぞれコネクティングバーを示す拡大平面図である。 Configuration of Lead Frame First, the outline of the lead frame according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. 1 is a plan view showing a part of a lead frame according to the present embodiment, FIG. 2 is a bottom view showing a part of a lead frame according to the present embodiment, and FIG. 3 is a bottom view showing a part of the lead frame according to the present embodiment. 4 (a)-(c) is an enlarged plan view showing a connecting bar, respectively.

図１乃至図３に示すリードフレーム１０は、半導体装置２０（図５および図６）を作製する際に用いられるものである。このようなリードフレーム１０は、矩形状の外形を有する外周領域１８と、外周領域１８内に多列および多段に（マトリックス状に）配置された、複数のパッケージ領域１０ａとを備えている。なお、図１および図２においては、リードフレーム１０の角部を含む一部のみを図示している。 The lead frame 10 shown in FIGS. 1 to 3 is used when manufacturing the semiconductor device 20 (FIGS. 5 and 6). Such a lead frame 10 includes an outer peripheral region 18 having a rectangular outer shape, and a plurality of package regions 10a arranged in multiple rows and stages (in a matrix) within the outer peripheral region 18. In addition, in FIG. 1 and FIG. 2, only a part including a corner portion of the lead frame 10 is shown.

外周領域１８は、複数のパッケージ領域１０ａの周囲を取り囲むように平面視で矩形の環状に形成されている。この外周領域１８の幅Ｗ１は、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下としても良い。なお、外周領域１８は、薄肉化（ハーフエッチング）されることなく、加工前の金属基板（後述する金属基板３１）と同一の厚みを有している。 The outer peripheral region 18 is formed in a rectangular ring shape in a plan view so as to surround the periphery of the plurality of package regions 10a. The width W1 of the outer peripheral region 18 may be 2 mm or more and 10 mm or less. The outer peripheral region 18 has the same thickness as the metal substrate before processing (metal substrate 31 described later) without being thinned (half-etched).

ここでハーフエッチングとは、被エッチング材料をその厚み方向に途中までエッチングすることをいう。ハーフエッチング後の被エッチング材料の厚みは、ハーフエッチング前の被エッチング材料の厚みの例えば３０％以上７０％以下、好ましくは４０％以上６０％以下となる。なお、各図において、ハーフエッチングされた領域を網掛けで示している。 Here, half-etching means etching the material to be etched halfway in the thickness direction thereof. The thickness of the material to be etched after half-etching is, for example, 30% or more and 70% or less, preferably 40% or more and 60% or less of the thickness of the material to be etched before half-etching. In each figure, the half-etched region is shaded.

本明細書中、「内」、「内側」とは、各パッケージ領域１０ａにおいてダイパッド１１の中心方向を向く側をいい、「外」、「外側」とは、各パッケージ領域１０ａにおいてダイパッド１１の中心から離れる側（コネクティングバー１３側）をいう。また、「表面」とは、半導体素子２１が搭載される側の面をいい、「裏面」とは、「表面」の反対側の面であって外部の図示しない実装基板に接続される側の面をいう。 In the present specification, "inside" and "inside" mean the side facing the center of the die pad 11 in each package area 10a, and "outside" and "outside" mean the center of the die pad 11 in each package area 10a. The side away from (connecting bar 13 side). The "front surface" is the surface on which the semiconductor element 21 is mounted, and the "back surface" is the surface on the opposite side of the "front surface" that is connected to an external mounting substrate (not shown). Refers to the face.

図１乃至図３に示すように、各パッケージ領域１０ａは、半導体素子２１（後述）を搭載する平面矩形状のダイパッド１１と、ダイパッド１１周囲に設けられ、半導体素子２１と外部回路（図示せず）とを接続する複数の細長いリード部１２とを備えている。なお、パッケージ領域１０ａは、それぞれ半導体装置２０（後述）に対応する領域である。パッケージ領域１０ａは、図１および図２において縦横に延びる切断領域４６によって取り囲まれる領域である。なお、本実施の形態において、リードフレーム１０は、複数のパッケージ領域１０ａを含んでいるが、これに限らず、１つのリードフレーム１０に１つのパッケージ領域１０ａのみが形成されていても良い。 As shown in FIGS. 1 to 3, each package region 10a is provided with a planar rectangular die pad 11 on which the semiconductor element 21 (described later) is mounted, and around the die pad 11, and the semiconductor element 21 and an external circuit (not shown). ) Is provided with a plurality of elongated lead portions 12. The package area 10a is an area corresponding to the semiconductor device 20 (described later), respectively. The package area 10a is an area surrounded by a cutting area 46 extending vertically and horizontally in FIGS. 1 and 2. In the present embodiment, the lead frame 10 includes a plurality of package areas 10a, but the present invention is not limited to this, and only one package area 10a may be formed in one lead frame 10.

複数のパッケージ領域１０ａは、コネクティングバー（支持部材）１３を介して互いに連結されている。このコネクティングバー１３は、ダイパッド１１と、リード部１２とを支持するものであり、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってそれぞれ延びている。ここで、Ｘ方向、Ｙ方向とは、リードフレーム１０の面内において、ダイパッド１１の各辺に平行な二方向であり、Ｘ方向とＹ方向とは互いに直交している。また、Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向の両方に対して垂直な方向である。なお、パッケージ領域１０ａの一辺の長さＬ１は、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下としても良い。 The plurality of package regions 10a are connected to each other via a connecting bar (support member) 13. The connecting bar 13 supports the die pad 11 and the lead portion 12, and extends along the X direction and the Y direction, respectively. Here, the X direction and the Y direction are two directions parallel to each side of the die pad 11 in the plane of the lead frame 10, and the X direction and the Y direction are orthogonal to each other. Further, the Z direction is a direction perpendicular to both the X direction and the Y direction. The length L1 of one side of the package area 10a may be 3 mm or more and 10 mm or less.

ダイパッド１１は、平面略正方形形状を有しており、その表面には、後述する半導体素子２１が搭載される。ダイパッド１１の平面形状は、正方形に限らず、長方形等の多角形としても良い。また、ダイパッド１１の四つのコーナー部にはそれぞれ吊りリード１４が連結されており、ダイパッド１１は、この４本の吊りリード１４を介してコネクティングバー１３又は外周領域１８に連結支持されている。各吊りリード１４は、その全域にわたりハーフエッチングにより裏面側から薄肉に形成されている。しかしながら、これに限らず、吊りリード１４の一部のみが裏面側から薄肉化されていても良く、吊りリード１４の全体が薄肉化されていなくても良い。 The die pad 11 has a substantially square shape in a plane, and a semiconductor element 21 described later is mounted on the surface thereof. The planar shape of the die pad 11 is not limited to a square, but may be a polygon such as a rectangle. Further, a hanging lead 14 is connected to each of the four corners of the die pad 11, and the die pad 11 is connected and supported by the connecting bar 13 or the outer peripheral region 18 via the four hanging leads 14. Each hanging lead 14 is formed thinly from the back surface side by half etching over the entire area. However, the present invention is not limited to this, and only a part of the hanging lead 14 may be thinned from the back surface side, and the entire hanging lead 14 may not be thinned.

各コネクティングバー１３は、パッケージ領域１０ａの周囲であってパッケージ領域１０ａよりも外側に配置されている。各コネクティングバー１３は、細長い棒形状を有しており、その幅Ｗ２（コネクティングバー１３の長手方向に垂直な方向の長さ）は、１００μｍ以上２５０μｍ以下としても良い。各コネクティングバー１３には、複数のリード部１２が長手方向に沿って間隔を空けて連結されている。なお、コネクティングバー１３のうち、後述する深さ確認マーク４０を除く領域は、薄肉化（ハーフエッチング）されることなく、加工前の金属基板（後述する金属基板３１）と同一の厚みを有している。 Each connecting bar 13 is arranged around the package area 10a and outside the package area 10a. Each connecting bar 13 has an elongated rod shape, and its width W2 (length in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the connecting bar 13) may be 100 μm or more and 250 μm or less. A plurality of lead portions 12 are connected to each connecting bar 13 at intervals along the longitudinal direction. The region of the connecting bar 13 excluding the depth confirmation mark 40 described later has the same thickness as the metal substrate before processing (metal substrate 31 described later) without being thinned (half-etched). ing.

また、互いに直交する２つのコネクティングバー１３は、パッケージ領域１０ａの周囲に位置する連結部１９において互いに連結されている。この連結部１９は、リードフレーム１０内で格子点状に配置されている。連結部１９は、薄肉化（ハーフエッチング）されることなく、加工前の金属基板（後述する金属基板３１）と同一の厚みを有している。 Further, the two connecting bars 13 orthogonal to each other are connected to each other at the connecting portion 19 located around the package area 10a. The connecting portions 19 are arranged in a grid dot pattern in the lead frame 10. The connecting portion 19 has the same thickness as the metal substrate before processing (metal substrate 31 described later) without being thinned (half-etched).

ダイパッド１１は、中央に位置するダイパッド厚肉部１１ａと、ダイパッド厚肉部１１ａの周縁全周にわたって形成されたダイパッド薄肉部１１ｂとを有している。このうちダイパッド厚肉部１１ａは、ハーフエッチングされておらず、加工前の金属基板（後述する金属基板３１）と同一の厚みを有している。具体的には、ダイパッド厚肉部１１ａの厚みは、半導体装置２０の構成にもよるが、８０μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。一方、ダイパッド薄肉部１１ｂは、ハーフエッチングにより裏面側から薄肉に形成されている。このようにダイパッド薄肉部１１ｂを設けたことにより、ダイパッド１１が封止樹脂２３（後述）から離脱しにくくすることができる。 The die pad 11 has a die pad thick portion 11a located at the center and a die pad thin portion 11b formed over the entire periphery of the die pad thick portion 11a. Of these, the die pad thick portion 11a is not half-etched and has the same thickness as the metal substrate before processing (metal substrate 31 described later). Specifically, the thickness of the die pad thick portion 11a can be 80 μm or more and 200 μm or less, although it depends on the configuration of the semiconductor device 20. On the other hand, the die pad thin-walled portion 11b is formed to be thin-walled from the back surface side by half etching. By providing the die pad thin portion 11b in this way, it is possible to prevent the die pad 11 from being separated from the sealing resin 23 (described later).

各リード部１２は、後述するようにボンディングワイヤ２２を介して半導体素子２１に接続されるものであり、ダイパッド１１との間に空間を介して配置されている。各リード部１２は、それぞれコネクティングバー１３から延び出している。この場合、複数のリード部１２の形状は全て互いに同一であるが、これに限らず、複数のリード部１２の形状が互いに異なっていても良い。 Each lead portion 12 is connected to the semiconductor element 21 via a bonding wire 22 as described later, and is arranged between the lead portion 12 and the die pad 11 via a space. Each lead portion 12 extends from the connecting bar 13. In this case, the shapes of the plurality of lead portions 12 are all the same as each other, but the shape is not limited to this, and the shapes of the plurality of lead portions 12 may be different from each other.

複数のリード部１２は、上述したように、ダイパッド１１の周囲においてコネクティングバー１３の長手方向に沿って互いに間隔を空けて配置されている。隣接するリード部１２同士は、半導体装置２０（後述）の製造後に互いに電気的に絶縁される形状となっている。また、リード部１２は、半導体装置２０の製造後にダイパッド１１とも電気的に絶縁される形状となっている。このリード部１２の裏面には、それぞれ外部の実装基板（図示せず）に電気的に接続される外部端子１７がそれぞれ形成されている。各外部端子１７は、半導体装置２０（後述）の製造後に、それぞれ半導体装置２０から外方に露出するようになっている。 As described above, the plurality of lead portions 12 are arranged around the die pad 11 at intervals along the longitudinal direction of the connecting bar 13. The adjacent lead portions 12 have a shape that is electrically insulated from each other after the semiconductor device 20 (described later) is manufactured. Further, the lead portion 12 has a shape that is electrically insulated from the die pad 11 after the semiconductor device 20 is manufactured. External terminals 17 electrically connected to external mounting boards (not shown) are formed on the back surface of the lead portion 12, respectively. Each external terminal 17 is exposed to the outside from the semiconductor device 20 after the semiconductor device 20 (described later) is manufactured.

この場合、外部端子１７は、ダイパッド１１の各辺に沿って平面視で１列に配置されている。しかしながら、これに限らず、外部端子１７は、隣り合うリード部１２間で交互に内側および外側に位置するよう、平面視で千鳥状に配置されていても良い。 In this case, the external terminals 17 are arranged in a row along each side of the die pad 11 in a plan view. However, the present invention is not limited to this, and the external terminals 17 may be arranged in a staggered manner in a plan view so as to be alternately located inside and outside between the adjacent lead portions 12.

各リード部１２は、それぞれその内端（ダイパッド１１側端部）に、ハーフエッチングにより裏面側から薄肉化された薄肉部１２ａが形成されている。また、各リード部１２の表面には内部端子１５が形成されている。内部端子１５は、後述するようにボンディングワイヤ２２を介して半導体素子２１に電気的に接続される領域となっている。このため、内部端子１５上には、ボンディングワイヤ２２との密着性を向上させるめっき部が設けられていても良い。 Each lead portion 12 has a thin-walled portion 12a formed on its inner end (end on the die pad 11 side), which is thinned from the back surface side by half etching. Further, an internal terminal 15 is formed on the surface of each lead portion 12. The internal terminal 15 is a region electrically connected to the semiconductor element 21 via a bonding wire 22 as described later. Therefore, a plated portion for improving the adhesion with the bonding wire 22 may be provided on the internal terminal 15.

各リード部１２の基端部は、コネクティングバー１３に連結されている。各リード部１２は、当該リード部１２が連結されるコネクティングバー１３の長手方向に対して垂直に延びている。しかしながら、これに限らず、各リード部１２の一部又は全部がコネクティングバー１３に対して傾斜して延びていても良い。 The base end portion of each lead portion 12 is connected to the connecting bar 13. Each lead portion 12 extends perpendicular to the longitudinal direction of the connecting bar 13 to which the lead portion 12 is connected. However, the present invention is not limited to this, and a part or all of each lead portion 12 may extend so as to be inclined with respect to the connecting bar 13.

ところで、本実施の形態によるリードフレーム１０は、後述するように、２段階のソーイングにより切断される。すなわち、まず１回目のソーイングにより、コネクティングバー１３に沿ってリードフレーム１０を約半分の厚みだけ部分的にカット（ステップカット）する。その後、ステップカットに使用されるステップカット用ブレード３７（後述）よりも薄い切断用ブレード３８（後述）を使用して、２回目のソーイングを行い、リードフレーム１０を互いに分離する。 By the way, the lead frame 10 according to the present embodiment is cut by two-step sewing as described later. That is, first, by the first sewing, the lead frame 10 is partially cut (step cut) along the connecting bar 13 by about half the thickness. Then, a second sewing is performed using a cutting blade 38 (described later) thinner than the step cutting blade 37 (described later) used for step cutting, and the lead frames 10 are separated from each other.

このため、リードフレーム１０には、コネクティングバー１３の長さ方向に沿って、ステップカットされるステップカット領域４５と、ダイシングにより分離される切断領域４６とが設けられている。そして平面視で、コネクティングバー１３の全域が、対応する切断領域４６の内側に位置し、切断領域４６の全域が、対応するステップカット領域４５の内側に位置している。また、ステップカット領域４５、切断領域４６及びコネクティングバー１３の幅方向中心線ＣＬは互いに一致するようになっている。 Therefore, the lead frame 10 is provided with a step cut region 45 for step cutting and a cutting region 46 separated by dicing along the length direction of the connecting bar 13. Then, in a plan view, the entire area of the connecting bar 13 is located inside the corresponding cutting area 46, and the entire area of the cutting area 46 is located inside the corresponding step cutting area 45. Further, the step cut area 45, the cut area 46, and the width direction center line CL of the connecting bar 13 coincide with each other.

ステップカット領域４５は、樹脂封止後１回目のソーイングにより、リードフレーム１０の裏面側から厚み方向（Ｚ方向）に略半分だけステップカット（ハーフカット）される領域であり、平面視で互いに平行な一対の外縁Ｓ１、Ｓ１によって区画されている。このステップカット領域４５は、パッケージ領域１０ａの外周に沿って格子状に配置され、それぞれＸ方向又はＹ方向に沿って延びている。ステップカット領域４５は、パッケージ領域１０ａから外周領域１８に延びるとともに、外周領域１８を幅方向に横断している。ステップカット領域４５の幅Ｗ３は、ステップカットを行うステップカット用ブレード３７（後述）の幅に対応しており、コネクティングバー１３の幅Ｗ２よりも広い。具体的には、ステップカット領域４５の幅Ｗ３は、３０μｍ以上８０μｍ以下としても良い。 The step cut region 45 is a region that is step cut (half cut) by approximately half in the thickness direction (Z direction) from the back surface side of the lead frame 10 by the first sewing after resin sealing, and is parallel to each other in a plan view. It is partitioned by a pair of outer edges S1 and S1. The step cut regions 45 are arranged in a grid pattern along the outer circumference of the package region 10a, and extend along the X direction or the Y direction, respectively. The step cut region 45 extends from the package region 10a to the outer peripheral region 18, and crosses the outer peripheral region 18 in the width direction. The width W3 of the step cut region 45 corresponds to the width of the step cut blade 37 (described later) for performing the step cut, and is wider than the width W2 of the connecting bar 13. Specifically, the width W3 of the step cut region 45 may be 30 μm or more and 80 μm or less.

切断領域４６は、２回目のソーイングにより、リードフレーム１０の厚み方向（Ｚ方向）全体に切断する領域であり、平面視で互いに平行な一対の外縁Ｃ１、Ｃ１によって区画されている。この切断領域４６は、パッケージ領域１０ａの外周に沿って格子状に配置され、それぞれＸ方向又はＹ方向に沿って延びている。また切断領域４６は、パッケージ領域１０ａから外周領域１８に延びるとともに、外周領域１８を幅方向に横断している。なお、パッケージ領域１０ａの外縁は、切断領域４６の外縁Ｃ１、Ｃ１に一致する。切断領域４６の幅Ｗ４は、２回目のソーイングを行う切断用ブレード３８（後述）の幅に対応しており、コネクティングバー１３の幅Ｗ２よりも広く、ステップカット領域４５の幅Ｗ３よりも狭い（Ｗ２＜Ｗ４＜Ｗ３）。具体的には、切断領域４６の幅Ｗ４は、１０μｍ以上４０μｍ以下としても良い。 The cutting region 46 is a region that is cut in the entire thickness direction (Z direction) of the lead frame 10 by the second sewing, and is partitioned by a pair of outer edges C1 and C1 that are parallel to each other in a plan view. The cutting regions 46 are arranged in a grid pattern along the outer circumference of the package region 10a, and extend along the X direction or the Y direction, respectively. The cutting region 46 extends from the package region 10a to the outer peripheral region 18 and crosses the outer peripheral region 18 in the width direction. The outer edge of the package area 10a coincides with the outer edges C1 and C1 of the cutting area 46. The width W4 of the cutting area 46 corresponds to the width of the cutting blade 38 (described later) for performing the second sewing, is wider than the width W2 of the connecting bar 13, and is narrower than the width W3 of the step cutting area 45 (described later). W2 <W4 <W3). Specifically, the width W4 of the cutting region 46 may be 10 μm or more and 40 μm or less.

本実施の形態において、コネクティングバー１３には、それぞれ深さ確認マーク４０が設けられている。この深さ確認マーク４０は、ステップカット時にソーイング深さの確認を行うためのものである。具体的には、深さ確認マーク４０は、ステップカット領域４５に沿うステップカット（１回目のソーイング）工程において、ステップカット用ブレード３７によるソーイングの深さが十分であるか否かを確認するために用いられる。このため各深さ確認マーク４０は、ステップカット領域４５上にそれぞれ配置されている。この場合、深さ確認マーク４０は、各コネクティングバー１３の表面にそれぞれ形成され、Ｘ方向又はＹ方向に延びている。なお、深さ確認マーク４０は、最も外周側のパッケージ領域１０ａと外周領域１８との間にもそれぞれ設けられている。 In the present embodiment, each of the connecting bars 13 is provided with a depth confirmation mark 40. The depth confirmation mark 40 is for confirming the sewing depth at the time of step cutting. Specifically, the depth confirmation mark 40 is used to confirm whether or not the sewing depth by the step cutting blade 37 is sufficient in the step cutting (first sewing) step along the step cutting region 45. Used for. Therefore, each depth confirmation mark 40 is arranged on the step cut region 45, respectively. In this case, the depth confirmation mark 40 is formed on the surface of each connecting bar 13, and extends in the X direction or the Y direction. The depth confirmation mark 40 is also provided between the outermost package area 10a and the outer peripheral area 18.

各深さ確認マーク４０は、平面視で細長い略長方形形状を有している。各深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３の長さ方向に沿って延び、かつ、コネクティングバー１３の幅方向中央部に形成されている。各深さ確認マーク４０の幅Ｗ５（図４（ａ）参照）は、コネクティングバー１３の幅Ｗ２の３０％以上７０％以下としても良く、具体的には、幅Ｗ５は４５μｍ以上１７５μｍ以下としても良い。各深さ確認マーク４０の長さＬ２は、５００μｍ以上４０００μｍ以下としても良い。 Each depth confirmation mark 40 has an elongated substantially rectangular shape in a plan view. Each depth confirmation mark 40 extends along the length direction of the connecting bar 13 and is formed at the central portion in the width direction of the connecting bar 13. The width W5 of each depth confirmation mark 40 (see FIG. 4A) may be 30% or more and 70% or less of the width W2 of the connecting bar 13, and specifically, the width W5 may be 45 μm or more and 175 μm or less. good. The length L2 of each depth confirmation mark 40 may be 500 μm or more and 4000 μm or less.

各深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３の厚み方向（Ｚ方向）の途中まで凹む非貫通領域から構成されている。すなわち各深さ確認マーク４０は、ハーフエッチングにより表面側から薄肉化されることにより形成されており、その深さは、コネクティングバー１３の厚みの３０％以上７０％以下、好ましくは４０％以上６０％以下である。なお、各深さ確認マーク４０の裏面側は薄肉化されておらず、コネクティングバー１３の裏面と同一平面上に位置している。 Each depth confirmation mark 40 is composed of a non-penetrating region that is recessed halfway in the thickness direction (Z direction) of the connecting bar 13. That is, each depth confirmation mark 40 is formed by thinning from the surface side by half etching, and the depth thereof is 30% or more and 70% or less, preferably 40% or more and 60% of the thickness of the connecting bar 13. % Or less. The back surface side of each depth confirmation mark 40 is not thinned and is located on the same plane as the back surface side of the connecting bar 13.

本実施の形態において、各深さ確認マーク４０には、後述するように封止樹脂２３が充填される。そしてステップカット領域４５内のコネクティングバー１３が、裏面側からソーイング（ステップカット）された際、深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３が目印となる。これにより、コネクティングバー１３が適切な深さだけステップカットされたか否かを確認できるようになっている。 In the present embodiment, each depth confirmation mark 40 is filled with a sealing resin 23 as described later. When the connecting bar 13 in the step cut area 45 is sewn (step cut) from the back surface side, the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 serves as a mark. As a result, it is possible to confirm whether or not the connecting bar 13 has been step-cut by an appropriate depth.

この場合、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３のうち、複数のリード部１２が連結されている領域の全体にわたって延びている（図４（ａ）参照）。すなわち、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３上であって、コネクティングバー１３の一方の端部側に位置するリード部１２の近傍から、コネクティングバー１３の他方の端部側に位置するリード部１２の近傍まで全域にわたって延びている。しかしながら、これに限らず、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３のうち、各リード部１２との連結部分のみにそれぞれ形成されていても良い（図４（ｂ）参照）。あるいは、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３のうち、互いに隣接するリード部１２との連結部分間のみに形成されていても良い（図４（ｃ）参照）。 In this case, the depth confirmation mark 40 extends over the entire region of the connecting bar 13 to which the plurality of lead portions 12 are connected (see FIG. 4A). That is, the depth confirmation mark 40 is a lead portion located on the connecting bar 13 from the vicinity of the lead portion 12 located on one end side of the connecting bar 13 and on the other end side of the connecting bar 13. It extends over the entire area to the vicinity of 12. However, not limited to this, the depth confirmation mark 40 may be formed only on the connecting portion of the connecting bar 13 with each lead portion 12 (see FIG. 4B). Alternatively, the depth confirmation mark 40 may be formed only for the connecting portion of the connecting bar 13 with the lead portions 12 adjacent to each other (see FIG. 4C).

以上説明したリードフレーム１０は、全体として銅、銅合金、４２合金（Ｎｉ４２％のＦｅ合金）等の金属から構成されている。また、リードフレーム１０の厚みは、製造する半導体装置２０の構成にもよるが、８０μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。 The lead frame 10 described above is composed of a metal such as copper, a copper alloy, and a 42 alloy (Ni 42% Fe alloy) as a whole. The thickness of the lead frame 10 can be 80 μm or more and 200 μm or less, although it depends on the configuration of the semiconductor device 20 to be manufactured.

なお、本実施の形態において、リード部１２は、ダイパッド１１の４辺全てに沿って配置されているが、これに限られるものではなく、例えばダイパッド１１の対向する２辺のみに沿って配置されていても良い。 In the present embodiment, the lead portion 12 is arranged along all four sides of the die pad 11, but is not limited to this, and is arranged along only two opposing sides of the die pad 11, for example. You may be.

半導体装置の構成
次に、図５および図６により、本実施の形態による半導体装置について説明する。図５および図６は、本実施の形態による半導体装置（ＱＦＮタイプ）を示す図である。 Configuration of Semiconductor Device Next, the semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6. 5 and 6 are diagrams showing a semiconductor device (QFN type) according to the present embodiment.

図５および図６に示すように、半導体装置（半導体パッケージ）２０は、ダイパッド１１と、ダイパッド１１の周囲に配置された複数のリード部１２と、ダイパッド１１上に搭載された半導体素子２１と、リード部１２と半導体素子２１とを電気的に接続する複数のボンディングワイヤ（接続部材）２２とを備えている。また、ダイパッド１１、リード部１２、半導体素子２１およびボンディングワイヤ２２は、封止樹脂２３によって樹脂封止されている。 As shown in FIGS. 5 and 6, the semiconductor device (semiconductor package) 20 includes a die pad 11, a plurality of lead portions 12 arranged around the die pad 11, and a semiconductor element 21 mounted on the die pad 11. A plurality of bonding wires (connecting members) 22 for electrically connecting the lead portion 12 and the semiconductor element 21 are provided. Further, the die pad 11, the lead portion 12, the semiconductor element 21, and the bonding wire 22 are resin-sealed with the sealing resin 23.

ダイパッド１１及びリード部１２は、上述したリードフレーム１０から作製されたものである。リード部１２のうち、封止樹脂２３の周縁に位置する部分は、ステップカットにより裏面側から薄肉化され、段状のステップカット部４５ａを形成している。ステップカット部４５ａには、封止樹脂２３が充填されていない。このステップカット部４５ａは、半田めっきにより覆われていても良い。また、ステップカット部４５ａの側面４５ｂには、ステップカット時にバリが生じ、このバリが裏面側に向けて突出しても良い。なお、ステップカット部４５ａの深さＤ１は、ハーフエッチング部（ダイパッド薄肉部１１ｂ等）の深さＤ２より深くしても良い。このほか、ダイパッド１１及びリード部１２の構成は、半導体装置２０に含まれない領域を除き、上述した図１乃至図４に示すものと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。 The die pad 11 and the lead portion 12 are manufactured from the lead frame 10 described above. The portion of the lead portion 12 located on the peripheral edge of the sealing resin 23 is thinned from the back surface side by step cutting to form a stepped step cutting portion 45a. The step cut portion 45a is not filled with the sealing resin 23. The step cut portion 45a may be covered with solder plating. Further, burrs may be generated on the side surface 45b of the step cut portion 45a at the time of step cutting, and the burrs may protrude toward the back surface side. The depth D1 of the step cut portion 45a may be deeper than the depth D2 of the half-etched portion (die pad thin-walled portion 11b or the like). In addition, since the configurations of the die pad 11 and the lead portion 12 are the same as those shown in FIGS. 1 to 4 described above except for the region not included in the semiconductor device 20, detailed description thereof will be omitted here.

半導体素子２１としては、従来一般に用いられている各種半導体素子を使用することが可能であり、特に限定されないが、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等を用いることができる。この半導体素子２１は、各々ボンディングワイヤ２２が取り付けられる複数の電極２１ａを有している。また、半導体素子２１は、例えばダイボンディングペースト等の接着剤２４により、ダイパッド１１の表面に固定されている。 As the semiconductor element 21, various semiconductor elements generally used in the past can be used, and the semiconductor element 21 is not particularly limited, and for example, an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode, or the like can be used. Each of the semiconductor elements 21 has a plurality of electrodes 21a to which the bonding wires 22 are attached. Further, the semiconductor element 21 is fixed to the surface of the die pad 11 with an adhesive 24 such as a die bonding paste.

各ボンディングワイヤ２２は、例えば金、銅等の導電性の良い材料からなっている。各ボンディングワイヤ２２は、それぞれその一端が半導体素子２１の電極２１ａに接続されるとともに、その他端が各リード部１２の内部端子１５にそれぞれ接続されている。なお、内部端子１５には、ボンディングワイヤ２２と密着性を向上させるめっき部が設けられていても良い。 Each bonding wire 22 is made of a highly conductive material such as gold or copper. One end of each bonding wire 22 is connected to the electrode 21a of the semiconductor element 21, and the other end is connected to the internal terminal 15 of each lead portion 12. The internal terminal 15 may be provided with a plated portion that improves the adhesion to the bonding wire 22.

封止樹脂２３としては、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはＰＰＳ樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。封止樹脂２３全体の厚みは、３００μｍ以上１２００μｍ以下程度とすることができる。また、封止樹脂２３の一辺（半導体装置２０の一辺）は、例えば６ｍｍ以上１６ｍｍ以下することができる。なお、図５において、封止樹脂２３のうち、ダイパッド１１及びリード部１２よりも表面側に位置する部分の表示を省略している。 As the sealing resin 23, a thermosetting resin such as a silicone resin or an epoxy resin, or a thermoplastic resin such as a PPS resin can be used. The thickness of the entire sealing resin 23 can be about 300 μm or more and 1200 μm or less. Further, one side of the sealing resin 23 (one side of the semiconductor device 20) can be, for example, 6 mm or more and 16 mm or less. In FIG. 5, the display of the portion of the sealing resin 23 located on the surface side of the die pad 11 and the lead portion 12 is omitted.

リードフレームの製造方法
次に、図１乃至図４に示すリードフレーム１０の製造方法について、図７（ａ）−（ｅ）を用いて説明する。なお、図７（ａ）−（ｅ）は、リードフレーム１０の製造方法を示す断面図（図３に対応する図）である。 Method for Manufacturing Lead Frame Next, the method for manufacturing the lead frame 10 shown in FIGS. 1 to 4 will be described with reference to FIGS. 7 (a) and 7 (e). 7 (a)-(e) are cross-sectional views (corresponding to FIG. 3) showing a method of manufacturing the lead frame 10.

まず図７（ａ）に示すように、平板状の金属基板３１を準備する。この金属基板３１としては、銅、銅合金、４２合金（Ｎｉ４２％のＦｅ合金）等の金属からなる基板を使用することができる。なお金属基板３１は、その両面に対して脱脂等を行い、洗浄処理を施したものを使用することが好ましい。 First, as shown in FIG. 7A, a flat metal substrate 31 is prepared. As the metal substrate 31, a substrate made of a metal such as copper, a copper alloy, or a 42 alloy (Ni 42% Fe alloy) can be used. It is preferable to use a metal substrate 31 which has been subjected to a cleaning treatment by degreasing or the like on both sides thereof.

次に、金属基板３１の表裏全体にそれぞれ感光性レジスト３２ａ、３３ａを塗布し、これを乾燥する（図７（ｂ））。なお感光性レジスト３２ａ、３３ａとしては、従来公知のものを使用することができる。 Next, photosensitive resists 32a and 33a are applied to the entire front and back surfaces of the metal substrate 31, and the resists 32a and 33a are dried (FIG. 7 (b)). As the photosensitive resists 32a and 33a, conventionally known ones can be used.

続いて、この金属基板３１に対してフォトマスクを介して露光し、現像することにより、所望の開口部３２ｂ、３３ｂを有するエッチング用レジスト層３２、３３を形成する（図７（ｃ））。 Subsequently, the metal substrate 31 is exposed to a photomask and developed to form etching resist layers 32 and 33 having desired openings 32b and 33b (FIG. 7 (c)).

次に、エッチング用レジスト層３２、３３を耐腐蝕膜として金属基板３１に腐蝕液でエッチングを施す（図７（ｄ））。これにより、ダイパッド１１、リード部１２及びコネクティングバー１３の外形が形成される。このとき、コネクティングバー１３には、その表面側からハーフエッチングされることにより、深さ確認マーク４０が形成される。なお、腐蝕液は、使用する金属基板３１の材質に応じて適宜選択することができ、例えば、金属基板３１として銅を用いる場合、通常、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板３１の両面からスプレーエッチングを行うことができる。 Next, the metal substrate 31 is etched with a corrosive liquid using the resist layers 32 and 33 for etching as corrosion resistant films (FIG. 7 (d)). As a result, the outer shapes of the die pad 11, the lead portion 12, and the connecting bar 13 are formed. At this time, the depth confirmation mark 40 is formed on the connecting bar 13 by half-etching from the surface side thereof. The corrosion liquid can be appropriately selected according to the material of the metal substrate 31 to be used. For example, when copper is used as the metal substrate 31, an aqueous ferric chloride solution is usually used and both sides of the metal substrate 31 are used. Can be spray etched from.

その後、エッチング用レジスト層３２、３３を剥離して除去することにより、図１乃至図３に示すリードフレーム１０が得られる。（図７（ｅ））。 Then, by peeling off and removing the etching resist layers 32 and 33, the lead frame 10 shown in FIGS. 1 to 3 can be obtained. (Fig. 7 (e)).

半導体装置の製造方法
次に、図５および図６に示す半導体装置２０の製造方法について、図８（ａ）−（ｄ）及び図９（ａ）−（ｃ）を用いて説明する。 Manufacturing Method of Semiconductor Device Next, the manufacturing method of the semiconductor device 20 shown in FIGS. 5 and 6 will be described with reference to FIGS. 8 (a)-(d) and 9 (a)-(c).

まず、例えば図７（ａ）−（ｅ）に示す方法により、リードフレーム１０を作製する（図８（ａ））。 First, for example, the lead frame 10 is manufactured by the method shown in FIGS. 7 (a)-(e) (FIG. 8 (a)).

次に、リードフレーム１０のダイパッド１１上に、半導体素子２１を搭載する。この場合、例えばダイボンディングペースト等の接着剤２４を用いて、半導体素子２１をダイパッド１１上に載置して固定する（ダイアタッチ工程）（図８（ｂ））。 Next, the semiconductor element 21 is mounted on the die pad 11 of the lead frame 10. In this case, the semiconductor element 21 is placed and fixed on the die pad 11 by using an adhesive 24 such as a die bonding paste (diaattachment step) (FIG. 8 (b)).

次に、半導体素子２１の各電極２１ａと、各リード部１２の内部端子１５とを、それぞれボンディングワイヤ（接続部材）２２によって互いに電気的に接続する（ワイヤボンディング工程）（図８（ｃ））。 Next, each electrode 21a of the semiconductor element 21 and the internal terminal 15 of each lead portion 12 are electrically connected to each other by a bonding wire (connecting member) 22 (wire bonding step) (FIG. 8 (c)). ..

次に、リードフレーム１０に対して熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を射出成形またはトランスファ成形することにより、封止樹脂２３を形成する（樹脂封止工程）（図８（ｄ））。このようにして、リードフレーム１０（ダイパッド１１、リード部１２及びコネクティングバー１３）、半導体素子２１およびボンディングワイヤ２２を封止する。このとき、コネクティングバー１３の深さ確認マーク４０内にも封止樹脂２３が充填される。 Next, the sealing resin 23 is formed by injection molding or transfer molding a thermosetting resin or a thermoplastic resin on the lead frame 10 (resin sealing step) (FIG. 8 (d)). In this way, the lead frame 10 (die pad 11, lead portion 12, and connecting bar 13), the semiconductor element 21, and the bonding wire 22 are sealed. At this time, the sealing resin 23 is also filled in the depth confirmation mark 40 of the connecting bar 13.

続いて、ステップカット領域４５に沿って、リードフレーム１０の厚み方向の一部を切除する（ステップカット工程：１回目のソーイング）（図９（ａ））。 Subsequently, a part of the lead frame 10 in the thickness direction is cut along the step cut region 45 (step cut step: first sewing) (FIG. 9 (a)).

この間、例えばダイヤモンド砥石からなるステップカット用ブレード３７を準備し、このステップカット用ブレード３７をステップカット領域４５に沿って移動させる。この際、ステップカット用ブレード３７を回転させながら、ステップカット領域４５を切除する。これにより、ステップカット領域４５内のコネクティングバー１３、外周領域１８及び封止樹脂２３を部分的に切除する。このステップカットにより、ステップカット領域４５のコネクティングバー１３及び外周領域１８が厚み方向途中まで切除され、ステップカット部４５ａが形成される。このステップカットの作業は、Ｘ方向及びＹ方向に沿って複数回繰り返され、平面視格子状にステップカット部４５ａが形成される。 During this time, a step-cutting blade 37 made of, for example, a diamond grindstone is prepared, and the step-cutting blade 37 is moved along the step-cutting region 45. At this time, the step cut region 45 is cut while rotating the step cut blade 37. As a result, the connecting bar 13, the outer peripheral region 18, and the sealing resin 23 in the step cut region 45 are partially cut off. By this step cut, the connecting bar 13 and the outer peripheral region 18 of the step cut region 45 are cut halfway in the thickness direction, and the step cut portion 45a is formed. This step cut operation is repeated a plurality of times along the X direction and the Y direction, and the step cut portion 45a is formed in a plan view grid pattern.

このステップカット工程の後、電解めっきを施すことにより、ステップカット部４５ａに図示しない半田めっき層を形成しても良い。 After this step cutting step, a solder plating layer (not shown) may be formed on the step cutting portion 45a by performing electrolytic plating.

このようにしてステップカット領域４５に沿ってステップカットを行う際、ソーイングの深さは予め定められた所定の深さとなる必要がある。しかしながら、ステップカット用ブレード３７は経時的な摩耗等により劣化し、ステップカット用ブレード３７の大きさが小さくなる可能性がある。この場合、ステップカット用ブレード３７がリードフレーム１０の厚み方向に十分な深さまで進入せず、ソーイングの深さが不十分となるおそれがある。 When performing a step cut along the step cut region 45 in this way, the sewing depth needs to be a predetermined predetermined depth. However, the step-cutting blade 37 may deteriorate due to wear over time, and the size of the step-cutting blade 37 may become smaller. In this case, the step-cutting blade 37 may not penetrate to a sufficient depth in the thickness direction of the lead frame 10, and the sewing depth may be insufficient.

これに対して本実施の形態においては、ステップカット領域４５上に、表面側から薄肉化されることにより深さ確認マーク４０が形成されている。この深さ確認マーク４０には、封止樹脂２３が充填されている。したがって、ステップカット用ブレード３７が劣化しておらず、ソーイングの深さが十分確保されている場合には、ステップカットを行った後、裏面側（Ｚ方向マイナス側）から見たとき、一対のステップカット部４５ａ、４５ａの間に、深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３が露出する（図１０（ａ））。これに対して、ステップカット用ブレード３７が劣化しており、ソーイングの深さが不十分である場合には、ステップカットを行った後、裏面側から見てステップカット領域４５に沿って金属部分のみが露出し、深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３を確認することは実質的に不可能である（図１０（ｂ））。 On the other hand, in the present embodiment, the depth confirmation mark 40 is formed on the step cut region 45 by thinning from the surface side. The depth confirmation mark 40 is filled with the sealing resin 23. Therefore, when the step cutting blade 37 is not deteriorated and the sewing depth is sufficiently secured, a pair of the step cutting blades 37 are viewed from the back surface side (minus side in the Z direction) after the step cutting. The sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 is exposed between the step cut portions 45a and 45a (FIG. 10A). On the other hand, when the step cutting blade 37 is deteriorated and the sewing depth is insufficient, after performing the step cutting, the metal portion is formed along the step cutting region 45 when viewed from the back surface side. Only is exposed, and it is practically impossible to confirm the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 (FIG. 10 (b)).

このように、深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３を確認することにより、ステップカット時のソーイングの深さが適当であるか否かを簡易的な方法で確認することができる。なお、深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３は、目視によって確認しても良く、画像処理装置等により自動で識別するようにしても良い。 By confirming the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 in this way, it is possible to confirm by a simple method whether or not the sewing depth at the time of step cutting is appropriate. The sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 may be visually confirmed, or may be automatically identified by an image processing device or the like.

次いで、パッケージ領域１０ａ毎に、リードフレーム１０及び封止樹脂２３を切断する（切断工程：２回目のソーイング）（図９（ｂ））。 Next, the lead frame 10 and the sealing resin 23 are cut for each package region 10a (cutting step: second sewing) (FIG. 9 (b)).

この際、例えばダイヤモンド砥石からなる切断用ブレード３８を準備する。この切断用ブレード３８は、上述したステップカット用ブレード３７よりも幅が狭い。次に、この切断用ブレード３８を回転させながら移動することにより、切断領域４６を切断する。これにより、切断領域４６内のコネクティングバー１３、外周領域１８及び封止樹脂２３を厚み方向（Ｚ方向）全域にわたって切断（ダイシング）する。この切断作業は、Ｘ方向及びＹ方向に沿って複数回繰り返され、平面視格子状に切断線が形成される。 At this time, for example, a cutting blade 38 made of a diamond grindstone is prepared. The cutting blade 38 is narrower than the step cutting blade 37 described above. Next, the cutting region 46 is cut by moving the cutting blade 38 while rotating it. As a result, the connecting bar 13, the outer peripheral region 18, and the sealing resin 23 in the cutting region 46 are cut (diced) over the entire thickness direction (Z direction). This cutting operation is repeated a plurality of times along the X direction and the Y direction, and cutting lines are formed in a planar grid pattern.

このようにして、リードフレーム１０が半導体装置２０毎に分離され、図５および図６に示す半導体装置２０が得られる（図８（ｃ））。 In this way, the lead frame 10 is separated for each semiconductor device 20, and the semiconductor device 20 shown in FIGS. 5 and 6 is obtained (FIG. 8 (c)).

以上説明したように、本実施の形態によれば、ステップカット領域４５上に、表面側から薄肉化されることにより深さ確認マーク４０が形成されている。ステップカットを行った後、この深さ確認マーク４０内の封止樹脂２３が裏面側に露出しているか否かを確認することにより、ソーイングの深さが適切であるかを簡易的に確認することができる。これにより、ステップカット用ブレード３７が経時的に劣化したか否かを簡単に判断することができる。この場合、ソーイングの深さを高い頻度で測定する必要が生じないので、半導体装置２０の生産性が低下することを抑えることができる。 As described above, according to the present embodiment, the depth confirmation mark 40 is formed on the step cut region 45 by thinning from the surface side. After performing the step cut, it is simply confirmed whether the sewing depth is appropriate by confirming whether or not the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40 is exposed on the back surface side. be able to. Thereby, it can be easily determined whether or not the step cutting blade 37 has deteriorated over time. In this case, since it is not necessary to measure the sewing depth with high frequency, it is possible to suppress a decrease in the productivity of the semiconductor device 20.

また、本実施の形態によれば、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３に設けられている。これにより、ソーイングの深さが適切であるかをリードフレーム１０の面内の略全域にわたって確認することができる。 Further, according to the present embodiment, the depth confirmation mark 40 is provided on the connecting bar 13. As a result, it is possible to confirm whether the sewing depth is appropriate over substantially the entire area in the plane of the lead frame 10.

また、本実施の形態によれば、深さ確認マーク４０は、コネクティングバー１３の厚み方向途中まで凹んでいる。この深さ確認マーク４０は、リードフレーム１０をエッチングにより形成する際に、ハーフエッチングにより同時に形成することができるので、深さ確認マーク４０を形成する工程を別途設ける必要が生じない。 Further, according to the present embodiment, the depth confirmation mark 40 is recessed halfway in the thickness direction of the connecting bar 13. Since the depth confirmation mark 40 can be formed at the same time by half etching when the lead frame 10 is formed by etching, it is not necessary to separately provide a step of forming the depth confirmation mark 40.

変形例
次に、図１１乃至図１５により、本実施の形態によるリードフレームの各変形例について説明する。図１１乃至図１５に示す変形例は、深さ確認マークの構成が異なるものであり、他の構成は、図１乃至図１０に示す実施の形態と略同一である。図１１乃至図１５において、図１乃至図１０と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。 Modification Examples Next, each modification of the lead frame according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 15. The modified examples shown in FIGS. 11 to 15 have different configurations of the depth confirmation marks, and the other configurations are substantially the same as those of the embodiments shown in FIGS. 1 to 10. In FIGS. 11 to 15, the same parts as those in FIGS. 1 to 10 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

（変形例１）
図１１に示すリードフレーム１０Ａにおいて、コネクティングバー１３に深さ確認マーク４０Ａが設けられている。この場合、深さ確認マーク４０Ａは、表面側から薄肉化された一対の薄肉部４７と、一対の薄肉部４７の間に位置し、薄肉化されていない中間部４８とを有している。 (Modification example 1)
In the lead frame 10A shown in FIG. 11, a depth confirmation mark 40A is provided on the connecting bar 13. In this case, the depth confirmation mark 40A has a pair of thin-walled portions 47 thinned from the surface side and an intermediate portion 48 which is located between the pair of thin-walled portions 47 and is not thinned.

一対の薄肉部４７は、互いに平行に配置されており、それぞれ平面視で細長い略長方形形状を有している。一対の薄肉部４７は、コネクティングバー１３の長さ方向に沿って延びている。また、中間部４８は、コネクティングバー１３の幅方向中央部に形成されている。各薄肉部４７は、ハーフエッチングにより表面側から薄肉化されることにより形成されている。一方、中間部４８は薄肉化されておらず、加工前の金属基板（金属基板３１）と同一の厚みを有している。 The pair of thin-walled portions 47 are arranged in parallel with each other, and each has an elongated substantially rectangular shape in a plan view. The pair of thin-walled portions 47 extend along the length direction of the connecting bar 13. Further, the intermediate portion 48 is formed at the central portion in the width direction of the connecting bar 13. Each thin-walled portion 47 is formed by thinning from the surface side by half-etching. On the other hand, the intermediate portion 48 is not thinned and has the same thickness as the metal substrate (metal substrate 31) before processing.

図１２（ａ）に示すように、樹脂封止後、深さ確認マーク４０Ａの各薄肉部４７には封止樹脂２３が充填される。そしてステップカット領域４５内のコネクティングバー１３が裏面側からソーイング（ステップカット）された際、一対の薄肉部４７内に充填された封止樹脂２３の間に位置する中間部４８が目印となり、コネクティングバー１３が適切な深さだけステップカットされたか否かを確認できるようになっている。 As shown in FIG. 12A, after the resin is sealed, the sealing resin 23 is filled in each thin-walled portion 47 of the depth confirmation mark 40A. When the connecting bar 13 in the step cut region 45 is sewn (step cut) from the back surface side, the intermediate portion 48 located between the sealing resins 23 filled in the pair of thin-walled portions 47 serves as a mark for connecting. It is possible to confirm whether or not the bar 13 has been step-cut by an appropriate depth.

すなわち、ステップカット用ブレード３７が劣化しておらず、ソーイングの深さが十分確保されている場合には、ステップカットを行った後、裏面側から見たとき、一対の薄肉部４７内にそれぞれ充填された封止樹脂２３と、一対の封止樹脂２３の間に位置する中間部４８とを視認することができる（図１２（ａ））。これに対して、ステップカット用ブレード３７が劣化しており、ソーイングの深さが不十分である場合には、ステップカットを行った後、裏面側から見てステップカット領域４５に沿って金属部分のみが露出する。このため、薄肉部４７内の封止樹脂２３と、一対の封止樹脂２３の間に位置する中間部４８とを確認することは実質的に不可能である（図１２（ｂ））。 That is, when the step-cutting blade 37 has not deteriorated and the sewing depth is sufficiently secured, the inside of the pair of thin-walled portions 47 when viewed from the back surface side after the step-cutting is performed. The filled sealing resin 23 and the intermediate portion 48 located between the pair of sealing resins 23 can be visually recognized (FIG. 12A). On the other hand, when the step cutting blade 37 is deteriorated and the sewing depth is insufficient, after performing the step cutting, the metal portion is formed along the step cutting region 45 when viewed from the back surface side. Only exposed. Therefore, it is practically impossible to confirm the sealing resin 23 in the thin-walled portion 47 and the intermediate portion 48 located between the pair of sealing resins 23 (FIG. 12 (b)).

本変形例によれば、ステップカットを行った後、一対の薄肉部４７内にそれぞれ充填された封止樹脂２３と、一対の封止樹脂２３の間に位置する中間部４８とが裏面側に露出しているか否かを確認することにより、ソーイングの深さが適切であるかを簡易的に確認することができる。 According to this modification, after the step cut, the sealing resin 23 filled in the pair of thin-walled portions 47 and the intermediate portion 48 located between the pair of sealing resins 23 are on the back surface side. By confirming whether or not it is exposed, it is possible to easily confirm whether or not the sewing depth is appropriate.

（変形例２）
図１３に示すリードフレーム１０Ｂにおいて、深さ確認マーク４０Ｂは、表面側から薄肉化された一対の薄肉部４７と、一対の薄肉部４７の間に位置し、薄肉化されていない中間部４８とを有している。 (Modification 2)
In the lead frame 10B shown in FIG. 13, the depth confirmation mark 40B is located between the pair of thin-walled portions 47 thinned from the surface side and the pair of thin-walled portions 47, and the intermediate portion 48 which is not thinned. have.

この場合、中間部４８の幅方向両側面に、それぞれテーパー面４８ａが形成されている。この一対のテーパー面４８ａにより、中間部４８は、表面側（Ｚ方向プラス側）から裏面側（Ｚ方向マイナス側）に向けてその幅が徐々に太くなっている。一方、各薄肉部４７は、表面側から裏面側に向けてその幅が徐々に狭くなっている。なお、テーパー面４８ａは、中間部４８の一方の側面のみに形成されていても良い。 In this case, tapered surfaces 48a are formed on both side surfaces of the intermediate portion 48 in the width direction. Due to the pair of tapered surfaces 48a, the width of the intermediate portion 48 gradually increases from the front surface side (plus side in the Z direction) to the back surface side (minus side in the Z direction). On the other hand, the width of each thin-walled portion 47 gradually narrows from the front surface side to the back surface side. The tapered surface 48a may be formed only on one side surface of the intermediate portion 48.

図１３に示すように、ステップカット用ブレード３７が劣化しておらず、ソーイングの深さが十分確保されている場合には、ステップカットを行った後、裏面側から見たとき、一対の薄肉部４７内にそれぞれ充填された封止樹脂２３と、一対の封止樹脂２３の間に位置する中間部４８とを視認することができる。 As shown in FIG. 13, when the step-cutting blade 37 has not deteriorated and the sewing depth is sufficiently secured, a pair of thin walls are viewed from the back surface side after the step-cutting. The sealing resin 23 filled in each of the portions 47 and the intermediate portion 48 located between the pair of sealing resins 23 can be visually recognized.

さらに、本変形例によれば、裏面側に露出した中間部４８の幅Ｗ６を測定することにより、ソーイングの深さを簡単に推定することができる。すなわち、ソーイングの深さが浅いほど中間部４８の幅Ｗ６が太くなり、ソーイングの深さが深いほど中間部４８の幅Ｗ６が浅くなる。これにより、ステップカット用ブレード３７がどの程度劣化しているかを簡易的に推測することができる。 Further, according to this modification, the sewing depth can be easily estimated by measuring the width W6 of the intermediate portion 48 exposed on the back surface side. That is, the shallower the sewing depth, the thicker the width W6 of the intermediate portion 48, and the deeper the sewing depth, the shallower the width W6 of the intermediate portion 48. Thereby, it is possible to easily estimate how much the step cutting blade 37 has deteriorated.

このほかの構成は、図１１および図１２に示すリードフレーム１０Ａの構成と略同一である。 Other configurations are substantially the same as the configurations of the lead frame 10A shown in FIGS. 11 and 12.

（変形例３）
図１４に示すリードフレーム１０Ｃにおいて、深さ確認マーク４０Ｃは、ステップカット領域４５上であって、コネクティングバー１３同士を互いに連結する連結部１９に設けられている。深さ確認マーク４０Ｃは、平面視で略正方形形状を有している。各深さ確認マーク４０Ｃは、連結部１９の中央部に形成されている。各深さ確認マーク４０Ｃの一辺の長さＬ３は、コネクティングバー１３の幅Ｗ２の３０％以上７０％以下としても良い。 (Modification example 3)
In the lead frame 10C shown in FIG. 14, the depth confirmation mark 40C is provided on the step cut region 45 and at the connecting portion 19 for connecting the connecting bars 13 to each other. The depth confirmation mark 40C has a substantially square shape in a plan view. Each depth confirmation mark 40C is formed in the central portion of the connecting portion 19. The length L3 of one side of each depth confirmation mark 40C may be 30% or more and 70% or less of the width W2 of the connecting bar 13.

各深さ確認マーク４０Ｃは、ハーフエッチングにより連結部１９の表面側から薄肉化されることにより形成されており、その深さは、連結部１９の厚みの３０％以上７０％以下、好ましくは４０％以上６０％以下である。 Each depth confirmation mark 40C is formed by thinning from the surface side of the connecting portion 19 by half etching, and the depth thereof is 30% or more and 70% or less, preferably 40% of the thickness of the connecting portion 19. % Or more and 60% or less.

本実施の形態において、樹脂封止後、各深さ確認マーク４０Ｃには封止樹脂２３が充填される。そしてステップカット領域４５内のコネクティングバー１３が裏面側からソーイング（ステップカット）された際、深さ確認マーク４０Ｃ内の封止樹脂２３が目印となり、コネクティングバー１３が適切な深さだけステップカットされたか確認できるようになっている。 In the present embodiment, after the resin is sealed, each depth confirmation mark 40C is filled with the sealing resin 23. When the connecting bar 13 in the step cut area 45 is sewn (step cut) from the back surface side, the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40C serves as a mark, and the connecting bar 13 is step cut to an appropriate depth. You can check if it is.

本変形例によれば、ステップカットを行った後、深さ確認マーク４０Ｃ内に充填された封止樹脂２３が裏面側に露出しているか否かを確認することにより、ソーイングの深さが適切であるかを簡易的に確認することができる。この場合、深さ確認マーク４０Ｃが連結部１９に設けられているので、深さ確認マーク４０Ｃによってコネクティングバー１３に影響が生じにくくなっている。 According to this modification, the sewing depth is appropriate by checking whether or not the sealing resin 23 filled in the depth confirmation mark 40C is exposed on the back surface side after performing the step cut. You can easily check if it is. In this case, since the depth confirmation mark 40C is provided in the connecting portion 19, the depth confirmation mark 40C is less likely to affect the connecting bar 13.

（変形例４）
図１５に示すリードフレーム１０Ｄにおいて、深さ確認マーク４０Ｄは、ステップカット領域４５上であって、外周領域１８に設けられている。深さ確認マーク４０Ｄは、平面視で略長方形形状を有している。各深さ確認マーク４０Ｄは、ステップカット領域４５の幅方向中央部に形成されている。 (Modification example 4)
In the lead frame 10D shown in FIG. 15, the depth confirmation mark 40D is provided on the step cut region 45 and in the outer peripheral region 18. The depth confirmation mark 40D has a substantially rectangular shape in a plan view. Each depth confirmation mark 40D is formed in the central portion of the step cut region 45 in the width direction.

各深さ確認マーク４０Ｄは、ハーフエッチングにより外周領域１８の表面側から薄肉化されることにより形成されており、その深さは、外周領域１８の厚みの３０％以上７０％以下、好ましくは４０％以上６０％以下である。 Each depth confirmation mark 40D is formed by thinning the outer peripheral region 18 from the surface side by half etching, and the depth thereof is 30% or more and 70% or less, preferably 40% of the thickness of the outer peripheral region 18. % Or more and 60% or less.

本実施の形態において、樹脂封止後、各深さ確認マーク４０Ｄには封止樹脂２３が充填される。そしてステップカット領域４５内の外周領域１８が裏面側からソーイング（ステップカット）された際、深さ確認マーク４０Ｄ内の封止樹脂２３が目印となり、コネクティングバー１３及び外周領域１８が適切な深さだけステップカットされたか確認できるようになっている。 In the present embodiment, after the resin is sealed, each depth confirmation mark 40D is filled with the sealing resin 23. When the outer peripheral region 18 in the step cut region 45 is sewn (step cut) from the back surface side, the sealing resin 23 in the depth confirmation mark 40D serves as a mark, and the connecting bar 13 and the outer peripheral region 18 have an appropriate depth. It is possible to check if only the step cut has been made.

本変形例によれば、ステップカットを行った後、深さ確認マーク４０Ｄ内に充填された封止樹脂２３が裏面側に露出しているか否かを確認することにより、ソーイングの深さが適切であるかを簡易的に確認することができる。また本変形例によれば、深さ確認マーク４０Ｄが外周領域１８に設けられているので、深さ確認マーク４０Ｄを広い面積で形成することができ、深さ確認マーク４０Ｄ内に充填された封止樹脂２３を視認しやすくすることができる。 According to this modification, the sewing depth is appropriate by checking whether or not the sealing resin 23 filled in the depth confirmation mark 40D is exposed on the back surface side after performing the step cut. You can easily check if it is. Further, according to this modification, since the depth confirmation mark 40D is provided in the outer peripheral region 18, the depth confirmation mark 40D can be formed in a wide area, and the seal filled in the depth confirmation mark 40D can be formed. The stop resin 23 can be easily visually recognized.

上記各実施の形態及び変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記各実施の形態及び変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 It is also possible to appropriately combine a plurality of components disclosed in each of the above-described embodiments and modifications as necessary. Alternatively, some components may be deleted from all the components shown in the above embodiments and modifications.

１０ リードフレーム
１０ａ パッケージ領域
１１ ダイパッド
１２ リード部
１３ コネクティングバー
１４ 吊りリード
１５ 内部端子
１７ 外部端子
１８ 外周領域
１９ 連結部
２０ 半導体装置
２１ 半導体素子
２２ ボンディングワイヤ
２３ 封止樹脂
４０ 深さ確認マーク
４５ ステップカット領域
４６ 切断領域 10 Lead frame 10a Package area 11 Die pad 12 Lead part 13 Connecting bar 14 Suspended lead 15 Internal terminal 17 External terminal 18 Outer peripheral area 19 Connecting part 20 Semiconductor device 21 Semiconductor element 22 Bonding wire 23 Sealing resin 40 Depth confirmation mark 45 Step cut Area 46 cutting area

Claims (7)

リードフレームにおいて、
外周領域と、
前記外周領域内に配置されたパッケージ領域と、
前記パッケージ領域の周囲から前記外周領域に延びるとともに、裏面側から前記リードフレームの厚み方向の一部を切除する領域である、ステップカット領域とを備え、
前記ステップカット領域上に、表面側から薄肉化されることにより深さ確認マークが形成されている、リードフレーム。 In the lead frame
Outer circumference area and
The package area arranged in the outer peripheral area and
A step cut region, which extends from the periphery of the package region to the outer peripheral region and is a region for cutting a part of the lead frame in the thickness direction from the back surface side, is provided.
A lead frame in which a depth confirmation mark is formed on the step cut region by thinning from the surface side. 前記パッケージ領域の周囲にコネクティングバーが配置され、前記深さ確認マークは、前記コネクティングバーに設けられている、請求項１記載のリードフレーム。 The lead frame according to claim 1, wherein a connecting bar is arranged around the package area, and the depth confirmation mark is provided on the connecting bar. 前記深さ確認マークは、表面側から薄肉化された一対の薄肉部と、前記一対の薄肉部の間に位置し、薄肉化されていない中間部とを有する、請求項１又は２記載のリードフレーム。 The lead according to claim 1 or 2, wherein the depth confirmation mark has a pair of thin-walled portions thinned from the surface side and an intermediate portion that is located between the pair of thin-walled portions and is not thinned. flame. 前記中間部の側面に、テーパー面が形成されている、請求項３記載のリードフレーム。 The lead frame according to claim 3, wherein a tapered surface is formed on the side surface of the intermediate portion. 前記パッケージ領域の周囲に、互いに直交する２つのコネクティングバーと、前記２つのコネクティングバーを互いに連結する連結部とが配置され、前記深さ確認マークは、前記連結部に設けられている、請求項１記載のリードフレーム。 The claim that two connecting bars orthogonal to each other and a connecting portion connecting the two connecting bars to each other are arranged around the package area, and the depth confirmation mark is provided on the connecting portion. 1. The lead frame according to 1. 前記深さ確認マークは、前記外周領域に設けられている、請求項１記載のリードフレーム。 The lead frame according to claim 1, wherein the depth confirmation mark is provided in the outer peripheral region. 半導体装置の製造方法において、
請求項１乃至６のいずれか一項記載のリードフレームを準備する工程と、
前記リードフレームを封止樹脂により封止する工程と、
前記ステップカット領域に沿って、前記リードフレームの厚み方向の一部を切除する工程と、
前記パッケージ領域毎に前記リードフレーム及び前記封止樹脂を切断する工程とを備えた、半導体装置の製造方法。 In the method of manufacturing semiconductor devices
The step of preparing the lead frame according to any one of claims 1 to 6 and
The step of sealing the lead frame with a sealing resin and
A step of cutting a part of the lead frame in the thickness direction along the step cut region, and
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising a step of cutting the lead frame and the sealing resin for each package region.
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