JP6909920B2 - Information processing device - Google Patents

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Description

本発明は、複数の樹脂層と、複数の樹脂層のうちの任意の層の各々に配設される複数の電子部品と、金属微粒子を含有する金属含有液へのレーザ照射により形成され、複数の電子部品を電気的に接続する複数の配線とにより構成される回路を設計するための情報処理装置に関する。 The present invention is formed by irradiating a plurality of resin layers, a plurality of electronic components arranged in each of the plurality of resin layers, and a metal-containing liquid containing metal fine particles with a laser. The present invention relates to an information processing device for designing a circuit composed of a plurality of wirings that electrically connect the electronic components of the above.

下記特許文献に記載されているように、金属微粒子を含有する金属含有液にレーザを照射することで、金属含有液を焼成して、配線を形成する技術が開発されている。 As described in the following patent documents, a technique has been developed in which a metal-containing liquid containing metal fine particles is irradiated with a laser to bake the metal-containing liquid to form wiring.

特開２００６−５９９４２号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-59942

金属含有液へのレーザ照射により形成される配線を含む回路の適切な形成を担保する。 The proper formation of the circuit including the wiring formed by irradiating the metal-containing liquid with the laser is ensured.

上記課題を解決するために、本明細書は、複数の樹脂層と、前記複数の樹脂層のうちの任意の層の各々に配設される複数の電子部品と、金属微粒子を含有する金属含有液へのレーザ照射により形成され、前記複数の電子部品を電気的に接続する複数の配線とにより構成される回路を設計するための情報処理装置であって、Ｎ層目の樹脂層に配設される配線が設計される際に、前記Ｎ層目より下層の樹脂層に配設される電子部品の位置を、配線形成禁止領域として表示装置に表示させる情報処理装置を開示する。 In order to solve the above problems, the present specification includes a plurality of resin layers, a plurality of electronic components arranged in each of the plurality of resin layers, and a metal containing metal fine particles. An information processing device for designing a circuit formed by irradiating a liquid with a laser and composed of a plurality of wirings for electrically connecting the plurality of electronic components, which is arranged in the Nth resin layer. Disclosed is an information processing device that displays the position of an electronic component arranged in a resin layer below the Nth layer on a display device as a wiring formation prohibited area when the wiring to be processed is designed.

本開示によれば、Ｎ層目の樹脂層に配設される配線が設計される際に、Ｎ層目より下層の樹脂層に配設される電子部品の位置が、配線形成禁止領域として表示装置に表示される。これにより、配線形成時に照射されるレーザを、下層に配設されている電子部品に照射することを防止することが可能となり、適切な回路形成が担保される。 According to the present disclosure, when the wiring arranged in the resin layer of the Nth layer is designed, the position of the electronic component arranged in the resin layer below the Nth layer is displayed as a wiring formation prohibited area. Displayed on the device. As a result, it is possible to prevent the laser irradiated at the time of wiring formation from irradiating the electronic components arranged in the lower layer, and appropriate circuit formation is ensured.

回路形成装置を示す図である。It is a figure which shows the circuit forming apparatus. 制御装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control device. １層目の樹脂積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the resin laminated body of the 1st layer. １層目の樹脂積層体に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the electronic component is attached to the resin laminate of the 1st layer. １層目の樹脂積層体において、キャビティと電子部品との間に樹脂積層体が形成された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the resin laminate is formed between the cavity and the electronic component in the resin laminate of the 1st layer. １層目の樹脂積層体に配線が形成された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the wiring is formed in the resin laminated body of the 1st layer. １層目の樹脂積層体において、配線と電子部品とが導電性紫外線硬化樹脂により結線された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the wiring and the electronic component are connected with the conductive ultraviolet curable resin in the resin laminated body of the 1st layer. １層目の樹脂積層体の上に２層目の樹脂積層体が積層された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the 2nd layer resin laminated body is laminated on the 1st layer resin laminated body. ２層目の樹脂積層体に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the electronic component is attached to the resin laminated body of the 2nd layer. ２層目の樹脂積層体において、配線と電子部品とが導電性紫外線硬化樹脂により結線された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the wiring and the electronic component are connected with the conductive ultraviolet curable resin in the resin laminated body of the 2nd layer. ２層目の樹脂積層体の上に３層目の樹脂積層体が積層された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the 3rd layer resin laminated body is laminated on the 2nd layer resin laminated body. ３層目の樹脂積層体に電子部品が装着された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the electronic component is attached to the resin laminate of the 3rd layer. ３層目の樹脂積層体において、配線と電子部品とが導電性紫外線硬化樹脂により結線された状態の回路を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the circuit in the state which the wiring and the electronic component are connected with the conductive ultraviolet curable resin in the resin laminated body of the 3rd layer. 従来の手法により配置設計された３層目の配線を概略的に示す図である。It is a figure which shows schematic the wiring of the 3rd layer which was arranged and designed by the conventional method. 設計プログラムの処理によりディスプレイに表示される１層目設計画面を示す図である。It is a figure which shows the 1st layer design screen which is displayed on the display by the processing of a design program. 設計プログラムの処理によりディスプレイに表示される２層目設計画面を示す図である。It is a figure which shows the 2nd layer design screen which is displayed on the display by the processing of a design program. 設計プログラムの処理によりディスプレイに表示される３層目設計画面を示す図である。It is a figure which shows the 3rd layer design screen which is displayed on the display by the processing of a design program.

図１に回路形成装置１０を示す。回路形成装置１０は、搬送装置２０と、第１造形ユニット２２と、第２造形ユニット２４と、装着ユニット２６と、制御装置（図２参照）２７を備える。それら搬送装置２０と第１造形ユニット２２と第２造形ユニット２４と装着ユニット２６とは、回路形成装置１０のベース２８の上に配置されている。ベース２８は、概して長方形状をなしており、以下の説明では、ベース２８の長手方向をＸ軸方向、ベース２８の短手方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の両方に直交する方向をＺ軸方向と称して説明する。 FIG. 1 shows the circuit forming apparatus 10. The circuit forming device 10 includes a transport device 20, a first modeling unit 22, a second modeling unit 24, a mounting unit 26, and a control device (see FIG. 2) 27. The transfer device 20, the first modeling unit 22, the second modeling unit 24, and the mounting unit 26 are arranged on the base 28 of the circuit forming device 10. The base 28 has a generally rectangular shape, and in the following description, the longitudinal direction of the base 28 is orthogonal to the X-axis direction, and the lateral direction of the base 28 is orthogonal to both the Y-axis direction, the X-axis direction, and the Y-axis direction. The direction will be described as the Z-axis direction.

搬送装置２０は、Ｘ軸スライド機構３０と、Ｙ軸スライド機構３２とを備えている。そのＸ軸スライド機構３０は、Ｘ軸スライドレール３４とＸ軸スライダ３６とを有している。Ｘ軸スライドレール３４は、Ｘ軸方向に延びるように、ベース２８の上に配設されている。Ｘ軸スライダ３６は、Ｘ軸スライドレール３４によって、Ｘ軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、Ｘ軸スライド機構３０は、電磁モータ（図２参照）３８を有しており、電磁モータ３８の駆動により、Ｘ軸スライダ３６がＸ軸方向の任意の位置に移動する。また、Ｙ軸スライド機構３２は、Ｙ軸スライドレール５０とステージ５２とを有している。Ｙ軸スライドレール５０は、Ｙ軸方向に延びるように、ベース２８の上に配設されており、Ｘ軸方向に移動可能とされている。そして、Ｙ軸スライドレール５０の一端部が、Ｘ軸スライダ３６に連結されている。そのＹ軸スライドレール５０には、ステージ５２が、Ｙ軸方向にスライド可能に保持されている。さらに、Ｙ軸スライド機構３２は、電磁モータ（図２参照）５６を有しており、電磁モータ５６の駆動により、ステージ５２がＹ軸方向の任意の位置に移動する。これにより、ステージ５２は、Ｘ軸スライド機構３０及びＹ軸スライド機構３２の駆動により、ベース２８上の任意の位置に移動する。 The transport device 20 includes an X-axis slide mechanism 30 and a Y-axis slide mechanism 32. The X-axis slide mechanism 30 has an X-axis slide rail 34 and an X-axis slider 36. The X-axis slide rail 34 is arranged on the base 28 so as to extend in the X-axis direction. The X-axis slider 36 is slidably held in the X-axis direction by the X-axis slide rail 34. Further, the X-axis slide mechanism 30 has an electromagnetic motor (see FIG. 2) 38, and the X-axis slider 36 moves to an arbitrary position in the X-axis direction by driving the electromagnetic motor 38. Further, the Y-axis slide mechanism 32 has a Y-axis slide rail 50 and a stage 52. The Y-axis slide rail 50 is arranged on the base 28 so as to extend in the Y-axis direction, and is movable in the X-axis direction. Then, one end of the Y-axis slide rail 50 is connected to the X-axis slider 36. The stage 52 is slidably held in the Y-axis slide rail 50 in the Y-axis direction. Further, the Y-axis slide mechanism 32 has an electromagnetic motor (see FIG. 2) 56, and the stage 52 moves to an arbitrary position in the Y-axis direction by driving the electromagnetic motor 56. As a result, the stage 52 moves to an arbitrary position on the base 28 by driving the X-axis slide mechanism 30 and the Y-axis slide mechanism 32.

ステージ５２は、基台６０と、保持装置６２と、昇降装置６４とを有している。基台６０は、平板状に形成され、上面に基板が載置される。保持装置６２は、基台６０のＸ軸方向の両側部に設けられている。そして、基台６０に載置された基板のＸ軸方向の両縁部が、保持装置６２によって挟まれることで、基板が固定的に保持される。また、昇降装置６４は、基台６０の下方に配設されており、基台６０を昇降させる。 The stage 52 has a base 60, a holding device 62, and an elevating device 64. The base 60 is formed in a flat plate shape, and a substrate is placed on the upper surface thereof. The holding devices 62 are provided on both sides of the base 60 in the X-axis direction. Then, both edges of the substrate mounted on the base 60 in the X-axis direction are sandwiched by the holding device 62, so that the substrate is fixedly held. Further, the elevating device 64 is arranged below the base 60 and raises and lowers the base 60.

第１造形ユニット２２は、ステージ５２の基台６０に載置された基板（図３参照）７０の上に配線を造形するユニットであり、第１印刷部７２と、焼成部７４とを有している。第１印刷部７２は、インクジェットヘッド（図２参照）７６を有しており、基台６０に載置された基板７０の上に、金属インクを線状に吐出する。金属インクは、金属の微粒子が溶剤中に分散されたものである。なお、インクジェットヘッド７６は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式によって複数のノズルから金属インクを吐出する。 The first modeling unit 22 is a unit for modeling wiring on a substrate (see FIG. 3) 70 mounted on a base 60 of a stage 52, and has a first printing unit 72 and a firing unit 74. ing. The first printing unit 72 has an inkjet head (see FIG. 2) 76, and linearly ejects metal ink onto the substrate 70 mounted on the base 60. Metal ink is a metal ink in which fine particles of metal are dispersed in a solvent. The inkjet head 76 ejects metal ink from a plurality of nozzles by, for example, a piezo method using a piezoelectric element.

焼成部７４は、レーザ照射装置（図２参照）７８を有している。レーザ照射装置７８は、基板７０の上に吐出された金属インクにレーザを照射する装置であり、レーザが照射された金属インクは焼成し、配線が形成される。なお、金属インクの焼成とは、エネルギーを付与することによって、溶媒の気化や金属微粒子保護膜の分解等が行われ、金属微粒子が接触または融着をすることで、導電率が高くなる現象である。そして、金属インクが焼成することで、金属製の配線が形成される。 The firing unit 74 has a laser irradiation device (see FIG. 2) 78. The laser irradiation device 78 is a device that irradiates the metal ink ejected on the substrate 70 with a laser, and the metal ink irradiated with the laser is fired to form wiring. In addition, firing of metal ink is a phenomenon in which the solvent is vaporized and the metal fine particle protective film is decomposed by applying energy, and the metal fine particles are brought into contact with each other or fused to increase the conductivity. be. Then, the metal ink is fired to form a metal wiring.

また、第２造形ユニット２４は、ステージ５２の基台６０に載置された基板７０の上に樹脂層を造形するユニットであり、第２印刷部８４と、吐出部８５と、硬化部８６とを有している。第２印刷部８４は、インクジェットヘッド（図２参照）８８を有しており、基台６０に載置された基板７０の上に紫外線硬化樹脂を吐出する。紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射により硬化する樹脂である。なお、インクジェットヘッド８８は、例えば、圧電素子を用いたピエゾ方式でもよく、樹脂を加熱して気泡を発生させ複数のノズルから吐出するサーマル方式でもよい。 The second modeling unit 24 is a unit that forms a resin layer on a substrate 70 mounted on a base 60 of a stage 52, and includes a second printing unit 84, a discharge unit 85, and a curing unit 86. have. The second printing unit 84 has an inkjet head (see FIG. 2) 88, and discharges the ultraviolet curable resin onto the substrate 70 mounted on the base 60. The ultraviolet curable resin is a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays. The inkjet head 88 may be, for example, a piezo method using a piezoelectric element, or a thermal method in which a resin is heated to generate bubbles and discharged from a plurality of nozzles.

吐出部８５は、ディスペンスヘッド（図２参照）８９を有しており、基台６０に載置された基板７０の上に導電性紫外線硬化樹脂を吐出する。導電性紫外線硬化樹脂は、紫外線の照射により硬化する樹脂に、金属微粒子が分散されたものである。そして、紫外線の照射により樹脂が硬化し、収縮することで、金属微粒子が密着し、導電性紫外線硬化樹脂が導電性を発揮する。なお、導電性紫外線硬化樹脂の粘度は、金属インクと比較して、比較的高いため、ディスペンスヘッド８９は、インクジェットヘッド７６のノズルの径より大きな径の１個のノズルから導電性紫外線硬化樹脂を吐出する。なお、ディスペンスヘッド８９は、例えば、スタンプにてペースト転写する転写ヘッドでもよく、導電性紫外線硬化樹脂は、例えば、導電性熱硬化性樹脂でもよい。 The discharge unit 85 has a dispense head (see FIG. 2) 89, and discharges the conductive ultraviolet curable resin onto the substrate 70 mounted on the base 60. The conductive ultraviolet curable resin is a resin in which metal fine particles are dispersed in a resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays. Then, the resin is cured and shrunk by irradiation with ultraviolet rays, so that the metal fine particles are in close contact with each other, and the conductive ultraviolet curable resin exhibits conductivity. Since the viscosity of the conductive ultraviolet curable resin is relatively high as compared with the metal ink, the dispense head 89 uses the conductive ultraviolet curable resin from one nozzle having a diameter larger than the diameter of the nozzle of the inkjet head 76. Discharge. The dispense head 89 may be, for example, a transfer head for paste transfer with a stamp, and the conductive ultraviolet curable resin may be, for example, a conductive thermosetting resin.

硬化部８６は、平坦化装置（図２参照）９０と照射装置（図２参照）９２とを有している。平坦化装置９０は、インクジェットヘッド８８によって基板７０の上に吐出された紫外線硬化樹脂の上面を平坦化するものであり、例えば、紫外線硬化樹脂の表面を均しながら余剰分の樹脂を、ローラもしくはブレードによって掻き取ることで、紫外線硬化樹脂の厚みを均一させる。また、照射装置９２は、光源として水銀ランプもしくはＬＥＤを備えており、基板７０の上に吐出された紫外線硬化樹脂、若しくは、導電性紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、基板７０の上に吐出された紫外線硬化樹脂が硬化し、樹脂層が形成され、基板７０の上に吐出された導電性紫外線硬化樹脂が硬化し、配線が形成される。 The curing portion 86 includes a flattening device (see FIG. 2) 90 and an irradiation device (see FIG. 2) 92. The flattening device 90 flattens the upper surface of the ultraviolet curable resin ejected onto the substrate 70 by the inkjet head 88. For example, the surplus resin is applied by a roller or a roller while leveling the surface of the ultraviolet curable resin. By scraping with a blade, the thickness of the UV curable resin is made uniform. Further, the irradiation device 92 includes a mercury lamp or an LED as a light source, and irradiates the ultraviolet curable resin or the conductive ultraviolet curable resin discharged on the substrate 70 with ultraviolet rays. As a result, the ultraviolet curable resin discharged onto the substrate 70 is cured to form a resin layer, and the conductive ultraviolet curable resin discharged onto the substrate 70 is cured to form wiring.

また、装着ユニット２６は、ステージ５２の基台６０に載置された基板７０の上に電子部品（図４参照）９６を装着するユニットであり、供給部１００と、装着部１０２とを有している。供給部１００は、テーピング化された電子部品９６を１つずつ送り出すテープフィーダ（図２参照）１１０を複数有しており、供給位置において、電子部品９６を供給する。なお、供給部１００は、テープフィーダ１１０に限らず、トレイから電子部品９６をピックアップして供給するトレイ型の供給装置でもよい。また、供給部１００は、テープ型とトレイ型との両方、あるいはそれ以外の供給装置を備えた構成でもよい。 The mounting unit 26 is a unit for mounting an electronic component (see FIG. 4) 96 on a substrate 70 mounted on a base 60 of a stage 52, and has a supply unit 100 and a mounting unit 102. ing. The supply unit 100 has a plurality of tape feeders (see FIG. 2) 110 that send out the taped electronic components 96 one by one, and supplies the electronic components 96 at the supply position. The supply unit 100 is not limited to the tape feeder 110, and may be a tray-type supply device that picks up and supplies the electronic component 96 from the tray. Further, the supply unit 100 may be configured to include both a tape type and a tray type, or other supply devices.

装着部１０２は、装着ヘッド（図２参照）１１２と、移動装置（図２参照）１１４とを有している。装着ヘッド１１２は、電子部品９６を吸着保持するための吸着ノズル（図４参照）１１８を有する。吸着ノズル１１８は、正負圧供給装置（図示省略）から負圧が供給されることで、エアの吸引により電子部品９６を吸着保持する。そして、正負圧供給装置から僅かな正圧が供給されることで、電子部品９６を離脱する。また、移動装置１１４は、テープフィーダ１１０による電子部品９６の供給位置と、基台６０に載置された基板７０との間で、装着ヘッド１１２を移動させる。これにより、装着部１０２では、テープフィーダ１１０から供給された電子部品９６が、吸着ノズル１１８により保持され、その吸着ノズル１１８によって保持された電子部品９６が、基板７０に装着される。 The mounting unit 102 has a mounting head (see FIG. 2) 112 and a moving device (see FIG. 2) 114. The mounting head 112 has a suction nozzle (see FIG. 4) 118 for sucking and holding the electronic component 96. The suction nozzle 118 sucks and holds the electronic component 96 by sucking air by supplying negative pressure from a positive / negative pressure supply device (not shown). Then, when a slight positive pressure is supplied from the positive / negative pressure supply device, the electronic component 96 is separated. Further, the moving device 114 moves the mounting head 112 between the supply position of the electronic component 96 by the tape feeder 110 and the substrate 70 mounted on the base 60. As a result, in the mounting portion 102, the electronic component 96 supplied from the tape feeder 110 is held by the suction nozzle 118, and the electronic component 96 held by the suction nozzle 118 is mounted on the substrate 70.

また、制御装置２７は、図２に示すように、コントローラ１２０と、複数の駆動回路１２２とを備えている。複数の駆動回路１２２は、上記電磁モータ３８，５６、保持装置６２、昇降装置６４、インクジェットヘッド７６、レーザ照射装置７８、インクジェットヘッド８８、ディスペンスヘッド８９、平坦化装置９０、照射装置９２、テープフィーダ１１０、装着ヘッド１１２、移動装置１１４に接続されている。コントローラ１２０は、ＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭ等を備え、コンピュータを主体とするものであり、複数の駆動回路１２２に接続されている。これにより、搬送装置２０、第１造形ユニット２２、第２造形ユニット２４、装着ユニット２６の作動が、コントローラ１２０によって制御される。 Further, as shown in FIG. 2, the control device 27 includes a controller 120 and a plurality of drive circuits 122. The plurality of drive circuits 122 include the electromagnetic motors 38 and 56, a holding device 62, an elevating device 64, an inkjet head 76, a laser irradiation device 78, an inkjet head 88, a dispense head 89, a flattening device 90, an irradiation device 92, and a tape feeder. It is connected to 110, a mounting head 112, and a moving device 114. The controller 120 includes a CPU, ROM, RAM, etc., and is mainly a computer, and is connected to a plurality of drive circuits 122. As a result, the operation of the transfer device 20, the first modeling unit 22, the second modeling unit 24, and the mounting unit 26 is controlled by the controller 120.

回路形成装置１０では、上述した構成によって、基板７０上に電子部品９６が装着され、配線が形成されることで、回路が形成される。具体的には、ステージ５２の基台６０に基板７０がセットされ、そのステージ５２が、第２造形ユニット２４の下方に移動される。そして、第２造形ユニット２４において、図３に示すように、基板７０の上に樹脂積層体１３０が形成される。樹脂積層体１３０は、電子部品９６を装着するためのキャビティ１３２を有しており、インクジェットヘッド８８からの紫外線硬化樹脂の吐出と、吐出された紫外線硬化樹脂への照射装置９２による紫外線の照射とが繰り返されることにより形成される。 In the circuit forming apparatus 10, a circuit is formed by mounting the electronic component 96 on the substrate 70 and forming wiring according to the above-described configuration. Specifically, the substrate 70 is set on the base 60 of the stage 52, and the stage 52 is moved below the second modeling unit 24. Then, in the second modeling unit 24, as shown in FIG. 3, the resin laminate 130 is formed on the substrate 70. The resin laminate 130 has a cavity 132 for mounting the electronic component 96, and ejects the ultraviolet curable resin from the inkjet head 88 and irradiates the discharged ultraviolet curable resin with ultraviolet rays by the irradiation device 92. Is formed by repeating.

詳しくは、第２造形ユニット２４の第２印刷部８４において、インクジェットヘッド８８が、基板７０の上面に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。この際、インクジェットヘッド８８は、基板７０の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、紫外線硬化樹脂を吐出する。続いて、紫外線硬化樹脂が薄膜状に吐出されると、硬化部８６において、紫外線硬化樹脂の膜厚が均一となるように、紫外線硬化樹脂が平坦化装置９０によって平坦化される。そして、照射装置９２が、その薄膜状の紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する。これにより、基板７０の上に薄膜状の樹脂層１３３が形成される。 Specifically, in the second printing unit 84 of the second modeling unit 24, the inkjet head 88 ejects the ultraviolet curable resin into a thin film on the upper surface of the substrate 70. At this time, the inkjet head 88 discharges the ultraviolet curable resin so that a predetermined portion on the upper surface of the substrate 70 is generally exposed in a rectangular shape. Subsequently, when the ultraviolet curable resin is discharged in the form of a thin film, the ultraviolet curable resin is flattened by the flattening device 90 so that the film thickness of the ultraviolet curable resin becomes uniform in the cured portion 86. Then, the irradiation device 92 irradiates the thin film ultraviolet curable resin with ultraviolet rays. As a result, a thin-film resin layer 133 is formed on the substrate 70.

続いて、インクジェットヘッド８８が、その薄膜状の樹脂層１３３の上の部分にのみ紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。つまり、インクジェットヘッド８８は、基板７０の上面の所定の部分が概して矩形に露出するように、薄膜状の樹脂層１３３の上に紫外線硬化樹脂を薄膜状に吐出する。そして、平坦化装置９０によって薄膜状の紫外線硬化樹脂が平坦化され、照射装置９２が、その薄膜状に吐出された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することで、薄膜状の樹脂層１３３の上に薄膜状の樹脂層１３３が積層される。このように、基板７０の上面の概して矩形の部分を除いた薄膜状の樹脂層１３３の上への紫外線硬化樹脂の吐出と、紫外線の照射とが繰り返され、複数の樹脂層１３３が積層されることで、キャビティ１３２を有する樹脂積層体１３０が形成される。 Subsequently, the inkjet head 88 ejects the ultraviolet curable resin into a thin film only on the upper portion of the thin film resin layer 133. That is, the inkjet head 88 ejects the ultraviolet curable resin into a thin film on the thin film resin layer 133 so that a predetermined portion on the upper surface of the substrate 70 is generally exposed in a rectangular shape. Then, the thin-film ultraviolet-curable resin is flattened by the flattening device 90, and the irradiation device 92 irradiates the ultraviolet-curable resin discharged in the thin-film form with ultraviolet rays, thereby forming the thin-film ultraviolet-curable resin on the thin-film resin layer 133. The thin-film resin layer 133 is laminated. In this way, the ejection of the ultraviolet curable resin onto the thin film-shaped resin layer 133 excluding the generally rectangular portion on the upper surface of the substrate 70 and the irradiation of ultraviolet rays are repeated, and the plurality of resin layers 133 are laminated. As a result, the resin laminate 130 having the cavity 132 is formed.

上述した手順により樹脂積層体１３０が形成されると、ステージ５２が装着ユニット２６の下方に移動される。装着ユニット２６では、テープフィーダ１１０により電子部品９６が供給され、その電子部品９６が装着ヘッド１１２の吸着ノズル１１８によって、保持される。そして、装着ヘッド１１２が、移動装置１１４によって移動され、吸着ノズル１１８により保持された電子部品９６が、図４に示すように、樹脂積層体１３０のキャビティ１３２の内部に装着される。なお、樹脂積層体１３０の高さ寸法と、電子部品９６の高さ寸法とは略同じとされている。 When the resin laminate 130 is formed by the procedure described above, the stage 52 is moved below the mounting unit 26. In the mounting unit 26, the electronic component 96 is supplied by the tape feeder 110, and the electronic component 96 is held by the suction nozzle 118 of the mounting head 112. Then, the mounting head 112 is moved by the moving device 114, and the electronic component 96 held by the suction nozzle 118 is mounted inside the cavity 132 of the resin laminate 130 as shown in FIG. The height dimension of the resin laminate 130 and the height dimension of the electronic component 96 are substantially the same.

電子部品９６がキャビティ１３２の内部に装着されると、ステージ５２が第２造形ユニット２４の下方に移動され、図５に示すように、キャビティ１３２の隙間、つまり、キャビティ１３２を区画する内壁面と電子部品９６との間に、樹脂積層体１５０が形成される。なお、樹脂積層体１５０は、樹脂積層体１３０と同様に、インクジェットヘッド８８による紫外線硬化樹脂の吐出と、照射装置９２による紫外線の照射とが繰り返されることで、形成される。また、樹脂積層体１５０の高さ寸法は、樹脂積層体１３０および電子部品９６の高さ寸法と略同じとされている。これにより、樹脂積層体１３０の上面と樹脂積層体１５０の上面と電子部品９６の上面とは、面一とされる。 When the electronic component 96 is mounted inside the cavity 132, the stage 52 is moved below the second modeling unit 24, and as shown in FIG. 5, the gap between the cavities 132, that is, the inner wall surface that partitions the cavity 132. A resin laminate 150 is formed between the electronic component 96 and the electronic component 96. The resin laminate 150 is formed by repeating the ejection of the ultraviolet curable resin by the inkjet head 88 and the irradiation of ultraviolet rays by the irradiation device 92, similarly to the resin laminate 130. Further, the height dimension of the resin laminate 150 is substantially the same as the height dimension of the resin laminate 130 and the electronic component 96. As a result, the upper surface of the resin laminate 130, the upper surface of the resin laminate 150, and the upper surface of the electronic component 96 are flush with each other.

次に、キャビティ１３２の隙間に樹脂積層体１５０が形成されると、ステージ５２は第１造形ユニット２２の下方に移動される。そして、第１印刷部７２において、インクジェットヘッド７６によって、金属インクが樹脂積層体１３０，１５０の上に、回路パターンに応じて線状に吐出される。そして、金属インクへのレーザ照射によって金属インクを焼成させ、電子部品９６を電気的に接続するための配線が形成される。 Next, when the resin laminate 150 is formed in the gap of the cavity 132, the stage 52 is moved below the first modeling unit 22. Then, in the first printing unit 72, the metal ink is linearly ejected onto the resin laminates 130 and 150 by the inkjet head 76 according to the circuit pattern. Then, the metal ink is fired by irradiating the metal ink with a laser, and wiring for electrically connecting the electronic component 96 is formed.

ただし、電子部品９６へのレーザ照射を防止するべく、金属インクは、電子部品９６の上に吐出されないように、電子部品９６の近傍まで線状に吐出される。これは、電子部品９６へのレーザ照射による電子部品９６の損傷を防止するためである。また、電子部品９６に照射されたレーザが電子部品９６に吸収され、電子部品９６の上に吐出された金属インクが適切に焼成せずに、結線不良が生じる虞があるためである。そして、金属インクが電子部品９６の近傍まで吐出されると、焼成部７４において、レーザ照射装置７８によって金属インクにレーザが照射される。これにより、金属インクが焼成し、図６に示すように、電子部品９６の近傍まで延び出す配線１６６ａ，ｂが形成される。 However, in order to prevent the laser irradiation of the electronic component 96, the metal ink is linearly ejected to the vicinity of the electronic component 96 so as not to be ejected onto the electronic component 96. This is to prevent damage to the electronic component 96 due to laser irradiation on the electronic component 96. Further, the laser irradiated to the electronic component 96 is absorbed by the electronic component 96, and the metal ink ejected on the electronic component 96 may not be properly fired, resulting in poor wiring. Then, when the metal ink is ejected to the vicinity of the electronic component 96, the laser irradiation device 78 irradiates the metal ink with a laser in the firing unit 74. As a result, the metal ink is fired, and as shown in FIG. 6, wirings 166a and b extending to the vicinity of the electronic component 96 are formed.

次に、ステージ５２が第２造形ユニット２４の下方に移動され、吐出部８５において、ディスペンスヘッド８９が、図７に示すように、電子部品９６の電極１６２と、配線１６６ａ，ｂとを繋ぐように、導電性紫外線硬化樹脂１７０を吐出する。そして、硬化部８６において、照射装置９２が、導電性紫外線硬化樹脂１７０に紫外線を照射する。これにより、導電性紫外線硬化樹脂１７０が導電性を発揮し、導電性紫外線硬化樹脂１７０により、電子部品９６の電極１６２と、配線１６６ａ，ｂとが電気的に結線される。 Next, the stage 52 is moved to the lower side of the second modeling unit 24, and in the discharge unit 85, the dispense head 89 connects the electrodes 162 of the electronic component 96 and the wirings 166a, b as shown in FIG. The conductive ultraviolet curable resin 170 is discharged to. Then, in the cured portion 86, the irradiation device 92 irradiates the conductive ultraviolet curable resin 170 with ultraviolet rays. As a result, the conductive ultraviolet curable resin 170 exhibits conductivity, and the conductive ultraviolet curable resin 170 electrically connects the electrodes 162 of the electronic component 96 and the wirings 166a and 166b.

続いて、図８に示すように、樹脂積層体１３０の上に、２層目の樹脂積層体１８０が形成される。樹脂積層体１８０は、樹脂積層体１３０と同様に、インクジェットヘッド８８からの紫外線硬化樹脂の吐出と、吐出された紫外線硬化樹脂への照射装置９２による紫外線の照射とが繰り返されることにより形成される。なお、樹脂積層体１８０には、キャビティ１８２とビア穴１８４とが形成される。キャビティ１８２とビア穴１８４とは、樹脂積層体１３０のキャビティ１３２と同様の手法により形成されるが、ビア穴１８４の内寸は、キャビティ１８２の内寸より小さくされている。また、ビア穴１８４の底部には、配線１６６ｂの一部が露出している。 Subsequently, as shown in FIG. 8, a second layer resin laminate 180 is formed on the resin laminate 130. Similar to the resin laminate 130, the resin laminate 180 is formed by repeating the ejection of the ultraviolet curable resin from the inkjet head 88 and the irradiation of the ejected ultraviolet curable resin with ultraviolet rays by the irradiation device 92. .. A cavity 182 and a via hole 184 are formed in the resin laminate 180. The cavity 182 and the via hole 184 are formed by the same method as the cavity 132 of the resin laminate 130, but the inner dimension of the via hole 184 is smaller than the inner dimension of the cavity 182. Further, a part of the wiring 166b is exposed at the bottom of the via hole 184.

次に、装着ユニット２６において、図９に示すように、２層目の樹脂積層体１８０のキャビティ１８２の内部に、電子部品１９０が装着され、第２造形ユニット２４において、キャビティ１８２の隙間、つまり、キャビティ１８２を区画する内壁面と電子部品１９０との間に、樹脂積層体１９２が形成される。なお、電子部品１９０の装着手法、及び、樹脂積層体１９２の形成手法は、電子部品９６の装着手法、及び、樹脂積層体１５０の形成手法と同じである。 Next, in the mounting unit 26, as shown in FIG. 9, the electronic component 190 is mounted inside the cavity 182 of the second layer resin laminate 180, and in the second modeling unit 24, the gap of the cavity 182, that is, , A resin laminate 192 is formed between the inner wall surface that partitions the cavity 182 and the electronic component 190. The method of mounting the electronic component 190 and the method of forming the resin laminate 192 are the same as the method of mounting the electronic component 96 and the method of forming the resin laminate 150.

続いて、第１造形ユニット２２において、２層目樹脂積層体のビア穴１８４の内部に金属インクが吐出され、その金属インクにレーザが照射されることで、図１０に示すように、ビア穴１８４の内部に配線１９６が形成される。これにより、配線１９６は、下端において、１層目の樹脂積層体１３０に形成された配線１６６ｂと結線され、上端において、２層目の樹脂積層体１８０の上面に露出する。さらに、配線１９６の上端から電子部品１９０の近傍まで、金属インクが吐出され、その金属インクにレーザが照射されることで、配線１９８ａが形成される。これにより、配線１９６と配線１９８ａとが結線される。また、電子部品１９０を挟んで配線１９８ａの反対側に、金属インクが線状に吐出され、その金属インクにレーザが照射されることで、配線１９８ｂが形成される。 Subsequently, in the first modeling unit 22, metal ink is ejected into the via holes 184 of the second layer resin laminate, and the metal ink is irradiated with a laser, so that the via holes are as shown in FIG. Wiring 196 is formed inside the 184. As a result, the wiring 196 is connected to the wiring 166b formed on the first layer resin laminate 130 at the lower end, and is exposed on the upper surface of the second layer resin laminate 180 at the upper end. Further, the metal ink is ejected from the upper end of the wiring 196 to the vicinity of the electronic component 190, and the metal ink is irradiated with a laser to form the wiring 198a. As a result, the wiring 196 and the wiring 198a are connected. Further, the metal ink is linearly ejected on the opposite side of the wiring 198a with the electronic component 190 interposed therebetween, and the metal ink is irradiated with a laser to form the wiring 198b.

次に、第２造形ユニット２４において、電子部品１９０の電極１９９と、配線１９８ａ，ｂとを繋ぐように、導電性紫外線硬化樹脂２００が吐出される。そして、導電性紫外線硬化樹脂２００に紫外線が照射されることで、導電性紫外線硬化樹脂２００が導電性を発揮し、電子部品１９０の電極１９９と配線１９８ａ，ｂとが結線される。これにより、１層目の樹脂積層体１３０に配設された電子部品９６と、２層目の樹脂積層体１８０に配設された電子部品１９０とが、配線１６６等及び導電性紫外線硬化樹脂１７０等により、電気的に接続される。 Next, in the second modeling unit 24, the conductive ultraviolet curable resin 200 is discharged so as to connect the electrodes 199 of the electronic component 190 and the wirings 198a and 198b. Then, when the conductive ultraviolet curable resin 200 is irradiated with ultraviolet rays, the conductive ultraviolet curable resin 200 exhibits conductivity, and the electrodes 199 of the electronic component 190 and the wirings 198a and 198b are connected. As a result, the electronic component 96 disposed on the first layer resin laminate 130 and the electronic component 190 disposed on the second layer resin laminate 180 are connected to the wiring 166 and the like and the conductive ultraviolet curable resin 170. It is electrically connected by such means.

続いて、第２造形ユニット２４において、図１１に示すように、樹脂積層体１８０の上に、３層目の樹脂積層体２１０が形成される。そして、樹脂積層体２１０には、キャビティ２１２とビア穴２１４とが形成されている。なお、樹脂積層体２１０は、樹脂積層体１８０と同様に形成される。 Subsequently, in the second modeling unit 24, as shown in FIG. 11, a third layer resin laminate 210 is formed on the resin laminate 180. A cavity 212 and a via hole 214 are formed in the resin laminate 210. The resin laminate 210 is formed in the same manner as the resin laminate 180.

次に、装着ユニット２６において、図１２に示すように、３層目の樹脂積層体２１０のキャビティ２１２の内部に、電子部品２２０が装着され、第２造形ユニット２４において、キャビティ２１２を区画する内壁面と電子部品２２０との間に、樹脂積層体２１８が形成される。そして、金属インクの吐出とレーザ焼成とにより、図１３に示すように、ビア穴２１４の内部に配線２２２が形成され、３層目の樹脂積層体２１０の上面に配線２２４ａ，ｂが形成される。また、電子部品２２０の電極２２６と、配線２２４ａ，ｂとを繋ぐように、導電性紫外線硬化樹脂２２８が吐出され、導電性紫外線硬化樹脂２２８への紫外線の照射により導電性紫外線硬化樹脂２２８が導電性を発揮する。これにより、２層目の樹脂積層体１８０に配設された電子部品１９０と、３層目の樹脂積層体２１０に配設された電子部品２２０とが、配線１９８等及び導電性紫外線硬化樹脂２００等により、電気的に接続される。 Next, in the mounting unit 26, as shown in FIG. 12, the electronic component 220 is mounted inside the cavity 212 of the third layer resin laminate 210, and the cavity 212 is partitioned in the second modeling unit 24. A resin laminate 218 is formed between the wall surface and the electronic component 220. Then, as shown in FIG. 13, the wiring 222 is formed inside the via hole 214 and the wirings 224a and 224 are formed on the upper surface of the third layer resin laminate 210 by ejecting the metal ink and firing the laser. .. Further, the conductive ultraviolet curable resin 228 is discharged so as to connect the electrodes 226 of the electronic component 220 and the wirings 224a and 224, and the conductive ultraviolet curable resin 228 becomes conductive by irradiating the conductive ultraviolet curable resin 228 with ultraviolet rays. Demonstrate sex. As a result, the electronic component 190 disposed on the second-layer resin laminate 180 and the electronic component 220 disposed on the third-layer resin laminate 210 are connected to the wiring 198 and the like and the conductive ultraviolet curable resin 200. It is electrically connected by such means.

このように、回路形成装置１０は、基板７０の上に多層的な回路を形成することが可能とされている。しかしながら、多層的な回路では、上層での配線形成時において、その配線が形成される層より下方の層に配設された電子部品等に、レーザが照射される虞がある。具体的に、上記手順で形成された多層的な回路３００を、上方からの視点において示す図１４を用いて説明する。なお、回路３００では、１層目の樹脂積層体１３０に配設された電子部品９６と、２層目の樹脂積層体１８０に配設された電子部品１９０と、３層目の樹脂積層体２１０に配設された電子部品２２０とが、上方からの視点において、１直線上に配置されている。 In this way, the circuit forming apparatus 10 is capable of forming a multi-layered circuit on the substrate 70. However, in a multi-layer circuit, when the wiring is formed in the upper layer, there is a possibility that the laser is applied to the electronic components and the like arranged in the layer below the layer in which the wiring is formed. Specifically, the multilayer circuit 300 formed by the above procedure will be described with reference to FIG. 14, which is shown from a viewpoint from above. In the circuit 300, the electronic component 96 arranged on the first layer resin laminate 130, the electronic component 190 arranged on the second layer resin laminate 180, and the third layer resin laminate 210. The electronic components 220 arranged in the above are arranged in a straight line when viewed from above.

そして、回路３００の３層目の樹脂積層体２１０に、配線２２４ａが形成される際に、一般的に、ビア穴２１４の内部に形成された配線２２２と、３層目の樹脂積層体２１０に配設された電子部品２２０とを最短距離で接続するように、樹脂積層体２１０の上面に金属インクが吐出される。この際、３層目の樹脂積層体２１０に吐出された金属インクの下方には、１層目の樹脂積層体１３０の電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０と、２層目の樹脂積層体１８０の電子部品１９０及び導電性紫外線硬化樹脂２００とが位置する。 Then, when the wiring 224a is formed on the third layer resin laminate 210 of the circuit 300, generally, the wiring 222 formed inside the via hole 214 and the third layer resin laminate 210 Metal ink is ejected onto the upper surface of the resin laminate 210 so as to connect the arranged electronic components 220 at the shortest distance. At this time, below the metal ink discharged to the third layer resin laminate 210, the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 of the first layer resin laminate 130 and the second layer resin laminate The 180 electronic components 190 and the conductive ultraviolet curable resin 200 are located.

このため、３層目の樹脂積層体２１０に吐出された金属インクにレーザが照射されると、３層目の樹脂積層体２１０を介して、２層目の樹脂積層体１８０の電子部品１９０及び導電性紫外線硬化樹脂２００にも照射される。また、３層目の樹脂積層体２１０及び２層目の樹脂積層体１８０を介して、１層目の樹脂積層体１３０の電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０にも、レーザが照射される。そして、電子部品及び導電性紫外線硬化樹脂は、レーザ耐性が低く、樹脂積層体は、比較的薄いため、電子部品及び導電性紫外線硬化樹脂へのダメージを考慮すると、電子部品及び導電性紫外線硬化樹脂へのレーザ照射は好ましくない。 Therefore, when the metal ink ejected to the third-layer resin laminate 210 is irradiated with the laser, the electronic component 190 of the second-layer resin laminate 180 and the electronic component 190 of the second-layer resin laminate 180 pass through the third-layer resin laminate 210. The conductive ultraviolet curable resin 200 is also irradiated. Further, the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 of the first layer resin laminate 130 are also irradiated with the laser via the third layer resin laminate 210 and the second layer resin laminate 180. .. Since the electronic component and the conductive ultraviolet curable resin have low laser resistance and the resin laminate is relatively thin, the electronic component and the conductive ultraviolet curable resin are considered in consideration of damage to the electronic component and the conductive ultraviolet curable resin. Laser irradiation is not preferable.

このようなことに鑑みて、回路形成装置１０で形成される回路の設計時において、上層での配線形成時に、その配線が形成される層より下方の層に配設された電子部品等に、レーザが照射されないように、回路設計が行われる。具体的には、回路形成装置１０で形成される回路は、設計プログラム（図１５参照）３５０がインストールされた情報処理装置（図１５参照）３５２によって作成される。情報処理装置３５２は、ディスプレイ（図１５参照）３５４に接続されており、設計プログラム３５０の処理に従って、回路の各層を設計するための画面が、ディスプレイ３５４に表示される。 In view of this, when designing the circuit formed by the circuit forming apparatus 10, when forming the wiring in the upper layer, the electronic components and the like arranged in the layer below the layer in which the wiring is formed may be used. The circuit is designed so that the laser is not irradiated. Specifically, the circuit formed by the circuit forming apparatus 10 is created by the information processing apparatus (see FIG. 15) 352 in which the design program (see FIG. 15) 350 is installed. The information processing device 352 is connected to a display (see FIG. 15) 354, and a screen for designing each layer of the circuit is displayed on the display 354 according to the processing of the design program 350.

例えば、回路３００の１層目の樹脂積層体１３０が設計される場合は、図１５に示すように、１層目設計画面３６０が、ディスプレイ３５４に表示される。この１層目設計画面３６０では、電子部品９６，導電性紫外線硬化樹脂１７０，配線１６６ａ，ｂの配置が、カーソル等のユーザ操作により設計される。なお、１層目の樹脂積層体１３０の下方に、電子部品等は配置されない。このため、ユーザは、１層目設計画面３６０において、１層目の樹脂積層体１３０の何れの位置にでも、電子部品９６，導電性紫外線硬化樹脂１７０，配線１６６ａ，ｂの配置を設計することができる。 For example, when the first layer resin laminate 130 of the circuit 300 is designed, the first layer design screen 360 is displayed on the display 354 as shown in FIG. On the first layer design screen 360, the arrangement of the electronic component 96, the conductive ultraviolet curable resin 170, and the wirings 166a and b is designed by a user operation such as a cursor. No electronic components or the like are arranged below the resin laminate 130 of the first layer. Therefore, the user designs the arrangement of the electronic component 96, the conductive ultraviolet curable resin 170, and the wirings 166a and b at any position of the first layer resin laminate 130 on the first layer design screen 360. Can be done.

また、回路３００の２層目の樹脂積層体１８０が設計される場合は、図１６に示すように、２層目設計画面３７０が、ディスプレイ３５４に表示される。この２層目設計画面３７０では、電子部品１９０，導電性紫外線硬化樹脂２００，配線１９６，１９８ａ，ｂの配置が、ユーザ操作により設計される。なお、２層目の樹脂積層体１８０の下方には、１層目の樹脂積層体１３０が位置しており、その樹脂積層体１３０への電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置設計が、１層目設計画面（図１５参照）３６０において行われている。このため、１層目設計画面３６０において設計された電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置予定位置を含む配線形成禁止領域３７２が、２層目設計画面３７０に表示される。 When the second layer resin laminate 180 of the circuit 300 is designed, the second layer design screen 370 is displayed on the display 354 as shown in FIG. In the second layer design screen 370, the arrangement of the electronic component 190, the conductive ultraviolet curable resin 200, the wiring 196, 198a, and b is designed by the user operation. The first layer resin laminate 130 is located below the second layer resin laminate 180, and the electronic components 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 are arranged and designed on the resin laminate 130. This is done on the first layer design screen (see FIG. 15) 360. Therefore, the wiring formation prohibited area 372 including the planned placement positions of the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 designed on the first layer design screen 360 is displayed on the second layer design screen 370.

配線形成禁止領域３７２は、配線の配置設計を禁止する領域であり、ユーザ操作により、配線形成禁止領域３７２において、配線の配置設計を行うことができないように構成されている。なお、配線形成禁止領域３７２は、電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置予定位置を含み、その配置予定位置の外縁に所定の幅の領域が付加された状態で表示される。これは、金属インクにレーザが照射されるレーザのスポット径を考慮し、電子部品等へのレーザの照射を確実に防止するためである。 The wiring formation prohibition area 372 is an area for prohibiting the wiring arrangement design, and is configured so that the wiring arrangement design cannot be performed in the wiring formation prohibition area 372 by the user operation. The wiring formation prohibited area 372 includes the planned placement position of the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170, and is displayed in a state where a region having a predetermined width is added to the outer edge of the planned placement position. This is to ensure that the laser irradiation to the electronic components and the like is prevented in consideration of the spot diameter of the laser that irradiates the metal ink with the laser.

詳しくは、レーザの照射範囲は、一般的に、円形とされており、その円の直径がレーザのスポット径と呼ばれる。このため、レーザの中心と電子部品の外縁とが離れている場合であっても、レーザの中心と電子部品の外縁との間の距離が、スポット径の半分、つまり、半径以下である場合には、電子部品の外縁にレーザが照射される。そこで、配線形成禁止領域３７２は、電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置予定位置の外縁に、レーザのスポット径の半分に相当する幅Ｌ１の領域が付加された状態で表示される。Specifically, the irradiation range of the laser is generally circular, and the diameter of the circle is called the spot diameter of the laser. Therefore, even if the center of the laser and the outer edge of the electronic component are separated, the distance between the center of the laser and the outer edge of the electronic component is half the spot diameter, that is, less than or equal to the radius. Is irradiated with a laser on the outer edge of the electronic component. Therefore, the wiring formation prohibition region 372 is displayed on the outer edge of the planned placement position of the electronic component 96 and the conductive UV-curable resin 170, while the area of the width L 1 corresponding to half of the laser spot diameter is added ..

なお、レーザのスポット径は、Ｄ４σ幅，Ｄ８６幅，有効ビーム径，１０／９０ナイフエッジ幅等を採用することが可能である。Ｄ４σ幅は、ＩＳＯの国際標準規格であり、所定の式を用いることで演算されるが、この式は、公知の式であるため、記載を省略する。また、Ｄ８６幅は、ビームプロファイルの重心を中心として、ビームパワーの８６％が含まれる円の直径として定義される。このため、ビームプロファイルの重心から円形に領域を増加させていき、領域内のトータルのビームパワーが８６％になったところで、円の直径を算出する。そして、この直径がＤ８６幅となる。 As the spot diameter of the laser, D4σ width, D86 width, effective beam diameter, 10/90 knife edge width and the like can be adopted. The D4σ width is an international standard of ISO and is calculated by using a predetermined formula, but since this formula is a known formula, the description thereof will be omitted. Further, the D86 width is defined as the diameter of a circle containing 86% of the beam power centered on the center of gravity of the beam profile. Therefore, the region is increased in a circle from the center of gravity of the beam profile, and the diameter of the circle is calculated when the total beam power in the region reaches 86%. Then, this diameter becomes the D86 width.

また、有効ビーム径は、測定されたビームのピーク強度に対して特定のパーセンテージ以上の強度をもつすべてのピクセルの面積と等しい面積の円の直径として定義される。このため、例えば、特定のパーセンテージとして、７０％が選択された場合に、ピーク強度の７０％の強度以上の全てのピクセルの総数が、有効ビーム径の計算に用いられる。そして、ピクセルの総数が演算されると、センサーのピクセルピッチは既知であるため、このピクセル総数と同じ面積の円に置き換えられ、その円の直径が有効ビーム径となる。 The effective beam diameter is also defined as the diameter of a circle with an area equal to or greater than the area of all pixels having an intensity greater than or equal to a certain percentage of the measured peak intensity of the beam. Thus, for example, when 70% is selected as a particular percentage, the total number of all pixels above 70% of the peak intensity is used in the calculation of the effective beam diameter. Then, when the total number of pixels is calculated, since the pixel pitch of the sensor is known, it is replaced with a circle having the same area as the total number of pixels, and the diameter of the circle becomes the effective beam diameter.

また、１０／９０ナイフエッジ幅は、直行するＸ軸／Ｙ軸の幅の定義の一種であり、各々の軸のプロファイル断面の総エネルギーに対して、積算エネルギーが１０％と９０％となる２点の間の距離で定義される。ちなみに、レーザの照射範囲が円形である場合に、スポット径として、Ｄ４σ幅を採用することが好ましく、レーザの照射範囲が非対称で複雑である場合に、スポット径として、Ｄ８６幅を採用することが好ましい。また、レーザの照射範囲が矩形である場合、つまり、レーザがラインビームである場合に、スポット径として、１０／９０ナイフエッジ幅を採用することが好ましい。なお、上記Ｄ４σ幅など以外に、簡易的に、レーザの最大強度から、最大強度の１／ｅ２まで下がる幅を、スポット径として採用してもよい。Further, the 10/90 knife edge width is a kind of definition of the width of the orthogonal X-axis / Y-axis, and the integrated energy is 10% and 90% with respect to the total energy of the profile cross section of each axis2. It is defined by the distance between points. By the way, when the laser irradiation range is circular, it is preferable to adopt the D4σ width as the spot diameter, and when the laser irradiation range is asymmetric and complicated, it is possible to adopt the D86 width as the spot diameter. preferable. Further, when the irradiation range of the laser is rectangular, that is, when the laser is a line beam, it is preferable to adopt a 10/90 knife edge width as the spot diameter. In addition to the above D4σ width, a width that is simply reduced from the maximum intensity of the laser to 1 / e 2 of the maximum intensity may be adopted as the spot diameter.

このように、レーザの照射範囲の形状に応じたスポット径に基づいて、配線形成禁止領域３７２における電子部品等の配置予定位置の外縁に付加される領域（以下、「外縁領域」と記載する）の幅Ｌ１が演算される。さらに言えば、レーザの拡散をも考慮して、外縁領域の幅Ｌ１が演算される。詳しくは、レーザは拡散するため、焦点の有った状態から、照射距離が長くなると、スポット径が大きくなる。このため、焦点の有った状態でのスポット径の１／２、つまり、半径を、Ｒ０とし、焦点から上下方向に距離Ｚ、ズレた状態でのスポット径の１／２、つまり、半径を、ＲＺとすると、Ｒ０とＲＺとは、下記式により示される。
ＲＺ＝Ｒ０［１＋{（λｚ）／（πＲ０ ２）}２］１／２
ここで、λは、レーザの波長である。In this way, a region added to the outer edge of the planned placement position of the electronic component or the like in the wiring formation prohibited region 372 based on the spot diameter according to the shape of the laser irradiation range (hereinafter, referred to as “outer edge region”). The width L 1 of is calculated. Furthermore, the width L 1 of the outer edge region is calculated in consideration of the diffusion of the laser. Specifically, since the laser diffuses, the spot diameter increases as the irradiation distance increases from the focused state. Therefore, 1/2 of the spot diameter in the focused state, that is, the radius is set to R 0, and the distance Z in the vertical direction from the focal point, that is, 1/2 of the spot diameter in the deviated state, that is, the radius. Let R Z be, and R 0 and R Z are represented by the following equations.
R Z = R 0 [1 + {(λz) / (πR 0 2)} 2] 1/2
Here, λ is the wavelength of the laser.

そこで、上記式に基づいて、配線形成禁止領域３７２における外縁領域の幅Ｌ１が演算されることで、レーザの拡散をも考慮して、配線の配置設計を行うことができる。これにより、配線へのレーザ照射時において、その配線が形成される層より下方の層に配設された電子部品等へのレーザ照射を確実に防止することが可能となる。つまり、２層目設計画面３７０において、ユーザが、配線形成禁止領域３７２を避けて、配線１９６，１９８ａ，ｂの配置を設計することで、２層目の樹脂積層体１８０の作成時において、１層目の樹脂積層体１３０に配置された電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０へのレーザ照射を確実に防止することが可能となる。Therefore, based on the equation, since the width L 1 of the outer edge region in the wiring formation prohibition region 372 is calculated, taking into account also the diffusion of the laser, it is possible to perform the layout design of the wiring. As a result, when the wiring is irradiated with the laser, it is possible to reliably prevent the laser irradiation of the electronic components and the like arranged in the layer below the layer on which the wiring is formed. That is, on the second layer design screen 370, the user avoids the wiring formation prohibited area 372 and designs the arrangement of the wirings 196, 198a, b, so that when the second layer resin laminate 180 is created, 1 It is possible to reliably prevent the laser irradiation of the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 arranged in the resin laminate 130 of the layer layer.

なお、２層目設計画面３７０では、ビア穴１８４の内部に形成された配線１９６と、電子部品１９０との間に、配線形成禁止領域３７２は位置していない。このため、ユーザは、２層目設計画面３７０において、配線形成禁止領域３７２に関わらず、ビア穴１８４の内部に形成された配線１９６と、電子部品１９０とを最短距離で接続するように、配線１９８ａを配置設計すればよい。 In the second layer design screen 370, the wiring formation prohibition region 372 is not located between the wiring 196 formed inside the via hole 184 and the electronic component 190. Therefore, on the second layer design screen 370, the user wires the wiring 196 formed inside the via hole 184 and the electronic component 190 at the shortest distance regardless of the wiring formation prohibited area 372. The 198a may be arranged and designed.

また、回路３００の３層目の樹脂積層体２１０が設計される場合は、図１７に示すように、３層目設計画面３８０が、ディスプレイ３５４に表示される。この３層目設計画面３８０では、電子部品２２０，導電性紫外線硬化樹脂２２８，配線２２２，２２４ａ，ｂの配置が、ユーザ操作により設計される。なお、３層目の樹脂積層体２１０の下方には、１層目の樹脂積層体１３０及び２層目の樹脂積層体１８０が位置している。そして、１層目の樹脂積層体１３０への電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置設計が、１層目設計画面（図１５参照）３６０において行われている。また、２層目の樹脂積層体１８０への電子部品１９０及び導電性紫外線硬化樹脂２００の配置設計が、２層目設計画面（図１６参照）３７０において行われている。このため、１層目設計画面３６０において設計された電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０の配置予定位置を含む配線形成禁止領域３８２と、２層目設計画面３７０において設計された電子部品１９０及び導電性紫外線硬化樹脂２００の配置予定位置を含む配線形成禁止領域３８４とが、３層目設計画面３８０に表示される。 When the third-layer resin laminate 210 of the circuit 300 is designed, the third-layer design screen 380 is displayed on the display 354 as shown in FIG. In the third layer design screen 380, the arrangement of the electronic component 220, the conductive ultraviolet curable resin 228, and the wiring 222, 224a, b is designed by a user operation. The first-layer resin laminate 130 and the second-layer resin laminate 180 are located below the third-layer resin laminate 210. Then, the arrangement design of the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 on the first layer resin laminate 130 is performed on the first layer design screen (see FIG. 15) 360. Further, the arrangement design of the electronic component 190 and the conductive ultraviolet curable resin 200 on the second layer resin laminate 180 is performed on the second layer design screen (see FIG. 16) 370. Therefore, the wiring formation prohibited area 382 including the planned placement position of the electronic component 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 designed on the first layer design screen 360, the electronic component 190 designed on the second layer design screen 370, and the electronic component 190. The wiring formation prohibited area 384 including the planned arrangement position of the conductive ultraviolet curable resin 200 is displayed on the third layer design screen 380.

なお、配線形成禁止領域３８２の外縁領域の幅Ｌ２及び、配線形成禁止領域３８４の外縁領域の幅Ｌ３は、上記配線形成禁止領域３７２の外縁領域の幅Ｌ１と同じ手法により演算される。ちなみに、配線形成禁止領域３８２の外縁領域の幅Ｌ２は、配線形成禁止領域３８４の外縁領域の幅Ｌ３より大きくされている。これは、配線形成禁止領域３８２に含まれる電子部品９６は、配線形成禁止領域３８２に含まれる電子部品１９０より下方に配置されているためである。つまり、３層目の配線形成時におけるレーザの照射範囲が、電子部品９６が配置されている１層目において、電子部品１９０が配置されている２層目より広くなるためである。これにより、１層目に配設されている電子部品９６と、２層目に配設されている電子部品１９０との各々の配設高さが異なる場合であっても、確実に電子部品等へのレーザ照射を防止することが可能となる。 The width L 2 of the outer edge region of the wiring formation prohibition region 382 and the width L 3 of the outer edge region of the wiring formation prohibition region 384 are calculated by the same method as the width L 1 of the outer edge region of the wiring formation prohibition region 372. .. Incidentally, the width L 2 of the outer edge region of the wiring formation prohibition region 382 is made larger than the width L 3 of the outer edge region of the wiring formation prohibition region 384. This is because the electronic component 96 included in the wiring formation prohibited area 382 is arranged below the electronic component 190 included in the wiring formation prohibited area 382. That is, the laser irradiation range at the time of forming the wiring of the third layer is wider in the first layer in which the electronic component 96 is arranged than in the second layer in which the electronic component 190 is arranged. As a result, even if the electronic components 96 arranged on the first layer and the electronic components 190 arranged on the second layer have different arrangement heights, the electronic components and the like can be reliably arranged. It is possible to prevent the laser irradiation to.

つまり、３層目設計画面３８０では、配線形成禁止領域３８２及び配線形成禁止領域３８４が、ビア穴２１４の内部に形成された配線２２２と、電子部品２２０との間に位置している。このため、ユーザは、３層目設計画面３８０において、ビア穴２１４の内部に形成された配線２２２と、電子部品２２０とを最短距離で接続するように、配線２２４ｂを配置設計することができない。そこで、ユーザは、３層目設計画面３８０において、配線形成禁止領域３８２及び配線形成禁止領域３８４を避けて、配線２２４ｂの配置を設計する。すると、３層目の樹脂積層体２１０の作成時において、１層目の樹脂積層体１３０に配置された電子部品９６及び導電性紫外線硬化樹脂１７０と、２層目の樹脂積層体１８０に配置された電子部品１９０及び導電性紫外線硬化樹脂２００との上方を避けて、金属インクが樹脂積層体２１０に印刷される。これにより、３層目の樹脂積層体２１０の作成時において、１層目及び２層目の電子部品９６，１９０及び導電性紫外線硬化樹脂１７０，２００へのレーザ照射を確実に防止することが可能となる。 That is, on the third layer design screen 380, the wiring formation prohibition region 382 and the wiring formation prohibition region 384 are located between the wiring 222 formed inside the via hole 214 and the electronic component 220. Therefore, the user cannot arrange and design the wiring 224b so as to connect the wiring 222 formed inside the via hole 214 and the electronic component 220 at the shortest distance on the third layer design screen 380. Therefore, the user designs the arrangement of the wiring 224b on the third layer design screen 380 while avoiding the wiring formation prohibition area 382 and the wiring formation prohibition area 384. Then, at the time of producing the third layer resin laminate 210, the electronic parts 96 and the conductive ultraviolet curable resin 170 arranged in the first layer resin laminate 130 and the second layer resin laminate 180 are arranged. The metal ink is printed on the resin laminate 210 while avoiding the upper part of the electronic component 190 and the conductive ultraviolet curable resin 200. This makes it possible to reliably prevent laser irradiation of the electronic components 96 and 190 of the first and second layers and the conductive ultraviolet curable resin 170 and 200 when the resin laminate 210 of the third layer is produced. It becomes.

ちなみに、上記実施例において、電子部品９６，１９０，２２０は、電子部品の一例である。樹脂積層体１３０，１８０，２１０は、樹脂層の一例である。配線１６６，１９６，１９８，２２２，２２４は、配線の一例である。導電性紫外線硬化樹脂１７０，２００，２２８は、導電部の一例である。回路３００は、回路の一例である。情報処理装置３５２は、情報処理装置の一例である。ディスプレイ３５４は、表示装置の一例である。配線形成禁止領域３７２，３８２，３８４は、配線形成禁止領域の一例である。 Incidentally, in the above embodiment, the electronic components 96, 190, 220 are examples of electronic components. The resin laminates 130, 180, 210 are examples of resin layers. Wiring 166, 196, 198, 222, 224 is an example of wiring. The conductive ultraviolet curable resins 170, 200, 228 are examples of conductive portions. The circuit 300 is an example of a circuit. The information processing device 352 is an example of the information processing device. The display 354 is an example of a display device. The wiring formation prohibited area 372, 382, 384 is an example of the wiring formation prohibited area.

なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。例えば、上記実施例では、ディスプレイ３５４に配線形成禁止領域３８２等が表示され、ユーザが配線形成禁止領域３８２等を避けて、配線２２４ｂ等を配置設計するが、情報処理装置３５２が自動的に配線形成禁止領域３８２等を避けて、配線２２４ｂ等を配置設計してもよい。 The present invention is not limited to the above examples, and can be carried out in various modes with various modifications and improvements based on the knowledge of those skilled in the art. For example, in the above embodiment, the wiring formation prohibited area 382 and the like are displayed on the display 354, and the user avoids the wiring formation prohibited area 382 and designs the wiring 224b and the like, but the information processing device 352 automatically wires the wiring. Wiring 224b or the like may be arranged and designed while avoiding the formation prohibited area 382 or the like.

また、上記実施例では、Ｎ層目の配線が設計される際に、Ｎ層目より下層の全ての層に配設される電子部品等が表示されるが、Ｎ層目より下層の層のうちの選択された層に配設される電子部品等のみが表示されてもよい。つまり、例えば、３層目の配線が設計される際に、１層目と２層目とのうちの選択された層に配設される電子部品等のみが表示されてもよい。この際、通常は、３層目の直下の２層目が選択され、２層目に配設される電子部品等が表示される。これにより、レーザ照射の影響の大きい電子部品等のみを、配線形成禁止領域３８２等として表示することが可能となり、配線の配置設計の自由度が高くなる。 Further, in the above embodiment, when the wiring of the Nth layer is designed, the electronic components and the like arranged in all the layers below the Nth layer are displayed, but the layers below the Nth layer are displayed. Only the electronic components and the like arranged in the selected layer may be displayed. That is, for example, when the wiring of the third layer is designed, only the electronic components and the like arranged in the selected layer of the first layer and the second layer may be displayed. At this time, normally, the second layer immediately below the third layer is selected, and the electronic components and the like arranged in the second layer are displayed. As a result, only electronic components and the like that are greatly affected by laser irradiation can be displayed as a wiring formation prohibited area 382 and the like, and the degree of freedom in wiring layout design is increased.

また、上記実施例では、電子部品及び導電性紫外線硬化樹脂の配設位置が、配線形成禁止領域３８２に含まれるが、電子部品及び導電性紫外線硬化樹脂だけでなく、他の回路を構成する部材、例えば、電子部品等を支持するためのサポート部材の配設位置が、配線形成禁止領域に含まれてもよい。 Further, in the above embodiment, the arrangement position of the electronic component and the conductive ultraviolet curable resin is included in the wiring formation prohibited region 382, but the electronic component and the conductive ultraviolet curable resin are not limited to the members constituting other circuits. For example, the arrangement position of the support member for supporting the electronic component or the like may be included in the wiring formation prohibition region.

３００：回路 ３５２：情報処理装置 ３５４：ディスプレイ ３７２：配線形成禁止領域 ３８２：配線形成禁止領域 ３８４：配線形成禁止領域 300: Circuit 352: Information processing device 354: Display 372: Wiring formation prohibited area 382: Wiring formation prohibited area 384: Wiring formation prohibited area

Claims (4)

複数の樹脂層と、前記複数の樹脂層のうちの任意の層の各々に配設される複数の電子部品と、金属微粒子を含有する金属含有液へのレーザ照射により形成され、前記複数の電子部品を電気的に接続する複数の配線とにより構成される回路を設計するための情報処理装置であって、
Ｎ層目の樹脂層に配設される配線が設計される際に、前記Ｎ層目より下層の樹脂層に配設される電子部品の位置を、配線形成禁止領域として表示装置に表示させる情報処理装置。A plurality of resin layers, a plurality of electronic components arranged in each of the plurality of resin layers, and a metal-containing liquid containing metal fine particles are formed by laser irradiation of the plurality of electrons. An information processing device for designing a circuit composed of a plurality of wirings that electrically connect components.
Information for displaying the position of an electronic component arranged in the resin layer below the Nth layer on the display device as a wiring formation prohibited area when the wiring arranged in the resin layer of the Nth layer is designed. Processing equipment. 前記Ｎ層目より下層の樹脂層に配設される電子部品の外縁に、前記金属含有液に照射されるレーザのスポット径に応じた幅の領域を付加した状態で、前記配線形成禁止領域を前記表示装置に表示させる請求項１に記載の情報処理装置。 The wiring formation prohibited region is provided in a state where a region having a width corresponding to the spot diameter of the laser irradiated to the metal-containing liquid is added to the outer edge of the electronic component arranged in the resin layer below the Nth layer. The information processing device according to claim 1, which is displayed on the display device. 前記回路が、さらに、
導電性ペーストの硬化により形成され、電子部品と配線とを電気的に接続する導電部を含み、
前記Ｎ層目より下層の樹脂層に配設される電子部品及び導電部の位置を、前記配線形成禁止領域として前記表示装置に表示させる請求項１または請求項２に記載の情報処理装置。The circuit further
It is formed by curing a conductive paste and contains a conductive part that electrically connects electronic components and wiring.
The information processing device according to claim 1 or 2, wherein the positions of the electronic components and the conductive portions arranged in the resin layer below the Nth layer are displayed on the display device as the wiring formation prohibited region. 前記Ｎ層目より下層の樹脂層のうちの任意に選択された樹脂層に配設される電子部品の位置を、前記配線形成禁止領域として前記表示装置に表示させる請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の情報処理装置。 Claims 1 to 3 for displaying the position of an electronic component arranged in an arbitrarily selected resin layer among the resin layers below the Nth layer on the display device as the wiring formation prohibited region. The information processing device according to any one of the following items.
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