JP6916504B2 - 投射装置、投射画像制御方法、および投射画像制御プログラム - Google Patents
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Description
本発明の理解を容易にするために、最初に、関連技術について詳細に説明する。
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。但し、本発明の技術的範囲は、それらの実施形態によって限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づき解釈されるべきものである。
レーザ光を発するレーザ光源と、
前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、
前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、
前記供給投射画像を制御する制御部と、
を少なくとも備える投射装置であって、
前記制御部は、
少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理部と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、
を有する投射装置。
前記投射画像記憶部は、前記1つの投射画像群を記憶し、
前記処理部は、
前記1つの投射画像群から前記更新周期に同期して前記1つの投射画像を順次に取得して、取得した投射画像を出力する画像取得回路部と、
該取得した投射画像を前記更新周期より短いシフト周期でシフトして、前記更新周期内で複数のシフトした回折パターンの組み合わせを生成するシフト回路部と、
から成り、
前記投射画像生成部は、前記複数のシフトした回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記1に記載の投射装置。
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理部は、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成する選択的画像取得回路部から成り、
前記投射画像生成部は、前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記1に記載の投射装置。
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理部は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得回路部と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを生成する選択回路部と、
から成り、
前記投射画像生成部は、前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記1に記載の投射装置。
レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置において、前記供給投射画像を制御する投射画像制御方法であって、
投射画像記憶部に予め少なくとも1つの投射画像群を記憶しておく記憶工程と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理工程と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成工程と、
を含む投射画像制御方法。
前記記憶工程は、前記投射画像記憶部に、前記1つの投射画像群を記憶し、
前記処理工程は、
前記1つの投射画像群から前記更新周期に同期して前記1つの投射画像を順次に取得して、取得した投射画像を出力する画像取得工程と、
該取得した投射画像を前記更新周期より短いシフト周期でシフトして、前記更新周期内で複数のシフトした回折パターンの組み合わせを生成するシフト工程と、
を含み、
前記投射画像生成工程は、前記複数のシフトした回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記5に記載の投射画像制御方法。
前記記憶工程は、前記投射画像記憶部に、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理工程は、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成する選択的画像取得工程から成り、
前記投射画像生成工程は、前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記5に記載の投射画像制御方法。
前記記憶工程は、前記投射画像記憶部に、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理工程は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得工程と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Nの選択した投射画像の組み合わせを生成する選択工程と、
を含み、
前記投射画像生成工程は、前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
付記5に記載の投射画像制御方法。
レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置のコントローラに、前記供給投射画像を制御させる投射画像制御プログラムであって、
前記コントローラは、少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、前記供給投射画像を前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、を備え、前記投射画像制御プログラムは、
前記投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記複数の回折パターンの組み合わせを前記供給投射画像として生成させる処理手順を、
前記コントローラに実行させる投射画像制御プログラム。
前記投射画像記憶部は、前記1つの投射画像群を記憶しており、
前記処理手順は、
前記1つの投射画像群から前記更新周期に同期して前記1つの投射画像を順次に取得して、取得した投射画像を出力する画像取得手順と、
該取得した投射画像を前記更新周期より短いシフト周期でシフトして、前記更新周期内で複数のシフトした回折パターンの組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記複数のシフトした回折パターンの組み合わせを前記供給投射画像として生成させるシフト手順と、
から成る、付記9に記載の投射画像制御プログラム。
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶しており、
前記処理手順は、前記コントローラに、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを前記供給投射画像として生成させる選択的画像取得手順
から成る付記9に記載の投射画像制御プログラム。
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶しており、
前記処理手順は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得手順と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを前記供給投射画像として生成させる選択手順と、
から成る付記9に記載の投射画像制御プログラム。
101:レーザ光源
102:コリメータ
103:液晶回折光学素子(位相変調型空間変調素子)
104:フーリエ変換レンズ
105:投射レンズ
106:光路
107:回折パターン
107−1:第1の回折パターン
107−2:第2の回折パターン
107−3:第3の回折パターン
108:投射像
108−1:第1の分割投射像
108−2:第2の分割投射像
108−3:第3の分割投射像
113:投射光
114:投射面
115:観測点
200:制御部(コントローラ)
300:投射装置
310:レーザ光源
320:位相変調型空間変調素子
330:フーリエ変換レンズ
340:偏光保存素子
350:モニタ素子
360:結像光学系
370:投射光学系
380:整形光学系
400、400A、400B:制御部(投射画像制御部;コントローラ)
410、410A、410B:処理部
412:画像取得回路部
412A:選択的画像取得回路部
412−1:第1の画像取得回路部
412−2:第2の画像取得回路部
414:シフト回路部
414A:選択回路部
420、420A:投射画像記憶部
422:投射画像群(第1の投射画像群)
424:第2の投射画像群
430:投射画像生成部
440:プログラムメモリ
Claims (6)
- レーザ光を発するレーザ光源と、
前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、
前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、
前記供給投射画像を制御する制御部と、
を少なくとも備える投射装置であって、
前記制御部は、
少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理部と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、
を有する投射装置において、
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理部は、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成する選択的画像取得回路部から成り、
前記投射画像生成部は、前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
投射装置。 - レーザ光を発するレーザ光源と、
前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、
前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、
前記供給投射画像を制御する制御部と、
を少なくとも備える投射装置であって、
前記制御部は、
少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理部と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、
を有する投射装置において、
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理部は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得回路部と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを生成する選択回路部と、
から成り、
前記投射画像生成部は、前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
投射装置。 - レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置において、前記供給投射画像を制御する投射画像制御方法であって、
投射画像記憶部に予め少なくとも1つの投射画像群を記憶しておく記憶工程と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理工程と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成工程と、
を含む投射画像制御方法において、
前記記憶工程は、前記投射画像記憶部に、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理工程は、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成する選択的画像取得工程から成り、
前記投射画像生成工程は、前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
投射画像制御方法。 - レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置において、前記供給投射画像を制御する投射画像制御方法であって、
投射画像記憶部に予め少なくとも1つの投射画像群を記憶しておく記憶工程と、
該投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成する処理工程と、
前記複数の回折パターンの組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成工程と、
を含む投射画像制御方法において、
前記記憶工程は、前記投射画像記憶部に、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶し、
前記処理工程は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得工程と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Nの選択した投射画像の組み合わせを生成する選択工程と、
を含み、
前記投射画像生成工程は、前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを、前記供給投射画像として前記位相変調型空間変調素子へ供給する、
投射画像制御方法。 - レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置のコントローラに、前記供給投射画像を制御させる投射画像制御プログラムであって、
前記コントローラは、少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、前記供給投射画像を前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、を備え、前記投射画像制御プログラムは、
前記投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記複数の回折パターンの組み合わせを前記供給投射画像として生成させる処理手順を、
前記コントローラに実行させる投射画像制御プログラムにおいて、
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術により生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶しており、
前記処理手順は、前記コントローラに、前記更新周期内で、前記第1乃至第Mの投射画像群からそれぞれそれ1つの第1乃至第Mの投射画像を選択的に取得して、前記更新周期内に第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記第1乃至第Mの選択・取得した投射画像の組み合わせを前記供給投射画像として生成させる選択的画像取得手順
から成る投射画像制御プログラム。 - レーザ光を発するレーザ光源と、前記レーザ光を平行光に変換する変換手段と、前記平行光を供給投射画像に基づいて位相変調して、位相変調した光を送出する位相変調型空間変調素子と、を少なくとも備える投射装置のコントローラに、前記供給投射画像を制御させる投射画像制御プログラムであって、
前記コントローラは、少なくとも1つの投射画像群を記憶する投射画像記憶部と、前記供給投射画像を前記位相変調型空間変調素子へ供給する投射画像生成部と、を備え、前記投射画像制御プログラムは、
前記投射画像記憶部から更新周期に同期して順次に取得した1つの投影画像に対して、前記更新周期内で複数の回折パターンの組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記複数の回折パターンの組み合わせを前記供給投射画像として生成させる処理手順を、
前記コントローラに実行させる投射画像制御プログラムにおいて、
前記投射画像記憶部は、元画像群に対して異なる種類の画像形成技術を使用して生成された、第1乃至第M(Mは2以上の整数)の投射画像群を記憶しており、
前記処理手順は、
前記第1乃至第Mの投射画像群から前記更新周期に同期してそれぞれ1つの第1乃至第Mの投射画像を順次に取得して、第1乃至第Mの取得した投射画像を出力する第1乃至第Mの画像取得手順と、
前記第1乃至第Mの取得した投影画像を、前記更新周期内で順次選択して、第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを生成して、前記投射画像生成部に前記第1乃至第Mの選択した投射画像の組み合わせを前記供給投射画像として生成させる選択手順と、
から成る投射画像制御プログラム。
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