JP6913297B2 - Heat-generating conductors, heat-generating plates and vehicles - Google Patents

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Description

本発明は、発熱用導電体、発熱用導電体を有する発熱板、及び、この発熱板を有する乗り物に関する。 The present invention relates to a heat-generating conductor, a heat-generating plate having a heat-generating conductor, and a vehicle having the heat-generating plate.

従来から、発熱用導電体を有する発熱板が、広く用いられている。発熱板は、例えば、車両の窓ガラスに用いられるデフロスタ（霜取り装置）等に利用されている。発熱板は、発熱用導電体に通電されることによって、抵抗加熱により発熱する（例えば、特許文献１、特許文献２を参照）。車両の窓ガラスに適用された発熱板は、発熱用導電体の昇温により、窓ガラスの曇りを取り除いたり、窓ガラスに付着した雪や氷を溶かしたり、または、窓ガラスに付着した水滴を蒸発させたりすることで、乗員の視界を確保することができる。 Conventionally, a heat generating plate having a heat generating conductor has been widely used. The heating plate is used, for example, in a defroster (defrosting device) used for a window glass of a vehicle. The heat generating plate generates heat by resistance heating when the heat generating conductor is energized (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). The heating plate applied to the window glass of the vehicle removes the fogging of the window glass by raising the temperature of the heat generating conductor, melts the snow and ice attached to the window glass, or removes water droplets attached to the window glass. By evaporating it, the visibility of the occupants can be secured.

特開２０１３−１７３４０２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-173402 特開平８−７２６７４号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-72674

従来の発熱板は、発熱用導電体の導電性細線を間に挟み込んで一対のガラス板を加熱圧着し、作製される。また、導電性細線としては、別工程で製造されたタングステン等の細線を用い、この細線を一対のガラス板の間に配置していた。ところが、このような発熱板を介して光、例えば対向車の照明を観察した場合、尾を引くように観察される光の筋、すなわち光芒が当該照明の周囲に観察される。このような光芒の発生は、窓ガラスを介した視認性に悪影響を及ぼし得る。 A conventional heat generating plate is manufactured by sandwiching a conductive thin wire of a heat generating conductor and heat-pressing a pair of glass plates. Further, as the conductive thin wire, a thin wire such as tungsten manufactured in another process was used, and the thin wire was arranged between a pair of glass plates. However, when observing light, for example, the illumination of an oncoming vehicle through such a heating plate, a streak of light observed as if trailing a tail, that is, a light beam is observed around the illumination. The generation of such light beams can adversely affect the visibility through the window glass.

一方、本件発明者らが鋭意検討を重ねたところ、光芒は、光（例えば、対向車の照明光）が、導電性細線によって回折される方向に生じていた。すなわち、光芒は、導電性細線での回折光が視認される現象と考えられた。本発明は、本件発明者らのこのような知見に基づくものである。すなわち、本発明は、発熱板における光芒を目立たなくさせるような発熱用導電体を提供することを目的とする。 On the other hand, as a result of diligent studies by the inventors of the present invention, the light beam was generated in the direction in which the light (for example, the illumination light of the oncoming vehicle) was diffracted by the conductive thin wire. That is, the light beam was considered to be a phenomenon in which the diffracted light on the conductive thin wire was visually recognized. The present invention is based on such findings of the present inventors. That is, an object of the present invention is to provide a heat-generating conductor that makes the light beam on the heat-generating plate inconspicuous.

本発明の発熱用導電体は、
電圧を印加される一対のバスバーと、
前記一対のバスバーを連結するパターン導電体と、を備え、
前記パターン導電体は、導電性細線を用いて形成されたパターン構造を有し、
前記パターン構造は、２以上の区域からなる少なくとも１種類の単位パターン構造で形成される第１パターン構造と、前記第１パターン構造の単位パターン構造と同一の少なくとも１種類の単位パターン構造で形成される第２パターン構造と、を含み、
前記第１パターン構造は、前記単位パターン構造が第１方向に連なって形成されるか、又は、前記単位パターン構造が第１方向とは異なる第２方向に連なる連接パターンを第１方向に複数並べて形成され、
前記第２パターン構造は、前記単位パターン構造が前記第１方向及び第２方向とは異なる第３方向に連なる連接パターンを前記第１方向に複数並べて形成される。 The heat generating conductor of the present invention is
A pair of busbars to which voltage is applied and
A pattern conductor that connects the pair of bus bars, and
The pattern conductor has a pattern structure formed by using conductive thin wires, and has a pattern structure.
The pattern structure is formed of a first pattern structure formed of at least one type of unit pattern structure composed of two or more areas, and at least one type of unit pattern structure which is the same as the unit pattern structure of the first pattern structure. 2nd pattern structure, including
In the first pattern structure, the unit pattern structure is formed in a row in the first direction, or a plurality of concatenated patterns in which the unit pattern structure is connected in a second direction different from the first direction are arranged in the first direction. Formed,
The second pattern structure is formed by arranging a plurality of connecting patterns in which the unit pattern structure is connected in a third direction different from the first direction and the second direction in the first direction.

本発明の発熱用導電体において、前記第１パターン構造及び前記第２パターン構造は、平面充填可能なパターンであってもよい。 In the heat generating conductor of the present invention, the first pattern structure and the second pattern structure may be a tessellationable pattern.

本発明の発熱用導電体において、
前記第１パターン構造は、前記第１方向に非平行な方向に配列されており、
前記第２パターン構造は、隣り合う２つの前記第１パターン構造の間に位置し、前記第１方向に非平行な方向に配列されていてもよい。 In the heat generating conductor of the present invention
The first pattern structure is arranged in a direction non-parallel to the first direction.
The second pattern structure may be located between two adjacent first pattern structures and may be arranged in a direction non-parallel to the first direction.

本発明の発熱用導電体において、
２以上の前記第１パターン構造は、前記一対のバスバーの間の少なくとも一部の面を充填するよう形成され、
２以上の前記第２パターン構造は、前記一対のバスバーの間の少なくとも一部の面を充填するよう形成され、
前記一対のバスバーの間の面に形成された前記第１パターン構造と前記第２パターン構造とは、少なくとも部分的に重なるように形成されていてもよい。 In the heat generating conductor of the present invention
Two or more of the first pattern structures are formed to fill at least a portion of the surfaces between the pair of busbars.
The two or more said second pattern structures are formed to fill at least a portion of the surfaces between the pair of busbars.
The first pattern structure and the second pattern structure formed on the surface between the pair of bus bars may be formed so as to at least partially overlap each other.

本発明の発熱用導電体において、前記単位パターン構造は、４以上の区域からなってもよい。 In the heat generating conductor of the present invention, the unit pattern structure may consist of four or more areas.

本発明の発熱用導電体において、
互いに隣接する前記単位パターン構造は、少なくとも部分的に区域を共有し、
前記連接パターンに含まれる前記単位パターン構造は、前記第２方向または前記第３方向に連なる際に他の単位パターン構造と共有可能な区域と、当該連接パターンを前記第１方向に並べる際に他の連接パターンの単位パターン構造と共有可能な区域と、を少なくとも含んでもよい。 In the heat generating conductor of the present invention
The unit pattern structures adjacent to each other share an area at least partially and
The unit pattern structure included in the connection pattern includes an area that can be shared with another unit pattern structure when connected in the second direction or the third direction, and another when the connection pattern is arranged in the first direction. It may include at least the unit pattern structure of the concatenated pattern and the sharable area.

本発明の発熱用導電体において、前記区域は、曲線からなってもよい。 In the heat generating conductor of the present invention, the area may consist of a curved line.

本発明の発熱用導電体において、前記曲線は、円弧であってもよい。 In the heat generating conductor of the present invention, the curve may be an arc.

本発明の発熱用導電体において、各区域を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、前記単位パターン構造の全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円が形成されてもよい。 In the heat generating conductor of the present invention, by translating each area and / or by translating each area after rotating 180 °, one or more areas of the unit pattern structure are used. Several natural semicircles may be formed.

本発明の発熱板は、
一対の基板と、
前記一対の基板の間に配置された上述したいずれかの発熱用導電体と、を備える。 The heating plate of the present invention
A pair of boards and
It includes any of the above-mentioned heat-generating conductors arranged between the pair of substrates.

本発明の乗り物は、上述した発熱板を備える。 The vehicle of the present invention includes the heating plate described above.

発熱用導電体によって発生する光芒を目立たなくすることができる。 The light beam generated by the heat-generating conductor can be made inconspicuous.

図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、発熱板を備えた乗り物を概略的に示す斜視図である。特に図１では、乗り物の例として、発熱板で構成されたフロントウィンドウを備えた自動車を概略的に示している。FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment according to the present invention, and is a perspective view schematically showing a vehicle provided with a heat generating plate. In particular, FIG. 1 schematically shows an automobile provided with a front window composed of a heating plate as an example of a vehicle. 図２は、発熱板をその板面の法線方向から示す図である。FIG. 2 is a view showing the heat generating plate from the normal direction of the plate surface. 図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線における発熱板の横断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the heating plate in line III-III of FIG. 図４は、本発明の第１の実施の形態における発熱用導電体をそのシート面の法線方向から示す平面図であって、パターン導電体のパターン構造の第１の例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the heat generating conductor according to the first embodiment of the present invention from the normal direction of the sheet surface, and is a plan view showing the first example of the pattern structure of the pattern conductor. be. 図５は、図４に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図６は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第２の例を示す平面図である。FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a second example of the pattern structure of the pattern conductor. 図７は、図６に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図８は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第３の例を示す平面図である。FIG. 8 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a third example of the pattern structure of the pattern conductor. 図９は、図８に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１０は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第４の例を示す平面図である。FIG. 10 is a view corresponding to FIG. 4 and is a plan view showing a fourth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図１１は、図１０に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１２は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第５の例を示す平面図である。FIG. 12 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a fifth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図１３は、図１２に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１４は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第６の例を示す平面図である。FIG. 14 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a sixth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図１５は、図１４に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる第１パターン構造を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a first pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１６は、図１４に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる第２パターン構造を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a second pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１７は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第７の例を示す平面図である。FIG. 17 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a seventh example of the pattern structure of the pattern conductor. 図１８は、図１７に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図１９は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第８の例を示す平面図である。FIG. 19 is a view corresponding to FIG. 4 and is a plan view showing an eighth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図２０は、図１９に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 20 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 図２１は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第９の例を示す平面図である。FIG. 21 is a view corresponding to FIG. 4 and is a plan view showing a ninth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図２２は、図２１に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 21. 図２３は、図４に対応する図であって、パターン導電体のパターン構造の第１０の例を示す平面図である。FIG. 23 is a view corresponding to FIG. 4, and is a plan view showing a tenth example of the pattern structure of the pattern conductor. 図２４は、図２３に示されたパターンに発熱用導電体を形成するための、導電性細線を並べる単位パターン構造を示す図である。FIG. 24 is a diagram showing a unit pattern structure in which conductive thin lines are arranged for forming a heat generating conductor in the pattern shown in FIG. 23.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, the scale, aspect ratio, etc. are appropriately changed from those of the actual product and exaggerated for the convenience of illustration and comprehension.

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「導電体付きシート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材をも含む概念であり、したがって、「導電体付きシート」は、「導電体付板（基板）」や「導電体付きフィルム」と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。 In addition, in this specification, the terms "board", "sheet", and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, a "sheet with a conductor" is a concept that includes a member that can be called a plate or a film. Therefore, a "sheet with a conductor" is a "plate with a conductor (board)" or a "sheet with a conductor". It cannot be distinguished from a member called "film" only by the difference in name.

また、「シート面（板面、フィルム面）」とは、対象となるシート状（板状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材（板状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。 Further, the "sheet surface (plate surface, film surface)" is a target sheet-like member (plate-like) when the target sheet-like (plate-like, film-like) member is viewed as a whole and from a broad perspective. A surface that coincides with the plane direction of a member or film-like member).

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In addition, as used in the present specification, the terms such as "parallel", "orthogonal", and "identical" and the values of length and angle that specify the shape and geometric conditions and their degrees are strictly used. Without being bound by meaning, we will interpret it including the range in which similar functions can be expected.

図１〜図２４は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図１は、発熱板を備えた自動車を概略的に示す図であり、図２は、発熱板をその板面の法線方向から見た図であり、図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った発熱板の断面図である。 1 to 24 are diagrams for explaining one embodiment according to the present invention. Of these, FIG. 1 is a diagram schematically showing an automobile provided with a heating plate, FIG. 2 is a view of the heating plate viewed from the normal direction of the plate surface, and FIG. 3 is FIG. 2III. It is sectional drawing of the heating plate along the −III line.

図１に示されているように、乗り物の一例としての自動車１は、フロントウィンドウ、リアウィンドウ、サイドウィンドウ等の窓ガラスを有している。ここでは、フロントウィンドウ５が発熱板１０で構成されているものを例示する。また、自動車１はバッテリー等の電源７を有している。 As shown in FIG. 1, an automobile 1 as an example of a vehicle has windowpanes such as a front window, a rear window, and a side window. Here, it is illustrated that the front window 5 is composed of the heating plate 10. Further, the automobile 1 has a power source 7 such as a battery.

この発熱板１０をその板面の法線方向から見たものを図２に示す。また、図２の発熱板１０のＩＩＩ−ＩＩＩ線に対応する断面図を図３に示す。図３に示された例では、発熱板１０は、一対の基板１１，１２と、一対の基板１１，１２の間に配置された導電体付きシート２０と、基板１１，１２と導電体付きシート２０とを接合する接合層１３，１４と、を有している。なお、図１および図２に示した例では、発熱板１０は湾曲しているが、その他の図では、図示の簡略化および理解の容易化のために、発熱板１０および基板１１，１２を平板状に図示している。 FIG. 2 shows the heating plate 10 viewed from the normal direction of the plate surface. Further, FIG. 3 shows a cross-sectional view of the heating plate 10 of FIG. 2 corresponding to lines III-III. In the example shown in FIG. 3, the heating plate 10 includes a pair of substrates 11 and 12, a sheet 20 with a conductor arranged between the pair of substrates 11 and 12, and the substrates 11 and 12 and a sheet with a conductor. It has bonding layers 13 and 14 for joining 20 and. In the examples shown in FIGS. 1 and 2, the heat generating plate 10 is curved, but in the other figures, the heat generating plates 10 and the substrates 11 and 12 are used for simplification of illustration and easy understanding. It is illustrated in a flat plate shape.

導電体付きシート２０は、基材フィルム２１と、基材フィルム２１の一方の基板１１に対面する面上に設けられた発熱用導電体３０と、を有する。発熱用導電体３０は、導電性細線４１を有するパターン導電体４０と、パターン導電体４０に通電するための一対のバスバー３５と、を有する。 The sheet 20 with a conductor has a base film 21 and a heat generating conductor 30 provided on a surface facing one of the base films 11 of the base film 21. The heat generating conductor 30 has a pattern conductor 40 having a conductive thin wire 41 and a pair of bus bars 35 for energizing the pattern conductor 40.

また、図１及び図２によく示されているように、発熱板１０は、発熱用導電体３０に通電するための配線部１５を有している。図示された例では、バッテリー等の電源７によって、配線部１５から導電体付きシート２０の発熱用導電体３０に通電し、発熱用導電体３０を抵抗加熱により発熱させる。発熱用導電体３０で発生した熱は基板１１，１２に伝わり、基板１１，１２が温められる。これにより、基板１１，１２に付着した結露による曇りを取り除くことができる。また、基板１１，１２に雪や氷が付着している場合には、この雪や氷を溶かすことができる。したがって、乗員の視界が良好に確保される。尚、図示は省略するが、通常は、配線部１５は電源７と発熱用導電体３０のバスバー３５との間に開閉器が挿入（直列に接続）される。そして、発熱板１０の加熱が必要な時のみ開閉器を閉じて発熱用導電体３０に通電する。 Further, as is well shown in FIGS. 1 and 2, the heat generating plate 10 has a wiring portion 15 for energizing the heat generating conductor 30. In the illustrated example, the heating conductor 30 of the sheet 20 with a conductor is energized from the wiring portion 15 by a power source 7 such as a battery, and the heating conductor 30 is heated by resistance heating. The heat generated by the heat generating conductor 30 is transferred to the substrates 11 and 12, and the substrates 11 and 12 are warmed. As a result, fogging due to dew condensation adhering to the substrates 11 and 12 can be removed. Further, when snow or ice is attached to the substrates 11 and 12, the snow or ice can be melted. Therefore, the visibility of the occupant is well secured. Although not shown, normally, a switch is inserted (connected in series) between the power source 7 and the bus bar 35 of the heat generating conductor 30 in the wiring portion 15. Then, the switch is closed and the heating conductor 30 is energized only when the heating plate 10 needs to be heated.

以下、発熱板１０の各構成要素について説明する。 Hereinafter, each component of the heat generating plate 10 will be described.

まず、基板１１，１２について説明する。基板１１，１２は、図１で示された例のように自動車のフロントウィンドウに用いる場合、乗員の視界を妨げないよう可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。このような基板１１，１２の材質としては、ソーダライムガラスや青板ガラスが例示できる。基板１１，１２の可視光透過率は９０％以上であることが好ましい。ここで、基板１１，１２の可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。なお、基板１１，１２の一部または全体に着色するなどして、この一部分の可視光透過率を低くしてもよい。この場合、太陽光の直射を遮ったり、車外から車内を視認しにくくしたりすることができる。 First, the substrates 11 and 12 will be described. When the substrates 11 and 12 are used for the front window of an automobile as in the example shown in FIG. 1, it is preferable to use substrates 11 and 12 having a high visible light transmittance so as not to obstruct the view of the occupant. Examples of the materials of the substrates 11 and 12 include soda lime glass and blue plate glass. The visible light transmittance of the substrates 11 and 12 is preferably 90% or more. Here, the visible light transmittance of the substrates 11 and 12 was measured in the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer (“UV-3100PC” manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K 0115 compliant product). It is specified as the average value of the transmittance at each wavelength. The visible light transmittance of this part may be lowered by coloring a part or the whole of the substrates 11 and 12. In this case, it is possible to block the direct sunlight and make it difficult to see the inside of the vehicle from the outside of the vehicle.

また、基板１１，１２は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下の厚みを有していることが好ましい。このような厚みであると、強度及び光学特性に優れた基板１１，１２を得ることができる。一対の基板１１，１２は、同一の材料で同一に構成されていてもよいし、或いは、材料および構成の少なくとも一方において互いに異なるようにしてもよい。 Further, the substrates 11 and 12 preferably have a thickness of 1 mm or more and 5 mm or less. With such a thickness, substrates 11 and 12 having excellent strength and optical characteristics can be obtained. The pair of substrates 11 and 12 may be made of the same material and may be the same, or may be different from each other in at least one of the materials and the composition.

次に、接合層１３，１４について説明する。一方の接合層１３が、一方の基板１１と導電体付きシート２０との間に配置され、一方の基板１１と導電体付きシート２０とを互いに接合する。他方の接合層１４が、他方の基板１２と導電体付きシート２０との間に配置され、他方の基板１２と導電体付きシート２０とを互いに接合する。 Next, the bonding layers 13 and 14 will be described. One bonding layer 13 is arranged between the one substrate 11 and the sheet 20 with a conductor, and the one substrate 11 and the sheet 20 with a conductor are bonded to each other. The other bonding layer 14 is arranged between the other substrate 12 and the sheet 20 with a conductor, and the other substrate 12 and the sheet 20 with a conductor are bonded to each other.

このような接合層１３，１４としては、種々の接着性または粘着性を有した材料からなる層を用いることができる。また、接合層１３，１４は、可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。典型的な接合層としては、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）からなる層を例示することができる。接合層１３，１４の厚みは、それぞれ０．１５ｍｍ以上１ｍｍ以下であることが好ましい。一対の接合層１３，１４は、同一の材料で同一に構成されていてもよいし、或いは、材料および構成の少なくとも一方において互いに異なるように
してもよい。 As such bonding layers 13 and 14, layers made of materials having various adhesiveness or adhesiveness can be used. Further, it is preferable to use the bonding layers 13 and 14 having high visible light transmittance. As a typical bonding layer, a layer made of polyvinyl butyral (PVB) can be exemplified. The thicknesses of the bonding layers 13 and 14 are preferably 0.15 mm or more and 1 mm or less, respectively. The pair of bonding layers 13 and 14 may be made of the same material and configured in the same manner, or may be different from each other in at least one of the materials and the composition.

なお、発熱板１０には、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、１つの機能層が２つ以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、発熱板１０の基板１１，１２、接合層１３，１４、後述する導電体付きシート２０の基材フィルム２１の、少なくとも一つに何らかの機能を付与するようにしてもよい。発熱板１０に付与され得る機能としては、一例として、反射防止（ＡＲ）機能、耐擦傷性を有したハードコート（ＨＣ）機能、赤外線遮蔽（反射）機能、紫外線遮蔽（反射）機能、防汚機能等を例示することができる。 The heat generating plate 10 is not limited to the illustrated example, and may be provided with other functional layers expected to exhibit a specific function. Further, one functional layer may exhibit two or more functions. For example, the substrates 11 and 12 of the heat generating plate 10, the bonding layers 13 and 14, and the base film of the sheet 20 with a conductor described later will be described. At least one of 21 may be provided with some function. As an example, the functions that can be imparted to the heat generating plate 10 include an antireflection (AR) function, a hard coat (HC) function having scratch resistance, an infrared shielding (reflection) function, an ultraviolet shielding (reflection) function, and antifouling. Functions and the like can be exemplified.

次に、導電体付きシート２０について説明する。導電体付きシート２０は、基材フィルム２１と、基材フィルム２１の一方の基板１１に対面する面上に設けられた発熱用導電体３０と、を有する。導電体付きシート２０は、基板１１，１２と略同一の平面寸法を有して、発熱板１０の全体にわたって配置されている。以下、導電体付きシート２０の各構成要素について説明する。 Next, the sheet 20 with a conductor will be described. The sheet 20 with a conductor has a base film 21 and a heat generating conductor 30 provided on a surface facing one of the base films 11 of the base film 21. The sheet 20 with a conductor has substantially the same plane dimensions as the substrates 11 and 12, and is arranged over the entire heating plate 10. Hereinafter, each component of the conductor-attached sheet 20 will be described.

基材フィルム２１は、発熱用導電体３０を支持する基材として機能する。基材フィルム２１は、可視光線波長帯域の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を透過する一般に言うところの透明である電気絶縁性のフィルムである。基材フィルム２１としては、可視光を透過し、発熱用導電体３０を適切に支持し得るものであればいかなる材料でもよいが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状ポリオレフィン等を挙げることができる。また、基材フィルム２１は、光透過性や、発熱用導電体３０の適切な支持性等を考慮すると、０．０３ｍｍ以上０．２０ｍｍ以下の厚みを有していることが好ましい。 The base film 21 functions as a base material that supports the heat generating conductor 30. The base film 21 is a so-called transparent electrically insulating film that transmits wavelengths in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm). The base film 21 may be any material as long as it can transmit visible light and can appropriately support the heat generating conductor 30, but for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, cyclic polyolefin, etc. Can be mentioned. Further, the base film 21 preferably has a thickness of 0.03 mm or more and 0.20 mm or less in consideration of light transmission, appropriate supportability of the heat generating conductor 30, and the like.

なお、「透明」とは、当該基材フィルムを介して当該基材フィルムの一方の側から他方の側を透視し得る程度の透明性を有していることを意味しており、例えば、３０％以上、より好ましくは７０％以上の可視光透過率を有していることを意味する。可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。 In addition, "transparency" means having transparency to the extent that one side of the base film can be seen through the base film, for example, 30. It means that it has a visible light transmittance of% or more, more preferably 70% or more. Visible light transmittance is the transmittance at each wavelength when measured within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer (“UV-3100PC” manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K 0115 compliant product). Is specified as the average value of.

次に、図４、図６、図８、図１０、図１２、図１４、図１７、図１９、図２１および図２３を参照しながら、発熱用導電体３０について説明する。図４、図６、図８、図１０、図１２、図１４、図１７、図１９、図２１および図２３は、いずれも導電体付きシート２０をそのシート面の法線方向から見た平面図であるが、発熱用導電体３０のパターン導電体４０が互いに異なるパターン構造５０を有している。 Next, the heat generating conductor 30 will be described with reference to FIGS. 4, 6, 8, 10, 12, 12, 14, 17, 19, 19, 21 and 23. 4, FIG. 6, FIG. 8, FIG. 10, FIG. 12, FIG. 14, FIG. 17, FIG. 19, FIG. 21 and FIG. 23 are all planes of the conductor-attached sheet 20 as viewed from the normal direction of the sheet surface. As shown in the figure, the pattern conductors 40 of the heat generating conductor 30 have different pattern structures 50 from each other.

発熱用導電体３０は、一対のバスバー３５と、一対のバスバー３５に間に配置されたパターン導電体４０と、を有している。バスバー３５は、対応する配線部１５と電気的に接続されている。一対のバスバー３５間には、配線部１５と接続された電源７の電圧が印加されるようになる。パターン導電体４０は、所定のパターン構造５０で配置された導電性細線４１によって形成されている。言い換えると、パターン導電体４０は、導電性細線４１を用いて形成されたパターン構造５０を有する。パターン導電体４０は、一対のバスバー３５間を連結するようにそれぞれ電気的に接続されている。パターン導電体４０は、配線部１５及びバスバー３５を介して電圧を印加されると、抵抗加熱によって発熱する。そして、この熱が接合層１３，１４を介して基板１１，１２に伝わることで、基板１１，１２が温められる。 The heat generating conductor 30 has a pair of bus bars 35 and a pattern conductor 40 arranged between the pair of bus bars 35. The bus bar 35 is electrically connected to the corresponding wiring section 15. The voltage of the power supply 7 connected to the wiring portion 15 is applied between the pair of bus bars 35. The pattern conductor 40 is formed by conductive thin wires 41 arranged in a predetermined pattern structure 50. In other words, the pattern conductor 40 has a pattern structure 50 formed by using the conductive thin wire 41. The pattern conductors 40 are electrically connected to each other so as to connect the pair of bus bars 35. When a voltage is applied to the pattern conductor 40 via the wiring portion 15 and the bus bar 35, the pattern conductor 40 generates heat due to resistance heating. Then, this heat is transferred to the substrates 11 and 12 via the bonding layers 13 and 14, so that the substrates 11 and 12 are warmed.

パターン導電体４０のパターン構造５０は、第１パターン構造５１と、第２パターン構造５２と、を少なくとも含む。第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、同一の形状を有する少なくとも１種類の単位パターン構造６０により形成される。単位パターン構造６０は、２以上の区域からなる。ここで、区域とは、例えば図５に符号Ａ１で示すように、単位パターン構造６０を構成する線のことをいい、１つの区域は、単位パターン構造６０の２つの頂点、分岐点または端点を結ぶ。 The pattern structure 50 of the pattern conductor 40 includes at least a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed by at least one type of unit pattern structure 60 having the same shape. The unit pattern structure 60 comprises two or more areas. Here, the area means a line constituting the unit pattern structure 60, for example, as shown by reference numeral A1 in FIG. 5, and one area has two vertices, branch points, or end points of the unit pattern structure 60. tie.

パターン導電体４０の一例が、図４、図６、図８、図１０、図１２、図１７、図１９、図２１および図２３に示されている。図４、図６、図８、図１０、図１２、図１７、図１９、図２１および図２３では、パターン導電体４０のパターン構造５０は、一対のバスバー３５間を連結する複数の第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とを有する。複数の第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、一方のバスバー３５から他方のバスバー３５へ延在しており、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２の延在方向（第１方向Ｄ１）と非平行な方向に、互いから離間して配列されている。とりわけ、図示された例では、第２パターン構造５２は、隣り合う２つの第１パターン構造５１の間に位置している。 An example of the pattern conductor 40 is shown in FIGS. 4, 6, 8, 10, 12, 12, 17, 19, 19, 21 and 23. 4, FIG. 6, FIG. 8, FIG. 10, FIG. 12, FIG. 17, FIG. 19, FIG. 21 and FIG. 23, the pattern structure 50 of the pattern conductor 40 is a plurality of firsts connecting the pair of bus bars 35. It has a pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The plurality of first pattern structures 51 and the second pattern structure 52 extend from one bus bar 35 to the other bus bar 35, and extend directions (first direction) of the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52. They are arranged apart from each other in a direction non-parallel to D1). In particular, in the illustrated example, the second pattern structure 52 is located between two adjacent first pattern structures 51.

また、他の例として、図１４に示された例のように、パターン導電体４０のパターン構造５０は、一対のバスバー３５間に、それぞれがメッシュパターンをなす第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２とを有する。この場合において、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能な単位パターン構造６０で形成されている。ここで、平面充填可能なパターンとは、任意の大きさの平面を当該パターンのみで隙間なく敷き詰めることができるパターンをいう。第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ一対のバスバー３５間の少なくとも一部の面を充填するよう形成され、一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とは、少なくとも部分的に重なるように形成されている。ここで、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２が形成される面は、平面に限られず、曲面であってもよい。本実施の形態においては、発熱板１０は湾曲しているため、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２が形成される面は、基板１１，１２間に組み込まれた際、実際には発熱板１０の湾曲に沿った曲面となっている。すなわち、発熱板１０内でのパターン導電体４０における平面充填可能なパターンは、曲面に沿って形成されている。図１４に示す例では、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ一対のバスバー３５間の面全体に形成されている。したがって、第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とは、それらの全域が一対のバスバー３５間の面に重なって、言い換えると一対のバスバー３５間の同一の範囲に形成されている。 As another example, as in the example shown in FIG. 14, the pattern structure 50 of the pattern conductor 40 has a first pattern structure 51 and a second pattern, each of which forms a mesh pattern between the pair of bus bars 35. It has a structure 52 and. In this case, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are each formed of a unit pattern structure 60 that can be tessellated. Here, the tessellationable pattern means a pattern in which a plane of an arbitrary size can be spread without a gap only by the pattern. The first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed so as to fill at least a part of the surfaces between the pair of bus bars 35, respectively, and the first pattern structure 51 and the first pattern structure 52 formed on the surfaces between the pair of bus bars 35 are formed. The two-pattern structure 52 is formed so as to at least partially overlap. Here, the surface on which the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed is not limited to a flat surface, and may be a curved surface. In the present embodiment, since the heat generating plate 10 is curved, the surface on which the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed actually generates heat when incorporated between the substrates 11 and 12. It is a curved surface along the curvature of the plate 10. That is, the pattern that can be tessellated in the pattern conductor 40 in the heat generating plate 10 is formed along the curved surface. In the example shown in FIG. 14, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed on the entire surface between the pair of bus bars 35, respectively. Therefore, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed so that the entire area thereof overlaps the surface between the pair of bus bars 35, in other words, the same range between the pair of bus bars 35.

なお、図示の例では、一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが、同一面上に形成され、且つ互いに一部を共有することによって重なっている。しかしながら、この態様に代えて、一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが、異なる面上に形成され、且つ少なくとも部分的に重なるように形成されていてもよい。具体的には、例えば、基材フィルム２１の一方の主面に第１パターン構造５１が形成され、他方の主面に第２パターン構造５２が形成され、且つシート状のパターン導電体４０の法線（曲面状である場合には、いずれかの法線）に沿って見た場合に、第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが互いに重なるように位置している態様が採用されてもよい。つまり、上述の「一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが、少なくとも部分的に重なるように形成されている」という記載は、一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが、同一面上に形成され、且つ互いに一部を共有することによって重なっていること、および、一対のバスバー３５間の面に形成された第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とが、異なる面上に形成され、且つシート状のパターン導電体４０の法線（曲面状である場合には、いずれかの法線）に沿って見た場合に、互いに重なるように位置していること、のいずれかの態様であることを意味している。 In the illustrated example, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 formed on the surface between the pair of bus bars 35 are formed on the same surface and overlap each other by sharing a part of each other. There is. However, instead of this aspect, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 formed on the surfaces between the pair of bus bars 35 are formed on different surfaces and at least partially overlapped with each other. You may be. Specifically, for example, the method of the sheet-shaped pattern conductor 40 in which the first pattern structure 51 is formed on one main surface of the base film 21, the second pattern structure 52 is formed on the other main surface, and the sheet-like pattern conductor 40 is formed. A mode is adopted in which the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are positioned so as to overlap each other when viewed along a line (in the case of a curved surface, one of the normals). May be good. That is, the above-mentioned description that "the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 formed on the surface between the pair of bus bars 35 are formed so as to at least partially overlap each other" is described in the pair of bus bars 35. The first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 formed on the surface between them are formed on the same surface and overlap each other by sharing a part of each other, and between the pair of bus bars 35. When the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 formed on the surface are formed on different surfaces and the sheet-like pattern conductor 40 is normal (in the case of a curved surface, either method). It means that they are located so as to overlap each other when viewed along the line).

これらのパターン構造５０の具体的な例については、図を用いて後に説明する。 Specific examples of these pattern structures 50 will be described later with reference to the drawings.

このようなパターン導電体４０及びバスバー３５を構成するための材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、タングステン、及び、これらの合金の一以上を例示することができる。パターン導電体４０及びバスバー３５は、同一の材料を用いて形成されていてもよいし、或いは、互いに異なる材料を用いて形成されていてもよい。 Materials for forming such a pattern conductor 40 and a bus bar 35 include, for example, gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, tungsten, and alloys thereof. One or more can be exemplified. The pattern conductor 40 and the bus bar 35 may be formed of the same material, or may be formed of different materials.

パターン導電体４０は、上述したように不透明な金属材料を用いて形成され得る。その一方で、パターン導電体４０によって覆われていない基材フィルム２１上の領域の割合、すなわち非被覆率（図１４に示されたパターンでは、「開口率」とも呼ぶ）は、７０％以上９９％以下程度と高くなっている。また、導電性細線４１の線幅は、２μｍ以上２０μｍ以下程度となっている。このため、パターン導電体４０が設けられている領域は、全体として透明に把握され、パターン導電体４０の存在が発熱板１０の透視性を害さないようになっている。 The pattern conductor 40 can be formed using an opaque metal material as described above. On the other hand, the ratio of the region on the base film 21 not covered by the pattern conductor 40, that is, the non-cover ratio (also referred to as “aperture ratio” in the pattern shown in FIG. 14) is 70% or more 99. It is as high as% or less. Further, the line width of the conductive thin wire 41 is about 2 μm or more and 20 μm or less. Therefore, the region where the pattern conductor 40 is provided is transparently grasped as a whole, and the presence of the pattern conductor 40 does not impair the transparency of the heat generating plate 10.

図３に示された例では、導電性細線４１は、全体として矩形状の断面を有している。上述したように、導電性細線４１の幅Ｗ、すなわち、発熱板１０の板面に沿った幅Ｗは２μｍ以上２０μｍ以下とし、高さ（厚さ）Ｈ、すなわち、発熱板１０の板面への法線方向に沿った高さ（厚さ）Ｈは１μｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましい。このような寸法の導電性細線４１によれば、その導電性細線４１が十分に細線化されているので、パターン導電体４０を効果的に不可視化することができる。 In the example shown in FIG. 3, the conductive thin wire 41 has a rectangular cross section as a whole. As described above, the width W of the conductive thin wire 41, that is, the width W along the plate surface of the heating plate 10 is set to 2 μm or more and 20 μm or less, and the height (thickness) H, that is, the plate surface of the heating plate 10 is reached. The height (thickness) H along the normal direction is preferably 1 μm or more and 30 μm or less. According to the conductive thin wire 41 having such dimensions, the conductive thin wire 41 is sufficiently thinned, so that the pattern conductor 40 can be effectively invisible.

また、図３に示されたように、導電性細線４１は、導電性金属層４６、導電性金属層４６の表面のうち、基材フィルム２１に対向する側の面を覆う第１の暗色層４７、導電性金属層４６の表面のうち、基板１１に対向する側の面及び両側面を覆う第２の暗色層４８を含むようにしてもよい。優れた導電性を有する金属材料からなる導電性金属層４６は、比較的高い反射率を呈する。そして、パターン導電体４０の導電性細線４１をなす導電性金属層４６によって光が反射されると、その反射した光が視認されるようになり、乗員の視界を妨げる場合がある。また、外部から導電性金属層４６が視認されると、意匠性が低下する場合がある。そこで、第１及び第２の暗色層４７，４８が、導電性金属層４６の表面の少なくとも一部分を覆っている。第１及び第２の暗色層４７，４８は、導電性金属層４６よりも可視光の反射率が低い層であればよく、例えば黒色等の暗色の層である。この暗色層４７，４８によって、導電性金属層４６が視認されづらくなり、乗員の視界を良好に確保することができる。また、外部から見たときの意匠性の低下を防ぐことができる。 Further, as shown in FIG. 3, the conductive thin wire 41 is a first dark color layer covering the surface of the conductive metal layer 46 and the conductive metal layer 46 on the side facing the base film 21. 47. Of the surface of the conductive metal layer 46, a second dark color layer 48 that covers the side surface facing the substrate 11 and both side surfaces may be included. The conductive metal layer 46 made of a metal material having excellent conductivity exhibits a relatively high reflectance. Then, when the light is reflected by the conductive metal layer 46 forming the conductive thin wire 41 of the pattern conductor 40, the reflected light becomes visible, which may obstruct the view of the occupant. Further, when the conductive metal layer 46 is visually recognized from the outside, the design property may be deteriorated. Therefore, the first and second dark color layers 47 and 48 cover at least a part of the surface of the conductive metal layer 46. The first and second dark color layers 47 and 48 may be layers having a lower visible light reflectance than the conductive metal layer 46, and are dark color layers such as black, for example. The dark-colored layers 47 and 48 make it difficult for the conductive metal layer 46 to be visually recognized, and a good view of the occupant can be ensured. In addition, it is possible to prevent deterioration of the design when viewed from the outside.

なお、前述したように、発熱板１０の透視性または発熱板１０を介した視認性を確保する観点から、非被覆率（開口率）が高くなるように、発熱用導電体３０の導電性細線４１は基材フィルム２１上に形成されている。このため、図３に示すように、接合層１３と導電体付きシート２０の基材フィルム２１とは、導電性細線４１の非被覆部、すなわち隣り合う導電性細線４１の間となる領域を介して接触している。すなわち、発熱用導電体３０は、接合層１３内に埋め込まれた状態となっている。 As described above, from the viewpoint of ensuring the transparency of the heat generating plate 10 or the visibility through the heat generating plate 10, the conductive thin wire of the heat generating conductor 30 is increased so that the non-covering ratio (aperture ratio) is high. 41 is formed on the base film 21. Therefore, as shown in FIG. 3, the bonding layer 13 and the base film 21 of the sheet 20 with a conductor pass through a non-covered portion of the conductive thin wire 41, that is, a region between the adjacent conductive thin wire 41. Are in contact. That is, the heat generating conductor 30 is embedded in the bonding layer 13.

ところで、上述したように、導電性細線を含んだ発熱板を介して光、例えば対向車の照明を観察した場合、尾を引くように観察される光の筋、すなわち光芒が当該照明の周囲に観察される。このような光芒の発生は、発熱板を介した視認性を悪化させることになる。そして、本件発明者らは、鋭意検討を重ねた結果として、光芒の発生する方向が、発熱板への入射光が導電性細線で回折される方向と一致することを知見した。本件発明者らの知見に基づけば、パターン導電体４０をなす導電性細線４１の長手方向を不規則化することにより、特定の方向へ光芒が延びることを防止し、光芒を目立たなくさせることができる。しかしながら、導電性細線４１の配列を完全に不規則化することは、設計負荷を増加させ好ましくない。また、導電性細線４１の配列を不規則化すると、導電性細線での光の反射方向が不規則になり、導電性細線４１での反射光が明るく輝く不規則な模様となって目立ってしまう。そこで本件発明者らは、さらに鋭意検討を重ね、導電性細線４１の配列の規則性を大きく崩すことなく、極めて効果的に光芒を目立たなくさせることを可能にした。以下、光芒の発生原因と、光芒を目立たなくさせる方法について説明する。 By the way, as described above, when observing light, for example, the illumination of an oncoming vehicle through a heating plate containing a conductive thin wire, a streak of light observed so as to trail a tail, that is, a light beam is around the illumination. Observed. The generation of such light beams deteriorates the visibility through the heat generating plate. Then, as a result of repeated diligent studies, the present inventors have found that the direction in which the light beam is generated coincides with the direction in which the incident light on the heating plate is diffracted by the conductive thin wire. Based on the findings of the present inventors, it is possible to prevent the light beam from extending in a specific direction and make the light beam inconspicuous by irregularizing the longitudinal direction of the conductive thin wire 41 forming the pattern conductor 40. can. However, completely irregularizing the arrangement of the conductive thin wires 41 increases the design load and is not preferable. Further, if the arrangement of the conductive thin wires 41 is irregular, the light reflection direction of the conductive thin wires becomes irregular, and the reflected light of the conductive thin wires 41 becomes conspicuous as a bright and shining irregular pattern. .. Therefore, the present inventors have made it possible to make the light beam inconspicuous extremely effectively without significantly breaking the regularity of the arrangement of the conductive thin wires 41 by repeating further diligent studies. Hereinafter, the cause of the light beam and the method of making the light beam inconspicuous will be described.

光芒は、発熱板１０を透過する光が導電性細線４１によって回折することで発生する。すなわち、観察される光芒は、導電性細線４１によって起こる回折の回折像が筋状に延びることで発生する。発熱板１０に導電性細線４１を配置する以上、回折像を発生させないことはできない。したがって、発生する回折像について、視認性に対して影響が小さくすることを考える。 The light beam is generated when the light transmitted through the heating plate 10 is diffracted by the conductive thin wire 41. That is, the observed light beam is generated when the diffraction image of the diffraction caused by the conductive thin wire 41 extends in a streak pattern. As long as the conductive thin wire 41 is arranged on the heat generating plate 10, it is not possible to prevent the diffraction image from being generated. Therefore, it is considered that the generated diffraction image has a small influence on the visibility.

発熱板１０を介した視認性に対して影響が小さい回折像とは、光芒として認識される筋状の光を含まない像である。このような回折像の一例として、回折像が多方向、好ましくは全方向に延び出して個々の回折像が識別できなくなっているものが考えられる。 The diffraction image having a small influence on the visibility through the heating plate 10 is an image that does not include streaky light recognized as a light beam. As an example of such a diffraction image, it is conceivable that the diffraction image extends in multiple directions, preferably in all directions, and the individual diffraction images cannot be identified.

ある構造を透過する光の回折像の形状は、その構造について光が透過する部分と遮蔽される部分との境界の形状によって決定される。例えば、長手方向を有する構造、例えば長手方向を有した矩形形状の構造に起因して生じる回折像は、当該構造の長手方向に直交する方向に延びて光芒となる。したがって、一つの構造をなす境界の形状に直交する方向、すなわち１つの構造をなす区域の法線方向が、少なくともその一部において異なっていれば、当該部分によって異なる方向に筋状の光が発生することになり、他の部分によって発生する筋状の光がぼやけることになる。 The shape of a diffracted image of light that passes through a structure is determined by the shape of the boundary between the light-transmitting portion and the shielded portion of the structure. For example, a diffraction image generated by a structure having a longitudinal direction, for example, a rectangular structure having a longitudinal direction, extends in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the structure and becomes a beam of light. Therefore, if the direction orthogonal to the shape of the boundary forming one structure, that is, the normal direction of the area forming one structure is different in at least a part thereof, streaky light is generated in a different direction depending on the part. This will blur the streaky light generated by other parts.

そのような構造として、本発明では、パターン構造５０が有する第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２について、第１パターン構造５１は単位パターン構造６０が第１方向Ｄ１に連なって形成されるか、又は、単位パターン構造６０が第２方向Ｄ２に連なる連接パターンを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されるように、第２パターン構造５２は単位パターン構造６０を第３方向Ｄ３に連なる連接パターンを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されるようにすることを提案する。このようなパターン構造５０によれば、単位パターン構造６０が第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２によってそれぞれ別の方向に連なるため、２つのパターン構造５１，５２によって異なる方向に筋状の光が発生することになり、パターン構造５０全体によって発生する筋状の光をぼやけさせることができる。 As such a structure, in the present invention, with respect to the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 of the pattern structure 50, is the unit pattern structure 60 formed in the first direction D1 in the first pattern structure 51? Or, the second pattern structure 52 forms a connection pattern in which the unit pattern structure 60 is connected in the third direction D3 so that a plurality of connection patterns in which the unit pattern structure 60 is connected in the second direction D2 are arranged side by side in the first direction D1. It is proposed that a plurality of them are arranged side by side in the first direction D1. According to such a pattern structure 50, since the unit pattern structure 60 is connected in different directions by the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52, the two pattern structures 51 and 52 provide streaky light in different directions. Will be generated, and the streaky light generated by the entire pattern structure 50 can be blurred.

さらに、パターン構造５０において、単位パターン構造６０をなす区域を曲線、特には円弧とすることで、単位パターン構造６０の各位置での法線方向を多方向とすることができる。とりわけ、単位パターン構造６０をなす各区域を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、一つの単位パターン構造を形成する全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円が形成されることが好ましい。区域の法線方向は互いに反対の２方向あるため、区域の集合が半円をなせば、区域の法線方向は全方向に等しく亘り、全方向に等しく筋状の光が発生するからである。 Further, in the pattern structure 50, by forming the area forming the unit pattern structure 60 into a curved line, particularly an arc, the normal direction at each position of the unit pattern structure 60 can be set to multiple directions. In particular, using all the areas forming one unit pattern structure by translating each area forming the unit pattern structure 60 and / or translating each area after rotating 180 °, 1 It is preferable that several natural semicircles described above are formed. This is because the normal directions of the areas are two directions opposite to each other, so if the set of areas forms a semicircle, the normal directions of the areas extend equally in all directions, and streaky light is generated equally in all directions. ..

このようなパターン構造５０の具体的な例について、図４乃至図２４を参照しながら以下で説明する。ただし、本発明は、以下の例に限定されない。 A specific example of such a pattern structure 50 will be described below with reference to FIGS. 4 to 24. However, the present invention is not limited to the following examples.

（パターン構造の第１の例）
まず、パターン構造の第１の例として、図４に示されるパターン構造５０について説明する。図４に示すパターン構造５０は、図５に示す単位パターン構造６０ａで形成されている。 (First example of pattern structure)
First, as a first example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 4 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 4 is formed by the unit pattern structure 60a shown in FIG.

図５の単位パターン構造６０ａは、正六角形の外接円を正六角形の各頂点で分割して６つの円弧とし、１つおきに位置する円弧を１８０°回転させて形成されている。この６つの円弧が、第１の例における単位パターン構造６０ａをなす区域である。すなわち、第１の例における単位パターン構造６０ａは、６つの区域Ａ１〜Ａ６からなる。図５に示すように、区域Ａ１〜Ａ６は、この順で接続されている。この例における単位パターン構造６０ａと他の単位パターン構造６０ａとは、区域Ａ１と区域Ａ４、区域Ａ２と区域Ａ５、区域Ａ３と区域Ａ６を、それぞれ共有可能である。また、このように形成された単位パターン構造６０ａでは、当然に、単位パターン構造６０ａをなす区域Ａ１〜Ａ６を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、一つの単位パターン構造を形成する全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円、具体的には２つの半円が形成される。 The unit pattern structure 60a of FIG. 5 is formed by dividing a regular hexagonal circumscribed circle at each vertex of the regular hexagon into six arcs, and rotating every other arc by 180 °. These six arcs are the areas forming the unit pattern structure 60a in the first example. That is, the unit pattern structure 60a in the first example is composed of six areas A1 to A6. As shown in FIG. 5, the areas A1 to A6 are connected in this order. The unit pattern structure 60a and the other unit pattern structure 60a in this example can share the area A1 and the area A4, the area A2 and the area A5, and the area A3 and the area A6, respectively. Further, in the unit pattern structure 60a formed in this way, naturally, by translating the areas A1 to A6 forming the unit pattern structure 60a and / or by rotating each area by 180 ° and then translating. , One or more natural several semicircles, specifically two semicircles, are formed using all the areas forming one unit pattern structure.

図４に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１、第２パターン構造５２、及び第３パターン構造５３を有する。第１パターン構造５１は、図５に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａは区域Ａ２と区域Ａ５を共有している。第２パターン構造５２は、図５に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連接パターン５２ａを第１方向に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａの区域Ａ１と区域Ａ４を共有する。図４の例において、連接パターン５２ａは、２つの単位パターン構造６０ａを有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し３０°傾いている。第３パターン構造５３は、図５に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３とは異なる第２方向Ｄ２に連なる連接パターン５３ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５３ａの形成及び連接パターン５３ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、単位パターン構造６０ａが第２パターン構造５２と同様に区域を共有する。図４の例において、連接パターン５３ａは、４つの単位パターン構造６０を有する。また、第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１に対し１５°傾いている。この場合において、第１パターン構造５１、第２パターン構造５２及び第３パターン構造５３は、それぞれ平面充填可能なパターンとなっている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 4 has a first pattern structure 51, a second pattern structure 52, and a third pattern structure 53. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a adjacent to each other share the area A2 and the area A5. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 is connected to the third direction D3, which is different from the first direction D1, in the first direction. In this case, for example, when forming the connection pattern 52a, the unit pattern structure 60a shares an area like the first pattern structure 51, and when arranging the connection patterns 52a in the first direction, the connection patterns 52a adjacent to each other are used. The area A1 and the area A4 of the unit pattern structure 60a included in the unit pattern structure 60a are shared. In the example of FIG. 4, the articulated pattern 52a has two unit pattern structures 60a. Further, the third direction D3 is tilted by 30 ° with respect to the first direction D1. The third pattern structure 53 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 53a in which the unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 is connected to the second direction D2, which is different from the first direction D1 and the third direction D3, in the first direction D1. In this case, for example, when forming the connecting pattern 53a and arranging the connecting patterns 53a in the first direction D1, the unit pattern structure 60a shares an area in the same manner as the second pattern structure 52. In the example of FIG. 4, the articulated pattern 53a has four unit pattern structures 60. Further, the second direction D2 is tilted by 15 ° with respect to the first direction D1. In this case, the first pattern structure 51, the second pattern structure 52, and the third pattern structure 53 are patterns that can be tessellated, respectively.

（パターン構造の第２の例）
次に、パターン構造の第２の例として、図６に示されるパターン構造５０について説明する。図６に示すパターン構造５０は、図７に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂで形成されている。 (Second example of pattern structure)
Next, as a second example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 6 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 6 is formed by the unit pattern structures 60a and 60b shown in FIG. 7.

図７の単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、それぞれ正方形の外接円を正方形の各頂点で分割して４つの円弧とし、１つおきに位置する円弧を１８０°回転させて形成されている。単位パターン構造６０ａと単位パターン構造６０ｂとでは、１８０°回転させる円弧の位置が異なる。この８つの円弧が、第２の例における単位パターン構造６０ａの区域Ａ１〜Ａ４及び単位パターン構造６０ｂの区域Ｂ１〜Ｂ４である。図７に示すように、区域Ａ１〜Ａ４及び区域Ｂ１〜Ｂ４は、この順で接続されている。また、単位パターン構造６０ａにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ａ２、Ａ４であり、単位パターン構造６０ｂにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ｂ１、Ｂ３である。この例における単位パターン構造６０ａと単位パターン構造６０ｂとは、区域Ａ１と区域Ｂ３、区域Ａ２と区域Ｂ４、区域Ａ３と区域Ｂ１、区域Ａ４と区域Ｂ２を、それぞれ共有可能である。また、このように形成された各単位パターン構造６０ａ，６０ｂでは、当然に、単位パターン構造６０ａ，６０ｂをなす区域Ａ１〜Ａ４又は区域Ｂ１〜Ｂ４を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、一つの単位パターン構造を形成する全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円、具体的には４つの半円が形成される。 The unit pattern structures 60a and 60b of FIG. 7 are formed by dividing a square circumscribed circle at each vertex of the square into four arcs, and rotating every other arc by 180 °. The position of the arc rotated by 180 ° is different between the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b. These eight arcs are the areas A1 to A4 of the unit pattern structure 60a and the areas B1 to B4 of the unit pattern structure 60b in the second example. As shown in FIG. 7, areas A1 to A4 and areas B1 to B4 are connected in this order. Further, the arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60a are areas A2 and A4, and the arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60b are areas B1 and B3. The unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b in this example can share the area A1 and the area B3, the area A2 and the area B4, the area A3 and the area B1, and the area A4 and the area B2, respectively. Further, in the unit pattern structures 60a and 60b formed in this way, naturally, the areas A1 to A4 or the areas B1 to B4 forming the unit pattern structures 60a and 60b are translated and / or each area is 180. By translating after ° rotation, one or more natural several semicircles, specifically four semicircles, are formed using all the areas that form one unit pattern structure.

図６に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図７に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、区域Ａ２と区域Ｂ４、及び区域Ａ４と区域Ｂ２をそれぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図７に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ、６０ｂが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａ、６０ｂの区域Ａ１と区域Ｂ３を共有する。図６の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ、６０ｂを２つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し２０°傾いている。この場合において、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能なパターンとなっている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 6 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 7 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a and 60b adjacent to each other share the area A2 and the area B4, and the area A4 and the area B2, respectively. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 7 are connected in the third direction D3 different from the first direction D1 in the first direction D1. In this case, for example, in forming the connecting pattern 52a, the unit pattern structures 60a and 60b share an area like the first pattern structure 51, and when the connecting patterns 52a are arranged in the first direction D1, they are adjacent to each other. Areas A1 and B3 of the unit pattern structures 60a and 60b included in the connection pattern 52a are shared. In the example of FIG. 6, the articulated pattern 52a has two unit pattern structures 60a and two 60b. Further, the third direction D3 is tilted by 20 ° with respect to the first direction D1. In this case, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated, respectively.

（パターン構造の第３の例）
次に、パターン構造の第３の例として、図８に示されるパターン構造５０について説明する。図８に示すパターン構造５０は、図９に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃで形成されている。 (Third example of pattern structure)
Next, as a third example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 8 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 8 is formed by the unit pattern structures 60a, 60b, and 60c shown in FIG.

図９の単位パターン構造６０ａは、正方形の外接円を正方形の各頂点で分割して４つの円弧とし、１つおきに位置する円弧を１８０°回転させて形成されている。単位パターン構造６０ｂは、単位パターン構造６０ａの１８０°回転させた２つの円弧と同一の円弧で形成されている。単位パターン構造６０ｃは、正方形の外接円を正方形の各頂点で分割して４つの円弧とし、３つの円弧を１８０°回転させて形成されている。この１０個の円弧が、第３の例における単位パターン構造６０ａの区域Ａ１〜Ａ４、単位パターン構造６０ｂの区域Ｂ１，Ｂ２、及び単位パターン構造６０ｃの区域Ｃ１〜Ｃ４である。図９に示すように、区域Ａ１〜Ａ４及び区域Ｃ１〜Ｃ４は、この順で接続されている。また、単位パターン構造６０ａにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ａ２、Ａ４であり、単位パターン構造６０ｃにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３である。この例における単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃは、区域Ａ１と区域Ｃ３、区域Ａ２と区域Ｃ４、区域Ａ３と区域Ｃ１、区域Ａ４と区域Ｂ１、区域Ｂ１と区域Ｃ２を、それぞれ共有可能である。 The unit pattern structure 60a of FIG. 9 is formed by dividing a square circumscribed circle at each vertex of the square into four arcs, and rotating every other arc by 180 °. The unit pattern structure 60b is formed by the same arc as the two arcs rotated by 180 ° of the unit pattern structure 60a. The unit pattern structure 60c is formed by dividing a square circumscribed circle at each vertex of the square into four arcs and rotating the three arcs by 180 °. The ten arcs are the areas A1 to A4 of the unit pattern structure 60a, the areas B1 and B2 of the unit pattern structure 60b, and the areas C1 to C4 of the unit pattern structure 60c in the third example. As shown in FIG. 9, areas A1 to A4 and areas C1 to C4 are connected in this order. The arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60a are areas A2 and A4, and the arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60c are areas C1, C2, and C3. The unit pattern structures 60a, 60b, and 60c in this example can share the area A1 and the area C3, the area A2 and the area C4, the area A3 and the area C1, the area A4 and the area B1, and the area B1 and the area C2, respectively.

図８に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図９に示す単位パターン構造６０ａ、単位パターン構造６０ｂ及び単位パターン構造６０ｃが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃは、区域Ａ４と区域Ｂ１、区域Ｂ２と区域Ｃ２、及び区域Ｃ４と区域Ａ２をそれぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図９に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａ、６０ｃの区域Ａ１と区域Ｃ３を共有する。図８の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃをそれぞれ２つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向に対し２０°傾いている。この場合において、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能なパターンとなっている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 8 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a, the unit pattern structure 60b, and the unit pattern structure 60c shown in FIG. 9 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a, 60b, and 60c adjacent to each other share the area A4 and the area B1, the area B2 and the area C2, and the area C4 and the area A2, respectively. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 9 are connected in the third direction D3 different from the first direction D1 in the first direction D1. In this case, for example, in forming the connecting pattern 52a, the unit pattern structures 60a, 60b, 60c share an area in the same manner as the first pattern structure 51, and when arranging the connecting patterns 52a in the first direction D1, they are arranged with each other. Areas A1 and C3 of the unit pattern structures 60a and 60c included in the adjacent connection pattern 52a are shared. In the example of FIG. 8, the articulated pattern 52a has two unit pattern structures 60a, 60b, and 60c, respectively. Further, the third direction D3 is inclined by 20 ° with respect to the first direction. In this case, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated, respectively.

（パターン構造の第４の例）
次に、パターン構造の第４の例として、図１０に示されるパターン構造５０について説明する。図１０に示すパターン構造５０は、図１１に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂで形成されている。 (Fourth example of pattern structure)
Next, as a fourth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 10 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 10 is formed by the unit pattern structures 60a and 60b shown in FIG.

図１１の単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、それぞれ正八角形の外接円を正八角形の各頂点で分割して８つの円弧とし、１つおきに位置する円弧を１８０°回転させて形成されている。単位パターン構造６０ａと単位パターン構造６０ｂとでは、１８０°回転させる円弧の位置が異なる。この８つの円弧が、第２の例における単位パターン構造６０ａをなす区域Ａ１〜Ａ８及び単位パターン構造６０ｂをなす区域Ｂ１〜Ｂ８である。図１１に示すように、区域Ａ１〜Ａ８及び区域Ｂ１〜Ｂ８は、この順で接続されている。また、単位パターン構造６０ａにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ａ１、Ａ３、Ａ５、Ａ７であり、単位パターン構造６０ｂにおいて１８０°回転させた円弧は、区域Ｂ２、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８である。この例における単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、区域Ａ１と区域Ｂ５、区域Ａ２と区域Ｂ６、区域Ａ３と区域Ｂ７、区域Ａ４と区域Ｂ８、区域Ａ５と区域Ｂ１、区域Ａ６と区域Ｂ２、区域Ａ７と区域Ｂ３、区域Ａ８と区域Ｂ４を、それぞれ共有可能である。また、このように形成された各単位パターン構造６０ａ，６０ｂでは、当然に、単位パターン構造６０ａ，６０ｂをなす区域Ａ１〜Ａ８又は区域Ｂ１〜Ｂ８を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、一つの単位パターン構造を形成する全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円、具体的には４つの半円が形成される。 The unit pattern structures 60a and 60b of FIG. 11 are formed by dividing a regular octagonal circumscribed circle at each vertex of the regular octagon into eight arcs, and rotating every other arc by 180 °. The position of the arc rotated by 180 ° is different between the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b. These eight arcs are the areas A1 to A8 forming the unit pattern structure 60a and the areas B1 to B8 forming the unit pattern structure 60b in the second example. As shown in FIG. 11, areas A1 to A8 and areas B1 to B8 are connected in this order. The arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60a are areas A1, A3, A5, and A7, and the arcs rotated by 180 ° in the unit pattern structure 60b are areas B2, B4, B6, and B8. The unit pattern structures 60a and 60b in this example include area A1 and area B5, area A2 and area B6, area A3 and area B7, area A4 and area B8, area A5 and area B1, area A6 and area B2, and area A7. Area B3, area A8 and area B4 can be shared respectively. Further, in the unit pattern structures 60a and 60b formed in this way, naturally, the areas A1 to A8 or the areas B1 to B8 forming the unit pattern structures 60a and 60b are translated and / or each area is 180. By translating after ° rotation, one or more natural several semicircles, specifically four semicircles, are formed using all the areas that form one unit pattern structure.

図１０に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図１１に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、区域Ａ３と区域Ｂ７、及び区域Ａ７と区域Ｂ３をそれぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図１１に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ、６０ｂが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａ、６０ｂの区域Ａ１と区域Ｂ５を共有する。図１０の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ、６０ｂを３つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し１２．５°傾いている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 10 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 11 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a and 60b adjacent to each other share the area A3 and the area B7, and the area A7 and the area B3, respectively. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 11 are connected in the third direction D3 different from the first direction D1 in the first direction D1. In this case, for example, in forming the connecting pattern 52a, the unit pattern structures 60a and 60b share an area like the first pattern structure 51, and when the connecting patterns 52a are arranged in the first direction D1, they are adjacent to each other. Areas A1 and B5 of the unit pattern structures 60a and 60b included in the connection pattern 52a are shared. In the example of FIG. 10, the articulated pattern 52a has three unit pattern structures 60a and three 60b. Further, the third direction D3 is tilted by 12.5 ° with respect to the first direction D1.

（パターン構造の第５の例）
次に、パターン構造の第５の例として、図１２に示されるパターン構造５０について説明する。図１２に示すパターン構造５０は、図１３に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅで形成されている。なお、単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、パターン構造の第４の例と同じであるため、説明を省略する。 (Fifth example of pattern structure)
Next, as a fifth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 12 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 12 is formed by the unit pattern structures 60a, 60b, 60c, and 60e shown in FIG. Since the unit pattern structures 60a and 60b are the same as the fourth example of the pattern structure, the description thereof will be omitted.

図１３の単位パターン構造６０ｃ、６０ｅは、それぞれ単位パターン構造６０ｂをなす円弧のうち１８０°回転させた円弧と同一の円弧からなる。この８つの円弧が、第５の例における単位パターン構造６０ｃをなす区域Ｃ１〜Ｃ４及び単位パターン構造６０ｅをなす区域Ｅ１〜Ｅ４である。図１３に示すように、区域Ｃ１〜Ｃ４及び区域Ｅ１〜Ｅ４が、この順で接続されている。この例における単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅは、区域Ａ１と区域Ｂ５、区域Ａ２と区域Ｅ３、区域Ａ３と区域Ｂ７、区域Ａ４と区域Ｃ４、区域Ａ５と区域Ｂ１、区域Ａ６と区域Ｅ１、区域Ａ７と区域Ｂ３、区域Ａ８と区域Ｃ２、区域Ｂ２と区域Ｃ３、区域Ｂ４と区域Ｅ４、区域Ｂ６と区域Ｃ１、区域Ｂ８と区域Ｅ２を、それぞれ共有可能である。 The unit pattern structures 60c and 60e in FIG. 13 are the same arcs that are rotated by 180 ° among the arcs that form the unit pattern structure 60b, respectively. These eight arcs are the areas C1 to C4 forming the unit pattern structure 60c and the areas E1 to E4 forming the unit pattern structure 60e in the fifth example. As shown in FIG. 13, areas C1 to C4 and areas E1 to E4 are connected in this order. The unit pattern structures 60a, 60b, 60c, 60e in this example are area A1 and area B5, area A2 and area E3, area A3 and area B7, area A4 and area C4, area A5 and area B1, area A6 and area E1. , Area A7 and area B3, area A8 and area C2, area B2 and area C3, area B4 and area E4, area B6 and area C1, area B8 and area E2, respectively.

図１２に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図１３に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅは、区域Ａ３と区域Ｂ７、区域Ａ７と区域Ｂ３、区域Ａ８と区域Ｃ２、区域Ａ６と区域Ｅ１、区域Ｂ１との区域Ｃ３、及び区域Ｂ４と区域Ｅ４を、それぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図１１に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅの区域Ａ１と区域Ｂ５、区域Ａ２と区域Ｅ３、及び区域Ｂ６と区域Ｃ１をそれぞれ共有する。図１２の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃ、６０ｅを３つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し１２．５°傾いている。この場合において、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能なパターンとなっている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 12 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 13 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a, 60b, 60c, 60e adjacent to each other are areas of area A3 and area B7, area A7 and area B3, area A8 and area C2, area A6 and area E1, and area B1. C3 and area B4 and area E4 are shared respectively. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structures 60a, 60b, 60c, 60e shown in FIG. 11 are connected to the third direction D3 different from the first direction D1 in the first direction D1. .. In this case, for example, in forming the connecting pattern 52a, the unit pattern structures 60a, 60b, 60c, 60e share an area in the same manner as the first pattern structure 51, and when the connecting patterns 52a are arranged in the first direction D1. , Areas A1 and B5, areas A2 and E3, and areas B6 and C1 of the unit pattern structures 60a, 60b, 60c, 60e included in the articulated pattern 52a adjacent to each other are shared. In the example of FIG. 12, the articulated pattern 52a has three unit pattern structures 60a, 60b, 60c, and 60e. Further, the third direction D3 is tilted by 12.5 ° with respect to the first direction D1. In this case, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated, respectively.

（パターン構造の第６の例）
次に、パターン構造の第６の例として、図１４に示されるパターン構造５０について説明する。図１４に示すパターン構造５０は、第１の例と同じ図５に示す単位パターン構造６０ａで形成されている。 (Sixth example of pattern structure)
Next, as a sixth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 14 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 14 is formed by the same unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 as in the first example.

図１４に示すパターン構造５０は、図１５に示す第１パターン構造５１及び図１６に示す第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図５に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。さらに、第１パターン構造５１は、第１方向Ｄ１に非平行な方向にも連なって形成されている。すなわち、第１パターン構造５１は、単位パターン構造６０ａを２次元配列して形成される。この場合において、互いに隣接する単位パターン構造６０ａは、区域Ａ１と区域Ａ４、区域Ａ２と区域Ａ５及び区域Ａ３と区域Ａ６を、それぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図５に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。さらに、第２パターン構造５２は、第１パターン構造５１と同様に、第１方向Ｄ１とは非平行な方向にも連なって形成されている。この場合においても、互いに隣接する単位パターン構造６０ａは、区域Ａ１と区域Ａ４、区域Ａ２と区域Ａ５及び区域Ａ３と区域Ａ６を、それぞれ共有している。また、第３方向Ｄ３は、第１方向に対し３０°傾いている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 14 has a first pattern structure 51 shown in FIG. 15 and a second pattern structure 52 shown in FIG. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 in the first direction D1. Further, the first pattern structure 51 is formed so as to be continuous in a direction non-parallel to the first direction D1. That is, the first pattern structure 51 is formed by arranging the unit pattern structure 60a in two dimensions. In this case, the unit pattern structures 60a adjacent to each other share the area A1 and the area A4, the area A2 and the area A5, and the area A3 and the area A6, respectively. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a shown in FIG. 5 is connected to the third direction D3, which is different from the first direction D1, in the first direction D1. Further, the second pattern structure 52 is formed so as to be continuous in a direction non-parallel to the first direction D1, similarly to the first pattern structure 51. Also in this case, the unit pattern structures 60a adjacent to each other share the area A1 and the area A4, the area A2 and the area A5, and the area A3 and the area A6, respectively. Further, the third direction D3 is tilted by 30 ° with respect to the first direction.

上述したように、図１４に示すパターン構造５０の第６の例では、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能なパターンであり、それぞれ一対のバスバー３５間の面全体を充填するよう形成されている。したがって、第１パターン構造５１と第２パターン構造５２とは、それらの全域が一対のバスバー３５間の面に重なって形成されている。 As described above, in the sixth example of the pattern structure 50 shown in FIG. 14, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated, respectively, and the entire surface between the pair of bus bars 35 is formed. Is formed to fill. Therefore, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are formed so that their entire areas overlap the surfaces between the pair of bus bars 35.

（パターン構造の第７の例）
次に、パターン構造の第７の例として、図１７に示されるパターン構造５０について説明する。図１７に示すパターン構造５０は、図１８に示す単位パターン構造６０ａで形成されている。 (7th example of pattern structure)
Next, as a seventh example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 17 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 17 is formed by the unit pattern structure 60a shown in FIG.

図１８の単位パターン構造６０ａは、中心角４５°の基準の円弧（Ａ１）と、基準の円弧（Ａ１）の一方の端部の接線方向に関して当該基準の円弧（Ａ１）と線対称となる円弧（Ａ２）と、基準の円弧（Ａ１）の一方の端部に関して当該基準の円弧（Ａ１）と点対称となる円弧（Ａ３）と、基準の円弧（Ａ１）の一方の端部の接線方向に直交する方向に関して当該基準の円弧（Ａ１）と線対称となる円弧（Ａ４）と、をこの順で接続することによって形成されている。この４つの円弧が、第７の例における単位パターン構造６０ａの区域Ａ１〜Ａ４である。図１８に示すように、区域Ａ１〜Ａ４は、この順で接続されている。 The unit pattern structure 60a of FIG. 18 has a reference arc (A1) having a central angle of 45 ° and an arc that is line-symmetric with the reference arc (A1) with respect to the tangential direction of one end of the reference arc (A1). In the tangential direction of (A2), the arc (A3) that is point-symmetrical to the reference arc (A1) with respect to one end of the reference arc (A1), and one end of the reference arc (A1). It is formed by connecting the reference arc (A1) and the line-symmetrical arc (A4) in this order with respect to the orthogonal direction. These four arcs are the areas A1 to A4 of the unit pattern structure 60a in the seventh example. As shown in FIG. 18, the areas A1 to A4 are connected in this order.

図１７に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図１８に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａは、区域Ａ１と区域Ａ２の間の頂点と区域Ａ３と区域Ａ４の間の頂点とを共有している。第２パターン構造５２は、図１８に示す単位パターン構造６０ａが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａが第１パターン構造５１と同様に区域の間の頂点を共有し、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａの区域Ａ１と区域Ａ４の間の頂点と区域Ａ２と区域Ａ３との間の頂点とを共有する。図１７の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａを３つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し１２．５°傾いている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 17 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a shown in FIG. 18 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a adjacent to each other share the apex between the areas A1 and A2 and the apex between the areas A3 and A4. The second pattern structure 52 is formed by arranging a plurality of connecting patterns 52a in which the unit pattern structure 60a shown in FIG. 18 is connected to the third direction D3, which is different from the first direction D1, in the first direction D1. In this case, for example, in forming the connection pattern 52a, the unit pattern structure 60a shares the vertices between the areas as in the first pattern structure 51, and when the connection patterns 52a are arranged in the first direction D1, they are mutually arranged. The apex between the areas A1 and A4 of the unit pattern structure 60a included in the adjacent concatenated pattern 52a and the apex between the areas A2 and A3 are shared. In the example of FIG. 17, the articulated pattern 52a has three unit pattern structures 60a each. Further, the third direction D3 is tilted by 12.5 ° with respect to the first direction D1.

（パターン構造の第８の例）
次に、パターン構造の第８の例として、図１９に示されるパターン構造５０について説明する。図１９に示すパターン構造５０は、図２０に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６、及び区域Ｂ１〜Ｂ６で形成されている。なお、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６は、それぞれパターン構造の第４の例の単位パターン構造６０ａ（図１１参照）と同じであるため、説明を省略する。 (8th example of pattern structure)
Next, as an eighth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 19 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 19 is formed by the unit pattern structures 60a1 to 60a6 shown in FIG. 20 and the areas B1 to B6. Since the unit pattern structures 60a1 to 60a6 are the same as the unit pattern structure 60a (see FIG. 11) of the fourth example of the pattern structure, the description thereof will be omitted.

図２０の区域Ｂ１〜Ｂ６は、中心角９０°で切り取られた同一の半径を有する円弧である。図示された例においては、区域Ｂ１〜Ｂ６の円弧の弦の長さは、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６の区域Ａ１〜Ａ８の円弧の弦の長さと同一である。区域Ｂ１と区域Ｂ６、区域Ｂ２と区域Ｂ３、区域Ｂ４と区域Ｂ５は、それぞれ平行移動によって互いに重なり合う。図２０に示すように、単位パターン構造６０ａ１と単位パターン構造６０ａ２、単位パターン構造６０ａ３と単位パターン構造６０ａ４、単位パターン構造６０ａ５と単位パターン構造６０ａ６が、それぞれ隣り合っている。これらの各対が隣り合う方向と交差する方向で、単位パターン構造６０ａ１、６０ａ３、６０ａ５及び単位パターン構造６０ａ２、６０ａ４、６０ａ６が、それぞれこの順で並んでいる。単位パターン構造６０ａ１の区域Ａ５とＡ６との間の頂点と単位パターン構造６０ａ２の区域Ａ８とＡ１との間の頂点を、区域Ｂ１が接続している。単位パターン構造６０ａ１の区域Ａ６とＡ７との間の頂点と単位パターン構造６０ａ３の区域Ａ３とＡ４との間の頂点を、区域Ｂ２が接続している。単位パターン構造６０ａ２の区域Ａ６とＡ７との間の頂点と単位パターン構造６０ａ４の区域Ａ３とＡ４との間の頂点を、区域Ｂ３が接続している。単位パターン構造６０ａ３の区域Ａ７とＡ８との間の頂点と単位パターン構造６０ａ５の区域Ａ２とＡ３との間の頂点を、区域Ｂ４が接続している。単位パターン構造６０ａ４の区域Ａ７とＡ８との間の頂点と単位パターン構造６０ａ６の区域Ａ２とＡ３との間の頂点を、区域Ｂ５が接続している。単位パターン構造６０ａ５の区域Ａ５とＡ６との間の頂点と単位パターン構造６０ａ６の区域Ａ８とＡ１との間の頂点を、区域Ｂ６が接続している。 Areas B1 to B6 in FIG. 20 are arcs having the same radius cut out at a central angle of 90 °. In the illustrated example, the length of the arc chords in areas B1 to B6 is the same as the length of the arc chords in zones A1 to A8 of the unit pattern structures 60a1 to 60a6. Area B1 and area B6, area B2 and area B3, and area B4 and area B5 overlap each other by translation. As shown in FIG. 20, the unit pattern structure 60a1 and the unit pattern structure 60a2, the unit pattern structure 60a3 and the unit pattern structure 60a4, and the unit pattern structure 60a5 and the unit pattern structure 60a6 are adjacent to each other. The unit pattern structures 60a1, 60a3, 60a5 and the unit pattern structures 60a2, 60a4, 60a6 are arranged in this order in the direction in which each of these pairs intersects the adjacent direction. Area B1 connects the vertices between the areas A5 and A6 of the unit pattern structure 60a1 and the vertices between the areas A8 and A1 of the unit pattern structure 60a2. Area B2 connects the vertices between the areas A6 and A7 of the unit pattern structure 60a1 and the vertices between the areas A3 and A4 of the unit pattern structure 60a3. Area B3 connects the vertices between the areas A6 and A7 of the unit pattern structure 60a2 and the vertices between the areas A3 and A4 of the unit pattern structure 60a4. Area B4 connects the vertices between the areas A7 and A8 of the unit pattern structure 60a3 and the vertices between the areas A2 and A3 of the unit pattern structure 60a5. Area B5 connects the vertices between the areas A7 and A8 of the unit pattern structure 60a4 and the vertices between the areas A2 and A3 of the unit pattern structure 60a6. Area B6 connects the vertices between the areas A5 and A6 of the unit pattern structure 60a5 and the vertices between the areas A8 and A1 of the unit pattern structure 60a6.

図１９に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図２０に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造が第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造は、単位パターン構造６０ａ１の全ての区域と単位パターン構造６０ａ５の全ての区域、単位パターン構造６０ａ２の全ての区域と単位パターン構造６０ａ６の全ての区域、区域Ｂ１と区域Ｂ６を、それぞれ共有して連なっている。言い換えると、第１パターン構造５１では、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造が、その一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ１の全ての区域、単位パターン構造６０ａ２の全ての区域、及び区域Ｂ１でなる部分）を、他の単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造の一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ５の全ての区域、単位パターン構造６０ａ６の全ての区域、及び区域Ｂ６でなる部分）に重ねることで、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった複数の構造が連なって第１パターン構造５１が形成されている。すなわち、本例では、パターン部分を互いに重ねることが、結果的に、区域の共有状態を形成している。第２パターン構造５２は、図２０に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造が第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造が第１パターン構造５１と同様に区域を共有している。また、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、単位パターン構造６０ａ２の全ての区域と単位パターン構造６０ａ５の全ての区域を共有する。言い換えると、第２パターン構造５２では、連接パターン５２ａが、その一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ２でなる部分）を、他の連接パターン５２ａの一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ５でなる部分）に重ねることで、複数の連接パターン５２ａが連なって第２パターン構造５２が形成されている。すなわち、パターン部分を互いに重ねることが、結果的に、区域の共有状態を形成している。図１９の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ６及び区域Ｂ１〜Ｂ６が組み合わさった構造を２つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し１２．５°傾いている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 19 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 shown in FIG. 20 in a row in the first direction D1. In this case, for example, the structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined is all the areas of the unit pattern structure 60a1, all the areas of the unit pattern structure 60a5, and all the areas of the unit pattern structure 60a2. And all the areas of the unit pattern structure 60a6, and the areas B1 and B6 are shared and connected to each other. In other words, in the first pattern structure 51, the structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined is a pattern portion formed of a part of the area (all areas of the unit pattern structure 60a1, the unit pattern structure). All the areas of 60a2 and the part consisting of the area B1) are covered with the pattern part (the part of the unit pattern structure 60a5) which is a part of the structure in which the other unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined. By superimposing on the area, all the areas of the unit pattern structure 60a6, and the portion consisting of the area B6), a plurality of structures in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined are connected to form the first pattern structure 51. It is formed. That is, in this example, overlapping the pattern portions with each other eventually forms a shared state of the area. The second pattern structure 52 uses the connecting pattern 52a in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 shown in FIG. 20 are combined in the third direction D3, which is different from the first direction D1, in the first direction D1. It is formed side by side. In this case, for example, in forming the articulated pattern 52a, a structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined share an area as in the first pattern structure 51. Further, when arranging the connection patterns 52a in the first direction D1, all the areas of the unit pattern structure 60a2 and all the areas of the unit pattern structure 60a5 are shared. In other words, in the second pattern structure 52, the pattern portion (the portion formed by the unit pattern structure 60a2) in which the connecting pattern 52a is a part of the area is changed to the pattern portion (the part consisting of a part of the other connecting pattern 52a). By superimposing on the unit pattern structure 60a5), a plurality of connecting patterns 52a are connected to form a second pattern structure 52. That is, overlapping the pattern portions with each other eventually forms a shared state of the area. In the example of FIG. 19, the articulated pattern 52a has two structures in which the unit pattern structures 60a1 to 60a6 and the areas B1 to B6 are combined. Further, the third direction D3 is tilted by 12.5 ° with respect to the first direction D1.

（パターン構造の第９の例）
次に、パターン構造の第９の例として、図２１に示されるパターン構造５０について説明する。図２１に示すパターン構造５０は、図２２に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５、及び区域Ｂ１〜Ｂ１８で形成されている。なお、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５は、それぞれパターン構造の第４の例の単位パターン構造６０ａ（図１１参照）と同じであるため、説明を省略する。また、図示の都合上、図２２においては単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５の区域Ａ１〜Ａ７については符号の図示を省略する。各符号と図示された区域は、図１１の単位パターン構造６０ａと同一である。 (Ninth example of pattern structure)
Next, as a ninth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 21 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 21 is formed by the unit pattern structures 60a1 to 60a15 shown in FIG. 22 and the areas B1 to B18. Since the unit pattern structures 60a1 to 60a15 are the same as the unit pattern structure 60a (see FIG. 11) of the fourth example of the pattern structure, the description thereof will be omitted. Further, for convenience of illustration, the reference numerals of the areas A1 to A7 of the unit pattern structures 60a1 to 60a15 are omitted in FIG. 22. Each reference numeral and the area illustrated are the same as the unit pattern structure 60a of FIG.

図２２の区域Ｂ１〜Ｂ１８は、中心角９０°で切り取られた同一の半径を有する円弧である。図示された例においては、区域Ｂ１〜Ｂ１８の円弧の弦の長さは、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５の区域Ａ１〜Ａ８の弦の長さと同一である。図示された例において、区域Ｂ１と区域Ｂ４、Ｂ９、Ｂ１３、区域Ｂ２と区域Ｂ３、Ｂ７、Ｂ８、Ｂ１４、区域Ｂ５と区域Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１６、Ｂ１７、区域Ｂ６と区域Ｂ１０、Ｂ１５、Ｂ１８は、それぞれ平行移動によって互いに重なり合う。また、図２２に示すように、単位パターン構造６０ａ１と単位パターン構造６０ａ２、単位パターン構造６０ａ３と単位パターン構造６０ａ４、単位パターン構造６０ａ５と単位パターン構造６０ａ６、単位パターン構造６０ａ７と単位パターン構造６０ａ８、単位パターン構造６０ａ８と単位パターン構造６０ａ９、単位パターン構造６０ａ１０と単位パターン構造６０ａ１１、単位パターン構造６０ａ１２と単位パターン構造６０ａ１３、単位パターン構造６０ａ１４と単位パターン構造６０ａ１５が、それぞれ隣り合っている。これらの各対が隣り合う方向と交差する方向で、単位パターン構造６０ａ１、６０ａ３、６０ａ７、６０ａ１０、単位パターン構造６０ａ２、６０ａ４、６０ａ５、６０ａ８、６０ａ１１、６０ａ１２、６０ａ１４及び単位パターン構造６０ａ６、６０ａ９、６０ａ１３、６０ａ１５が、それぞれこの順で並んでいる。単位パターン構造６０ａ１、６０ａ２の間、単位パターン構造６０ａ３、６０ａ４の間、単位パターン構造６０ａ７、６０ａ８の間、及び単位パターン構造６０ａ１０、６０ａ１１の間の、区域Ａ４とＡ５との間の頂点と区域Ａ１とＡ２との間の頂点を区域Ｂ１、Ｂ４、Ｂ９、Ｂ１３がそれぞれ接続している。単位パターン構造６０ａ１、６０ａ３の間、単位パターン構造６０ａ２、６０ａ４の間、単位パターン構造６０ａ５、６０ａ８の間、単位パターン構造６０ａ６、６０ａ９の間、及び単位パターン構造６０ａ１１、６０ａ１２の間の、区域Ａ７とＡ８との間の頂点と区域Ａ２とＡ３との間の頂点を区域Ｂ２、Ｂ３、Ｂ７、Ｂ８、Ｂ１４がそれぞれ接続している。単位パターン構造６０ａ４、６０ａ５の間、単位パターン構造６０ａ７、６０ａ１０の間、単位パターン構造６０ａ８、６０ａ１１の間、単位パターン構造６０ａ１２、６０ａ１４、及び単位パターン構造６０ａ１３、６０ａ１５の間の、区域Ａ６とＡ７との間の頂点と区域Ａ３とＡ４との間の頂点を区域Ｂ５、Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１６、Ｂ１７がそれぞれ接続している。単位パターン構造６０ａ５、６０ａ６の間、単位パターン構造６０ａ８、６０ａ９の間、単位パターン構造６０ａ１２、６０ａ１３の間、及び単位パターン構造６０ａ１４、６０ａ１５の間の、区域Ａ５とＡ６との間の頂点と区域Ａ８とＡ１との間の頂点を区域Ｂ６、Ｂ１０、Ｂ１５、Ｂ１８がそれぞれ接続している。 Areas B1 to B18 in FIG. 22 are arcs having the same radius cut out at a central angle of 90 °. In the illustrated example, the length of the arc chords in areas B1 to B18 is the same as the length of the chords in areas A1 to A8 of the unit pattern structures 60a1 to 60a15. In the illustrated example, areas B1 and B4, B9, B13, areas B2 and B3, B7, B8, B14, areas B5 and areas B11, B12, B16, B17, areas B6 and areas B10, B15, B18 , Each overlaps with each other by translation. Further, as shown in FIG. 22, the unit pattern structure 60a1 and the unit pattern structure 60a2, the unit pattern structure 60a3 and the unit pattern structure 60a4, the unit pattern structure 60a5 and the unit pattern structure 60a6, the unit pattern structure 60a7 and the unit pattern structure 60a8, the unit. The pattern structure 60a8 and the unit pattern structure 60a9, the unit pattern structure 60a10 and the unit pattern structure 60a11, the unit pattern structure 60a12 and the unit pattern structure 60a13, and the unit pattern structure 60a14 and the unit pattern structure 60a15 are adjacent to each other. The unit pattern structures 60a1, 60a3, 60a7, 60a10, the unit pattern structures 60a2, 60a4, 60a5, 60a8, 60a11, 60a12, 60a14 and the unit pattern structures 60a6, 60a9, 60a13 in the direction in which each of these pairs intersects the adjacent direction. , 60a15 are arranged in this order, respectively. Between the unit pattern structures 60a1 and 60a2, between the unit pattern structures 60a3 and 60a4, between the unit pattern structures 60a7 and 60a8, and between the unit pattern structures 60a10 and 60a11, between the apex between the areas A4 and A5 and the area A1. Areas B1, B4, B9, and B13 connect the vertices between and A2, respectively. Between the unit pattern structures 60a1 and 60a3, between the unit pattern structures 60a2 and 60a4, between the unit pattern structures 60a5 and 60a8, between the unit pattern structures 60a6 and 60a9, and between the unit pattern structures 60a11 and 60a12, with the area A7. Areas B2, B3, B7, B8, and B14 connect the apex between A8 and the apex between areas A2 and A3, respectively. Areas A6 and A7 between the unit pattern structures 60a4 and 60a5, between the unit pattern structures 60a7 and 60a10, between the unit pattern structures 60a8 and 60a11, between the unit pattern structures 60a12 and 60a14, and between the unit pattern structures 60a13 and 60a15. Areas B5, B11, B12, B16, and B17 connect the apex between the apex and the apex between the areas A3 and A4, respectively. Between the unit pattern structures 60a5 and 60a6, between the unit pattern structures 60a8 and 60a9, between the unit pattern structures 60a12 and 60a13, and between the unit pattern structures 60a14 and 60a15, the apex between the areas A5 and A6 and the area A8. Areas B6, B10, B15, and B18 connect the vertices between and A1, respectively.

図２１に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図２２に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造が第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造は、単位パターン構造６０ａ２の全ての区域と単位パターン構造６０ａ１４の全ての区域を、共有して連なっている。言い換えると、第１パターン構造５１では、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造が、その一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ２の全ての区域でなる部分）を、他の単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造の一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ１４の全ての区域でなる部分）に重ねることで、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった複数の構造が連なって第１パターン構造５１が形成されている。すなわち、本例でも、パターン部分を互いに重ねることが、結果的に、区域の共有状態を形成している第２パターン構造５２は、図２２に示す単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造が第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造が第１パターン構造５１と同様に区域を共有する。また、連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、単位パターン構造６０ａ１の全ての区域と単位パターン構造６０ａ１５の全ての区域を共有する。言い換えると、第２パターン構造５２では、連接パターン５２ａが、その一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ１でなる部分）を、他の連接パターン５２ａの一部の区域でなるパターン部分（単位パターン構造６０ａ１５でなる部分）に重ねることで、複数の連接パターン５２ａが連なって第２パターン構造５２が形成されている。すなわち、パターン部分を互いに重ねることが、結果的に、区域の共有状態を形成している。図２１の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ１〜６０ａ１５及び区域Ｂ１〜Ｂ１８が組み合わさった構造を２つずつ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に対し１０°傾いている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 21 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structures 60a1 to 60a15 shown in FIG. 22 and the areas B1 to B18 in a row in the first direction D1. In this case, for example, the structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 are combined shares and connects all the areas of the unit pattern structure 60a2 and all the areas of the unit pattern structure 60a14. In other words, in the first pattern structure 51, the structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 are combined is a pattern portion (a portion of all the areas of the unit pattern structure 60a2) formed of a part of the area. Is superimposed on a pattern portion (a portion of all the areas of the unit pattern structure 60a14) which is a part of the structure in which the other unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 are combined. The first pattern structure 51 is formed by connecting a plurality of structures in which 60a1 to 60a15 and areas B1 to B18 are combined. That is, also in this example, the unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 shown in FIG. 22 are the second pattern structures 52 in which the pattern portions are overlapped with each other to form a shared state of the areas. A plurality of connecting patterns 52a in which the combined structure is connected to the third direction D3, which is different from the first direction D1, are arranged side by side in the first direction D1. In this case, for example, in forming the articulated pattern 52a, a structure in which the unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 are combined share the area as in the first pattern structure 51. Further, when arranging the connection patterns 52a in the first direction D1, all the areas of the unit pattern structure 60a1 and all the areas of the unit pattern structure 60a15 are shared. In other words, in the second pattern structure 52, the pattern portion (the portion formed by the unit pattern structure 60a1) in which the connecting pattern 52a is a part of the area is replaced with the pattern portion (the part consisting of a part of the other connecting pattern 52a). By superimposing on the unit pattern structure 60a15), a plurality of connecting patterns 52a are connected to form a second pattern structure 52. That is, overlapping the pattern portions with each other eventually forms a shared state of the area. In the example of FIG. 21, the articulated pattern 52a has two structures in which the unit pattern structures 60a1 to 60a15 and the areas B1 to B18 are combined. Further, the third direction D3 is tilted by 10 ° with respect to the first direction D1.

（パターン構造の第１０の例）
次に、パターン構造の第１０の例として、図２３に示されるパターン構造５０について説明する。図２３に示すパターン構造５０は、図２４に示す単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃで形成されている。なお、単位パターン構造６０ａは、パターン構造の第４の例の単位パターン構造６０ａ（図１１参照）と同じであるため、説明を省略する。 (10th example of pattern structure)
Next, as a tenth example of the pattern structure, the pattern structure 50 shown in FIG. 23 will be described. The pattern structure 50 shown in FIG. 23 is formed by the unit pattern structures 60a, 60b, and 60c shown in FIG. 24. Since the unit pattern structure 60a is the same as the unit pattern structure 60a (see FIG. 11) of the fourth example of the pattern structure, the description thereof will be omitted.

図２４の単位パターン構造６０ｂは、中心角９０°で切り取られた同一の半径を有する２つの円弧と、単位パターン構造６０ａの１８０°回転させた円弧である区域Ａ３、Ａ７と同一の円弧と、で形成されている。各円弧の弦の長さは、同一となっている。図示された例において、単位パターン構造６０ｂは、これらの円弧の弦が正方形を形成し、その正方形に外接する形状となるように接続されて形成されている。単位パターン構造６０ｃは、中心角９０°で切り取られた同一の半径を有する２つの円弧と、単位パターン構造６０ａの１８０°回転させた円弧である区域Ａ１、Ａ５と同一の円弧と、で形成されている。各円弧の弦の長さは、同一となっている。図示された例において、単位パターン構造６０ｃは、これらの円弧の弦が正方形を形成し、その正方形に外接する形状となるように接続されて形成されている。これらの円弧が、第１０の例における単位パターン構造６０ｂの区域Ｂ１〜Ｂ４、及び単位パターン構造６０ｃの区域Ｃ１〜Ｃ４である。図２４に示すように、区域Ｂ１〜Ｂ４及び区域Ｃ１〜Ｃ４は、この順で接続されている。この例における単位パターン構造６０ａ、６０ｂ、６０ｃは、区域Ａ３と区域Ｂ４、区域Ａ７と区域Ｂ２、区域Ａ１と区域Ｃ３、区域Ａ５と区域Ｃ１を、それぞれ共有可能である。 The unit pattern structure 60b of FIG. 24 has two arcs having the same radius cut out at a central angle of 90 ° and the same arcs as the areas A3 and A7 which are the arcs rotated by 180 ° of the unit pattern structure 60a. Is formed of. The chord length of each arc is the same. In the illustrated example, the unit pattern structure 60b is formed by connecting the strings of these arcs so as to form a square and circumscribe the square. The unit pattern structure 60c is formed of two arcs having the same radius cut out at a central angle of 90 ° and the same arcs as the areas A1 and A5 which are the arcs rotated by 180 ° of the unit pattern structure 60a. ing. The chord length of each arc is the same. In the illustrated example, the unit pattern structure 60c is formed by connecting the strings of these arcs so as to form a square and circumscribe the square. These arcs are the areas B1 to B4 of the unit pattern structure 60b and the areas C1 to C4 of the unit pattern structure 60c in the tenth example. As shown in FIG. 24, areas B1 to B4 and areas C1 to C4 are connected in this order. The unit pattern structures 60a, 60b, and 60c in this example can share the area A3 and the area B4, the area A7 and the area B2, the area A1 and the area C3, and the area A5 and the area C1, respectively.

図２３に示すパターン構造５０は、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２を有する。第１パターン構造５１は、図２４に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１に連なって形成されている。この場合において、例えば、互いに隣接する単位パターン構造６０ａ、６０ｂは、区域Ａ３と区域Ｂ４及び区域Ａ７と区域Ｂ２をそれぞれ共有している。第２パターン構造５２は、図２４に示す単位パターン構造６０ａ及び単位パターン構造６０ｂが第１方向Ｄ１とは異なる第３方向Ｄ３に連なり、連なりの端部の単位パターン構造６０ａに単位パターン構造６０ｃが連なる連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に複数並べて形成されている。この場合において、例えば、連接パターン５２ａの形成には、単位パターン構造６０ａ、６０ｂが第１パターン構造５１と同様に区域を共有し、連なりの端部において単位パターン構造６０ａ、６０ｃが区域Ａ１と区域Ｃ３を共有する。連接パターン５２ａを第１方向Ｄ１に並べるに際しては、互いに隣接する連接パターン５２ａに含まれる単位パターン構造６０ａ、６０ｃの区域Ａ５と区域Ｃ１を共有する。図２３の例において、連接パターン５２ａは、単位パターン構造６０ａ、６０ｂをそれぞれ５つずつ有し、単位パターン構造６０ｃを１つ有する。また、第３方向Ｄ３は、第１方向に対し１２．５°傾いている。この場合において、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、それぞれ平面充填可能なパターンとなっている。 The pattern structure 50 shown in FIG. 23 has a first pattern structure 51 and a second pattern structure 52. The first pattern structure 51 is formed by connecting the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 24 in the first direction D1. In this case, for example, the unit pattern structures 60a and 60b adjacent to each other share the area A3 and the area B4 and the area A7 and the area B2, respectively. In the second pattern structure 52, the unit pattern structure 60a and the unit pattern structure 60b shown in FIG. 24 are connected to the third direction D3 different from the first direction D1, and the unit pattern structure 60c is connected to the unit pattern structure 60a at the end of the connection. A plurality of continuous connection patterns 52a are arranged side by side in the first direction D1. In this case, for example, in forming the connecting pattern 52a, the unit pattern structures 60a and 60b share an area like the first pattern structure 51, and the unit pattern structures 60a and 60c share an area with the area A1 at the end of the connection. Share C3. When arranging the connection patterns 52a in the first direction D1, the areas A5 and the areas C1 of the unit pattern structures 60a and 60c included in the connection patterns 52a adjacent to each other are shared. In the example of FIG. 23, the articulated pattern 52a has five unit pattern structures 60a and five each, and one unit pattern structure 60c. Further, the third direction D3 is tilted by 12.5 ° with respect to the first direction. In this case, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated, respectively.

パターン構造の第１〜第１０の例において、単位パターン構造６０が第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２によってそれぞれ別の方向に連なるため、２つのパターン構造５１，５２によって異なる方向に筋状の光が発生することになり、また、区域の法線方向は全方向に亘るため、パターン構造５０全体によって発生する筋状の光をぼやけさせることができる。したがって、パターン導電体４０がこのパターン構造５０を有する発熱用導電体３０においては、発生する光芒を目立たなくさせることができる。 In the first to tenth examples of the pattern structure, since the unit pattern structure 60 is connected in different directions by the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52, the two pattern structures 51 and 52 are streaked in different directions. In addition, since the normal direction of the area extends in all directions, the streak-like light generated by the entire pattern structure 50 can be blurred. Therefore, in the heat generating conductor 30 in which the pattern conductor 40 has the pattern structure 50, the generated light beam can be made inconspicuous.

パターン構造の第１の例においては、単位パターン構造６０が第３パターン構造５３をさらに有するので、３つのパターン構造５１，５２，５３によって異なる方向に筋状の光が発生する。具体的には、パターン構造の第１の例においては、第１パターン構造５１に含まれる単位パターン構造６０がそれぞれ別の向きで配置された３種の区域を有し、それぞれの向きの区域が同じ長さであるため、第１パターン構造５１によって発生する光芒が延びる方向は、３方向に均等に延びる。すなわち、１つの光芒が延びる方向を基準の０°の方向と考えると、第１パターン構造５１による光芒は、０°−１８０°方向、６０°−２４０°方向、１２０°−３００°方向の３方向に延びる。また、第１パターン構造５１が連なる方向である第1方向Ｄ１に対し、第２パターン構造５２が連なる方向である第２方向Ｄ２は、１５°傾いており、第３パターン構造５３が連なる方向である第３方向Ｄ３は、３０°傾いている。したがって、第１パターン構造５１によって発生する光芒が延びる方向に対し、第２パターン構造５２によって発生する光芒が延びる方向は、１５°傾き、第３パターン構造５３によって発生する光芒が延びる方向は、３０°傾く。よって、第２パターン構造５２による光芒は、１５°−１９５°方向、７５°−２２５°方向、１３５°−２１５°方向の３方向に延び、第３パターン構造５３による光芒は、３０°−２１０°方向、９０°−２７０°方向、１５０°−３３０°方向の３方向に延びる。それぞれのパターン構造によって異なる方向に光芒が発生するため、パターン構造５０全体によって発生する光芒をより目立たなくさせることができる In the first example of the pattern structure, since the unit pattern structure 60 further includes the third pattern structure 53, the three pattern structures 51, 52, and 53 generate streaky light in different directions. Specifically, in the first example of the pattern structure, the unit pattern structure 60 included in the first pattern structure 51 has three types of areas arranged in different directions, and the areas in each direction are arranged. Since they have the same length, the light beams generated by the first pattern structure 51 extend evenly in the three directions. That is, if the direction in which one light beam extends is considered as the reference 0 ° direction, the light beam according to the first pattern structure 51 is 3 in the 0 ° -180 ° direction, the 60 ° -240 ° direction, and the 120 ° -300 ° direction. Extend in the direction. Further, the second direction D2, which is the direction in which the second pattern structure 52 is connected, is tilted by 15 ° with respect to the first direction D1, which is the direction in which the first pattern structure 51 is connected, and is in the direction in which the third pattern structure 53 is connected. A third direction D3 is tilted by 30 °. Therefore, the direction in which the light beam generated by the second pattern structure 52 extends is tilted by 15 ° with respect to the direction in which the light beam generated by the first pattern structure 51 extends, and the direction in which the light beam generated by the third pattern structure 53 extends is 30. ° Tilt. Therefore, the light beam due to the second pattern structure 52 extends in three directions of 15 ° -195 ° direction, 75 ° -225 ° direction, and 135 ° -215 ° direction, and the light beam due to the third pattern structure 53 extends at 30 ° -210. It extends in three directions: ° direction, 90 ° -270 ° direction, and 150 ° -330 ° direction. Since the light beams are generated in different directions depending on each pattern structure, the light rays generated by the entire pattern structure 50 can be made less noticeable.

また、パターン構造の第１、第２、第４、第６及び第９の例において、単位パターン構造６０をなす各区域を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、一つの単位パターン構造を形成する全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円が形成されるため、区域の法線方向は全方向に等しく亘る。これにより、全方向に等しく筋状の光が発生するため、発生する光芒をより目立たなくさせることができる。 Further, in the first, second, fourth, sixth and ninth examples of the pattern structure, each area forming the unit pattern structure 60 is translated and / or each area is rotated by 180 ° and then parallelized. By moving, one or more natural several semicircles are formed using all the areas forming one unit pattern structure, so that the normal direction of the areas extends equally in all directions. As a result, streaky light is generated equally in all directions, so that the generated light beam can be made less noticeable.

なお、第１の例において、パターン構造５０は、第１パターン構造５１を有さず、第２パターン構造５２と第３パターン構造５３のみを有してもよい。すなわち、単位パターン構造６０が第１方向に連なって形成される第１パターン構造５１が存在しなくてもよい。このような場合でも、単位パターン構造６０が第２パターン構造５２及び第３パターン構造５３によってそれぞれ別の方向に連なるため、２つのパターン構造５２，５３によって異なる方向に筋状の光が発生することになる。したがって、パターン導電体４０がこのパターン構造５０を有する発熱用導電体３０においても、発生する光芒を目立たなくさせることができる。なお、この態様においては、本発明でいう「第１パターン構造」は、実施の形態に係る第３パターン構造５３に対応する。 In the first example, the pattern structure 50 may not have the first pattern structure 51 but may have only the second pattern structure 52 and the third pattern structure 53. That is, the first pattern structure 51 in which the unit pattern structures 60 are continuously formed in the first direction may not exist. Even in such a case, since the unit pattern structure 60 is connected in different directions by the second pattern structure 52 and the third pattern structure 53, streaky light is generated in different directions by the two pattern structures 52 and 53. become. Therefore, even in the heat generating conductor 30 in which the pattern conductor 40 has the pattern structure 50, the generated light beam can be made inconspicuous. In this aspect, the "first pattern structure" referred to in the present invention corresponds to the third pattern structure 53 according to the embodiment.

また、第１の例において、パターン構造５０は、第３パターン構造５３を有さず、第１パターン構造５１と第２パターン構造５２のみを有してもよい。このような場合でも、上述したように、単位パターン構造６０が第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２によってそれぞれ別の方向に連なるため、パターン導電体４０がこのパターン構造５０を有する発熱用導電体３０においては、発生する光芒を目立たなくさせることができる。 Further, in the first example, the pattern structure 50 may not have the third pattern structure 53, but may have only the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52. Even in such a case, as described above, since the unit pattern structure 60 is connected in different directions by the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52, the pattern conductor 40 has the pattern structure 50 for heat generation. In the body 30, the generated light beam can be made inconspicuous.

なお、パターン構造の第１〜第１０の例においては、第２パターン構造５２が１種類の連接パターン５２ａしか有していなかった。しかしながら、第２パターン構造５２が複数の種類の連接パターンを有していてもよい。 In the first to tenth examples of the pattern structure, the second pattern structure 52 had only one type of concatenated pattern 52a. However, the second pattern structure 52 may have a plurality of types of articulated patterns.

また、パターン構造の第１〜第１０の例において、互いに隣接する単位パターン構造６０が共有する区域は、区域全体を共有していた。しかしながら、区域の共有は、少なくとも部分的であってもよい。また、パターン構造の第８及び第９の例（図１９、２１）のよう、互いに隣接する単位パターン構造６０が複数の区域を共有してもよい。 Further, in the first to tenth examples of the pattern structure, the areas shared by the unit pattern structures 60 adjacent to each other share the entire area. However, area sharing may be at least partial. Further, as in the eighth and ninth examples of the pattern structure (FIGS. 19 and 21), the unit pattern structures 60 adjacent to each other may share a plurality of areas.

パターン構造の第１〜第３、第５、第６の例では、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２は、平面充填可能なパターンとなっている。この場合、パターン導電体４０が規則的なパターン構造５０によって導電性細線４１が配置されるため、導電性細線４１による外部からの光の反射方向が規則的になる。したがって、パターン導電体４０を有する発熱板１０を介した視界において、導電性細線４１での反射光が明るく輝く不規則な模様となって目立つことを防止することができる。 In the first to third, fifth, and sixth examples of the pattern structure, the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are patterns that can be tessellated. In this case, since the conductive thin wire 41 is arranged by the regular pattern structure 50 of the pattern conductor 40, the direction of reflection of light from the outside by the conductive thin wire 41 becomes regular. Therefore, it is possible to prevent the reflected light from the conductive thin wire 41 from becoming a bright and shining irregular pattern and conspicuous in the field of view through the heat generating plate 10 having the pattern conductor 40.

単位パターン構造６０は、第１、第２、第４〜第７及び第１０の例のように、４以上の区域からなることが好ましく、第１及び第６の例のように、６の区域からなることがより好ましい。この場合、少ない種類の単位パターン構造６０のみで連接パターンを形成することができる。したがって、簡易な単位パターン構造６０のみでパターン構造５０を形成することができる。 The unit pattern structure 60 preferably consists of four or more areas, as in the first, second, fourth to seventh, and tenth examples, and six areas, as in the first and sixth examples. It is more preferable to consist of. In this case, the concatenated pattern can be formed with only a small number of types of unit pattern structures 60. Therefore, the pattern structure 50 can be formed only by the simple unit pattern structure 60.

第１〜第５、第７〜第１０の例のように、第１パターン構造５１及び第２パターン構造５２が第１方向と非平行な方向に配列されていると、発熱板１０においてパターン構造５０で配置される導電性細線４１の密度を小さくすることができる。光芒の発生原因となる導電性細線４１の密度が小さいと、発生する光芒の密度もまた小さくなる。すなわち、発生する光芒の明るさを低減することができる。 When the first pattern structure 51 and the second pattern structure 52 are arranged in a direction non-parallel to the first direction as in the first to fifth and seventh to tenth examples, the pattern structure in the heat generating plate 10 The density of the conductive thin wire 41 arranged at 50 can be reduced. If the density of the conductive thin wire 41 that causes the generation of light beams is low, the density of the light rays that are generated is also low. That is, the brightness of the generated light beam can be reduced.

上述した例において、単位パターン構造６０は区域によってある領域を画成しており、１つの単位パターン構造６０において区域は連続していた。しかしながら、これに限らず、例えば単位パターン構造６０において、区域の任意の位置に切欠が設けられている等して、区域が不連続であってもよい。 In the above example, the unit pattern structure 60 defines a certain area by the area, and the area is continuous in one unit pattern structure 60. However, the present invention is not limited to this, and the areas may be discontinuous, for example, in the unit pattern structure 60, notches are provided at arbitrary positions of the areas.

次に、発熱板１０の製造方法の一例について、説明する。 Next, an example of a method for manufacturing the heating plate 10 will be described.

まず、基材フィルム２１上に第１の暗色層４７を形成するようになる暗色膜を設ける。 First, a dark color film that forms the first dark color layer 47 is provided on the base film 21.

次に、導電性金属層４６を形成するようになる金属膜を暗色膜上に設ける。金属膜は、公知の方法で形成され得る。例えば、銅箔等の金属箔を貼着する方法、電界めっき及び無電界めっきを含むめっき法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法、イオンプレーティング法、又はこれらの二以上を組み合わせた方法を採用することができる。 Next, a metal film that forms the conductive metal layer 46 is provided on the dark color film. The metal film can be formed by a known method. For example, a method of pasting a metal foil such as copper foil, a plating method including electroplating and no-electromagnetic plating, a sputtering method, a CVD method, a PVD method, an ion plating method, or a method in which two or more of these are combined is adopted. can do.

その後、金属膜上に、レジストパターンを設ける。レジストパターンは、形成されるべきパターン導電体４０に対応した形、すなわちパターン構造５０の形となっている。このレジストパターンは、公知のフォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより形成することができる。 After that, a resist pattern is provided on the metal film. The resist pattern has a shape corresponding to the pattern conductor 40 to be formed, that is, a shape of the pattern structure 50. This resist pattern can be formed by patterning using a known photolithography technique.

次に、レジストパターンをマスクとして、金属膜及び暗色膜をエッチングする。このエッチングにより、金属膜及び暗色膜がレジストパターンと略同一のパターンにパターニングされる。この結果、パターニングされた金属膜から、導電性細線４１の一部をなすようになる導電性金属層４６が、形成される。また、パターニングされた暗色膜から、導電性細線４１の一部をなすようになる第１の暗色層４７が、形成される。 Next, the metal film and the dark color film are etched using the resist pattern as a mask. By this etching, the metal film and the dark color film are patterned in substantially the same pattern as the resist pattern. As a result, the conductive metal layer 46 that forms a part of the conductive thin wire 41 is formed from the patterned metal film. Further, a first dark color layer 47 that forms a part of the conductive thin wire 41 is formed from the patterned dark color film.

なお、エッチング方法は特に限られることはなく、公知の方法が採用できる。公知の方法としては、例えば、エッチング液を用いるウェットエッチングや、プラズマエッチングなどが挙げられる。その後、レジストパターンを除去する。 The etching method is not particularly limited, and a known method can be adopted. Known methods include, for example, wet etching using an etching solution, plasma etching, and the like. After that, the resist pattern is removed.

その後、導電性金属層４６の第１の暗色層４７が設けられた面と反対側の面及び側面に第２の暗色層４８を形成する。第２の暗色層４８は、例えば導電性金属層４６をなす材料の一部分に暗色化処理（黒化処理）を施して、導電性金属層４６をなしていた一部分から、金属酸化物や金属硫化物からなる第２の暗色層４８を形成することができる。また、導電性金属層４６の表面に第２の暗色層４８を設けるようにしてもよい。また、導電性金属層４６の表面を粗化して第２の暗色層４８を設けるようにしてもよい。 After that, the second dark color layer 48 is formed on the surface and the side surface of the conductive metal layer 46 opposite to the surface on which the first dark color layer 47 is provided. In the second dark color layer 48, for example, a part of the material forming the conductive metal layer 46 is subjected to a darkening treatment (blackening treatment), and a metal oxide or metal sulfurization is formed from the part of the conductive metal layer 46. A second dark layer 48 made of an object can be formed. Further, the second dark color layer 48 may be provided on the surface of the conductive metal layer 46. Further, the surface of the conductive metal layer 46 may be roughened to provide the second dark color layer 48.

以上の工程によって、基材フィルム２１上に発熱用導電体３０が形成され、導電体付きシート２０が作製される。 By the above steps, the heat generating conductor 30 is formed on the base film 21, and the sheet 20 with the conductor is produced.

最後に、発熱用導電体３０の側から接合層１３及び基板１１を積層して、導電体付きシート２０と基板１１とを接合する。同様に、基材フィルム２１の側から接合層１４及び基板１２を積層して、導電体付きシート２０と基板１２とを接合する。これにより、図３に示した発熱板１０が作製される。 Finally, the bonding layer 13 and the substrate 11 are laminated from the side of the heat generating conductor 30, and the sheet 20 with the conductor and the substrate 11 are bonded. Similarly, the bonding layer 14 and the substrate 12 are laminated from the side of the base film 21, and the sheet 20 with the conductor and the substrate 12 are bonded. As a result, the heating plate 10 shown in FIG. 3 is produced.

以上のように、本実施の形態の発熱用導電体３０では、第１パターン構造５１は、単位パターン構造６０が第１方向に連なって形成されるか、又は、単位パターン構造６０が第１方向とは異なる第２方向に連なる連接パターンを第１方向に複数並べて形成され、第２パターン構造５２は、単位パターン構造６０が第１方向及び第２方向とは異なる第３方向に連なる連接パターンを第１方向に複数並べて形成されることで、発熱用導電体によって発生する光芒を目立たなくすることができる。 As described above, in the heat generating conductor 30 of the present embodiment, in the first pattern structure 51, the unit pattern structure 60 is formed in a row in the first direction, or the unit pattern structure 60 is formed in the first direction. A plurality of connecting patterns connected in the second direction different from the above are arranged side by side in the first direction, and the second pattern structure 52 forms a connecting pattern in which the unit pattern structure 60 is connected in the first direction and the third direction different from the second direction. By forming a plurality of light beams side by side in the first direction, the light beam generated by the heat generating conductor can be made inconspicuous.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。 It is possible to make various changes to the above-described embodiment.

上述した実施の形態では、発熱板１０が、基材フィルム２１を有している導電体付きシート２０を備える例を示したが、製造過程において基材フィルム２１を剥離させる等によって、発熱板１０中に基材フィルム２１を有さないようにしてもよい。この場合、発熱板１０の全体を薄型にすることができ、また軽量化することができる。さらに、発熱用導電体３０から生じる熱を、発熱板１０全体により早く伝達させることもできる。 In the above-described embodiment, the heat generating plate 10 includes the sheet 20 with a conductor having the base film 21, but the heat generating plate 10 is formed by peeling off the base film 21 in the manufacturing process. The base film 21 may not be contained therein. In this case, the entire heat generating plate 10 can be made thinner and lighter. Further, the heat generated from the heat generating conductor 30 can be quickly transferred to the entire heat generating plate 10.

前述した実施の形態において、発熱板１０が曲面状に形成されている例を示したが、この例に限られず、発熱板１０が、平板状に形成されていてもよい。 In the above-described embodiment, an example in which the heat generating plate 10 is formed in a curved surface is shown, but the present invention is not limited to this example, and the heat generating plate 10 may be formed in a flat plate shape.

発熱板１０は、自動車１のリアウィンドウ、サイドウィンドウやサンルーフに用いてもよい。また、自動車以外の、鉄道車両、航空機、船舶、宇宙船等の乗り物の窓或いは扉の透明部分に用いてもよい。 The heating plate 10 may be used for the rear window, the side window, or the sunroof of the automobile 1. Further, it may be used for a transparent portion of a window or a door of a vehicle such as a railroad vehicle, an aircraft, a ship, or a spaceship other than an automobile.

さらに、発熱板１０は、乗り物以外にも、特に室内と室外とを区画する箇所、例えばビルや店舗、住宅の窓或いは扉の透明部分、建物の窓又は扉、冷蔵庫、展示箱、戸棚等の收納乃至保管設備の窓あるいは扉の透明部分等に使用することもできる。 Further, the heating plate 10 is used not only for vehicles but also for places that separately separate indoors and outdoors, such as buildings, stores, transparent parts of windows or doors of houses, windows or doors of buildings, refrigerators, display boxes, cupboards, and the like. It can also be used for transparent parts of windows or doors of storage or storage equipment.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although some modifications to the above-described embodiments have been described above, it is naturally possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.

１ 自動車
５ フロントウィンドウ
７ 電源
１０ 発熱板
１１ 基板
１２ 基板
１３ 接合層
１４ 接合層
１５ 配線部
２０ 導電体付きシート
２１ 基材フィルム
３０ 発熱用導電体
３５ バスバー
４０ パターン導電体
４１ 導電性細線
４６ 導電性金属層
４７ 第１の暗色層
４８ 第２の暗色層
５０ パターン構造
５１ 第１パターン構造
５２ 第２パターン構造
５２ａ 連接パターン
６０ 単位パターン構造 1 Automobile 5 Front window 7 Power supply 10 Heat-generating plate 11 Board 12 Board 13 Joining layer 14 Joining layer 15 Wiring part 20 Sheet with conductor 21 Base film 30 Heat-generating conductor 35 Bus bar 40 Pattern conductor 41 Conductive wire 46 Conductive Metal layer 47 First dark color layer 48 Second dark color layer 50 Pattern structure 51 First pattern structure 52 Second pattern structure 52a Connected pattern 60 Unit pattern structure

Claims (11)

電圧を印加される一対のバスバーと、
前記一対のバスバーを連結するパターン導電体と、を備え、
前記パターン導電体は、導電性細線を用いて形成されたパターン構造を有し、
前記パターン構造は、２以上の区域からなる少なくとも１種類の単位パターン構造で形成される第１パターン構造と、前記第１パターン構造の単位パターン構造と同一の少なくとも１種類の単位パターン構造で形成される第２パターン構造と、を含み、
前記第１パターン構造は、前記単位パターン構造が第１方向に連なって形成されるか、又は、前記単位パターン構造が第１方向とは異なる第２方向に連なる連接パターンを第１方向に複数並べて形成され、
前記第２パターン構造は、前記単位パターン構造が前記第１方向及び第２方向とは異なる第３方向に連なる連接パターンを前記第１方向に複数並べて形成される、発熱用導電体。 A pair of busbars to which voltage is applied and
A pattern conductor that connects the pair of bus bars, and
The pattern conductor has a pattern structure formed by using conductive thin wires, and has a pattern structure.
The pattern structure is formed of a first pattern structure formed of at least one type of unit pattern structure composed of two or more areas, and at least one type of unit pattern structure which is the same as the unit pattern structure of the first pattern structure. 2nd pattern structure, including
In the first pattern structure, the unit pattern structure is formed in a row in the first direction, or a plurality of concatenated patterns in which the unit pattern structure is connected in a second direction different from the first direction are arranged in the first direction. Formed,
The second pattern structure is a heat-generating conductor formed by arranging a plurality of connecting patterns in which the unit pattern structure is connected in a third direction different from the first direction and the second direction in the first direction. 前記第１パターン構造及び前記第２パターン構造は、平面充填可能なパターンである、請求項１に記載の発熱用導電体。 The heat-generating conductor according to claim 1, wherein the first pattern structure and the second pattern structure are patterns that can be tessellated. 前記第１パターン構造は、前記第１方向に非平行な方向に配列されており、
前記第２パターン構造は、隣り合う２つの前記第１パターン構造の間に位置し、前記第１方向に非平行な方向に配列されている、請求項１または２に記載の発熱用導電体。 The first pattern structure is arranged in a direction non-parallel to the first direction.
The heat generating conductor according to claim 1 or 2, wherein the second pattern structure is located between two adjacent first pattern structures and is arranged in a direction non-parallel to the first direction. ２以上の前記第１パターン構造は、前記一対のバスバーの間の少なくとも一部の面を充填するよう形成され、
２以上の前記第２パターン構造は、前記一対のバスバーの間の少なくとも一部の面を充填するよう形成され、
前記一対のバスバーの間の面に形成された前記第１パターン構造と前記第２パターン構造とは、少なくとも部分的に重なるように形成されている、請求項２に記載の発熱用導電体。 Two or more of the first pattern structures are formed to fill at least a portion of the surfaces between the pair of busbars.
The two or more said second pattern structures are formed to fill at least a portion of the surfaces between the pair of busbars.
The heat-generating conductor according to claim 2, wherein the first pattern structure and the second pattern structure formed on the surface between the pair of bus bars are formed so as to at least partially overlap each other. 前記単位パターン構造は、４以上の区域からなる、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発熱用導電体。 The heat-generating conductor according to any one of claims 1 to 4, wherein the unit pattern structure comprises four or more areas. 互いに隣接する前記単位パターン構造は、少なくとも部分的に区域を共有し、
前記連接パターンに含まれる前記単位パターン構造は、前記第２方向または前記第３方向に連なる際に他の単位パターン構造と共有可能な区域と、当該連接パターンを前記第１方向に並べる際に他の連接パターンの単位パターン構造と共有可能な区域と、を少なくとも含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発熱用導電体。 The unit pattern structures adjacent to each other share an area at least partially and
The unit pattern structure included in the connection pattern includes an area that can be shared with another unit pattern structure when connected in the second direction or the third direction, and another when the connection pattern is arranged in the first direction. The heat generating conductor according to any one of claims 1 to 5, further comprising at least a unit pattern structure of the concatenated pattern and a sharable area. 前記区域は、曲線からなる、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発熱用導電体。 The heat generating conductor according to any one of claims 1 to 6, wherein the area is a curved line. 前記曲線は、円弧である、請求項７に記載の発熱用導電体。 The heat-generating conductor according to claim 7, wherein the curve is an arc. 各区域を平行移動すること、及び／または各区域を１８０°回転させた後に平行移動することにより、前記単位パターン構造の全ての区域を用いて、１以上の自然数個の半円が形成される、請求項８に記載の発熱用導電体。 By translating each area and / or translating each area by 180 ° and then translating, one or more natural several semicircles are formed using all the areas of the unit pattern structure. The heat generating conductor according to claim 8. 一対の基板と、
前記一対の基板の間に配置された請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発熱用導電体と、を備える、発熱板。 A pair of boards and
A heat generating plate comprising the heat generating conductor according to any one of claims 1 to 9, which is arranged between the pair of substrates. 請求項１０に記載の発熱板を備える、乗り物。 A vehicle comprising the heating plate according to claim 10.
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