JP6913167B2 - Compositions, films, lenses, solid-state image sensors, compounds - Google Patents

Compositions, films, lenses, solid-state image sensors, compounds Download PDF

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Description

本発明は、所定の構造の化合物を含む組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、及び、化合物に関する。 The present invention relates to a composition, a film, a lens, a solid-state image sensor, and a compound containing a compound having a predetermined structure.

従来、光学材料等に使用される化合物に対して、高い屈折率が求められている。
例えば、特許文献１には、高屈折率材料として、トリアジン環含有重合体が開示されている。より具体的には、トリアジン環構造を部分構造として有する重合体が、優れた屈折率を示す点が開示されている。Conventionally, a high refractive index is required for a compound used for an optical material or the like.
For example, Patent Document 1 discloses a triazine ring-containing polymer as a high-refractive index material. More specifically, it is disclosed that a polymer having a triazine ring structure as a partial structure exhibits an excellent refractive index.

国際公開第２０１２／１１１６８２号International Publication No. 2012/111682

近年、光学機器（固体撮像素子、表示装置等）の高機能化又は小型化等の要求に伴い、高い屈折率を有する膜を形成でき、かつ、凹凸がある領域に塗布した場合に下層の凹凸形状を反映した膜を形成できる組成物が求められている。なお、特に、凹凸がある領域の凹部内に所望の厚みの膜を形成できる組成物が求められており、以下では、この特性を「段差追従性」ともいう。
本発明者らが、特許文献１に記載の光学材料の特性について検討を行ったところ、上記２つの特性の両立ができず、さらなる改良が必要であった。In recent years, with the demand for higher functionality or miniaturization of optical devices (solid-state image sensors, display devices, etc.), a film having a high refractive index can be formed, and when applied to an uneven region, the lower layer has irregularities. There is a demand for a composition capable of forming a film that reflects the shape. In particular, a composition capable of forming a film having a desired thickness in the concave portion of the uneven region is required, and in the following, this characteristic is also referred to as "step followability".
When the present inventors examined the characteristics of the optical material described in Patent Document 1, the above two characteristics could not be compatible with each other, and further improvement was required.

本発明は、上記実情を鑑みて、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供することも課題とする。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供することも課題とする。In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a composition capable of forming a film having a high refractive index and having excellent step followability.
Another object of the present invention is to provide a film obtained by using the above composition, a lens containing the film, and a solid-state image sensor containing the film or the lens. Further, it is also an object to provide a compound used in the above composition.

本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、所定の構造の化合物を含む組成物が、所望の性能を有することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。As a result of diligent studies on the above problems, the present inventor has found that a composition containing a compound having a predetermined structure has desired performance, and has completed the present invention.
That is, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following configuration.

（１）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、上記組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である、組成物。
（２）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、単環のヘテロ環基を有する基である、（１）に記載の組成物。
（３）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、トリアジン環基を有する基である、（１）又は（２）に記載の組成物。
（４）後述する一般式（Ｉ）中、Ａのうち少なくとも１つが、後述する一般式（ＩＩ）で表される基である、（１）〜（３）のいずれかに記載の組成物。
（５）後述する一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち１以上が、−ＮＨ−である、（４）に記載の組成物。
（６）後述する一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２以上が、−ＮＨ−である、（４）又は（５）に記載の組成物。
（７）後述する一般式（Ｉ）中、Ｘが、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基である、（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物。
（８）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物が、酸基を有する、（１）〜（７）いずれかに記載の組成物。
（９）後述する一般式（Ｉ）で表される化合物が、重合性基を有する、（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物。
（１０）更に、重合性化合物を含む、（１）〜（９）のいずれかに記載の組成物。
（１１）更に、光重合開始剤を含む、（１）〜（１０）のいずれかに記載の組成物。
（１２）上記光重合開始剤が、オキシム化合物を含む、（１１）に記載の組成物。
（１３）更に、重合性基を有する樹脂を含む、（１）〜（１２）のいずれかに記載の組成物。
（１４）（１）〜（１３）のいずれかに記載の組成物を用いて形成される、膜。
（１５）（１４）に記載の膜からなる、レンズ。
（１６）（１４）に記載の膜、又は、（１５）に記載のレンズを備える、固体撮像素子。
（１７）後述する一般式（ＩＶ）で表される化合物。(1) A composition containing a compound represented by the general formula (I) described later and a solvent, and the content of the compound represented by the general formula (I) described later is the total solid content in the composition. The composition is 30% by mass or more based on the amount.
(2) The composition according to (1), wherein at least one of A in the general formula (I) described later is a group having a monocyclic heterocyclic group.
(3) The composition according to (1) or (2), wherein at least one of A in the general formula (I) described later is a group having a triazine ring group.
(4) The composition according to any one of (1) to (3), wherein at least one of A in the general formula (I) described later is a group represented by the general formula (II) described later.
(5) The composition according to (4), wherein one or more of C 1 , C 2 , and C 3 in the general formula (II) described later is -NH-.
(6) The composition according to (4) or (5), wherein two or more of C 1 , C 2 , and C 3 in the general formula (II) described later are −NH-.
(7) The composition according to any one of (1) to (6), wherein X in the general formula (I) described later is a group represented by the general formula (III) described later.
(8) The composition according to any one of (1) to (7), wherein the compound represented by the general formula (I) described later has an acid group.
(9) The composition according to any one of (1) to (8), wherein the compound represented by the general formula (I) described later has a polymerizable group.
(10) The composition according to any one of (1) to (9), further comprising a polymerizable compound.
(11) The composition according to any one of (1) to (10), further comprising a photopolymerization initiator.
(12) The composition according to (11), wherein the photopolymerization initiator contains an oxime compound.
(13) The composition according to any one of (1) to (12), further comprising a resin having a polymerizable group.
(14) A film formed by using the composition according to any one of (1) to (13).
(15) A lens made of the film according to (14).
(16) A solid-state image sensor comprising the film according to (14) or the lens according to (15).
(17) A compound represented by the general formula (IV) described later.

本発明によれば、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供できる。
また、本発明によれば、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供できる。更に、上記組成物に用いられる化合物も提供できる。According to the present invention, it is possible to provide a composition having a high refractive index and excellent step followability.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a film obtained by using the above composition, a lens containing the film, and a solid-state image sensor containing the film or the lens. Further, a compound used in the above composition can also be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、及び、電子線等を意味する。また本明細書において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、及び、ＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタアクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、測定装置としてＨＬＣ−８２２０（東ソー株式会社製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ―Ｈ（東ソー株式会社製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全体から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The numerical range represented by using "~" in the present specification means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value.
As used herein, the term "active ray" or "radiation" means, for example, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams, and the like. .. Further, in the present specification, light means active light rays or radiation. Unless otherwise specified, the term "exposure" as used herein refers to not only exposure with far ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, and EUV light, but also particle beams such as electron beams and ion beams. Drawing by is also included in the exposure.
In the present specification, "(meth) acrylate" represents acrylate and methacrylate, "(meth) acrylic" represents acrylic and methacrylic, and "(meth) acryloyl" represents acryloyl and methacryloyl.
In the present specification, the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the desired action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
In the present specification, the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene-equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement. In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation) as a measuring device and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh Corporation) as a column. It can be determined by using a 6.0 mm ID (inner diameter) × 15.0 cm) and using a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.
In the present specification, the total solid content means the total mass of the components excluding the solvent from the whole composition.

本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。置換基としては、例えば、下記置換基Ｔが挙げられる。 In the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation not describing substitution and non-substitution includes a group having a substituent as well as a group having no substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group). Examples of the substituent include the following substituent T.

（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基及びアニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、及び、シリル基などが挙げられる。以下詳細に記述する。(Substituent T)
The substituent T includes a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxy group and an aryloxy group. Group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group (including alkylamino group and anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfate Famoylamino group, alkyl or arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl Examples thereof include a group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl or heterocyclic azo group, an imide group, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, a silyl group and the like. It will be described in detail below.

ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子）、
直鎖若しくは分岐のアルキル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、及び、２−エチルヘキシル基等）、
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルキル基。例えば、シクロヘキシル基及びシクロペンチル基が挙げられ、多シクロアルキル基（例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基で、より具体的には、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等）及び、トリシクロアルキル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルキル基又はビシクロアルキル基が好ましく、単環のシクロアルキル基がより好ましい）、Halogen atoms (eg, fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms),
A linear or branched alkyl group (a linear or branched substituted or unsubstituted alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a tert. -Butyl group, n-octyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethylhexyl group, etc.),
A cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms; for example, a cyclohexyl group and a cyclopentyl group can be mentioned, and a multicycloalkyl group (for example, a bicycloalkyl group (preferably having 5 carbon atoms)) can be used. ~ 30 substituted or unsubstituted bicycloalkyl groups, more specifically, bicyclo [1,2,2] heptane-2-yl group, bicyclo [2,2,2] octane-3-yl group, etc.) And a group having a polycyclic structure such as a tricycloalkyl group). Among them, a monocyclic cycloalkyl group or a bicycloalkyl group is preferable, and a monocyclic cycloalkyl group is more preferable).

直鎖若しくは分岐のアルケニル基（直鎖若しくは分岐の置換若しくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基。例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、及び、オレイル基）、
シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、及び、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基（ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基。より具体的には、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基及びビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等）及びトリシクロアルケニル基等の多環構造の基）でもよい。中でも、単環のシクロアルケニル基が好ましい）、
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキニル基。例えば、エチニル基、プロパルギル基、及び、トリメチルシリルエチニル基）、A linear or branched alkenyl group (a linear or branched substituted or unsubstituted alkenyl group, preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, and an oleyl group. Group),
Cycloalkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted cycloalkenyl groups having 3 to 30 carbon atoms, for example, 2-cyclopentene-1-yl group, 2-cyclohexene-1-yl group, and polycycloalkenyl. Group (bicycloalkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms. More specifically, a bicyclo [2,2,1] hept-2-ene-1-yl group and a bicyclo [2,2,2] Oct-2-en-4-yl group, etc.) and polycyclic group such as tricycloalkenyl group) may be used. Among them, monocyclic cycloalkenyl group is preferable),
An alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, for example, an ethynyl group, a propargyl group, and a trimethylsilylethynyl group),

アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基。例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ピレニル基、ビフェニル基、及び、ターフェニル基）、
ヘテロ環基（５〜７員の置換若しくは無置換のヘテロ環基が好ましい。ヘテロ環基は、飽和若しくは不飽和である。ヘテロ環は、芳香族若しくは非芳香族である。ヘテロ環は、単環若しくは縮環である。ヘテロ環基においては、環構成原子が炭素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基がより好ましく、炭素数３〜３０の５若しくは６員の芳香族のヘテロ環基が更に好ましい。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、及び、２−ベンゾチアゾリル基）、
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、Aryl groups (preferably substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenyl group, p-tolyl group, naphthyl group, m-chlorophenyl group, o-hexadecanoylaminophenyl group, pyrenyl group, biphenyl. Group and terphenyl group),
Heterocyclic groups (preferably 5- to 7-membered substituted or unsubstituted heterocyclic groups. Heterocyclic groups are saturated or unsaturated. Heterocycles are aromatic or non-aromatic. Heterocycles are simple. It is a ring or a condensed ring. In a heterocyclic group, a heterocycle in which a ring-constituting atom is selected from a carbon atom, a nitrogen atom and a sulfur atom and has at least one heteroatom of any one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Groups are more preferred, and 5- or 6-membered aromatic heterocyclic groups having 3 to 30 carbon atoms are even more preferred. For example, 2-furyl groups, 2-thienyl groups, 2-pyridyl groups, 4-pyridyl groups, 2-. Pyrimidinyl group and 2-benzothiazolyl group),
Cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group,

アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基。例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、及び、２−メトキシエトキシ基）、
アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基。例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、及び、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基。例えば、トリメチルシリルオキシ基及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、
ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基。ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基及び２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、Alkoxy groups (preferably substituted or unsubstituted alkoxy groups having 1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, n-octyloxy group, and 2-methoxyethoxy group. ),
Aryloxy groups (preferably substituted or unsubstituted aryloxy groups having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 2,4-di-tert-amylphenoxy group, 4-tert-butyl. Phenoxy group, 3-nitrophenoxy group, and 2-tetradecanoylaminophenoxy group),
A silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, for example, a trimethylsilyloxy group and a tert-butyldimethylsilyloxy group),
Heterocyclic oxy group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms. The heterocyclic portion is preferably the heterocyclic portion described in the above-mentioned heterocyclic group. For example, 1-phenyltetrazole-. 5-oxy group and 2-tetrahydropyranyloxy group),

アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、及び、メタクリロイルオキシ基）、
カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、
アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基。例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、及び、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、
アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基。例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、及び、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、An acyloxy group (preferably a formyloxy group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a formyloxy group, acetyl. Oxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group),
Carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms. For example, N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N. -Di-n-octylaminocarbonyloxy group and Nn-octylcarbamoyloxy group),
Alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a tert-butoxycarbonyloxy group, and an n-octylcarbonyloxy group. ),
Aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms, for example, a phenoxycarbonyloxy group, a p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, and a pn-hexadecyloxy group. Phenoxycarbonyloxy group),

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基、又は、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基。例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、及び、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基。例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基、アクリロイルアミノ基、及び、メタクリロイルアミノ基）、
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基。例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、及び、モルホリノカルボニルアミノ基）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基。例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、及び、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基）、Amino group (preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group having 6 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic amino having 0 to 30 carbon atoms. Groups. For example, amino groups, methylamino groups, dimethylamino groups, anilino groups, N-methyl-anilino groups, diphenylamino groups, and N-1,3,5-triazine-2-ylamino groups),
An acylamino group (preferably a formylamino group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a formylamino group. Acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group, acryloylamino group, and methacryloylamino group),
Aminocarbonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted aminocarbonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, such as carbamoylamino groups, N, N-dimethylaminocarbonylamino groups, N, N-diethylaminocarbonylamino groups, and , Morphorinocarbonylamino group),
Alkoxycarbonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino groups having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino groups, ethoxycarbonylamino groups, tert-butoxycarbonylamino groups, n-octadecyloxycarbonylamino groups, and , N-methyl-methoxycarbonylamino group),

アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基。例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、及び、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基。例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、及び、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、
アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基。例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、
メルカプト基、Aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, for example, a phenoxycarbonylamino group, a p-chlorophenoxycarbonylamino group, and an mn-octyloxyphenoxy. Carbonylamino group),
Sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, for example, a sulfamoylamino group, an N, N-dimethylaminosulfonylamino group, and an Nn- Octylaminosulfonylamino group),
An alkyl or arylsulfonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a methylsulfonylamino group, Butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, and p-methylphenylsulfonylamino group),
Mercapto group,

アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及び、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基。例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、及び、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基。ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、及び、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
スルファモイル基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基。例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、及び、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、
スルホ基、Alkylthio groups (preferably substituted or unsubstituted alkylthio groups having 1 to 30 carbon atoms, for example, methylthio groups, ethylthio groups, and n-hexadecylthio groups),
An arylthio group (preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a phenylthio group, a p-chlorophenylthio group, and an m-methoxyphenylthio group).
Heterocyclic thio group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thiogroup having 2 to 30 carbon atoms. The heterocyclic moiety is preferably the heterocyclic moiety described in the above heterocyclic group. For example, 2-benzothiazolylthio. Group and 1-phenyltetrazole-5-ylthio group),
Sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms. For example, N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl. Group, N-acetylsulfamoyl group, N-benzoylsulfamoyl group, and N- (N'-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group),
Sulfone group,

アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基、又は、６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基。例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、
アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、及び、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基。例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、アクリロイル基、及び、メタクリロイル基）、
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基。例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、及び、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、Alkyl or arylsulfinyl groups (preferably 1 to 30 carbon atoms substituted or unsubstituted alkylsulfinyl groups, or 6 to 30 substituted or unsubstituted arylsulfinyl groups, such as methylsulfinyl groups, ethylsulfinyl groups, phenyls. Sulfinyl group and p-methylphenylsulfinyl group),
An alkyl or arylsulfonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, for example, a methylsulfonyl group or an ethylsulfonyl group. , Phenylsulfonyl group, and p-methylphenylsulfonyl group),
An acyl group (preferably a formyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, for example, an acetyl group, a pivaloyl group, 2-. Chloroacetyl group, stearoyl group, benzoyl group, pn-octyloxyphenylcarbonyl group, acryloyl group, and methacryloyl group),
Aryloxycarbonyl groups (preferably substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl groups having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl groups, o-chlorophenoxycarbonyl groups, m-nitrophenoxycarbonyl groups, and p-tert-. Butylphenoxycarbonyl group),

アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、及び、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基。例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、及び、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、又は、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環アゾ基のヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）。例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、及び、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、
イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のイミド基。例えば、Ｎ−スクシンイミド基、及び、Ｎ−フタルイミド基）、
ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基。例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、及び、メチルフェノキシホスフィノ基）、
ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基。例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、及び、ジエトキシホスフィニル基）、Alkoxycarbonyl groups (preferably substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, tert-butoxycarbonyl groups, and n-octadecyloxycarbonyl groups),
Carbamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms. For example, a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, an N, N-di-n-octylcarbamoyl group. , And N- (methylsulfonyl) carbamoyl group),
Aryl or heterocyclic azo group (preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted heterocyclic azo group having 3 to 30 carbon atoms (heterocyclic portion of the heterocyclic azo group). The heterocyclic portion described in the above-mentioned heterocyclic group is preferable).
An imide group (preferably a substituted or unsubstituted imide group having 2 to 30 carbon atoms, for example, an N-succinimide group and an N-phthalimide group),
A phosphino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, a dimethylphosphino group, a diphenylphosphino group, and a methylphenoxyphosphino group),
Phosphinyl groups (preferably substituted or unsubstituted phosphinyl groups having 2 to 30 carbon atoms, for example, phosphinyl groups, dioctyloxyphosphinyl groups, and diethoxyphosphinyl groups),

ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基。例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、及び、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、
ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基。例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、及び、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、並びに、
シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のシリル基。例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、及び、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。Phosphinyloxy groups (preferably substituted or unsubstituted phosphinyloxy groups having 2 to 30 carbon atoms, for example, diphenoxyphosphinyloxy groups and dioctyloxyphosphinyloxy groups),
A phosphinylamino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms; for example, a dimethoxyphosphinylamino group and a dimethylaminophosphinylamino group), and
Examples thereof include a silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms, for example, a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, and a phenyldimethylsilyl group).

上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、官能基中の水素原子の部分が、上記いずれかの基で置換されていてもよい。置換基として導入可能な官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、及び、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、より具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、及び、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。 Among the above functional groups, those having a hydrogen atom may have the hydrogen atom portion in the functional group substituted with any of the above groups. Examples of the functional group that can be introduced as a substituent include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group, and more specifically, a methylsulfonyl group. Examples thereof include an aminocarbonyl group, a p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl group, an acetylaminosulfonyl group, and a benzoylaminosulfonyl group.

〔組成物〕
本発明の組成物は、後述する一般式（Ｉ）で表される化合物（以下「特定化合物」ともいう）及び溶剤を含む組成物であって、上記特定化合物の含有量は組成物中の全固形分に対して３０質量％以上である。〔Composition〕
The composition of the present invention is a composition containing a compound represented by the general formula (I) described later (hereinafter, also referred to as “specific compound”) and a solvent, and the content of the specific compound is the total content of the composition. It is 30% by mass or more with respect to the solid content.

本発明の組成物の特徴点としては、上述のとおり、高屈折率材料である特定化合物を含む点が挙げられる。
また、後述するように、特定化合物は、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基（以下「高屈折率官能基」ともいう）を２個以上有しており、化合物全体として高い屈折率を示す。
また、本発明の組成物は段差追従性に優れている。
本発明の組成物に使用される特定化合物は、添加量を多くした場合でも、組成物の粘度を比較的低く維持でき、このような性質が本発明の組成物の優れた段差追従性に寄与していると考えられている。
なお、特定化合物が組成物の粘度を低く維持できる理由としては、特定化合物が、放射状の構造などの所定の構造を有するため、特許文献１で挙げられる重合体と比べて分子同士が絡み難い点にあると考えられている。As described above, the composition of the present invention is characterized by containing a specific compound which is a high refractive index material.
Further, as will be described later, the specific compound has two or more groups having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm (hereinafter, also referred to as “high refractive index functional group”), and the compound as a whole has a high refractive index. Is shown.
In addition, the composition of the present invention is excellent in step followability.
The specific compound used in the composition of the present invention can maintain a relatively low viscosity of the composition even when the amount added is large, and such properties contribute to the excellent step followability of the composition of the present invention. It is believed to be.
The reason why the specific compound can maintain the viscosity of the composition low is that the specific compound has a predetermined structure such as a radial structure, so that the molecules are less likely to be entangled with each other as compared with the polymer described in Patent Document 1. Is believed to be in.

また、上記組成物が重合性化合物及び光重合開始剤を更に含む場合、上記組成物は、フォトリソグラフ性を発現する。特に、特定化合物が酸基を有する場合、上記組成物は、現像性に優れ、かつ、良好な形状を有するパターンを形成できる。 When the composition further contains a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the composition exhibits photolithographic properties. In particular, when the specific compound has an acid group, the above composition can form a pattern having excellent developability and a good shape.

＜特定化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）＞
特定化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物である。
以下に、一般式（Ｉ）中の各基について説明する。
（Ａ）ｍ−Ｘ−（Ｂ）ｎ （Ｉ）
なお、以降において、特段の記載がない限り、組成物を用いて形成される膜の高い屈折率と、組成物の優れた段差追従性とのより良好なバランスの点で、一般式（Ｉ）の各基の好適態様が選択される。<Specific compound (compound represented by the general formula (I))>
The specific compound is a compound represented by the general formula (I).
Each group in the general formula (I) will be described below.
(A) m -X- (B) n (I)
In the following, unless otherwise specified, the general formula (I) is in terms of a better balance between the high refractive index of the film formed by using the composition and the excellent step followability of the composition. A preferred embodiment of each of the above groups is selected.

一般式（Ｉ）中、ｍは、２以上の整数を表す。
ｍは、２〜２０の整数が好ましく、２〜１０の整数がより好ましく、２〜６の整数が更に好ましい。
なお、一般式（Ｉ）中に複数存在するＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。In the general formula (I), m represents an integer of 2 or more.
m is preferably an integer of 2 to 20, more preferably an integer of 2 to 10, and even more preferably an integer of 2 to 6.
It should be noted that the plurality of A's existing in the general formula (I) may be the same or different from each other.

一般式（Ｉ）中、ｎは、０以上の整数を表す。
ｎは、０〜２０の整数が好ましく、０〜１０の整数がより好ましく、０〜６の整数が更に好ましい。
なお、一般式（Ｉ）中にＢが複数存在する場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。In the general formula (I), n represents an integer of 0 or more.
n is preferably an integer of 0 to 20, more preferably an integer of 0 to 10, and even more preferably an integer of 0 to 6.
When a plurality of Bs are present in the general formula (I), they may be the same or different from each other.

（Ａの構造）
Ａは、ベンゼン環基及び単環のヘテロ環基からなる群から選択される基を少なくとも２つを有し、かつ、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基である。以下、Ａは、高屈折率官能基ともいう。
なお、本明細書において、単に「ベンゼン環基」と記載する場合は、ナフタレン環基のような「縮合環基」に含まれるベンゼン環基は該当しない。つまり、ベンゼン環単独で構成される基（例えば、フェニル基、フェニレン基等）を意図する。
ただし、上記規定は、構造内にベンゼン環を含む縮合環基（ナフタレン基等）、または、ヘテロ環基が縮合環構造を形成する基（ベンゾチアゾール環基、又は、ベンゾイミダゾール環基等）が、Ａに含まれ得ることを排除しない。Ａには、縮合環基が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。(Structure of A)
A is a group having at least two groups selected from the group consisting of a benzene ring group and a monocyclic heterocyclic group, and having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm. Hereinafter, A is also referred to as a high refractive index functional group.
In the present specification, when the term "benzene ring group" is simply used, the benzene ring group contained in the "condensed ring group" such as naphthalene ring group does not apply. That is, a group composed of a benzene ring alone (for example, a phenyl group, a phenylene group, etc.) is intended.
However, the above specification states that a fused ring group containing a benzene ring (naphthalene group, etc.) or a group in which a heterocyclic group forms a fused ring structure (benzothiazole ring group, benzimidazole ring group, etc.) is used. , A does not preclude being included. A may or may not contain a fused ring group.

上記単環のヘテロ環基は、芳香族性を示しても、示さなくてもよいが、芳香族性を示すのが好ましい。
単環のヘテロ環基の員環数は、３〜１０が好ましく、５〜８がより好ましく、５〜６が更に好ましい。
単環のヘテロ環基が有するへテロ原子の数は、１〜５が好ましく、２〜４がより好ましい。
単環のヘテロ環基のヘテロ原子の具体例としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子、テルル原子、リン原子、ケイ素原子、及び、ホウ素原子が挙げられる。中でも、窒素原子、硫黄原子、又は、酸素原子が好ましく、窒素原子がより好ましい。The monocyclic heterocyclic group may or may not exhibit aromaticity, but it is preferable to exhibit aromaticity.
The number of membered rings of the monocyclic heterocyclic group is preferably 3 to 10, more preferably 5 to 8, and even more preferably 5 to 6.
The number of heteroatoms contained in the monocyclic heterocyclic group is preferably 1 to 5, more preferably 2 to 4.
Specific examples of the heteroatom of the monocyclic heterocyclic group include a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, a selenium atom, a tellurium atom, a phosphorus atom, a silicon atom, and a boron atom. Among them, a nitrogen atom, a sulfur atom, or an oxygen atom is preferable, and a nitrogen atom is more preferable.

上記単環のヘテロ環基の具体例としては、ピロール環基、チオフェン環基、フラン環基、セレノフェン環基、テルロフェン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、イソオキサゾール環基、チアゾール環基、イソチアゾール環基、ピリジン環基、ピリドン−２−オン環基、ピリミジン環基、ピリダジン環基、ピラジン環基、トリアジン環基、セレノピラン環基、テルロピラン環基等の芳香族へテロ環基、ピロリジン環基、シロール環基、ピペリジン環基、ピベラジン環基、及び、モルホリン環基が挙げられる。
中でも、上記単環のヘテロ環基は、トリアジン環基であるのが好ましい。Specific examples of the monocyclic heterocyclic group include a pyrrole ring group, a thiophene ring group, a furan ring group, a selenophen ring group, a tellrophen ring group, an imidazole ring group, a pyrazole ring group, an oxazole ring group, and an isooxazole ring group. Aromatic heteros such as thiazole ring group, isothiazole ring group, pyridine ring group, pyridone-2-one ring group, pyrimidine ring group, pyridazine ring group, pyrazine ring group, triazine ring group, selenopirane ring group, tellropyran ring group, etc. Examples thereof include a ring group, a pyrrolidine ring group, a silol ring group, a piperidine ring group, a piberazine ring group, and a morpholin ring group.
Above all, the monocyclic heterocyclic group is preferably a triazine ring group.

Ａ中における、ベンゼン環基及び単環のヘテロ環基の合計数は、２以上であり、３以上が好ましく、４以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、６以下の場合が多い。
なお、Ａのうち少なくとも１つは、単環のヘテロ環基を有することが好ましく、トリアジン環基を有することがより好ましい。
なかでも、全てのＡが、単環のヘテロ環基を有することが好ましく、トリアジン環基を有することがより好ましい。The total number of benzene ring groups and monocyclic heterocyclic groups in A is 2 or more, preferably 3 or more, and more preferably 4 or more. The upper limit is not particularly limited, but it is often 6 or less.
At least one of A preferably has a monocyclic heterocyclic group, and more preferably has a triazine ring group.
Among them, all A preferably have a monocyclic heterocyclic group, and more preferably have a triazine ring group.

Ａは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基である。
ここで、Ａは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上であるとは、Ａ−で表される基に水素原子が結合してなる化合物（Ａ−Ｈ）の波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上であることを意図する。
なお、Ａの５８９ｎｍにおける屈折率は、１．７５以上が好ましく、１．８０以上がより好ましく、１．９０以上が更に好ましい。Ａの屈折率の上限については特に制限されないが、２．５０以下が一般的である。A is a group having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm.
Here, A has a refractive index of 1.70 or more at 589 nm, that is, a compound (AH) in which a hydrogen atom is bonded to a group represented by A− has a refractive index of 1. at a wavelength of 589 nm. It is intended to be 70 or more.
The refractive index of A at 589 nm is preferably 1.75 or more, more preferably 1.80 or more, and even more preferably 1.90 or more. The upper limit of the refractive index of A is not particularly limited, but is generally 2.50 or less.

化合物（Ａ−Ｈ）の屈折率は、典型的には以下の工程１〜３に沿って測定される。
工程１：ポリ（メタクリル酸アリル／メタクリル酸）（質量比：９０／１０、Ｍｗ：１５，０００〜２０，０００、分散度：１．５〜２．５）を１０質量％含有する溶剤に、化合物（Ａ−Ｈ）を溶解させ、全固形分に対する化合物（Ａ−Ｈ）の含有量が３０質量％、５０質量％、又は、７０質量％である溶液をそれぞれ調製する。なお、使用する溶剤としては、上記溶液中の固形分を均一に溶解できる溶剤を選択する。
工程２：工程１で調製されたそれぞれの溶液をガラス基板に塗布し、更にガラス基板をベークして溶剤を除去することで塗膜を形成する。この塗膜を用いて屈折率を測定する。屈折率の測定においては、エリプソメーターを用いて波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各塗膜の屈折率とする。
工程３：塗膜中の化合物（Ａ−Ｈ）の含有量（含有割合）と、塗膜の屈折率との関係をプロットしてプロット図（横軸：高屈折率化合物の含有割合、縦軸：塗膜の屈折率）を作成し、化合物（Ａ−Ｈ）の含有量が仮定的に１００％である場合に想定される塗膜の屈折率を線形近似で求め、その屈折率を化合物（Ａ−Ｈ）の屈折率とする。The refractive index of compound (AH) is typically measured according to steps 1-3 below.
Step 1: In a solution containing 10% by mass of poly (allyl methacrylate / methacrylate) (mass ratio: 90/10, Mw: 15,000 to 20,000, dispersibility: 1.5 to 2.5). The compound (AH) is dissolved to prepare a solution in which the content of the compound (AH) with respect to the total solid content is 30% by mass, 50% by mass, or 70% by mass, respectively. As the solvent to be used, a solvent capable of uniformly dissolving the solid content in the above solution is selected.
Step 2: Each solution prepared in Step 1 is applied to a glass substrate, and the glass substrate is further baked to remove the solvent to form a coating film. The refractive index is measured using this coating film. In the measurement of the refractive index, the refractive index at a wavelength of 300 to 1500 nm is measured using an ellipsometer, and the value of the refractive index at a wavelength of 589 nm is taken as the refractive index of each coating film.
Step 3: The relationship between the content (content ratio) of the compound (AH) in the coating film and the refractive index of the coating film is plotted and plotted (horizontal axis: content ratio of high refractive index compound, vertical axis). : Refractive index of coating film) is prepared, the refractive index of the coating film assumed when the content of compound (AH) is assumed to be 100% is obtained by linear approximation, and the refractive index is calculated by linear approximation. Let it be the refractive index of AH).

また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、Ａは重合性基を有するのも好ましい。上記重合性基としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基が好ましい。
Ａの分子量は、１００〜１０００が好ましく、２００〜８００がより好ましく、３００〜７００が更に好ましい。Further, from the viewpoint of excellent heat resistance of the film formed by using the composition, it is preferable that A has a polymerizable group. As the polymerizable group, a (meth) acryloyl group or a vinyl group is preferable.
The molecular weight of A is preferably 100 to 1000, more preferably 200 to 800, and even more preferably 300 to 700.

Ａの好適態様としては、式（Ｉ−Ｉ）で表される基が挙げられる。
式（Ｉ−Ｉ） （Ｑ−Ｌ１−）ｐ−Ｔ−Ｌ２−Ｚ−Ｌ３−＊
Ｑは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基（ベンゾチアゾール環基等）を表す。アリール基としては、フェニル基が好ましい。
Ｔは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
ｐは、１以上の整数を表す。ｐは、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましく、２が更に好ましい。
ｐが２以上の場合、複数のＱ及びＬ１は、同一でも異なっていてもよい。
Ｌ１〜Ｌ３は、それぞれ独立に、単結合、又は、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。
中でも、Ｌ１及びＬ２としては、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、−Ｓ−、又は、−ＣＯＮＲＮ−が好ましく、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−がより好ましい。また、Ｌ３としては、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、−Ｓ−、又は、−Ｏ−アルキレン基が好ましく、−ＮＲＮ−、又は、−Ｏ−アルキレン基がより好ましい。
Ｚは、単結合、アリーレン基、又は、二価のヘテロ環基を表す。二価のヘテロ環基とは、上述したヘテロ環基中の任意の位置から２個の水素原子を除いて形成される基である。アリーレン基としては、フェニレン基が好ましい。なお、Ｚが単結合の場合、ｐは２以上の整数を表す。
＊は結合位置を表す。
また、式（Ｉ−Ｉ）中には、Ｔで表されるベンゼン環基又は単環のヘテロ環基以外に、少なくとも１以上のベンゼン環基又は単環のヘテロ環基が存在する。
なお、フェニル基及びフェニレン基は、いずれもベンゼン環基の１種である。Preferred embodiments of A include groups represented by the formula (I-I).
Equation (I-I) (Q-L 1- ) p -TL 2- Z-L 3- *
Q represents an aryl group or a heterocyclic group (benzothiazole ring group, etc.) which may independently have a substituent. As the aryl group, a phenyl group is preferable.
T represents a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group which may have a substituent.
p represents an integer of 1 or more. p is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, and even more preferably 2.
When p is 2 or more, the plurality of Q and L 1 may be the same or different.
L 1 to L 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent chain-saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched, preferably having 1 to 20 carbon atoms) and divalent cyclic saturation. A hydrocarbon group (preferably having 3 to 20 carbon atoms), a divalent aromatic group (preferably having 5 to 20 carbon atoms, for example, a phenylene group), -O-, -S-, -SO. 2- , -NR N- , -CO-, -NH-, -COO-, -CONR N- , -O-CO-O-, -SO 3- , -NHCOO-, -SO 2 NR N -,- Examples thereof include NH-CO-NH-, or a group in which two or more kinds thereof are combined (for example, an alkyleneoxy group, an alkyleneoxycarbonyl group, an alkylenecarbonyloxy group, etc.). Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
Among them, as L 1 and L 2 , -NR N- , -O-, -S-, or -CONR N- is preferable, and -NR N- , -O-, or -S- is more preferable. Further, as L 3 , -NR N- , -O-, -S-, or -O-alkylene group is preferable, and -NR N- or -O-alkylene group is more preferable.
Z represents a single bond, an arylene group, or a divalent heterocyclic group. The divalent heterocyclic group is a group formed by removing two hydrogen atoms from an arbitrary position in the above-mentioned heterocyclic group. As the arylene group, a phenylene group is preferable. When Z is a single bond, p represents an integer of 2 or more.
* Represents the bond position.
Further, in the formula (I-I), at least one or more benzene ring groups or monocyclic heterocyclic groups are present in addition to the benzene ring group or monocyclic heterocyclic group represented by T.
Both the phenyl group and the phenylene group are one type of benzene ring group.

Ａの最好適態様としては、一般式（ＩＩ）で表される基が挙げられる。
なお、Ａのうち少なくとも１つが一般式（ＩＩ）で表される基であるのが好ましく、Ａの全てが一般式（ＩＩ）で表される基であるのがより好ましい。The most preferable embodiment of A is a group represented by the general formula (II).
It is preferable that at least one of A is a group represented by the general formula (II), and it is more preferable that all of A is a group represented by the general formula (II).

Figure 0006913167
Figure 0006913167

一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜７）、又は、アリール基を表す。
中でも、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−が好ましく、−ＮＨ−がより好ましい。
Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち、１以上が−ＮＨ−であるのが好ましく、２以上が−ＮＨ−であるのがより好ましく、全てが−ＮＨ−であるのが更に好ましい。In the general formula (II), C 1 , C 2 , and C 3 independently represent -NR N- , -O-, or -S-, respectively. RN represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably 1 to 7 carbon atoms), or an aryl group.
Among them, C 1 , C 2 , and C 3 are independently preferably -NH-, -N (CH 3 )-, -O-, or -S-, and more preferably -NH-.
Of C 1 , C 2 , and C 3 , 1 or more is preferably -NH-, 2 or more is more preferably -NH-, and all are more preferably -NH-.

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基（ベンゾチアゾール環基等）を表す。中でも、上記アリール基としては、フェニル基が好ましい。
アリール基及びヘテロ環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、上述した置換基Ｔが挙げられ、アリール基（フェニル基又はビフェニル基など）、シアノ基、塩素原子、臭素原子、ニトロ基、ヘテロ環基、次に説明する重合性基を有する基、又は、これらの組み合わせからなる基が好ましい。例えば、Ａｒ１及び／又はＡｒ２が置換基とともに、ビフェニル基、又は、ターフェニル基を形成しているのも好ましい。このようなビフェニル基、又は、ターフェニル基が更に置換基（次に説明する重合性基を有する基も含む）を有しているのも好ましい。
置換基の置換位置は、Ｃ１又はＣ２に対して、パラ位に置換するのが好ましい。In the general formula (II), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group or a heterocyclic group (benzothiazole ring group, etc.) which may have a substituent. Among them, the phenyl group is preferable as the aryl group.
The aryl group and the heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned substituent T, an aryl group (such as a phenyl group or a biphenyl group), a cyano group, a chlorine atom, a bromine atom, a nitro group, a heterocyclic group, and a polymerizable group described below. A group having the above, or a group consisting of a combination thereof is preferable. For example, it is also preferable that Ar 1 and / or Ar 2 form a biphenyl group or a terphenyl group together with a substituent. It is also preferable that such a biphenyl group or a terphenyl group further has a substituent (including a group having a polymerizable group described below).
The substitution position of the substituent is preferably substituted at the para position with respect to C 1 or C 2.

また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、上記アリール基及びヘテロ環基は、置換基として、重合性基を有するのも好ましい。上記重合性基としては、（メタ）アクリロイル基又はビニル基が好ましい。
置換基として、重合性基を有する形態に制限はなく、このような重合性基を有する基は、重合性基そのものであってもよいし、重合性基を一部に含む基であってもよい。重合性基を有する基は、重合性基を複数有していてもよい。
重合性基を有する基としては、例えば、「−（単結合又は二価の連結基）−（重合性基）」及び「−（単結合又は二価の連結基）−（三価の連結基）−［（単結合又は二価の連結基）−（重合性基）］２」が挙げられる。
上記二価の連結基としては、それぞれ独立に、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。中でも、上記二価の連結基としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＨ−、−二価の鎖状飽和炭化水素基−Ｏ−、又は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−が好ましい。
上記三価の連結基としては、例えば、−ＣＲＴ＜で表される基が挙げられる。ここで、ＲＴは、水素原子、アルキル基（好ましくはメチル基）、又は、アリール基を表す。Further, from the viewpoint of excellent heat resistance of the film formed by using the composition, the aryl group and the heterocyclic group preferably have a polymerizable group as a substituent. As the polymerizable group, a (meth) acryloyl group or a vinyl group is preferable.
As the substituent, there is no limitation on the form having a polymerizable group, and the group having such a polymerizable group may be a polymerizable group itself or a group containing a part of the polymerizable group. good. The group having a polymerizable group may have a plurality of polymerizable groups.
Examples of the group having a polymerizable group include "-(single bond or divalent linking group)-(polymerizable group)" and "-(single bond or divalent linking group)-(trivalent linking group). )-[(Single-bonded or divalent linking group)-(polymerizable group)] 2 ".
The divalent linking groups include, for example, a divalent chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched, preferably having 1 to 20 carbon atoms). A divalent cyclic saturated hydrocarbon group (preferably having 3 to 20 carbon atoms), a divalent aromatic group (preferably having 5 to 20 carbon atoms, for example, a phenylene group), -O-,-. S-, -SO 2- , -NR N- , -CO-, -NH-, -COO-, -CONR N- , -O-CO-O-, -SO 3- , -NHCOO-, -SO 2 Examples thereof include NR N- , -NH-CO-NH-, or a group in which two or more of these are combined (for example, an alkyleneoxy group, an alkyleneoxycarbonyl group, an alkylenecarbonyloxy group, etc.). Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Among them, as the divalent linking group, -O-, -NH-, -divalent chain saturated hydrocarbon group -O-, or -NH-CO-NH- is preferable.
The linking group of the trivalent, for example, -CR T <in the group represented. Here, RT represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably a methyl group), or an aryl group.

Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基であり、ＬＡを介して一般式（Ｉ）中のＸと結合する。中でも、上記アリーレン基としては、フェニレン基が好ましい。
ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。二価の連結基の定義は、上述の通りである。
ＬＡで表される二価の連結基としては、−ＮＨ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、アルキレン基（好ましくは炭素数１〜３）、又は、これらの組み合わせ（例えば、−Ｏ−アルキレン基−など）からなる基が好ましい。
二価の連結基である場合のＬＡの分子量は、１４〜３００が好ましく、１６〜２００がより好ましく、１６〜１００が更に好ましい。
＊は、結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
なお、フェニル基及びフェニレン基は、いずれもベンゼン環基の１種である。Ar 3 is an arylene group or a divalent heterocyclic group which bonds to X in the general formula (I) via the L A. Among them, the phenylene group is preferable as the allylene group.
L A represents a single bond or a divalent linking group. The definition of a divalent linking group is as described above.
The divalent linking group represented by L A, -NH -, - O -, - CO -, - CO-O-, an alkylene group (preferably 1 to 3 carbon atoms), or a combination thereof ( For example, a group consisting of -O-alkylene group-, etc.) is preferable.
The molecular weight of the L A case is a divalent linking group is preferably from 14 to 300, more preferably from 16 to 200, more preferably 16 to 100.
* Represents the bond position.
However, one or more of Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 represent a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group.
Both the phenyl group and the phenylene group are one type of benzene ring group.

（Ｘの構造）
一般式（Ｉ）中、Ｘは、ｍ＋ｎ価の連結基を表す。
Ｘはｍ＋ｎ価の連結基であれば、その構造は特に制限はないが、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を有しているのが好ましい。上記芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基又はナフタレン環基が好ましい。上記ヘテロ環基は、縮合環基であっても縮合環基でなくてもよいが、縮合環基でないのが好ましく、トリアジン環基がより好ましい。
Ｘが、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を有する場合、Ｘは芳香族炭化水素基又はヘテロ環基を１個有するのが好ましい。なお、この場合、縮合環構造を有する芳香族炭化水素基は１個の芳香族炭化水素基として計上し、縮合環構造を有するヘテロ環基も１個のヘテロ環基として計上する。
Ｘとしては、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される基が好ましい。
Ｘの分子量は、５０〜２０００が好ましく、７０〜１５００がより好ましく、１２０〜１２００が更に好ましい。(Structure of X)
In the general formula (I), X represents a linking group having an m + n valence.
If X is an m + n-valent linking group, its structure is not particularly limited, but it has an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom. It is preferable to have. As the aromatic hydrocarbon group, a benzene ring group or a naphthalene ring group is preferable. The heterocyclic group may be a condensed ring group or not a condensed ring group, but it is preferably not a condensed ring group, and a triazine ring group is more preferable.
When X has an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, it is preferable that X has one aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group. In this case, the aromatic hydrocarbon group having a fused ring structure is counted as one aromatic hydrocarbon group, and the heterocyclic group having a fused ring structure is also counted as one heterocyclic group.
As X, a group represented by the general formula (III) described later is preferable.
The molecular weight of X is preferably 50 to 2000, more preferably 70 to 1500, and even more preferably 120 to 1200.

Ｘの好適態様としては、以下の一般式（ＩＩＩ）で表される基が好ましい。 As a preferred embodiment of X, a group represented by the following general formula (III) is preferable.

（＊Ａ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−＊Ｂ）ｎ （ＩＩＩ）(* A- Z A ) m- Y- (Z B- * B ) n (III)

一般式（ＩＩＩ）中、ｍは、一般式（Ｉ）中のｍと同じ値で、２以上の整数を表す。
ｎは、一般式（Ｉ）中のｎと同じ値で、０以上の整数を表す。
＊Ａは、一般式（Ｉ）中のＡとの結合位置を表す。
＊Ｂは、一般式（Ｉ）中のＢとの結合位置を表す。
ｍ＋ｎは、２〜６が好ましい。In the general formula (III), m has the same value as m in the general formula (I) and represents an integer of 2 or more.
n is the same value as n in the general formula (I) and represents an integer of 0 or more.
* A represents the bonding position with A in the general formula (I).
* B represents the connection position with B in the general formula (I).
m + n is preferably 2 to 6.

一般式（ＩＩＩ）中、Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。 In the general formula (III), Y is an m + n-valent linking group and represents a group having an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom.

上記芳香族炭化水素基を有する基は、１個以上の芳香族炭化水素基のみからなる基であってもよいし、１個以上（好ましくは２個以上）の芳香族炭化水素基とそれ以外の基とからなる基であってもよい。
芳香族炭化水素基とそれ以外の基とからなる基としては、例えば、次の式で表される基が挙げられる。
（芳香族炭化水素基）−（単結合又は二価の連結基）−（芳香族炭化水素環基） 式
上記式中の２個の芳香族炭化水素基は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
上記式中の二価の連結基としては、例えば、二価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、二価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、二価のヘテロ環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＮＲＮ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲＮ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ２ＮＲＮ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、又は、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられ、中でも、−ＳＯ２−が好ましい。ここで、ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。
芳香族炭化水素基を有する基における、芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基又はナフタレン環基が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｍの値は、２〜４が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｎの値は、０〜２が好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基を有する基である場合、ｍ＋ｎは２〜４が好ましい。The group having the above aromatic hydrocarbon groups may be a group consisting of only one or more aromatic hydrocarbon groups, or one or more (preferably two or more) aromatic hydrocarbon groups and other groups. It may be a group consisting of a group of.
Examples of the group composed of the aromatic hydrocarbon group and the other group include a group represented by the following formula.
(Aromatic hydrocarbon group)-(single bond or divalent linking group)-(aromatic hydrocarbon ring group) Formula The two aromatic hydrocarbon groups in the above formula may be the same or different. ..
Examples of the divalent linking group in the above formula include a divalent chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched, preferably having 1 to 20 carbon atoms). Cyclic saturated hydrocarbon group of valence (preferably 3 to 20 carbon atoms), divalent heterocyclic group, -O-, -S-, -SO 2- , -NR N- , -CO-,- NH-, -COO-, -CONR N- , -O-CO-O-, -SO 3- , -NHCOO-, -SO 2 NR N- , -NH-CO-NH-, or two of these above combined groups (e.g., alkyleneoxy group, an alkyleneoxy group, an alkylene carbonyl group) and the like, among them, -SO 2 - are preferred. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
Among the groups having an aromatic hydrocarbon group, the aromatic hydrocarbon group is preferably a benzene ring group or a naphthalene ring group.
When Y is a group having an aromatic hydrocarbon group, the value of m is preferably 2 to 4.
When Y is a group having an aromatic hydrocarbon group, the value of n is preferably 0 to 2.
When Y is a group having an aromatic hydrocarbon group, m + n is preferably 2 to 4.

Ｙがヘテロ環基である場合、縮合環基であっても縮合環基でなくてもよいが、縮合環基でないのが好ましい。縮合環基ではないヘテロ環基の好適な態様は、上述の一般式（Ｉ）中のＡが有し得るヘテロ環基の好適な態様と同じである。
中でも、Ｙで表されるヘテロ環基としては、トリアジン環基が好ましい。
Ｙがヘテロ環基である場合、ｍの値は、２〜４が好ましく、３がより好ましい。
Ｙがヘテロ環基である場合、ｎの値は、０〜３が好ましく、０がより好ましい。
Ｙが芳香族炭化水素基である場合、ｍ＋ｎは２〜４が好ましく、３がより好ましい。When Y is a heterocyclic group, it may be a condensed ring group or not a condensed ring group, but it is preferably not a condensed ring group. A preferred embodiment of a heterocyclic group that is not a fused ring group is the same as a preferred embodiment of a heterocyclic group that A in the above general formula (I) can have.
Among them, the triazine ring group is preferable as the heterocyclic group represented by Y.
When Y is a heterocyclic group, the value of m is preferably 2 to 4, more preferably 3.
When Y is a heterocyclic group, the value of n is preferably 0 to 3, more preferably 0.
When Y is an aromatic hydrocarbon group, m + n is preferably 2 to 4, more preferably 3.

Ｙが酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基である場合、脂肪族炭化水素基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよく、環構造（好ましくは炭素数５〜１０）を有していてもよい。
脂肪族炭化水素基が有していてもよい酸素原子は、−Ｏ−、−Ｃ（Ｏ）−、又は、−ＣＯＯ−、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−等として含まれていてもよい。つまり、脂肪族炭化水素基は、上記例示した基を含んでいてもよい。When Y is an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom, the aliphatic hydrocarbon group may be linear or branched and has a ring structure (preferably 5 to 10 carbon atoms). You may have.
The oxygen atom that the aliphatic hydrocarbon group may have may be contained as -O-, -C (O)-, -COO-, -OC (O) O-, or the like. That is, the aliphatic hydrocarbon group may contain the groups exemplified above.

脂肪族炭化水素基の炭素数は特に制限されないが、１〜４０が好ましく、２〜３０がより好ましく、３〜２０が更に好ましい。 The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40, more preferably 2 to 30, and even more preferably 3 to 20.

酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基の好適態様の一つとしては、酸素原子を有していてもよいアルキレン基が挙げられる。なお、Ｙが酸素原子を有していてもよいアルキレン基の場合、ｍ＋ｎ＝２の関係となる。
アルキレン基の炭素数は、２〜１５が好ましく、３〜１２がより好ましく、４〜１０が更に好ましい。
また、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基は、環状の基そのものであってもよいし、環状の基を一部に含む基であってもよい。このような態様のＹとしては、Ｙが環状飽和炭化水素基（好ましくは５〜７員環、より好ましくは６員環）である例が挙げられる。One of the preferred embodiments of the aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom is an alkylene group which may have an oxygen atom. In the case of an alkylene group in which Y may have an oxygen atom, the relationship is m + n = 2.
The alkylene group preferably has 2 to 15 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms, and even more preferably 4 to 10 carbon atoms.
Further, the aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom may be a cyclic group itself or a group containing a cyclic group as a part. Examples of Y in such an embodiment include an example in which Y is a cyclic saturated hydrocarbon group (preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 6-membered ring).

酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基の他の好適態様としては、式（Ａ）で表される基が挙げられる。なお、Ｙが式（Ａ）で表される基の場合で、かつ、ｒが１の場合、ｍ＋ｎ＝６の関係となる。また、この場合、ｍは、２〜６が好ましく、２〜５がより好ましく、３〜５が更に好ましい。 Another preferred embodiment of the aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom is a group represented by the formula (A). When Y is a group represented by the formula (A) and r is 1, the relationship is m + n = 6. Further, in this case, m is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 5, and even more preferably 3 to 5.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

ＬＣは、それぞれ独立に、アルキレン基を表す。アルキレン基中の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が更に好ましい。
ｒは、０又は１を表す。L C each independently represents an alkylene group. The number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1.
r represents 0 or 1.

一般式（ＩＩＩ）中、ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。
上記二価の連結基の定義は、上述した通りである。なかでも、二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる基が好ましい。
上記これらの組み合わせからなる基としては、例えば、−Ｙ−アルキレン基−Ｙ−、−Ｙ−アルキレン基などが挙げられる。Ｙとしては、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＨ−が挙げられる。上記組み合わせからなる基としては、より具体的には、−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｓ−、アルキレン基−Ｓ−、−アルキレン基−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基などが挙げられる。In general formula (III), Z A and Z B each independently represent a single bond or a divalent linking group.
The definition of the divalent linking group is as described above. Among them, as the divalent linking group, a group consisting of -O-, -S-, -CO-, -NH-, -SO 2- , an alkylene group, or a combination thereof is preferable.
Examples of the group composed of these combinations include -Y-alkylene group-Y-, -Y-alkylene group and the like. Examples of Y include -O-, -O-CO-, -S-, and -NH-. More specific examples of the group composed of the above combinations include -O-CO-alkylene group-S-, alkylene group -S-, -alkylene group -O-, and -O-CO-alkylene group.

（Ｂの構造）
一般式（Ｉ）中、Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。なお、本明細書において、「置換基」には、ポリマー鎖は含まれない。また、「置換基」には、上述した高屈折率官能基は含まれない。(Structure of B)
In general formula (I), B represents a polymer chain or substituent. In addition, in this specification, a polymer chain is not included in a "substituent". Further, the "substituent" does not include the above-mentioned high refractive index functional group.

Ｂで表されるポリマー鎖とは、所定の繰り返し単位を複数有する鎖である。ポリマー鎖の構造に特に制限されず、公知のポリマーから目的等に応じて選択できる。
中でも、ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖が好ましく、（メタ）アクリル化合物の重合体又は共重合体で構成されるポリマー鎖がより好ましい。
ポリマー鎖は、置換基を有していてもよい。なお、置換基が複数存在する場合、複数存在する置換基は、同一でも異なっていてもよい。
ポリマー鎖中の置換基の好適態様の一つとしては、酸基が挙げられる。酸基の種類としては、後述する特定化合物が有していてもよい酸基で例示する基が挙げられる。
また、ポリマー鎖中の置換基の他の好適態様としては、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、後述する重合性基が挙げられる。中でも、重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、メタクリロイルオキシ基がより好ましい。
Ｂで表されるポリマー鎖の重量平均分子量は、２００〜１０，０００が好ましく、３００〜５，０００がより好ましい。
ポリマー鎖であるＢが複数存在する場合、複数存在するポリマー鎖は、同一でも異なっていてもよい。The polymer chain represented by B is a chain having a plurality of predetermined repeating units. The structure of the polymer chain is not particularly limited, and a known polymer can be selected according to the purpose and the like.
Among them, the polymer chain is a polymer selected from the group consisting of a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, and a silicone polymer. A polymer chain composed of a polymer chain is preferable, and a polymer chain composed of a polymer or copolymer of a (meth) acrylic compound is more preferable.
The polymer chain may have a substituent. When a plurality of substituents are present, the plurality of substituents may be the same or different.
One of the preferred embodiments of the substituent in the polymer chain is an acid group. Examples of the type of acid group include groups exemplified by acid groups that may be contained in a specific compound described later.
In addition, as another preferred embodiment of the substituent in the polymer chain, a polymerizable group described later can be mentioned from the viewpoint of excellent heat resistance of the film formed by using the composition. Among them, the polymerizable group is preferably a (meth) acryloyloxy group, and more preferably a methacryloyloxy group.
The weight average molecular weight of the polymer chain represented by B is preferably 200 to 10,000, more preferably 300 to 5,000.
When a plurality of Bs, which are polymer chains, are present, the plurality of polymer chains may be the same or different.

Ｂで表される置換基としては、上述の置換基Ｔで例示される基が挙げられる。Ｂで表される置換基としては、例えば、置換基Ｔで例示した複数の置換基を組み合わせてなる基であってもよい。
中でも、組成物の現像性が優れる観点から、Ｂで表される置換基としては、後述する酸基を有する基が好ましく、チオール基を有する基又はカルボキシ基を有する基がより好ましく、カルボキシ基を有する基が更に好ましい。
ただし、チオール基は、後述するエチレン性不飽和結合を有する基と、エン／チオール反応に基づく架橋構造を形成できる。そのため、後述する重合性化合物等の存在下で組成物から得られる膜の耐熱性を向上できる点で、チオール基を有する基が好ましい。
チオール基を有する基は、例えば、「−アルキレン基（好ましくは炭素数２〜５）−ＳＨ」で表される基が好ましい。
また、Ｂで表される置換基としては、ハロゲン原子を有する基も好ましい。
なお、本明細書において、酸基を有する基とは、上記酸基そのものである態様も含むことを意図する。チオール基を有する基及びカルボキシ基を有する基も、同様の意図である。
Ｂで表される置換基が複数存在する場合、複数存在するＢは、同一でも異なっていてもよい。Examples of the substituent represented by B include the groups exemplified by the above-mentioned Substituent T. The substituent represented by B may be, for example, a group formed by combining a plurality of substituents exemplified by the substituent T.
Among them, from the viewpoint of excellent developability of the composition, as the substituent represented by B, a group having an acid group described later is preferable, a group having a thiol group or a group having a carboxy group is more preferable, and a carboxy group is used. Groups having are more preferred.
However, the thiol group can form a crosslinked structure based on an en / thiol reaction with a group having an ethylenically unsaturated bond, which will be described later. Therefore, a group having a thiol group is preferable in that the heat resistance of the film obtained from the composition can be improved in the presence of a polymerizable compound or the like described later.
As the group having a thiol group, for example, a group represented by "-alkylene group (preferably 2 to 5 carbon atoms) -SH" is preferable.
Further, as the substituent represented by B, a group having a halogen atom is also preferable.
In addition, in this specification, a group having an acid group is intended to include the aspect which is the acid group itself. A group having a thiol group and a group having a carboxy group have the same intention.
When a plurality of substituents represented by B are present, the plurality of Bs present may be the same or different.

（酸基）
また、組成物の現像性が優れる観点から、特定化合物は酸基を有するのが好ましい。
酸基の具体例としては、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基が挙げられる。中でも、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基が好ましく、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、又は、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボキシ基が更に好ましい。
特定化合物が酸基を有する場合、Ａが酸基を有していてもよく、Ｂで表される置換基が酸基を有していてもよく、Ｂで表されるポリマー鎖が酸基を有していてもよい。(Acid group)
Further, from the viewpoint of excellent developability of the composition, the specific compound preferably has an acid group.
Specific examples of the acid group include a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphoric acid group, a monophosphate ester group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phenolic hydroxyl group, and a boric acid group. Can be mentioned. Of these, a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphoric acid group, a monophosphate ester group, a phosphonic acid group, or a phosphinic acid group is preferable, and a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid are preferable. A group, a phosphonic acid group, or a phosphinic acid group is more preferable, and a carboxy group is further preferable.
When the specific compound has an acid group, A may have an acid group, the substituent represented by B may have an acid group, and the polymer chain represented by B has an acid group. You may have.

（重合性基）
また、組成物を用いて形成される膜の耐熱性が優れる観点から、特定化合物は重合性基を有するのが好ましい。
重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基等が挙げられる。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基が好ましい。中でも、（メタ）アクリロイル基、又は、ビニル基が好ましい。上記（メタ）アクリロイル基は、−Ｏ−又は−ＮＨ−と組み合わさって、（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリロイルアミノ基となっているのも好ましい。(Polymerizable group)
Further, from the viewpoint of excellent heat resistance of the film formed by using the composition, the specific compound preferably has a polymerizable group.
Examples of the polymerizable group include a radical polymerizable group and a cationically polymerizable group.
As the radically polymerizable group, a known radically polymerizable group can be used, and a polymerizable group having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond is preferable. Of these, a (meth) acryloyl group or a vinyl group is preferable. It is also preferable that the (meth) acryloyl group is combined with -O- or -NH- to form a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloylamino group.

カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、及び、ビニルオキシ基等が挙げられる。 As the cationically polymerizable group, a known cationically polymerizable group can be used. Specifically, an alicyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spiroorthoester group, and a vinyloxy group. And so on.

特定化合物が重合性基を有する場合、Ａが重合性基を有していてもよく、Ｂで表される置換基が重合性基を有していてもよく、Ｂで表されるポリマー鎖が重合性基を有していてもよい。
なお、本明細書において、特定化合物が重合性基を有する場合、重合性基を有する特定化合物は、後述の重合性化合物には含まれない。When the specific compound has a polymerizable group, A may have a polymerizable group, the substituent represented by B may have a polymerizable group, and the polymer chain represented by B may have a polymerizable group. It may have a polymerizable group.
In addition, in this specification, when a specific compound has a polymerizable group, the specific compound having a polymerizable group is not included in the polymerizable compound described later.

中でも、特定化合物は、一般式（ＩＶ）で表される化合物であるのが好ましい。
（ＡＴ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−Ｂ）ｎ （ＩＶ）Among them, the specific compound is preferably a compound represented by the general formula (IV).
(A T -Z A) m -Y- (Z B -B) n (IV)

一般式（ＩＶ）中、
ｍは、２以上の整数を表す。一般式（ＩＶ）中のｍは、一般式（ＩＩＩ）中のｍと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ｎは、０以上の整数を表す。一般式（ＩＶ）中のｎは、一般式（ＩＩＩ）中のｎと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ＡＴは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基であって、一般式（ＩＩ）で表される基である。一般式（ＩＶ）中のＡＴにおける一般式（ＩＩ）で表される基は、一般式（Ｉ）中のＡの好適形態として上述した一般式（ＩＩ）で表される基と同義であり、好ましい範囲も同様である。また、ＡＴの屈折率の好ましい範囲及び測定方法は、Ａの屈折率の好ましい範囲及び測定方法と同様である。
Ｂは、ポリマー鎖又は置換基を表す。一般式（ＩＶ）中のＢは、一般式（Ｉ）中のＢと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、芳香族炭化水素基を有する基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。一般式（ＩＶ）中のＹは、一般式（ＩＩＩ）中のＹと同義であり、好ましい範囲も同様である。
ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。一般式（ＩＶ）中のＺＡ及びＺＢは、一般式（ＩＩＩ）中のＺＡ及びＺＢとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
なお、複数存在するＡＴは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺＢが複数存在する場合、複数存在するＺＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。In general formula (IV),
m represents an integer of 2 or more. The m in the general formula (IV) is synonymous with m in the general formula (III), and the preferable range is also the same.
n represents an integer of 0 or more. N in the general formula (IV) is synonymous with n in the general formula (III), and the preferred range is also the same.
AT is a group having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm, and is a group represented by the general formula (II). The group represented by the general formula (II) in AT in the general formula (IV) is synonymous with the group represented by the general formula (II) described above as a preferable form of A in the general formula (I). The same applies to the preferred range. Further, the preferable range and the measuring method of the refractive index of AT are the same as the preferable range and the measuring method of the refractive index of A.
B represents a polymer chain or substituent. B in the general formula (IV) is synonymous with B in the general formula (I), and the preferred range is also the same.
Y represents an m + n-valent linking group, which is a group having an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom. Y in the general formula (IV) is synonymous with Y in the general formula (III), and the preferred range is also the same.
Z A and Z B each independently represent a single bond or a divalent linking group. Z A and Z B in the general formula (IV), formula (III) in a respectively Z A and Z B synonymous, and preferred ranges are also the same.
Incidentally, A T there are a plurality, may each be the same or different. When there are a plurality of B's, the plurality of B's may be the same or different. More existing Z A may each be the same or different. When there are a plurality of Z Bs , the plurality of Z Bs may be the same or different.

特定化合物は公知の方法で合成できる。
なお、合成溶剤としては、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド及び３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等のアミド類を使用することが好ましい。
本発明の組成物において、特定化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上であり、形成される膜の屈折率が優れる観点から、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が更に好ましい。
本発明の組成物において、特定化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、９９質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が更に好ましい。
なお、固形分とは、後述する膜を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。
また、上記特定化合物は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。The specific compound can be synthesized by a known method.
As the synthetic solvent, it is preferable to use amides such as 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide and 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide.
In the composition of the present invention, the content of the specific compound is 30% by mass or more with respect to the total solid content in the composition, and 50% by mass or more is more preferable from the viewpoint of excellent refractive index of the formed film. It is preferable, and 70% by mass or more is more preferable.
In the composition of the present invention, the content of the specific compound is preferably 99% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, still more preferably 85% by mass or less, based on the total solid content in the composition.
The solid content is intended as a component that forms a film, which will be described later, and does not contain a solvent.
Further, the specific compound may be used alone or in combination of two or more.

＜溶剤＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。
溶剤の種類は特に制限されず、例えば、水及び有機溶媒が挙げられる。有機溶剤としては、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、及び、アミド類等が挙げられる。具体例としては、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、及び、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。有機溶剤の詳細は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、及び、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある。例えば、組成物中の芳香族溶媒の含有量は、組成物の全質量に対して、各芳香族溶媒がそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｍｉｌｌｉｏｎ）が好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましい。なお、ここでいう「０」の値は、測定機器による検出限界未満であることを意図する。<Solvent>
The composition of the present invention contains a solvent.
The type of solvent is not particularly limited, and examples thereof include water and organic solvents. Examples of the organic solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons, amides and the like. Specific examples include methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, and the like. Butylcarbitol acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, dimethylformamide, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, and 3- Butoxy-N, N-dimethylpropanamide and the like can be mentioned. The details of the organic solvent can be referred to in paragraph No. 0223 of WO2015 / 166779, which is incorporated herein by reference.
However, it may be better to reduce aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, ethylbenzene, etc.) as a solvent for environmental reasons. For example, the content of the aromatic solvent in the composition is preferably 0 to 10000 mass ppm (parts per million), preferably 0 to 1000 mass ppm, independently of each aromatic solvent with respect to the total mass of the composition. Is more preferable. The value of "0" here is intended to be less than the detection limit by the measuring device.

有機溶剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。有機溶剤を２種以上組み合わせて用いる場合、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及び、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。 As the organic solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more organic solvents are used in combination, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone , Ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and a mixed solution composed of two or more selected from propylene glycol methyl ether acetate are preferable.

金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であるのが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。 It is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, a solvent at the mass ppt (parts per tension) level may be used, and such a high-purity solvent is provided by, for example, Toyo Synthetic Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015).

溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留又は薄膜蒸留等）又はフィルタを用いたろ過が挙げられる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、又は、ナイロンが好ましい。 Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) or filtration using a filter. The filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and even more preferably 3 nm or less. The filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.

溶剤には、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。 The solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.

有機溶剤中の過酸化物の含有量は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下が好ましく、有機溶媒は過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
また、組成物が溶剤として水を含む場合、水の含有量は組成物の全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。The content of the peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and the organic solvent is more preferably substantially free of peroxide.
When the composition contains water as a solvent, the content of water is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, and 0.1 by mass, based on the total mass of the composition. ~ 3% by mass is more preferable.

本発明の組成物における溶剤の含有量は特に制限されないが、組成物中の固形分含有量が、１〜３０質量％になる量が好ましく、３〜２５質量％になる量がより好ましく、５〜２０質量％になる量が更に好ましい。 The content of the solvent in the composition of the present invention is not particularly limited, but the solid content in the composition is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 25% by mass, and 5 An amount of up to 20% by mass is more preferable.

＜その他の任意成分＞
組成物は、特定化合物及び溶剤以外の他の化合物を含んでいてもよい。例えば、他の化合物としては、樹脂、硬化性化合物（重合性化合物を含む。）、重合開始剤（好ましくは光重合開始剤）、酸化防止剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、充填剤、及び、硬化促進剤等が挙げられる。
以下、他の化合物の代表例について詳述する。<Other optional ingredients>
The composition may contain a specific compound and a compound other than the solvent. For example, other compounds include resins, curable compounds (including polymerizable compounds), polymerization initiators (preferably photopolymerization initiators), antioxidants, silane coupling agents, polymerization inhibitors, surfactants. , UV absorbers, fillers, curing accelerators and the like.
Representative examples of other compounds will be described in detail below.

（樹脂）
上記組成物は、樹脂を含んでいてもよい。樹脂は、所定の繰り返し単位を複数有する化合物である。なお、本明細書において、樹脂が重合性基を有する場合、重合性基を有する樹脂は後述の重合性化合物には含まれない。また、本明細書において、特定化合物がポリマー鎖を有する場合、ポリマー鎖を有する特定化合物は上記樹脂に含まれない。(resin)
The above composition may contain a resin. The resin is a compound having a plurality of predetermined repeating units. In the present specification, when the resin has a polymerizable group, the resin having a polymerizable group is not included in the polymerizable compound described later. Further, in the present specification, when the specific compound has a polymer chain, the specific compound having a polymer chain is not included in the above resin.

樹脂は、例えば、バインダーの用途で配合される。
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２，０００〜２，０００，０００が好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、３，０００以上が好ましく、５，０００以上がより好ましい。The resin is blended, for example, for the purpose of a binder.
The weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000. The upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. The lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.

樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、及び、シロキサン樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin include (meth) acrylic resin, (meth) acrylamide resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, and polyarylene. Examples thereof include ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, and siloxane resin.

本発明の組成物において、樹脂として、近赤外線に対する屈折率が１．７以上である樹脂（以下、高屈折率樹脂ともいう）を用いてもよい。樹脂の近赤外線に対する屈折率は、１．７〜４．０であるのが好ましい。下限は、１．７５以上が好ましく、１．８以上がより好ましく、１．８５以上が更に好ましい。上限は、３．９以下が好ましく、３．５以下がより好ましく、３．０以下が更に好ましい。上記の屈折率は、８１０ｎｍ、８５０ｎｍ、及び、９４０ｎｍのいずれかの波長の光に対する値であるのが好ましい。また、本発明の組成物から形成される膜を赤外線センサに用いる場合においては、上記の屈折率の値は、同赤外線センサでの検出に用いられる波長の近赤外線に対する値であることも好ましい。高屈折率樹脂は、バインダー又は分散剤として用いることができる。 In the composition of the present invention, as the resin, a resin having a refractive index of 1.7 or more with respect to near infrared rays (hereinafter, also referred to as a high refractive index resin) may be used. The refractive index of the resin with respect to near infrared rays is preferably 1.7 to 4.0. The lower limit is preferably 1.75 or more, more preferably 1.8 or more, and even more preferably 1.85 or more. The upper limit is preferably 3.9 or less, more preferably 3.5 or less, and even more preferably 3.0 or less. The above-mentioned refractive index is preferably a value with respect to light having any wavelength of 810 nm, 850 nm, and 940 nm. Further, when the film formed from the composition of the present invention is used for an infrared sensor, the above-mentioned refractive index value is preferably a value with respect to near infrared rays having a wavelength used for detection by the infrared sensor. The high refractive index resin can be used as a binder or a dispersant.

樹脂の屈折率は、以下の方法で未硬化の状態で測定できる。具体的な測定方法は、シリコンウエハ上に測定対象となる樹脂のみからなる膜を厚さ３００ｎｍで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ−３３００（商品名）、大日本スクリーン製造株式会社製）を用いて測定する。 The refractive index of the resin can be measured in an uncured state by the following method. The specific measurement method is to form a film consisting only of the resin to be measured on a silicon wafer with a thickness of 300 nm, and then ellipsometry the refractive index of the obtained film (Lambda Ace RE-3300 (trade name)). , Manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.).

現像性が優れる観点から、上記樹脂は、酸基を有していてもよい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。 From the viewpoint of excellent developability, the resin may have an acid group. These acid groups may be only one kind or two or more kinds. The resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin.

酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、
１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。The acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g. The lower limit is more preferably 50 mgKOH / g or more, and even more preferably 70 mgKOH / g or more. The upper limit is more preferably 400 mgKOH / g or less, further preferably 200 mgKOH / g or less.
150 mgKOH / g or less is particularly preferable, and 120 mgKOH / g or less is most preferable.

酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、及び、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシ基を有する酸性セルロース誘導体、並びに、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体がアルカリ可溶性樹脂として好適である。
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、及び、ビニル化合物等が挙げられる。
アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、及び、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、及び、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。
また、他のモノマーとしては、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー（例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、及び、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等）も挙げられる。
なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。As the resin having an acid group, a polymer having a carboxy group in the side chain is preferable. Specific examples include methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and novolak resins. Examples thereof include an alkali-soluble phenol resin, an acidic cellulose derivative having a carboxy group in the side chain, and a resin in which an acid anhydride is added to a polymer having a hydroxyl group. In particular, a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin.
Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, vinyl compounds and the like.
Examples of alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and pentyl (meth) acrylate. Examples thereof include hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, trill (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.
Examples of the vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethylmethacrylate macromonomer and the like. ..
In addition, examples of other monomers include N-substituted maleimide monomers (for example, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, etc.) described in JP-A-10-300922.
The other monomers copolymerizable with these (meth) acrylic acids may be only one kind or two or more kinds.

酸基を有する樹脂としては、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、又は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましい。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合した共重合体、又は、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、若しくは、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体等も好ましい。 Examples of the resin having an acid group include a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, or a benzyl. A multiple copolymer composed of (meth) acrylate / (meth) acrylate / other monomer is preferable. Further, a copolymer obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, or a combination of 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid described in JP-A-7-140654. Polymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer / benzylmethacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethylmethacrylate / polystyrene macromonomer / methylmethacrylate / methacrylic acid copolymer, or 2 -Hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer and the like are also preferable.

酸基を有する樹脂は、下記一般式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。 The resin having an acid group includes a compound represented by the following general formula (ED1) and / or a compound represented by the following general formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer"). It is also preferable to include a polymer obtained by polymerizing the containing monomer components.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

一般式（ＥＤ１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。In the general formula (ED1), R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子又は炭素数１〜３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。 In the general formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), the description of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-168539 can be referred to.

エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。 As a specific example of the ether dimer, for example, paragraph number 0317 of JP2013-29760A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification. The ether dimer may be only one kind or two or more kinds.

酸基を有する樹脂は、下記一般式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。 The resin having an acid group may contain a repeating unit derived from the compound represented by the following general formula (X).

Figure 0006913167
Figure 0006913167

一般式（Ｘ）において、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２〜１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは１〜１５の整数を表す。In the general formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a benzene ring having 1 to 1 carbon atoms. Represents 20 alkyl groups. n represents an integer of 1 to 15.

酸基を有する樹脂としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０５５８〜０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５〜０７００）の記載、及び、特開２０１２−１９８４０８号公報の段落番号００７６〜００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。 Examples of the resin having an acid group include the description in paragraphs 0558 to 0571 of JP2012-208494A (paragraph numbers 0685-0700 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099) and JP2012. The description in paragraphs 0076 to 0999 of JP-A-198408 can be taken into consideration, and these contents are incorporated in the present specification.

樹脂は、硬化性基を有していてもよい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、及び、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、及び、トリアルコキシシリル基が挙げられる。なお、硬化性基を有する樹脂は、硬化性化合物でもある。
また、樹脂は、重合性基を有していてもよい。重合性基としては、上述した特定化合物が有し得る重合性基が挙げられる。The resin may have a curable group. Examples of the curable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, a methylol group, an alkoxysilyl group and the like. Examples of the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and the like. Examples of the alkoxysilyl group include a monoalkoxysilyl group, a dialkoxysilyl group, and a trialkoxysilyl group. The resin having a curable group is also a curable compound.
Moreover, the resin may have a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include a polymerizable group that the above-mentioned specific compound may have.

硬化性基を含む樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有 ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４及びＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれも株式会社ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、並びに、アクリキュアＲＤ−Ｆ８（日本触媒株式会社製）等が挙げられる。 As the resin containing a curable group, Daicel NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic acidomer, Daicel Shamlock Co., Ltd.), Viscort R-264 and KS resist 106 (all). Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Cyclomer P series (for example, ACA230AA), Praxel CF200 series (all manufactured by Daicel Co., Ltd.), Ebeclyl3800 (manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.), and Acrycure RD-F8 (Nippon Catalyst) (Made by Co., Ltd.), etc.

樹脂としては、マープルーフＧ−０１５０Ｍ、Ｇ−０１０５ＳＡ、Ｇ−０１３０ＳＰ、Ｇ−０２５０ＳＰ、Ｇ−１００５Ｓ、Ｇ−１００５ＳＡ、Ｇ−１０１０Ｓ、Ｇ−２０５０Ｍ、Ｇ−０１１００、及び、Ｇ−０１７５８（日油株式会社製、エポキシ基含有ポリマー）、並びに、ＡＲＴＯＮ Ｆ４５２０（ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。 As the resin, Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, and G-01758 (NOF) Epoxy group-containing polymer manufactured by JSR Corporation), ARTON F4520 (manufactured by JSR Corporation), and the like.

上記組成物において、樹脂の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜９９．９質量％であるのが好ましい。下限は、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が更に好ましい。上限は、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。
樹脂として、上記高屈折率樹脂を用いる場合、樹脂として高屈折率樹脂のみを用いてもよく、高屈折率樹脂と近赤外線に対する屈折率が１．７未満の樹脂を併用してもよい。また、樹脂全量中における高屈折率樹脂の含有量は、１〜１００質量％であるのが好ましく、１０〜１００質量％であるのがより好ましい。
樹脂は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。In the above composition, the content of the resin is preferably 0.1 to 99.9% by mass with respect to the total solid content in the composition. The lower limit is more preferably 1% by mass or more, further preferably 2% by mass or more. The upper limit is more preferably 50% by mass or less, further preferably 30% by mass or less.
When the above high refractive index resin is used as the resin, only the high refractive index resin may be used as the resin, or the high refractive index resin and the resin having a refractive index with respect to near infrared rays of less than 1.7 may be used in combination. The content of the high-refractive index resin in the total amount of the resin is preferably 1 to 100% by mass, more preferably 10 to 100% by mass.
One type of resin may be used alone, or two or more types may be used in combination.

（硬化性化合物）
上記組成物は、硬化性化合物を含むことが好ましい。
硬化性化合物としては、ラジカル、酸、又は、熱により硬化可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、及び、メチロール基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、及び、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。硬化性化合物は、重合性化合物であるのが好ましく、ラジカル重合性化合物であるのがより好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物等が挙げられる。(Curable compound)
The composition preferably contains a curable compound.
As the curable compound, a known compound that can be cured by radicals, acids, or heat can be used. For example, a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond, a compound having an epoxy group, a compound having a methylol group, and the like can be mentioned. Examples of the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, and the like, and include a (meth) acryloyl group or a (meth) group. Acryloyloxy groups are preferred. The curable compound is preferably a polymerizable compound, more preferably a radically polymerizable compound. Examples of the polymerizable compound include compounds having a group having an ethylenically unsaturated bond.

硬化性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
硬化性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、硬化性化合物を２種以上含む場合、合計含有量が上記範囲となることが好ましい。The content of the curable compound is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content in the composition. The lower limit is more preferably 3% by mass or more, further preferably 5% by mass or more. The upper limit is more preferably 70% by mass or less, further preferably 60% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less.
The curable compound may be used alone or in combination of two or more. When the composition contains two or more curable compounds, the total content is preferably in the above range.

・エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物）
硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、重合性化合物ともいう）を用いることができる。重合性化合物は、モノマーであるのが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００〜３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物は、２〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であるのが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であるのがより好ましい。-Compounds having a group having an ethylenically unsaturated bond (polymerizable compound)
As the curable compound, a compound having a group having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter, also referred to as a polymerizable compound) can be used. The polymerizable compound is preferably a monomer. The molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 3000. The upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less. The lower limit is more preferably 150 or more, and even more preferably 250 or more. The polymerizable compound is preferably a (meth) acrylate compound having 2 to 15 functionalities, and more preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functionalities.

重合性化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業株式会社製）、及び、これらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００３４〜００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ−４６０；東亞合成株式会社製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＭＴ）、又は、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。 As an example of the polymerizable compound, the description in paragraphs 0033 to 0034 of JP2013-253224A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification. Examples of the polymerizable compound include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330; Nippon Kayaku Co., Ltd.), Dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available KAYARAD D-320; Nippon Kayaku Co., Ltd.), Dipentaerythritol penta (meth) acrylate (commercially available KAYARAD D-310; Nippon Kayaku Co., Ltd.), Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available, KAYARAD DPHA; Nihon Kayaku Co., Ltd., A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and these A structure in which the (meth) acryloyl group of the above is bonded via an ethylene glycol residue and / or a propylene glycol residue is preferable. Also, these oligomer types can be used. Further, the description of paragraphs 0034 to 0038 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification. In addition, the polymerizable monomers described in paragraph No. 0477 of JP2012-208494A (paragraph No. 0585 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099) are mentioned, and the contents thereof are described in the present specification. Incorporated in. In addition, diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate (commercially available M-460; manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., A-TMMT), or 1 , 6-Hexanediol diacrylate (KAYARAD HDDA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is also preferable. These oligomer types can also be used. For example, RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、及び、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル等が挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基をもたせた重合性化合物が好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである重合性化合物がより好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、及び、Ｍ−５２０等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。 The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. Examples of the polymerizable compound having an acid group include an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid. A polymerizable compound obtained by reacting an unreacted hydroxyl group of an aliphatic polyhydroxy compound with a non-aromatic carboxylic acid anhydride to have an acid group is preferable, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or A polymerizable compound which is dipentaerythritol is more preferable. Examples of commercially available products include M-305, M-510, and M-520 of the Aronix series as polybasic acid-modified acrylic oligomers manufactured by Toagosei Co., Ltd. The acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably 0.1 to 40 mgKOH / g. The lower limit is more preferably 5 mgKOH / g or more. The upper limit is more preferably 30 mgKOH / g or less.

重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及び、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落番号００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬株式会社からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及び、ＤＰＣＡ−１２０等、並びに、サートマー社製から市販されているエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、及び、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０等が挙げられる。 It is also a preferred embodiment that the polymerizable compound is a compound having a caprolactone structure. The polymerizable compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, and is, for example, trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, and dipenta. Ε-caprolactone-modified polyfunctional (meth) obtained by esterifying polyhydric alcohols such as erythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, and trimethylolmelamine with (meth) acrylic acid and ε-caprolactone. Acrylate can be mentioned. As the polymerizable compound having a caprolactone structure, the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification. Compounds having a caprolactone structure are, for example, commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, etc., and commercially available from Sartmer. Examples thereof include SR-494, which is a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains.

重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号公報、特開昭５１−３７１９３号公報、特公平２−３２２９３号公報、及び、特公平２−１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類、並びに、特公昭５８−４９８６０号公報、特公昭５６−１７６５４号公報、特公昭６２−３９４１７号公報、及び、特公昭６２−３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３−２７７６５３号公報、特開昭６３−２６０９０９号公報、及び、特開平１−１０５２３８号公報に記載されている、分子内にアミノ構造及び／又はスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０及びＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００（新中村化学工業株式会社製）、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬株式会社製）、並びに、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００、及び、ライトアクリレートＰＯＢ−Ａ（共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。 Examples of the polymerizable compound include urethane acrylates described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-41708, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-37193, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-32293, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-16765. , Urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in Japanese Patent Publication No. 58-49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Is. Further, addition polymerization having an amino structure and / or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Compounds can be used. Commercially available products include urethane oligomers UAS-10 and UAB-140 (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.), UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and UA. Examples thereof include -306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600, and light acrylate POB-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

重合性化合物の好適態様の一つとしては、重合性基を２個以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物が挙げられる。なお、フルオレン骨格とは、フルオレン構造を少なくとも含む骨格であり、フルオレン構造中の芳香環基は、いわゆる単環構造（ベンゼン環）でも、多環構造（多環芳香族環構造）でもよい。 One of the preferred embodiments of the polymerizable compound is a polymerizable compound having two or more polymerizable groups and a fluorene skeleton. The fluorene skeleton is a skeleton containing at least a fluorene structure, and the aromatic ring group in the fluorene structure may be a so-called monocyclic structure (benzene ring) or a polycyclic structure (polycyclic aromatic ring structure).

重合性化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。 The content of the polymerizable compound is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content in the composition. The lower limit is more preferably 3% by mass or more, further preferably 5% by mass or more. The upper limit is more preferably 70% by mass or less, further preferably 60% by mass or less.

・エポキシ基を有する化合物
硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、１分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１分子内に１〜１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。-Compound having an epoxy group As the curable compound, a compound having an epoxy group can also be used. Examples of the compound having an epoxy group include a compound having one or more epoxy groups in one molecule, and a compound having two or more epoxy groups in one molecule is preferable. It is preferable to have 1 to 100 epoxy groups in one molecule. The upper limit may be, for example, 10 or less, or 5 or less. The lower limit is preferably two or more.

エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であるのが好ましく、１００〜４００ｇ／当量であるのがより好ましく、１００〜３００ｇ／当量であるのが更に好ましい。 The compound having an epoxy group preferably has an epoxy equivalent (= molecular weight of the compound having an epoxy group / number of epoxy groups) of 500 g / equivalent or less, more preferably 100 to 400 g / equivalent, and 100 to 300 g. / Equivalent is more preferable.

エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００〜１０００００が好ましく、５００〜５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。 The compound having an epoxy group may be either a small molecule compound (for example, a molecular weight of less than 1000) or a polymer compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more). .. The weight average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000. The upper limit of the weight average molecular weight is more preferably 10,000 or less, further preferably 5000 or less, and particularly preferably 3000 or less.

エポキシ基を有する化合物は、市販品を用いることもできる。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（株式会社ダイセル製）、及びＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３−０１１８６９号公報の段落番号００３４〜００３６、特開２０１４−０４３５５６号公報の段落番号０１４７〜０１５６、及び、特開２０１４−０８９４０８号公報の段落番号００８５〜００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。 As the compound having an epoxy group, a commercially available product can also be used. For example, EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation) and the like can be mentioned. The compounds having an epoxy group include paragraph numbers 0034 to 0036 of JP2013-011869, paragraph numbers 0147 to 0156 of JP2014-043556, and paragraph numbers 0085 of JP2014-089408. The compounds described in ~ 0092 can also be used. These contents are incorporated herein by reference.

エポキシ基を有する化合物の含有量は、組成物中の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。エポキシ基を有する化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、エポキシ基を有する化合物を２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。 The content of the compound having an epoxy group is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content in the composition. The lower limit is more preferably 3% by mass or more, further preferably 5% by mass or more. The upper limit is more preferably 70% by mass or less, further preferably 60% by mass or less. As the compound having an epoxy group, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When the composition contains two or more compounds having an epoxy group, the total amount is preferably in the above range.

（光重合開始剤）
上記組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
特に、上記組成物がラジカル重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択できる。例えば、光重合開始剤は、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。(Photopolymerization initiator)
The composition may contain a polymerization initiator.
In particular, when the composition contains a radically polymerizable compound, it preferably contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, the photopolymerization initiator is preferably a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region. The photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、及び、オキサジアゾール骨格を有する化合物等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、及び、ヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、及び、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましく、オキシム化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物からなる群より選択される化合物がより好ましい。得られる膜の耐熱性がより優れる点で、中でも、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４−１３０１７３号公報の段落番号００６５〜０１１１の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。 Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton and compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, and oxime. Examples thereof include oxime compounds such as derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketooxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenone. From the viewpoint of exposure sensitivity, the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, or a triarylimidazole. A compound selected from the group consisting of a dimer, an onium compound, a benzothiazole compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a cyclopentadiene-benzene-iron complex, a halomethyloxaziazole compound, and a 3-aryl substituted coumarin compound is preferable, and an oxime is preferable. A compound selected from the group consisting of a compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, and an acylphosphine compound is more preferable. Among them, the oxime compound is more preferable in that the heat resistance of the obtained film is more excellent. As the photopolymerization initiator, the description in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

光重合開始剤としては、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。例えば、特開平１０−２９１９６９号公報に記載のα−アミノケトン化合物、及び、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物も用いることができる。α−ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ−１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−２９５９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。α−アミノケトン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、及び、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、並びに、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２−１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）等が挙げられる。 As the photopolymerization initiator, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, and an acylphosphine compound can also be preferably used. For example, the α-aminoketone compound described in JP-A-10-291969 and the acylphosphine compound described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used. Examples of commercially available α-hydroxyketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, and IRGACURE-127 (all manufactured by BASF). Examples of commercially available α-aminoketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (all manufactured by BASF). Examples of commercially available acylphosphine compounds include commercially available IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all manufactured by BASF). Commercially available oxime compounds include IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, IRGACURE-OXE04 (above, manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Joshu Powerful Electronics New Materials Co., Ltd.), and ADEKA CORPORATION. Light described in Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation), ADEKA Arkuru's NCI-930 (manufactured by ADEKA Corporation), and ADEKA PUTMER N-1919 (manufactured by ADEKA Corporation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-14052). Examples thereof include a polymerization initiator 2).

光重合開始剤としてフルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４−１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。 An oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator. Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein by reference.

光重合開始剤としてフッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、及び、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）等が挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。 An oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator. Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include the compounds described in JP-A-2010-262028, the compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. (C-3) and the like described in the above. These contents are incorporated herein by reference.

光重合開始剤としてニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落番号００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落番号０００８〜００１２及び００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７〜００２５に記載されている化合物、並びに、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。 An oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator. The oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer. Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008-0012 and 0070-0079 of JP2014-137466. Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, and ADEKA ARKULS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).

本発明の組成物において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。 Specific examples of the oxime compound preferably used in the composition of the present invention are shown below.

Figure 0006913167
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Figure 0006913167
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オキシム化合物は、３５０〜５００ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物が好ましく、３６０〜４８０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であるのが好ましく、２，０００〜３００，０００であるのがより好ましく、５，０００〜２００，０００であるのが更に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。The oxime compound is preferably a compound having an absorption maximum in the wavelength region of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having an absorption maximum in the wavelength region of 360 to 480 nm. Further, the oxime compound is preferably a compound having high absorbance at 365 nm and 405 nm.
From the viewpoint of sensitivity, the molar extinction coefficient of the oxime compound at 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and 5,000 to 200, It is more preferably 000.
The molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with an ultraviolet-visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).

光重合開始剤は、オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα−アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α−アミノケトン化合物を５０〜６００質量部含むことが好ましく、１５０〜４００質量部がより好ましい。 The photopolymerization initiator also preferably contains an oxime compound and an α-aminoketone compound. By using both in combination, the developability is improved and it is easy to form a pattern having excellent rectangularity. When the oxime compound and the α-aminoketone compound are used in combination, the α-aminoketone compound is preferably contained in an amount of 50 to 600 parts by mass, more preferably 150 to 400 parts by mass, based on 100 parts by mass of the oxime compound.

光重合開始剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が更に好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
光重合開始剤の含有量が上記範囲の場合、感度により優れ、かつ、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。上記組成物は、光重合開始剤を１種単独で用いても、２種以上併用してもよい。上記組成物が、光重合開始剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, still more preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content in the composition. 1 to 10% by mass is particularly preferable.
When the content of the photopolymerization initiator is in the above range, it is easy to form a pattern having excellent sensitivity and rectangularity. In the above composition, one type of photopolymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination. When the composition contains two or more kinds of photopolymerization initiators, the total content thereof is preferably in the above range.

（酸化防止剤）
上記組成物は、酸化防止剤を含んでもよい。
酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、及び、チオエーテル化合物等が挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物、又は、分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。これらは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができ、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置及び構造の異なる３種類（ヒンダードタイプ、セミヒンダードタイプ、及び、レスヒンダードタイプ）がある。また、酸化防止剤としては、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物が好ましく用いられる。また、酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤も好ましく用いられる。酸化防止剤は市販品を用いることもできる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ ＡＯ−２０、アデカスタブ ＡＯ−３０、アデカスタブ ＡＯ−４０、アデカスタブ ＡＯ−５０、アデカスタブ ＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ−６０、アデカスタブ ＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ−８０、及び、アデカスタブ ＡＯ−３３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、酸化防止剤としては、特開２０１４−０３２３８０号公報の段落番号００３３〜００４３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。(Antioxidant)
The composition may contain an antioxidant.
Examples of the antioxidant include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. As the antioxidant, a phenol compound having a molecular weight of 500 or more, a phosphite ester compound having a molecular weight of 500 or more, or a thioether compound having a molecular weight of 500 or more is preferable. These may be used alone or in combination of two or more. As the phenol compound, any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used, and a polysubstituted phenolic compound is preferable. Polysubstituted phenolic compounds are roughly classified into three types (hindered type, semi-hindered type, and less hindered type) having different substitution positions and structures. Further, as the antioxidant, a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is preferably used. Further, as the antioxidant, a phosphorus-based antioxidant is also preferably used. Commercially available products can also be used as the antioxidant. Commercially available products of antioxidants include, for example, ADEKA STAB AO-20, ADEKA STAB AO-30, ADEKA STAB AO-40, ADEKA STAB AO-50, ADEKA STAB AO-50F, ADEKA STAB AO-60, ADEKA STAB AO-60G, and ADEKA STAB AO-80. , And ADEKA STAB AO-330 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like. Further, as the antioxidant, the description in paragraphs 0033 to 0043 of JP-A-2014-032380 can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.

酸化防止剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．３〜１５質量％がより好ましい。酸化防止剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、酸化防止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。 The content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content in the composition. One type of antioxidant may be used alone, or two or more types may be used in combination. When the composition contains two or more kinds of antioxidants, the total content thereof is preferably in the above range.

（シランカップリング剤）
上記組成物は、シランカップリング剤を含んでもよい。
本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、及びアシルオキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用若しくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、及び、フェニル基等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、又は、エポキシ基が好ましい。(Silane coupling agent)
The composition may contain a silane coupling agent.
As used herein, the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups. The hydrolyzable group refers to a substituent that is directly linked to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group. Further, as the functional group other than the hydrolyzable group, a group that exhibits an affinity by forming an interaction or a bond with the resin is preferable. Examples thereof include a vinyl group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group, an isocyanate group, a phenyl group and the like. Alternatively, an epoxy group is preferable.

シランカップリング剤の具体例としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。また、シランカップリング剤としては、特開２００９−２８８７０３号公報の段落番号００１８〜００３６に記載の化合物、及び、特開２００９−２４２６０４号公報の段落番号００５６〜００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は市販品を用いることもできる。シランカップリング剤の市販品としては、信越シリコーン株式会社製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、ＫＲ−５１７、Ｘ−４０−９２９６、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、及び、Ｘ−４０−９２３８等が挙げられる。 Specific examples of the silane coupling agent include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and the like. Examples of the silane coupling agent include the compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703 and the compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604. These contents are incorporated herein by reference. Commercially available products can also be used as the silane coupling agent. Commercially available silane coupling agents include KBM-13, KBM-22, KBM-103, KBE-13, KBE-22, KBE-103, KBM-3033, KBE-3033, KBM-, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 3063, KBM-3066, KBM-3086, KBE-3063, KBE-3083, KBM-3103, KBM-3066, KBM-7103, SZ-31, KPN-3504, KBM-1003, KBE-1003, KBM-303, KBM-402, KBM-403, KBE-402, KBE-403, KBM-1403, KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KBM-602, KBM-603, KBM- 903, KBE-903, KBE-9103, KBM-573, KBM-575, KBM-9569, KBE-585, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007, X-40-1053, X- 41-1059A, X-41-1056, X-41-1805, X-41-1818, X-41-1810, X-40-2651, X-40-2655A, KR-513, KC-89S, KR- 500, KR-516, KR-517, X-40-9296, X-40-9225, X-40-9246, X-40-9250, KR-401N, X-40-9227, X-40-9247, Examples thereof include KR-510, KR-9218, KR-213, X-40-2308, and X-40-9238.

シランカップリング剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１５．０質量％が好ましく、０．０５〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、シランカップリング剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。 The content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass, based on the total solid content in the composition. The silane coupling agent may be used alone or in combination of two or more. When the composition contains two or more kinds of silane coupling agents, the total content thereof is preferably in the above range.

（重合禁止剤）
上記組成物は、重合禁止剤を含んでもよい。
重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、並びに、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、及び、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。(Polymerization inhibitor)
The composition may contain a polymerization inhibitor.
Polymerization inhibitors are hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2 , 2'-Methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, primary cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferable. The polymerization inhibitor may also function as an antioxidant.

重合禁止剤の含有量は、光重合開始剤１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜８質量部がより好ましく、０．０１〜５質量部が更に好ましい。重合禁止剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、重合禁止剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。 The content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.01 to 8 parts by mass, still more preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerization initiator. .. The polymerization inhibitor may be used alone or in combination of two or more. When the composition contains two or more types of polymerization inhibitors, the total content thereof is preferably in the above range.

（界面活性剤）
上記組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び、シリコーン系界面活性剤等の各種界面活性剤を使用できる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。(Surfactant)
The composition may contain various surfactants from the viewpoint of further improving the coatability.
As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used. For surfactants, paragraph numbers 0238 to 0245 of WO2015 / 166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein by reference.

本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含ませることで、塗布液として調製した場合の液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性及び省液性をより改善することができる。フッ素系界面活性剤を含む組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。 By including the fluorine-based surfactant in the composition of the present invention, the liquid characteristics (particularly, fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved, and the uniformity of the coating thickness and the liquid saving property are further improved. be able to. When a film is formed using a coating liquid to which a composition containing a fluorine-based surfactant is applied, the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid is reduced, and the wettability to the surface to be coated is improved. The applicability to the surface to be coated is improved. Therefore, it is possible to more preferably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有量は、３〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、７〜２５質量％が更に好ましい。フッ素含有量がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性及び省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。 The fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, still more preferably 7 to 25% by mass. A fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid saving property, and has good solubility in the composition.

フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落番号００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、及び、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落番号０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム株式会社製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、及び、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子株式会社製）、並びに、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及び、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。 Specific examples of the fluorine-based surfactant include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-41318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding international publication 2014/17669) and the like. , The surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP2011-132503, the contents of which are incorporated herein by reference. Examples of commercially available fluorine-based surfactants include Megafuck F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, and F475. F479, F482, F554, and F780 (manufactured by DIC Corporation), Florard FC430, FC431, and FC171 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Surfron S-382, SC-101. , SC-103, SC-104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, S393, KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), and PolyFox. Examples thereof include PF636, PF656, PF6320, PF6520, and PF7002 (all manufactured by OMNOVA).

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。 Further, the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group having a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group having a fluorine atom is cleaved when heat is applied and the fluorine atom volatilizes can also be preferably used. .. Examples of such fluorine-based surfactants include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016), for example, Megafuck DS-. 21 can be mentioned.

フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明の組成物で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。 As the fluorine-based surfactant, a block polymer can also be used. For example, the compounds described in JP-A-2011-89090 can be mentioned. The fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups or propyleneoxy groups) (meth). A fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used. The following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactant used in the composition of the present invention.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。 The weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3,000 to 50,000, for example 14,000. In the above compounds,% indicating the ratio of the repeating unit is mass%.

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落番号００５０〜００９０及び段落番号０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、及び、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落番号００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。 Further, as the fluorine-based surfactant, a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain can also be used. As specific examples, the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP2010-164965, for example, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, And RS-72-K and the like. As the fluorine-based surfactant, the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP2015-117327A can also be used.

ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、並びに、それらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、及び、グリセロールエトキシレート等）等が挙げられる。また、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、及び、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、及び、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、及び、ＮＣＷ−１００２（和光純薬工業株式会社製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、及び、Ｄ−６３１５（竹本油脂株式会社製）、並びに、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、及び、４４０（日信化学工業株式会社製）等も挙げられる。 Examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate and glycerol ethoxylate). In addition, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, pluronic L10. , L31, L61, L62, 10R5, 17R2, and 25R2 (manufactured by BASF), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, and 150R1 (manufactured by BASF), Solsparse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) ), NCW-101, NCW-1001, and NCW-1002 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Pionin D-6112, D-6112-W, and D-6315 (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), and , Orphine E1010, Surfinol 104, 400, 440 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

また、フッ素系界面活性剤は、ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤を用いることもできる。ビニルエーテル重合型フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１６−２１６６０２号公報の実施例欄に記載されたもの（例えば、フッ素系界面活性剤（１））等が挙げられる。 Further, as the fluorine-based surfactant, a vinyl ether polymerized fluorine-based surfactant can also be used. Examples of the vinyl ether polymerized fluorine-based surfactant include those described in the Example column of JP-A-2016-216602 (for example, fluorine-based surfactant (1)).

界面活性剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．００１〜５．０質量％が好ましく、０．００５〜３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、界面活性剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。 The content of the surfactant is preferably 0.001 to 5.0% by mass, more preferably 0.005 to 3.0% by mass, based on the total solid content in the composition. As the surfactant, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When the composition contains two or more types of surfactants, the total content thereof is preferably in the above range.

（紫外線吸収剤）
上記組成物は、紫外線吸収剤を含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、及び、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物等が挙げられる。これらの詳細については、特開２０１２−２０８３７４号公報の段落番号００５２〜００７２、及び、特開２０１３−６８８１４号公報の段落番号０３１７〜０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ−５０３（大東化学株式会社製）等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。また、紫外線吸収剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。上記組成物が、紫外線吸収剤を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となることが好ましい。(UV absorber)
The composition may contain an ultraviolet absorber.
Examples of the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds and the like. For details thereof, the description of paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A and paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-68814A can be referred to, and these contents are incorporated in the present specification. Is done. Examples of commercially available conjugated diene compounds include UV-503 (manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.) and the like. Further, as the benzotriazole compound, the MYUA series manufactured by Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. (The Chemical Daily, February 1, 2016) may be used.
The content of the ultraviolet absorber is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, still more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content in the composition. .. Further, the ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. When the composition contains two or more types of ultraviolet absorbers, the total content thereof is preferably in the above range.

（充填材）
充填材としては、例えば無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色、又は、透明な無機粒子が好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、又は、マグネシウム（Ｍｇ）等の酸化物粒子が好ましく、二酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）粒子、又は、二酸化珪素（ＳｉＯ２）粒子がより好ましい。
無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜８０ｎｍがより好ましく、１〜５０ｎｍが更に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性がより優れると共に、屈折率及び透過率がより向上する。
無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５〜２．７０が好ましく、１．９０〜２．７０がより好ましい。
無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０〜４００ｍ２／ｇが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇがより好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇが更に好ましい。
また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、及び、不定形状等が挙げられる。
無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物としては、例えば、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤、及び、チタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、ステアリン酸又はシランカップリング剤が好ましい。
また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、及び、ジルコニア等の酸化物により覆われていることも好ましい。
無機粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
無機粒子は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。(Filler)
Examples of the filler include inorganic particles. The inorganic particles preferably have a high refractive index and are colorless, white, or transparent, and are preferably titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), silicon (Si), zinc (Zn), or Oxide particles such as magnesium (Mg) are preferable, and titanium dioxide (TiO 2 ) particles, zirconium oxide (ZrO 2 ) particles, or silicon dioxide (SiO 2 ) particles are more preferable.
The primary particle size of the inorganic particles is not particularly limited, and is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 80 nm, and even more preferably 1 to 50 nm. When the primary particle size of the inorganic particles is within the above range, the dispersibility is more excellent, and the refractive index and the transmittance are further improved.
The refractive index of the inorganic particles is not particularly limited, but 1.75 to 2.70 is preferable, and 1.90 to 2.70 is more preferable, from the viewpoint of obtaining a high refractive index.
Is not particularly limited specific surface area of the inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, more preferably 30 to 150 m 2 / g.
The shape of the inorganic particles is not particularly limited, and examples thereof include rice granules, spherical shapes, cube shapes, spindle shapes, and indefinite shapes.
The inorganic particles may be surface-treated with an organic compound. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, stearic acid or a silane coupling agent is preferable.
Further, it is also preferable that the surface of the inorganic particles is covered with an oxide such as aluminum, silicon, and zirconia from the viewpoint of further improving the weather resistance.
As the inorganic particles, commercially available particles can be preferably used.
As the inorganic particles, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

（硬化促進剤）
上記組成物が、硬化性化合物として、カチオン重合性基を含む化合物（例えば、エポキシ基を有する化合物）を含む場合、組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。
硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、及び、変性アミン等）、酸（スルホン酸、リン酸、及び、カルボン酸等）、及び、ポリメルカプタン等が挙げられる。中でも、酸無水物が好ましく、脂肪族酸無水物がより好ましい。(Curing accelerator)
When the composition contains a compound containing a cationically polymerizable group (for example, a compound having an epoxy group) as the curable compound, the composition preferably contains a curing accelerator.
Examples of the curing accelerator for improving the curing rate include acid anhydrides, bases (aliphatic amines, aromatic amines, modified amines, etc.), acids (sulfonic acid, phosphoric acid, carboxylic acid, etc.), and poly. Examples include mercaptan. Of these, acid anhydrides are preferred, and aliphatic acid anhydrides are more preferred.

組成物は上述した成分以外の成分を更に含んでいてもよい。
また、組成物が不純物を含んでいることも考えられる。上記不純物としては、例えば、ハロゲン化物イオン、及び、金属成分等が挙げられる。
上記ハロゲン化物イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、及び、ヨウ化物イオンが挙げられる。組成物中のハロゲン化物イオンの含有量は、組成物の全質量に対して、各ハロゲン化物イオンがそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍが好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましく、０〜１００質量ｐｐｍが更に好ましい。
上記金属成分は、例えば金属イオンとして組成物中に存在し、具体的な金属としては、例えば、ナトリウム、カリウム、及び、鉄が挙げられる。組成物中の金属成分の含有量は、組成物の全質量に対して、各金属がそれぞれ独立に、０〜１００００質量ｐｐｍが好ましく、０〜１０００質量ｐｐｍがより好ましい。
なお、これらの不純物の含有量の好適範囲について記載した「０」の値は、測定機器による検出限界未満であることを意図する。The composition may further contain components other than those described above.
It is also possible that the composition contains impurities. Examples of the impurities include halide ions, metal components, and the like.
Examples of the halide ion include fluoride ion, chloride ion, bromide ion, and iodide ion. The content of the halide ion in the composition is preferably 0 to 10000 mass ppm, more preferably 0 to 1000 mass ppm, and 0 to 100, for each halide ion independently of the total mass of the composition. Mass ppm is more preferred.
The metal component is present in the composition as, for example, a metal ion, and specific metals include, for example, sodium, potassium, and iron. The content of the metal component in the composition is preferably 0 to 10000 mass ppm, more preferably 0 to 1000 mass ppm, independently of the total mass of the composition.
The value of "0" described for the preferable range of the content of these impurities is intended to be less than the detection limit by the measuring instrument.

＜組成物の調製方法＞
上記組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解又は分散して組成物を調製してもよい。<Preparation method of composition>
The above composition can be prepared by mixing the above-mentioned components. In preparing the composition, each component may be blended all at once, or each component may be dissolved or dispersed in a solvent and then sequentially blended. For example, the composition may be prepared by simultaneously dissolving or dispersing all the components in a solvent.

上記組成物が粒子を含む場合、組成物の調製方法において、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、及び、キャビテーション等が挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、及び、超音波分散等が挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくすること等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過又は遠心分離等で粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセス及び分散機としては、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」及び「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５−１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用できる。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、及び、処理条件等は、例えば特開２０１５−１９４５２１号公報、及び、特開２０１２−０４６６２９号公報の記載を参酌できる。 When the composition contains particles, it is preferable that the method for preparing the composition includes a process of dispersing the particles. In the process of dispersing particles, the mechanical force used for dispersing the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like. Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high-speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high-pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion. Further, in the pulverization of particles in a sand mill (bead mill), it is preferable to use beads having a small diameter and to process the particles under conditions in which the pulverization efficiency is increased by increasing the filling rate of the beads. Further, it is preferable to remove coarse particles by filtration, centrifugation or the like after the pulverization treatment. In addition, as the process and disperser for dispersing particles, "Dispersion Technology Taizen, published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial Practical application The process and disperser described in Paragraph No. 0022 of JP-A-2015-157893, "Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be preferably used. Further, in the process of dispersing the particles, the particles may be miniaturized in the salt milling step. For the materials, equipment, processing conditions, and the like used in the salt milling step, for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.

上記組成物の調製にあたり、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６及びナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン、及び、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度及び／又は超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜３．０μｍ程度がより好ましく、０．０５〜０．５μｍ程度が更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えば、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、及び、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８等）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２及びＴＰＲ００５等）、及び、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３等）等のフィルタカートリッジが挙げられる。In preparing the above composition, it is preferable to filter the composition with a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects. As the filter, any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation. For example, a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide resin such as nylon (for example, nylon-6 and nylon-6,6), and a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density). And / or a filter using a material such as (including an ultra-high molecular weight polyolefin resin). Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.
The pore size of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 μm, more preferably about 0.01 to 3.0 μm, and even more preferably about 0.05 to 0.5 μm. If the pore size of the filter is within the above range, fine foreign matter can be reliably removed. It is also preferable to use a fibrous filter medium. Examples of the fibrous filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like. Specific examples thereof include filter cartridges such as SBP type series (SBP008 etc.), TPR type series (TPR002 and TPR005 etc.), and SHPX type series (SHPX003 etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.

フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタ等）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ等）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、及び、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。 When using filters, different filters (eg, first filter and second filter, etc.) may be combined. At that time, the filtration with each filter may be performed only once or twice or more. Further, filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range. For the hole diameter here, the nominal value of the filter manufacturer can be referred to. Commercially available filters include, for example, among various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NXEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), and KITZ Microfilter Co., Ltd. You can choose from. As the second filter, one formed of the same material as the first filter can be used. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration with the second filter may be performed.

〔用途〕
本発明の組成物の用途は特に制限されないが、例えば、固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層、及び、隣接層等の透明膜、並びに、カラーフィルタのホワイトピクセル等）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、及び、プリズムレンズ等）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、及び太陽光電池用コーティング材として有用である。[Use]
The use of the composition of the present invention is not particularly limited, but for example, a high-refractive-index member of a solid-state image sensor (microlens, a transparent film such as a base layer of a color filter and an adjacent layer, a white pixel of a color filter, etc.) , Lenses (eyeglass lenses, digital camera lenses, Fresnel lenses, prism lenses, etc.), optical overcoating agents, hard coating agents, antireflection films, optical fibers, optical waveguides, sealing materials for LEDs (Light Emitting Nodes) It is useful as a flattening material for lenses and a coating material for solar cells.

＜膜＞
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。組成物中に硬化性化合物（例えば、重合性化合物）が含まれる場合は、組成物に硬化処理を施すことにより、硬化膜を得ることができる。
上記膜の屈折率は特に制限されないが、１．５５以上であるのが好ましく、１．６〜２．０であるのがより好ましい。
上記膜の光透過率は特に制限されないが、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であるのが好ましく、９５％以上であるのがより好ましく、１００％であるのが更に好ましい。
上記膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましく、０．５〜４μｍであるのが更に好ましい。<Membrane>
The film of the present invention is a film obtained from the composition of the present invention. When the composition contains a curable compound (for example, a polymerizable compound), a cured film can be obtained by subjecting the composition to a curing treatment.
The refractive index of the film is not particularly limited, but is preferably 1.55 or more, and more preferably 1.6 to 2.0.
The light transmittance of the film is not particularly limited, but is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and further preferably 100% over the entire wavelength region of 400 to 700 nm.
The thickness of the film is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm, and even more preferably 0.5 to 4 μm.

本発明の組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱及び露光等が挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、及び、加熱ドラム等を用いることができる。露光に使用する装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、及び、カーボンアーク灯等を用いることができる。 The method for curing the composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include heating and exposure. The device used for heating is not particularly limited, and a blower dryer, an oven, an infrared dryer, a heating drum, and the like can be used. The apparatus used for the exposure is not particularly limited, and a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon (Xe) lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp and the like can be used.

（パターン状硬化膜の製造方法）
以下、硬化膜の製造方法の一例として、パターン状の硬化膜を製造する方法について詳述する。(Manufacturing method of patterned cured film)
Hereinafter, as an example of a method for producing a cured film, a method for producing a patterned cured film will be described in detail.

パターン状の硬化膜の製造方法は、基板上に、上記組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する工程（以下、適宜「組成物層形成工程」と略称する。）と、上記組成物層を、マスクを介して露光する工程（以下、適宜「露光工程」と略称する。）と、露光後の組成物層を現像してパターン状の硬化膜を形成する工程（以下、適宜「現像工程」と略称する。）と、を含む。
なお、上記で使用される組成物には、通常、重合性化合物及び光重合開始剤が含まれる。The method for producing a patterned cured film includes a step of applying the above composition on a substrate to form a composition layer (coating film) (hereinafter, appropriately abbreviated as "composition layer forming step"). A step of exposing the composition layer through a mask (hereinafter, appropriately abbreviated as “exposure step”) and a step of developing the exposed composition layer to form a patterned cured film (hereinafter, hereinafter, As appropriate, it is abbreviated as "development process").
The composition used above usually contains a polymerizable compound and a photopolymerization initiator.

具体的には、本発明の組成物を、直接又は他の層を介して基板上に塗布して、組成物層を形成し（組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された組成物層部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像することによって（現像工程）、パターン状の硬化膜を形成することができる。
以下、各工程について説明する。Specifically, the composition of the present invention is applied directly or via another layer onto a substrate to form a composition layer (composition layer forming step), and the composition is exposed through a predetermined mask pattern. A patterned cured film can be formed by curing only the light-irradiated composition layer portion (exposure step) and developing with a developing solution (development step).
Hereinafter, each step will be described.

・組成物層形成工程
組成物層形成工程では、基板上に、本発明の組成物を塗布して組成物層（塗布膜）を形成する。-Composition layer forming step In the composition layer forming step, the composition of the present invention is applied onto a substrate to form a composition layer (coating film).

基板としては特に限定されず、例えば、液晶表示装置等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス、及び、これらに透明導電膜を付着させたもの、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板（例えば、シリコン基板等）、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）基板、並びに、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）基板等が挙げられる。 The substrate is not particularly limited, and for example, non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass used for liquid crystal display devices, etc., those to which a transparent conductive film is attached, and a solid-state image sensor. Examples thereof include a photoelectric conversion element substrate (for example, a silicon substrate), a CCD (Charge Coupled Device) substrate, and a CMOS (Complementary Metal Oxide Sensor) substrate used for the above.

基板上への本発明の組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、又は、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。 As a method for applying the composition of the present invention onto a substrate, various coating methods such as slit coating, inkjet method, rotary coating, cast coating, roll coating, and screen printing method can be applied.

組成物の塗布膜厚としては、用途により適宜選択され得るが、例えば、０．１〜２０μｍであり、０．１〜１０μｍがより好ましく、０．５〜４μｍが更に好ましい。 The coating film thickness of the composition can be appropriately selected depending on the intended use, but is, for example, 0.1 to 20 μm, more preferably 0.1 to 10 μm, still more preferably 0.5 to 4 μm.

基板上に塗布された組成物は、通常、７０〜１１０℃で２〜４分程度の条件下で乾燥する。これにより、組成物層を形成できる。 The composition applied on the substrate is usually dried at 70 to 110 ° C. under the condition of about 2 to 4 minutes. Thereby, the composition layer can be formed.

・露光工程
露光工程では、組成物層形成工程において形成された組成物層（塗布膜）を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は、活性光線又は放射線の照射により行うことが好ましく、特に、ｇ線、ｈ線、又は、ｉ線等の紫外線がより好ましい。照射強度は５〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。-Exposure step In the exposure step, the composition layer (coating film) formed in the composition layer forming step is exposed through a mask, and only the light-irradiated coating film portion is cured.
The exposure is preferably carried out by irradiation with active rays or radiation, and in particular, ultraviolet rays such as g-rays, h-rays, and i-rays are more preferable. The irradiation intensity is preferably 5~1500mJ / cm 2, 10~1000mJ / cm 2 is more preferable.

・現像工程
露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分（光照射された塗布膜部分）だけが残る。
現像液としては、下地の回路等にダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０〜３０℃であり、現像時間は２０〜９０秒である。-Development process Following the exposure process, an alkaline development process (development process) is performed to elute the unirradiated portion of the light in the exposure process into an alkaline aqueous solution. As a result, only the photocured portion (light-irradiated coating film portion) remains.
As the developer, an organic alkaline developer that does not damage the underlying circuit or the like is desirable. The developing temperature is usually 20 to 30 ° C., and the developing time is 20 to 90 seconds.

アルカリ性の水溶液としては、例えば、無機系現像液及び有機系現像液が挙げられる。無機系現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、又は、メタ硅酸ナトリウムを、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。有機系現像液としては、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、又は、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール又はエタノール等の水溶性有機溶剤、及び／又は、界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。 Examples of the alkaline aqueous solution include an inorganic developer and an organic developer. As the inorganic developer, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, or sodium metasilicate has a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to. An alkaline aqueous solution dissolved so as to be 1% by mass can be mentioned. Examples of the organic developer include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrol, piperidine, or 1,8-diazabicyclo- [5.4. .0] Examples thereof include an alkaline aqueous solution in which an alkaline compound such as -7-undecene is dissolved so as to have a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol and / or a surfactant can be added to the alkaline aqueous solution. When a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed (rinsed) with pure water after development.

現像方法としては、例えば、パドル現像方法又はシャワー現像方法等を用いることができる。 As the developing method, for example, a paddle developing method, a shower developing method, or the like can be used.

＜レンズ＞
本発明の膜（好ましくは硬化膜）は、レンズとして使用することもできる。レンズとしては、中でも、固体撮像素子のマイクロレンズに好適に用いることができる。<Lens>
The film of the present invention (preferably a cured film) can also be used as a lens. As the lens, among others, it can be suitably used for a microlens of a solid-state image sensor.

＜固体撮像素子＞
本発明の膜（好ましくは硬化膜）及び本発明のレンズは、固体撮像素子に好適に適用できる。
本発明の固体撮像素子の構成としては、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ又はＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有すると共に、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成等が挙げられる。<Solid image sensor>
The film of the present invention (preferably a cured film) and the lens of the present invention can be suitably applied to a solid-state image sensor.
As a configuration of the solid-state image sensor of the present invention, for example, a light-receiving element composed of a plurality of photodiodes and polysilicon that constitutes a light-receiving area of the solid-state image sensor (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) is provided on a substrate. At the same time, a configuration in which an undercoat film, which is the film of the present invention, is provided under the color filter can be mentioned.

＜化合物＞
本発明は、化合物の発明も含む。本発明の化合物は、上述の一般式（ＩＶ）で表される化合物である。
本発明の化合物は、本発明の組成物において好適に使用できる。<Compound>
The present invention also includes the invention of a compound. The compound of the present invention is a compound represented by the above-mentioned general formula (IV).
The compound of the present invention can be suitably used in the composition of the present invention.

以下、実施例により、本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

〔化合物の合成〕
下記の方法で化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）、及び、比較用化合物（Ｈ−１）を合成した。[Compound synthesis]
Compounds (A-1) to (A-28) and a comparative compound (H-1) were synthesized by the following methods.

＜合成例１：化合物（Ａ−１）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１）を合成した。<Synthesis Example 1: Compound (A-1)>
Compound (A-1) was synthesized according to the synthesis scheme shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

無水ピロメリット酸（２．８ｇ）、及び、高屈折率化合物（ｒ−１）（１０．０ｇ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｇ）に添加し、室温で撹拌した。この混合溶液にジイソプロピルエチルアミン（４．０ｇ）を滴下し、室温で５時間撹拌した。更に、この混合溶液に、１Ｎ塩酸（１００ｍＬ）を滴下し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収された固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１）（１２．０ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１）は、化合物（ｒ−１）の置換位置が異なる異性体を含むものとする。Pyromellitic anhydride (2.8 g) and the high refractive index compound (r-1) (10.0 g) were added to N, N-dimethylacetamide (50 g), and the mixture was stirred at room temperature. Diisopropylethylamine (4.0 g) was added dropwise to this mixed solution, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. Further, 1N hydrochloric acid (100 mL) was added dropwise to this mixed solution to precipitate a solid. Next, the precipitated solid was recovered by filtration. The recovered solid was washed twice with water (100 mL) and air-dried at 40 ° C. to obtain compound (A-1) (12.0 g).
It is assumed that the compound (A-1) contains isomers having different substitution positions of the compound (r-1).

＜合成例２〜１６、２０〜２４：化合物（Ａ−２）〜（Ａ−１６）、（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）＞
合成例１における無水ピロメリット酸、及び、高屈折率化合物（ｒ−１）のかわりに、それぞれ下記化合物の構造に対応する化合物を使用した以外は合成例１と同様にして、化合物（Ａ−２）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）を得た。<Synthesis Examples 2-16, 20-24: Compounds (A-2) to (A-16), (A-20) to (A-24)>
In the same manner as in Synthesis Example 1, the compound (A- 2) to (A-16) and (A-20) to (A-24) were obtained.

以下に、合成例１〜１６によって得られた化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）の構造を示す。 The structures of the compounds (A-1) to (A-16) and (A-20) to (A-24) obtained by Synthesis Examples 1 to 16 are shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

Figure 0006913167
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以下に、化合物（Ａ−１）〜（Ａ−１６）及び（Ａ−２０）〜（Ａ−２４）が有する高屈折率官能基の構造を示す。＊は結合位置を示す。
下記高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ９及びＲ１１〜Ｒ１５の結合位置に水素原子が結合した化合物が高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）及び（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）である。
また、後述する化合物（Ａ−１７）〜（Ａ−１９）及び（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）が有する高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９構造も同様に示す。高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９の結合位置に水素原子が結合した化合物が、後述する高屈折率化合物（ｒ−１０´）及び（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）である。The structures of the high refractive index functional groups of the compounds (A-1) to (A-16) and (A-20) to (A-24) are shown below. * Indicates the bonding position.
Compounds in which a hydrogen atom is bonded to the bonding positions of the following high refractive index functional groups R 1 to R 9 and R 11 to R 15 are high refractive index compounds (r-1) to (r-9) and (r-11) to. (R-15).
Further, the structures of the high refractive index functional groups R 10 and R 16 to R 19 contained in the compounds (A-17) to (A-19) and (A-25) to (A-28) described later are also shown in the same manner. The compounds in which a hydrogen atom is bonded to the bonding positions of the high refractive index functional groups R 10 and R 16 to R 19 are the high refractive index compounds (r-10') and (r-16') to (r-19') described later. ).

Figure 0006913167
Figure 0006913167

Figure 0006913167
Figure 0006913167

＜合成例１７：化合物（Ａ−１７）の合成＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１７）を合成した。<Synthesis Example 17: Synthesis of Compound (A-17)>
Compound (A-17) was synthesized according to the synthesis scheme shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（３．０ｇ）、高屈折率化合物（ｒ−１０）（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（１．０ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１００ｇ）からなる混合溶液を調製し、５０℃で６時間撹拌した。更に、この混合溶液に１Ｎ塩酸（５００ｇ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収された固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１７）（１２．１ｇ）を得た。 Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (3.0 g), high refractive index compound (r-10) (10.0 g), triethylamine (1.0 g), and N, N-dimethylacetamide ( A mixed solution consisting of 100 g) was prepared and stirred at 50 ° C. for 6 hours. Further, 1N hydrochloric acid (500 g) was added to this mixed solution to precipitate a solid. Next, the precipitated solid was recovered by filtration. The recovered solid was washed twice with water (100 mL) and air-dried at 40 ° C. to obtain compound (A-17) (12.1 g).

＜合成例１８：化合物（Ａ−１８）の合成＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１８）を合成した。<Synthesis Example 18: Synthesis of Compound (A-18)>
Compound (A-18) was synthesized according to the synthesis scheme shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（６．０ｇ）、高屈折率化合物（ｒ−１０）（１０．０ｇ）、トリエチルアミン（１．０ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１００ｇ）からなる混合溶液を調製し、５０℃で６時間撹拌した。更に、この混合溶液に１Ｎ塩酸（５００ｇ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収した固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１８）（１４．９ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１８）は、化合物（ｒ−１０）の置換位置が異なる異性体を含む。Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (6.0 g), high refractive index compound (r-10) (10.0 g), triethylamine (1.0 g), and N, N-dimethylacetamide ( A mixed solution consisting of 100 g) was prepared and stirred at 50 ° C. for 6 hours. Further, 1N hydrochloric acid (500 g) was added to this mixed solution to precipitate a solid. Next, the precipitated solid was recovered by filtration. The recovered solid was washed twice with water (100 mL) and air-dried at 40 ° C. to obtain compound (A-18) (14.9 g).
The compound (A-18) contains isomers having different substitution positions of the compound (r-10).

＜合成例１９：化合物（Ａ−１９）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ａ−１９）を合成した。<Synthesis Example 19: Compound (A-19)>
Compound (A-19) was synthesized according to the synthesis scheme shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

化合物（Ａ−１８）（５．０ｇ）、メタクリル酸（３．１ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５０ｇ）からなる混合溶液を窒素気流下で８０℃に加熱した。次に、この混合溶液にアゾビス（イソブチロニトリル）（０．１ｇ）を添加し、２時間、８０℃の温度条件を維持した。更に、混合溶液に、アゾビス（イソブチロニトリル）（０．１ｇ）を添加し、４時間、８０℃の温度条件を維持し、その後、９５℃で２時間加熱した。この混合溶液にメタクリル酸グリシジル（１．７ｇ）、及び、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．１ｇ）を添加し、１２時間、９５℃の温度条件を維持した。混合溶液を室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸（２００ｍＬ）を添加し、固体を析出させた。次に、ろ過により、析出させた固体を回収した。回収した固体を、水（１００ｍＬ）で２回洗浄し、４０℃で送風乾燥することで化合物（Ａ−１９）（６．６ｇ）を得た。
なお、上記化合物（Ａ−１９）は、化合物（ｒ−１０）及びポリマー鎖Ｐの置換位置が異なる異性体を含む。A mixed solution of compound (A-18) (5.0 g), methacrylic acid (3.1 g) and N, N-dimethylacetamide (50 g) was heated to 80 ° C. under a nitrogen stream. Next, azobis (isobutyronitrile) (0.1 g) was added to this mixed solution, and the temperature condition of 80 ° C. was maintained for 2 hours. Further, azobis (isobutyronitrile) (0.1 g) was added to the mixed solution, the temperature condition of 80 ° C. was maintained for 4 hours, and then the mixture was heated at 95 ° C. for 2 hours. Glycidyl methacrylate (1.7 g) and tetrabutylammonium bromide (0.1 g) were added to this mixed solution, and the temperature condition of 95 ° C. was maintained for 12 hours. After cooling the mixture to room temperature, 1N hydrochloric acid (200 mL) was added to precipitate a solid. Next, the precipitated solid was recovered by filtration. The recovered solid was washed twice with water (100 mL) and air-dried at 40 ° C. to obtain compound (A-19) (6.6 g).
The compound (A-19) contains isomers in which the substitution positions of the compound (r-10) and the polymer chain P are different.

＜合成例２５〜２８：化合物（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）＞
化合物（Ａ−１９）における高屈折率官能基が、それぞれＲ１６〜Ｒ１９となるようにして、以下に示す構造の化合物（Ａ−２５）〜（Ａ−２８）を合成した。
なお、合成の際には、高屈折率化合物（ｒ−１０）のかわりに、それぞれ高屈折率官能基Ｒ１６〜Ｒ１９の構造に対応する高屈折率化合物（ｒ−１６）〜（ｒ−１９）を使用した以外は合成例１８及び１９を参考にして合成した。<Synthesis Examples 25 to 28: Compounds (A-25) to (A-28)>
Compounds (A-25) to (A-28) having the structures shown below were synthesized so that the high refractive index functional groups in the compound (A-19) were R 16 to R 19, respectively.
In the synthesis, instead of the high refractive index compound (r-10), the high refractive index compounds (r-16) to (r-) corresponding to the structures of the high refractive index functional groups R 16 to R 19, respectively. Except for the use of 19), synthesis was performed with reference to Synthesis Examples 18 and 19.

［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１６］３ （Ａ−２５）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１７］３ （Ａ−２６）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１８］３ （Ａ−２７）
［Ｐ］３−Ｘ−［Ｒ１９］３ （Ａ−２８）
上記構造式中、Ｘ及びＰは、合成例１９の合成スキーム中に示したＸ及びＰとそれぞれ同様の基である。[P] 3 -X- [R 16 ] 3 (A-25)
[P] 3 -X- [R 17 ] 3 (A-26)
[P] 3 -X- [R 18 ] 3 (A-27)
[P] 3 -X- [R 19 ] 3 (A-28)
In the above structural formula, X and P are the same groups as X and P shown in the synthesis scheme of Synthesis Example 19, respectively.

＜高屈折率官能基の屈折率測定＞
化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が有する高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９の屈折率測定として、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９に相当する、高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）、（ｒ−１０´）、（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）、及び、（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）の屈折率を以下の工程に従って測定した。なお、高屈折率化合物（ｒ−１０´）及び（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）とは、高屈折率官能基Ｒ１０及びＲ１６〜Ｒ１９の結合位置に水素原子が結合した化合物である。他の高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）及び（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）も、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ９及びＲ１１〜Ｒ１５の結合位置にそれぞれ水素原子が結合した化合物である。<Measurement of refractive index of high refractive index functional group>
Compound (A-1) ~ as a refractive index measurements (A-28) high refractive index functional group having the R 1 to R 19, corresponding to a high refractive index functional groups R 1 to R 19, a high refractive index compound (r -1) to (r-9), (r-10'), (r-11) to (r-15), and (r-16') to (r-19') have the following refractive indexes. Measured according to the process. The high-refractive index compounds (r-10') and (r-16') to (r-19') have hydrogen atoms bonded to the bonding positions of the high-refractive index functional groups R 10 and R 16 to R 19. It is a compound. Other high refractive index compounds (r-1) to (r-9) and (r-11) to (r-15) also have high refractive index functional groups R 1 to R 9 and R 11 to R 15 bonding positions. It is a compound in which a hydrogen atom is bonded to each.

工程１：ポリ（メタクリル酸アリル／メタクリル酸）（質量比：９０／１０、Ｍｗ：１５，０００、分散度：２．０）を１０質量％含有する、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液に、高屈折率化合物（ｒ−１）〜（ｒ−９）、（ｒ−１０´）、（ｒ−１１）〜（ｒ−１５）、及び、（ｒ−１６´）〜（ｒ−１９´）をそれぞれ溶解させ、全固形分に対する高屈折率化合物の含有量が３０質量％、５０質量％、又は、７０質量％である溶液をそれぞれ調製した。
工程２：工程１で調製された溶液をガラス基板に塗布し、このガラス基板を１００℃で３分間ベークし、更に、２００℃で３分間ベークして、膜厚が１μｍの塗膜を得た。得られた塗膜を用いて屈折率を測定した。
屈折率の測定においては、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を各塗膜の屈折率とした。
工程３：塗膜中の高屈折率化合物の含有量（含有割合）と、塗膜の屈折率との関係をプロットしてプロット図（横軸：高屈折率化合物の含有割合、縦軸：塗膜の屈折率）を作成し、高屈折率化合物の含有量が仮定的に１００％である場合に想定される塗膜の屈折率を線形近似で求め、その屈折率を、各高屈折率化合物に対応する高屈折率官能基の屈折率とした。Step 1: High in N, N-dimethylacetamide solution containing 10% by mass of poly (allyl methacrylate / methacrylate) (mass ratio: 90/10, Mw: 15,000, dispersibility: 2.0). Refractive coefficient compounds (r-1) to (r-9), (r-10'), (r-11) to (r-15), and (r-16') to (r-19') Each was dissolved to prepare a solution in which the content of the high refractive index compound with respect to the total solid content was 30% by mass, 50% by mass, or 70% by mass, respectively.
Step 2: The solution prepared in Step 1 was applied to a glass substrate, and this glass substrate was baked at 100 ° C. for 3 minutes, and further baked at 200 ° C. for 3 minutes to obtain a coating film having a film thickness of 1 μm. .. The refractive index was measured using the obtained coating film.
In the measurement of the refractive index, J. A. The refractive index at a wavelength of 300 to 1500 nm was measured using VASE manufactured by Woollam, and the value of the refractive index at a wavelength of 589 nm was taken as the refractive index of each coating film.
Step 3: The relationship between the content (content ratio) of the high refractive index compound in the coating film and the refractive index of the coating film is plotted and plotted (horizontal axis: content ratio of high refractive index compound, vertical axis: coating). The refractive index of the film) is prepared, the refractive index of the coating film assumed when the content of the high refractive index compound is assumed to be 100% is obtained by linear approximation, and the refractive index is calculated for each high refractive index compound. The refractive index of the high refractive index functional group corresponding to

以下の表に、高屈折率官能基Ｒ１〜Ｒ１９の屈折率の測定結果を示す。The table below shows the measurement results of the refractive index of the high refractive index functional groups R 1 to R 19.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

＜比較合成例１：化合物（Ｈ−１）＞
以下に示す合成スキームに従って、化合物（Ｈ−１）を合成した。<Comparative Synthesis Example 1: Compound (H-1)>
Compound (H-1) was synthesized according to the synthesis scheme shown below.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

三口フラスコに、シアヌル酸クロリド（１５．０ｇ）及びテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を加えて混合溶液を調製した。混合溶液の入った三口フラスコを、メタノールに氷を加えた氷浴につけた状態で、混合溶液を窒素気流下で撹拌した。上記氷浴を維持したままで、アニリン（８．２ｇ）をテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）に溶解させた溶液を、混合溶液に１．５時間かけて滴下し、更に、２時間撹拌した。混合溶液に、１Ｎ塩酸（２００ｇ）を添加し、混合溶液の内温を０〜５℃に維持しながら１時間撹拌した後、混合溶液中に析出した固体をろ過した。得られた固体を水（１００ｇ）で洗浄し、更に、真空乾燥機を用いて６０℃で２４時間乾燥することで、中間体（ｈ−１）（１７．１ｇ）を得た。
三口フラスコに１，４−ジアミノベンゼン（３．６ｇ）、及び、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（６６ｍＬ）を添加して得た混合液を、１００℃で１０分間撹拌した。この混合液に、中間体（ｈ−１）（８．８ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３３ｍＬ）に溶解させた溶液を添加し、１００℃で３０分間撹拌した。その後、混合液にアニリン（１．６ｍＬ）を添加した。
放冷後の混合液に、炭酸カリウム（１２ｇ）を溶解させた水（６６０ｍＬ）を加えて固体を析出させた。析出した固体をろ過した。得られた固体を水（１００ｍＬ）で洗浄し、更に、エタノール（１００ｍＬ）で洗浄した。更に、洗浄された固体を真空乾燥機を用いて６０℃で２４時間乾燥することで、化合物（Ｈ−１）（８．２ｇ）を得た。得られた化合物（Ｈ−１）の分子量は５，６００であった。Cyanuric chloride (15.0 g) and tetrahydrofuran (200 mL) were added to a three-necked flask to prepare a mixed solution. The three-necked flask containing the mixed solution was immersed in an ice bath in which ice was added to methanol, and the mixed solution was stirred under a nitrogen stream. While maintaining the ice bath, a solution prepared by dissolving aniline (8.2 g) in tetrahydrofuran (60 mL) was added dropwise to the mixed solution over 1.5 hours, and the mixture was further stirred for 2 hours. 1N Hydrochloric acid (200 g) was added to the mixed solution, and the mixture was stirred for 1 hour while maintaining the internal temperature of the mixed solution at 0 to 5 ° C., and then the solid precipitated in the mixed solution was filtered. The obtained solid was washed with water (100 g) and further dried at 60 ° C. for 24 hours using a vacuum dryer to obtain an intermediate (h-1) (17.1 g).
The mixed solution obtained by adding 1,4-diaminobenzene (3.6 g) and N, N-dimethylacetamide (66 mL) to a three-necked flask was stirred at 100 ° C. for 10 minutes. A solution prepared by dissolving the intermediate (h-1) (8.8 g) in N, N-dimethylacetamide (33 mL) was added to this mixed solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 30 minutes. Then, aniline (1.6 mL) was added to the mixed solution.
Water (660 mL) in which potassium carbonate (12 g) was dissolved was added to the mixed solution after allowing to cool, and a solid was precipitated. The precipitated solid was filtered. The obtained solid was washed with water (100 mL) and further with ethanol (100 mL). Further, the washed solid was dried at 60 ° C. for 24 hours using a vacuum dryer to obtain compound (H-1) (8.2 g). The molecular weight of the obtained compound (H-1) was 5,600.

〔組成物の調製〕
得られた化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）及び（Ｈ−１）を用いて、組成物１〜３３、及び、比較組成物を調製した。
得られた組成物１〜３３、及び、比較組成物の配合を下記表２に示す。
なお、表中、「添加量」の欄に記載された数値は質量部を示す。[Preparation of composition]
Compositions 1 to 33 and comparative compositions were prepared using the obtained compounds (A-1) to (A-28) and (H-1).
The formulations of the obtained compositions 1 to 33 and the comparative composition are shown in Table 2 below.
In the table, the numerical value described in the column of "addition amount" indicates a mass part.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

表２中の、化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）及び（Ｈ−１）以外の成分の詳細を以下に示す。 Details of the components other than the compounds (A-1) to (A-28) and (H-1) in Table 2 are shown below.

＜重合性化合物＞ <Polymerizable compound>

Figure 0006913167
Figure 0006913167

＜バインダー（樹脂）＞

Figure 0006913167
<Binder (resin)>
Figure 0006913167

＜光重合開始剤＞ <Photopolymerization initiator>

Figure 0006913167
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＜溶剤＞
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド<Solvent>
DMAc: N, N-dimethylacetamide NEP: N-ethyl-2-pyrrolidone DMF: dimethylformamide

＜界面活性剤＞
メガファックＲ−４０（ＤＩＣ株式会社製）<Surfactant>
Mega Fuck R-40 (manufactured by DIC Corporation)

〔評価〕
得られた組成物を用いて、分光特性、屈折率、段差追従性、耐熱性、現像性、及び、パターン形状の評価を行った。〔evaluation〕
Using the obtained composition, the spectral characteristics, the refractive index, the step followability, the heat resistance, the developability, and the pattern shape were evaluated.

＜分光特性の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、組成物１〜２４、及び、比較組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベーク（加熱）した。次に、得られた塗膜に対して、高圧水銀灯を用いて、積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光を行い、膜厚が１μｍの膜を得た。
上記膜を有するガラス基材の波長３００〜８００ｎｍにおける吸光度を、Ｕ−４１５０（株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。なお、リファレンスとしては膜が形成されていない点以外は、同条件のエポキシ樹脂層を有するガラス基板を用いた。<Evaluation of spectral characteristics>
Compositions 1 to 24 and the comparative composition were spin-coated on a 5 cm × 5 cm glass substrate on which an epoxy resin layer was formed using an epoxy resin (JER-827, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), and the temperature was 100 ° C. Bake (heated) for 3 minutes. Next, the obtained coating film was exposed to an integrated exposure amount of 200 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp to obtain a film having a film thickness of 1 μm.
The absorbance of the glass substrate having the above film at a wavelength of 300 to 800 nm was measured using U-4150 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). As a reference, a glass substrate having an epoxy resin layer under the same conditions was used except that a film was not formed.

分光特性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：最大吸収波長が４５０ｎｍ未満である。
Ｂ：最大吸収波長が４５０ｎｍ以上である。The criteria for evaluating the spectral characteristics are as follows.
A: The maximum absorption wavelength is less than 450 nm.
B: The maximum absorption wavelength is 450 nm or more.

＜屈折率の測定＞
上記分光特性の評価で得られた膜をＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥを用いて、波長３００〜１５００ｎｍの屈折率を測定し、波長５８９ｎｍにおける屈折率の値を求めた。<Measurement of refractive index>
The film obtained by the evaluation of the above spectral characteristics was referred to as J. A. The refractive index at a wavelength of 300 to 1500 nm was measured using VASE manufactured by Woollam, and the value of the refractive index at a wavelength of 589 nm was determined.

屈折率の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：屈折率が１．７０以上である。
Ｂ：屈折率が１．６０以上１．７０未満である。
Ｃ：屈折率が１．６０未満である。The criteria for evaluating the refractive index are as follows.
A: The refractive index is 1.70 or more.
B: The refractive index is 1.60 or more and less than 1.70.
C: The refractive index is less than 1.60.

＜段差追従性の評価＞
シリコンウエハ上に、深さ２μｍ、幅５μｍの溝を、溝の中間間隔が２０μｍとなるように、複数設けた。得られた複数の溝を、模擬凹凸パターンと称する。なお、後段では、溝部が凹部分に、溝部の間が凸部分に該当する。
模擬凹凸パターンのないシリコンウエハ上で膜を形成した場合に膜厚が１μｍとなる塗布条件で、各組成物を、上記模擬凹凸パターンを有するシリコンウエハにスピン塗布した。得られた塗膜について、１００℃で３分間プリベーク処理し、更に、紫外線硬化処理（高圧水銀灯により積算露光量が２００ｍＪ／ｃｍ２となるように露光）を行って硬化させた。得られた膜付きシリコンウエハの凹凸部分について、断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で観察し、凹部分の最も薄い部分の膜厚を測定して、段差追従性の評価を行った。
なお、段差追従性の評価は、目標値である１μｍに対する、目標値である１μｍと凹部分の最も薄い部分の膜厚Ｘμｍとの差の割合を評価した。上記差の割合（％）は、「｜１−Ｘ｜×１００」に該当する。
上記割合が小さいほど、組成物の段差追従性が良好であることを示す。
なお、上記記載中、凹部分の最も薄い部分における膜厚とは、凹部分に形成された膜の、最も膜厚が薄くなっている箇所の膜厚をいう。<Evaluation of step followability>
A plurality of grooves having a depth of 2 μm and a width of 5 μm were provided on the silicon wafer so that the intermediate spacing between the grooves was 20 μm. The obtained plurality of grooves are referred to as a simulated uneven pattern. In the latter stage, the groove portion corresponds to the concave portion, and the space between the groove portions corresponds to the convex portion.
Each composition was spin-coated on a silicon wafer having the simulated uneven pattern under the coating conditions where the film thickness was 1 μm when the film was formed on the silicon wafer without the simulated uneven pattern. The obtained coating film was prebaked at 100 ° C. for 3 minutes, and further subjected to ultraviolet curing treatment (exposure with a high-pressure mercury lamp so that the integrated exposure amount was 200 mJ / cm 2 ) to cure. The cross section of the uneven portion of the obtained silicon wafer with a film was observed by SEM (Scanning Electron Microscope), and the film thickness of the thinnest portion of the concave portion was measured to evaluate the step followability.
In the evaluation of the step followability, the ratio of the difference between the target value of 1 μm and the film thickness of the thinnest portion of the recess was X μm with respect to the target value of 1 μm. The ratio (%) of the above difference corresponds to "| 1-X | x100".
The smaller the ratio, the better the step followability of the composition.
In the above description, the film thickness at the thinnest portion of the concave portion means the film thickness of the film formed at the concave portion at the thinnest portion.

段差追従性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：差の割合が５％未満である。
Ｂ：差の割合が５％以上１０％未満である。
Ｃ：差の割合が１０％以上である。The criteria for evaluating the step followability are as follows.
A: The ratio of difference is less than 5%.
B: The ratio of the difference is 5% or more and less than 10%.
C: The ratio of the difference is 10% or more.

＜耐熱性の評価＞
上記段差追従性の評価で得られた試料を、２６０℃で１０分間加熱し、加熱処理の前後を通した膜の凸部分における膜厚の変化を測定し、その変化率を算出した。変化率が小さいほど、耐熱性が良好であることを示す。<Evaluation of heat resistance>
The sample obtained by the evaluation of the step followability was heated at 260 ° C. for 10 minutes, the change in the film thickness at the convex portion of the film passed before and after the heat treatment was measured, and the rate of change was calculated. The smaller the rate of change, the better the heat resistance.

耐熱性の評価の基準は以下のとおりである。
Ａ：凸部の膜厚の変化率が１％未満である。
Ｂ：凸部の膜厚の変化率が１％以上３％未満である。
Ｃ：凸部の膜厚の変化率が３％以上５％未満である。
Ｄ：凸部の膜厚の変化率が５％以上である。The criteria for evaluating heat resistance are as follows.
A: The rate of change in the film thickness of the convex portion is less than 1%.
B: The rate of change in the film thickness of the convex portion is 1% or more and less than 3%.
C: The rate of change in the film thickness of the convex portion is 3% or more and less than 5%.
D: The rate of change in the film thickness of the convex portion is 5% or more.

以下に、分光特性、屈折率、段差追従性、及び、耐熱性の評価の結果を示す。
なお、下記表中、「Ｒ」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が有する、高屈折率官能基の種類番号を表す。例えば、「Ｒ」の欄に「１」と記載されている化合物は、高屈折率官能基Ｒ１を有する。
「一般式（ＩＩ）」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）における、一般式(ＩＩ)で表される高屈折率官能基の有無を示す。
「−ＮＨ−の数」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）が、一般式(ＩＩ) で表される高屈折率官能基を有している場合において、各基中のＣ１〜Ｃ３に相当する基が−ＮＨ−である数を示す。
「特定化合物の重合性基／チオール基」の欄は、使用した化合物（Ａ−１）〜（Ａ−２８）における、重合性基又はチオール基の有無を示す。各化合物が重合性基を有している場合は「Ｃ＝Ｃ」と記載し、チオール基を有している場合は「ＳＨ」と記載し、いずれも有していない場合は「無」と記載した。
「バインダーの重合性基」の欄は、使用したバインダーにおける重合性基の有無を示す。
「オキシム化合物」の欄は、組成物中のオキシム化合物である光重合開始剤の有無を示す。The results of evaluation of spectral characteristics, refractive index, step followability, and heat resistance are shown below.
In the table below, the column "R" represents the type number of the high refractive index functional group possessed by the compounds (A-1) to (A-28) used. For example, the compounds described as "1" in the column "R", having a high refractive index functional group R 1.
The column of "general formula (II)" indicates the presence or absence of the high refractive index functional group represented by the general formula (II) in the compounds (A-1) to (A-28) used.
The column of "number of -NH-" is used when the compounds (A-1) to (A-28) used have a high refractive index functional group represented by the general formula (II). The number of groups corresponding to C 1 to C 3 in the group is -NH- is shown.
The column of "Polymerizable group / thiol group of specific compound" indicates the presence or absence of a polymerizable group or a thiol group in the compounds (A-1) to (A-28) used. If each compound has a polymerizable group, it is described as "C = C", if it has a thiol group, it is described as "SH", and if it does not have any of them, it is described as "none". Described.
The column of "Polymerizable group of binder" indicates the presence or absence of a polymerizable group in the binder used.
The column of "oxime compound" indicates the presence or absence of a photopolymerization initiator which is an oxime compound in the composition.

Figure 0006913167
Figure 0006913167

表３に示されるように、本発明の組成物は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れることが確認された。
また、本発明の組成物を用いて得られる膜は耐熱性にも優れることが確認された。
なかでも、実施例６及び１０と他の実施例の比較より、高屈折率官能基が、一般式（ＩＩ）で表される基である場合、組成物は、より高い屈折率を有する膜を形成でき、より優れた段差追従性を示した。
また、実施例４、７、及び、８と他の実施例の比較より、一般式（ＩＩ）中のＣ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２つ以上が−ＮＨ−である場合、組成物は、より高い屈折率を有する膜を形成でき、より優れた段差追従性を示した。
実施例５、１１、１３、１４、１８、１９、及び、２５〜３３の結果より、特定化合物が重合性基又はチオール基を有している場合、形成される膜は耐熱性がより優れていた。
実施例２１〜２４の結果より、組成物に使用される光重合開始剤が、オキシム化合物である場合、形成される膜の耐熱性がより優れていた。
バインダーが重合性基を有している場合、形成される膜の耐熱性がより優れていた。As shown in Table 3, it was confirmed that the composition of the present invention can form a film having a high refractive index and is excellent in step followability.
It was also confirmed that the film obtained by using the composition of the present invention has excellent heat resistance.
Among them, as compared with Examples 6 and 10 and other Examples, when the high refractive index functional group is a group represented by the general formula (II), the composition has a film having a higher refractive index. It could be formed and showed better step followability.
Further, from the comparison between Examples 4, 7, and 8 and other Examples, when two or more of C 1 , C 2 , and C 3 in the general formula (II) are -NH-. The composition was able to form a film having a higher refractive index and exhibited better step followability.
From the results of Examples 5, 11, 13, 14, 18, 19, and 25 to 33, when the specific compound has a polymerizable group or a thiol group, the film formed has better heat resistance. rice field.
From the results of Examples 21 to 24, when the photopolymerization initiator used in the composition was an oxime compound, the heat resistance of the formed film was more excellent.
When the binder had a polymerizable group, the heat resistance of the formed film was more excellent.

＜現像性及びパターン形状の評価＞
エポキシ樹脂（ＪＥＲ−８２７、ジャパンエポキシレジン社製）を用いてエポキシ樹脂層を形成した５ｃｍ×５ｃｍのガラス基板上に、組成物１及び２４、ならびに、比較組成物をそれぞれスピン塗布し、１００℃で３分間ベークした。得られた塗膜に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン株式会社製）を用いて、パターンが１μｍのアイランドパターンを有するマスクを通して、３６５ｎｍの波長で、５０〜１２００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で露光した。その後、露光された塗膜を有するガラス基板を、スピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、ケミトロニクス社製）の水平回転テーブル上に載置し、現像液（ＣＤ−２０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行なった。<Evaluation of developability and pattern shape>
Compositions 1 and 24 and the comparative composition were spin-coated on a 5 cm × 5 cm glass substrate on which an epoxy resin layer was formed using an epoxy resin (JER-827, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), and the temperature was 100 ° C. Bake for 3 minutes. The obtained coating film was passed through a mask having an island pattern with a pattern of 1 μm using an i-line stepper exposure device FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) at a wavelength of 365 nm and various values of 50 to 1200 mJ / cm 2. It was exposed with the exposure amount of. After that, the glass substrate having the exposed coating film was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics), and a developer (CD-2000, FUJIFILM Electronics Material) was placed on the horizontal rotary table. Paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds using (manufactured by Z).

上記パドル現像を経て、表面にパターンが形成されたガラス基板を、真空チャック方式によって上記水平回転テーブルに固定した状態にしてから、回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方から純水をシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。 After undergoing the paddle development, the glass substrate having the pattern formed on the surface is fixed to the horizontal rotary table by the vacuum chuck method, and then pure water is applied from above the center of rotation while rotating at a rotation speed of 50 rpm. It was supplied in the form of a shower, rinsed, and then spray-dried.

乾燥されたパターンについて、測長ＳＥＭ（ＣＤ−ＳＥＭ：Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）（Ｓ−９２６０Ａ、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて、パターン形状を評価した。
その結果、組成物１及び組成物２４を用いた場合は、比較組成物を用いた場合よりも、未露光部が良好に現像され、パターンがきれいに形成されることが確認された。
このように、本発明の組成物を用いることで、良好な形状を有するパターンを形成可能であるのが確認された。このような本発明の組成物は、レンズの製造にも好適に使用でき、製造されたレンズは固体撮像素子に使用することも好ましい。For the dried pattern, the pattern shape was evaluated using a length measuring SEM (CD-SEM: Critical Measurement Scanning Electron Microscope) (S-9260A, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
As a result, it was confirmed that when the composition 1 and the composition 24 were used, the unexposed portion was developed better and the pattern was formed more clearly than when the comparative composition was used.
As described above, it was confirmed that a pattern having a good shape can be formed by using the composition of the present invention. Such a composition of the present invention can be suitably used for manufacturing a lens, and the manufactured lens is also preferably used for a solid-state image sensor.

Claims (17)

一般式（Ｖ）で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、
前記一般式（Ｖ）で表される化合物の含有量が、前記組成物中の全固形分に対して、３０質量％以上である、組成物。
（Ａ−Ｚ Ａ ） ｍ −Ｙ−（Ｚ Ｂ −Ｂ） ｎ （Ｖ）
一般式（Ｖ）中、
ｍは、２以上の整数を表す。
ｎは、０以上の整数を表す。
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、１個以上の芳香族炭化水素基のみからなる基、「（芳香族炭化水素基）−（二価の連結基）−（芳香族炭化水素環基）」で表される基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
Ｚ Ａ 及びＺ Ｂ は、それぞれ独立に、単結合、又は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ ２ −、アルキレン基、若しくは、これらの組み合わせからなる基を表す。
なお、複数存在するＺ Ａ は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｚ Ｂ が複数存在する場合、複数存在するＺ Ｂ は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｂは、酸基及び重合性基からなる群から選択される１以上の置換基を有するポリマー鎖、又は、酸基を表す。前記ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖である。前記酸基は、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基からなる群より選択される。
Ａは、式（Ｉ−Ｉ）で表される基である。
式（Ｉ−Ｉ） （Ｑ−Ｌ １ −） ｐ −Ｔ−Ｌ ２ −Ｚ−Ｌ ３ −＊
Ｑは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。
Ｔは、置換基を有していてもよい、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。
ｐは、２を表す。
Ｌ １ 及びＬ ２ は、それぞれ独立に、−ＮＲ Ｎ −、−Ｏ−、−Ｓ−、又は、−ＣＯＮＲ Ｎ −を表す。Ｒ Ｎ は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｌ ３ は、単結合、又は、二価の連結基を表す。
Ｚは、単結合、アリーレン基、又は、二価のヘテロ環基を表す。
＊は、結合位置を表す。
複数のＱ及びＬ １ は、同一でも異なっていてもよい。
また、式（Ｉ−Ｉ）中には、Ｔで表されるベンゼン環基又は単環のヘテロ環基以外に、少なくとも１以上のベンゼン環基又は単環のヘテロ環基が存在する。 A composition containing a compound represented by the general formula (V) and a solvent.
A composition in which the content of the compound represented by the general formula (V) is 30% by mass or more with respect to the total solid content in the composition.
(A-Z A) m -Y- (Z B -B) n (V)
In general formula (V) ,
m represents an integer of 2 or more.
n represents an integer of 0 or more.
Y is an m + n-valent linking group, which is a group consisting of only one or more aromatic hydrocarbon groups, "(aromatic hydrocarbon group)-(divalent linking group)-(aromatic hydrocarbon ring group)". Represents a group represented by, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom.
Z A and Z B each independently represent a single bond or a group consisting of -O-, -S-, -CO-, -NH-, -SO 2- , an alkylene group, or a combination thereof. ..
Incidentally, Z A there are a plurality, may each be the same or different. When there are a plurality of Z Bs , the plurality of Z Bs may be the same or different.
B represents a polymer chain having one or more substituents selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group, or an acid group. The polymer chain is composed of a polymer selected from the group consisting of a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, and a silicone polymer. It is a polymer chain to be used. The acid group consists of a group consisting of a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphoric acid group, a monophosphate ester group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phenolic hydroxyl group, and a boric acid group. Be selected.
A is a group represented by the formula (I-I).
Equation (I-I) (Q-L 1- ) p -TL 2- Z-L 3- *
Q represents an aryl group or a heterocyclic group which may independently have a substituent.
T represents a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group which may have a substituent.
p represents 2.
L 1 and L 2 independently represent -NR N- , -O-, -S-, or -CONR N- , respectively. R N represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
L 3 represents a single bond or a divalent linking group.
Z represents a single bond, an arylene group, or a divalent heterocyclic group.
* Represents the bond position.
The plurality of Q and L 1 may be the same or different.
Further, in the formula (I-I), at least one or more benzene ring groups or monocyclic heterocyclic groups are present in addition to the benzene ring group or monocyclic heterocyclic group represented by T. Ａのうち少なくとも１つが、前記単環のヘテロ環基を有する基である、請求項１に記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein at least one of A is a group having the monocyclic heterocyclic group. Ａのうち少なくとも１つが、トリアジン環基を有する基である、請求項１又は２に記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2, wherein at least one of A is a group having a triazine ring group. Ａのうち少なくとも１つが、一般式（ＩＩ）で表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
Figure 0006913167
一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。＊は結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。 The composition according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of A is a group represented by the general formula (II).
Figure 0006913167
In the general formula (II), C 1 , C 2 , and C 3 independently represent -NR N- , -O-, or -S-, respectively. RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 represents an arylene group or a divalent heterocyclic group. L A represents a single bond or a divalent linking group. * Represents the bond position.
However, one or more of Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 represent a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group. Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち１以上が、−ＮＨ−である、請求項４に記載の組成物。 The composition according to claim 4, wherein one or more of C 1 , C 2 , and C 3 is -NH-. Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３のうち２以上が、−ＮＨ−である、請求項４又は５に記載の組成物。 The composition according to claim 4 or 5, wherein two or more of C 1 , C 2 , and C 3 are -NH-. 前記一般式（Ｖ）で表される化合物が、酸基を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the compound represented by the general formula (V) has an acid group. 前記一般式（Ｖ）で表される化合物が、重合性基を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the compound represented by the general formula (V) has a polymerizable group. 更に、重合性化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 8 , further comprising a polymerizable compound. 更に、光重合開始剤を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 9 , further comprising a photopolymerization initiator. 前記光重合開始剤が、オキシム化合物を含む、請求項１０に記載の組成物。 The composition according to claim 10 , wherein the photopolymerization initiator contains an oxime compound. 更に、重合性基を有する樹脂を含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。 The composition according to any one of claims 1 to 11 , further comprising a resin having a polymerizable group. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物を用いて形成される、膜。 A film formed by using the composition according to any one of claims 1 to 12. 請求項１３に記載の膜からなる、レンズ。 A lens made of the film according to claim 13. 請求項１３に記載の膜、又は、請求項１４に記載のレンズを備える、固体撮像素子。 A solid-state imaging device comprising the film according to claim 13 or the lens according to claim 14. 一般式（ＩＶ）で表される化合物。
（ＡＴ−ＺＡ）ｍ−Ｙ−（ＺＢ−Ｂ）ｎ （ＩＶ）
一般式（ＩＶ）中、
ｍは、３〜２０の整数を表す。
ｎは、０以上の整数を表す。
ＡＴは、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基であって、一般式（ＩＩ）で表される基である。
Ｂは、酸基及び重合性基からなる群から選択される１以上の置換基を有するポリマー鎖、又は、酸基を表す。前記ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖である。前記酸基は、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基からなる群より選択される。
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、１個以上の芳香族炭化水素基のみからなる基、「（芳香族炭化水素基）−（二価の連結基）−（芳香族炭化水素環基）」で表される基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
ＺＡ及びＺＢは、それぞれ独立に、単結合、又は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ ２ −、アルキレン基、若しくは、これらの組み合わせからなる基を表す。
なお、複数存在するＡＴは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺＡは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺＢが複数存在する場合、複数存在するＺＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Figure 0006913167
一般式（ＩＩ）中、Ｃ１、Ｃ２、及び、Ｃ３は、それぞれ独立に、−ＮＲＮ−、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲＮは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。Ａｒ１及びＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ａｒ３は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。ＬＡは、単結合又は二価の連結基を表す。＊は結合位置を表す。
ただし、Ａｒ１、Ａｒ２、及び、Ａｒ３のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。 A compound represented by the general formula (IV).
(A T -Z A) m -Y- (Z B -B) n (IV)
In general formula (IV),
m represents an integer of 3 to 20.
n represents an integer of 0 or more.
AT is a group having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm, and is a group represented by the general formula (II).
B represents a polymer chain having one or more substituents selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group, or an acid group. The polymer chain is composed of a polymer selected from the group consisting of a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, and a silicone polymer. It is a polymer chain to be used. The acid group consists of a group consisting of a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphoric acid group, a monophosphate ester group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phenolic hydroxyl group, and a boric acid group. Be selected.
Y is an m + n-valent linking group, which is a group consisting of only one or more aromatic hydrocarbon groups, "(aromatic hydrocarbon group)-(divalent linking group)-(aromatic hydrocarbon ring group)". Represents a group represented by, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom.
Z A and Z B each independently represent a single bond or a group consisting of -O-, -S-, -CO-, -NH-, -SO 2- , an alkylene group, or a combination thereof. ..
Incidentally, A T there are a plurality, may each be the same or different. When there are a plurality of B's, the plurality of B's may be the same or different. More existing Z A may each be the same or different. When there are a plurality of Z Bs , the plurality of Z Bs may be the same or different.
Figure 0006913167
In the general formula (II), C 1 , C 2 , and C 3 independently represent -NR N- , -O-, or -S-, respectively. RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 represents an arylene group or a divalent heterocyclic group. L A represents a single bond or a divalent linking group. * Represents the bond position.
However, one or more of Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 represent a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group. 一般式（ＩＶ）で表される化合物。A compound represented by the general formula (IV).
（Ａ(A ＴT −Ｚ-Z ＡA ）) ｍm −Ｙ−（Ｚ-Y- (Z ＢB −Ｂ）−B) ｎn （ＩＶ） (IV)
一般式（ＩＶ）中、In general formula (IV),
ｍは、２以上の整数を表す。m represents an integer of 2 or more.
ｎは、０以上の整数を表す。n represents an integer of 0 or more.
ＡA ＴT は、５８９ｎｍにおける屈折率が１．７０以上となる基であって、一般式（ＩＩ）で表される基である。Is a group having a refractive index of 1.70 or more at 589 nm, and is a group represented by the general formula (II).
Ｂは、酸基及び重合性基からなる群から選択される１以上の置換基を有するポリマー鎖、又は、酸基を表す。前記ポリマー鎖は、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、及び、シリコーン系ポリマーからなる群より選択されるポリマーで構成されるポリマー鎖である。前記酸基は、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、フェノール性水酸基、及び、ホウ酸基からなる群より選択される。B represents a polymer chain having one or more substituents selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group, or an acid group. The polymer chain is composed of a polymer selected from the group consisting of a polymer or copolymer of a vinyl monomer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, an amide polymer, an epoxy polymer, and a silicone polymer. It is a polymer chain to be used. The acid group consists of a group consisting of a carboxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a monosulfate ester group, a phosphoric acid group, a monophosphate ester group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phenolic hydroxyl group, and a boric acid group. Be selected.
Ｙは、ｍ＋ｎ価の連結基で、１個以上の芳香族炭化水素基のみからなる基、「（芳香族炭化水素基）−（二価の連結基）−（芳香族炭化水素環基）」で表される基、ヘテロ環基、又は、酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。Y is an m + n-valent linking group, which is a group consisting of only one or more aromatic hydrocarbon groups, "(aromatic hydrocarbon group)-(divalent linking group)-(aromatic hydrocarbon ring group)". Represents a group represented by, a heterocyclic group, or an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom.
ＺZ ＡA は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯIs -O-, -S-, -CO-, -NH-, -SO ２2 −、アルキレン基、又は、これらの組み合わせからなる基を表す。Represents a group consisting of −, an alkylene group, or a combination thereof.
ＺZ ＢB は、単結合、又は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯIs a single bond or -O-, -S-, -CO-, -NH-, -SO ２2 −、アルキレン基、若しくは、これらの組み合わせからなる基を表す。Represents a group consisting of −, an alkylene group, or a combination thereof.
なお、複数存在するＡIn addition, there are multiple A ＴT は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｂが複数存在する場合、複数存在するＢは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。複数存在するＺMay be the same or different. When there are a plurality of B's, the plurality of B's may be the same or different. Multiple Zs ＡA は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ＺMay be the same or different. Z ＢB が複数存在する場合、複数存在するＺIf there are multiple Zs ＢB は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。May be the same or different.
Figure 0006913167
Figure 0006913167
一般式（ＩＩ）中、ＣIn general formula (II), C １1 、Ｃ, C ２2 、及び、Ｃ, And C ３3 は、それぞれ独立に、−ＮＲAre independently -NR ＮN −、−Ｏ−、又は、−Ｓ−を表す。ＲRepresents −, −O−, or −S−. R ＮN は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表す。ＡｒRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Ar １1 及びＡｒAnd Ar ２2 は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アリール基又はヘテロ環基を表す。ＡｒRepresents an aryl group or a heterocyclic group, each of which may independently have a substituent. Ar ３3 は、アリーレン基又は二価のヘテロ環基を表す。ＬRepresents an arylene group or a divalent heterocyclic group. L ＡA は、単結合又は二価の連結基を表す。＊は結合位置を表す。Represents a single bond or a divalent linking group. * Represents the bond position.
ただし、Ａｒ However, Ar １1 、Ａｒ, Ar ２2 、及び、Ａｒ, And Ar ３3 のうち１以上は、ベンゼン環基又は単環のヘテロ環基を表す。One or more of them represent a benzene ring group or a monocyclic heterocyclic group.
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