JP6907123B2 - 誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 - Google Patents
誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6907123B2 JP6907123B2 JP2017551937A JP2017551937A JP6907123B2 JP 6907123 B2 JP6907123 B2 JP 6907123B2 JP 2017551937 A JP2017551937 A JP 2017551937A JP 2017551937 A JP2017551937 A JP 2017551937A JP 6907123 B2 JP6907123 B2 JP 6907123B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric layer
- metal
- less
- metal foil
- laminated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 123
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 123
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 107
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 71
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 71
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 claims description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 20
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 19
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 3
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 2-(n-methyl-4-nitroanilino)acetonitrile Chemical compound N#CCN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/26—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer which influences the bonding during the lamination process, e.g. release layers or pressure equalising layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4652—Adding a circuit layer by laminating a metal foil or a preformed metal foil pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
- H05K3/4629—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0296—Conductive pattern lay-out details not covered by sub groups H05K1/02 - H05K1/0295
- H05K1/0298—Multilayer circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
- H05K1/162—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4623—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the circuit boards having internal via connections between two or more circuit layers before lamination, e.g. double-sided circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4682—Manufacture of core-less build-up multilayer circuits on a temporary carrier or on a metal foil
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/26—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer which influences the bonding during the lamination process, e.g. release layers or pressure equalising layers
- B32B2037/268—Release layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/204—Di-electric
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/08—PCBs, i.e. printed circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0154—Polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/0158—Polyalkene or polyolefin, e.g. polyethylene [PE], polypropylene [PP]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0183—Dielectric layers
- H05K2201/0187—Dielectric layers with regions of different dielectrics in the same layer, e.g. in a printed capacitor for locally changing the dielectric properties
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0209—Inorganic, non-metallic particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0147—Carriers and holders
- H05K2203/0156—Temporary polymeric carrier or foil, e.g. for processing or transferring
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
誘電体層の一方の面に第1金属箔が積層されるとともに他方の面に第2金属箔が積層され、且つ第1金属箔及び第2金属箔に、剥離層を介して第1キャリア及び第2キャリアが積層されてなる金属張積層板を用意し、
一対の前記金属張積層板を用い、樹脂基材の各面に、各金属張積層板における第1キャリアが該樹脂基材と対向するように、各金属張積層板と該樹脂基材とを積層して積層体を形成し、
前記積層体から第2キャリアを剥離して第2金属箔を露出させ、
露出した第2金属箔に対してエッチングを行って導体パターンを形成し、
形成された前記導体パターン上に絶縁層を積層するとともに、該絶縁層上に金属層を積層し、
然る後、前記積層体を第1キャリアと第1金属箔との間で剥離する、工程を有し、
前記誘電体層は、破断ひずみエネルギーが1.8MJ以下である、プリント配線板の製造方法を提供するものである。
厚さ30μm以下であり、破断ひずみエネルギーが1.8MJ以下である誘電体層の一方の面に第1金属箔が積層されるとともに他方の面に第2金属箔が積層され、且つ第1金属箔及び第2金属箔に剥離層を介して第1キャリア及び第2キャリアが積層されてなる一対の金属張積層板と、
を具備し、
前記樹脂基材の各面に、各金属張積層板における第1キャリアが該樹脂基材と対向するように、各金属張積層板と該樹脂基材とが積層されてなる積層体を提供するものである。
<第1工程>
誘電体層の一方の面に第1金属箔が積層されるとともに他方の面に第2金属箔が積層され、且つ第1金属箔及び第2金属箔に、剥離層を介して第1キャリア及び第2キャリアが積層されてなる金属張積層板を用意する。
<第2工程>
一対の金属張積層板を用い、樹脂基材の各面に、該各金属張積層板における第1キャリアが該樹脂基材と対向するように積層して積層体を形成する。
<第3工程>
積層体から第2キャリアを剥離して第2金属箔を露出させる。
<第4工程>
露出した第2金属箔に対してエッチングを行って導体パターンを形成する。
<第5工程>
形成された導体パターン上に絶縁層を積層するとともに、該絶縁層上に金属層を積層する。
<第6工程>
積層体を第1キャリアと第1金属箔との間で剥離する。
第1工程においては、図1に示す金属張積層板10を用意する。金属張積層板10は誘電体層11を有する。誘電体層11の2つの面のうち、一方の面には、第1金属箔12aが積層されている。他方の面には、第2金属箔12bが積層されている。第1金属箔12aの面のうち、誘電体層11と対向していない面には、第1キャリア13aが積層されている。一方、第2金属箔12bの面のうち、誘電体層11と対向していない面には、第2キャリア13bが積層されている。第1金属箔12aと第1キャリア13aとの間には剥離層14が設けられている。同様に、第2金属箔12bと第2キャリア13bとの間にも剥離層14が設けられている。
〔100×(最大値−平均値)/平均値〕 (1)
〔100×(平均値−最小値)/平均値〕 (2)
誘電体層11の厚みのばらつきを小さくするためには、例えば後述する方法によって誘電体層11を形成すればよい。
誘電体層11の好ましい態様として、該誘電体層11を補強するためのガラス織布、ガラス不織布及び紙等の繊維状材料、又は例えばポリイミド樹脂等から構成されるフィルム状材料、つまり補強材を含んでいない態様が挙げられる。補強材は誘電体層11に強度を付与する観点から有用な材料である。しかしその反面、補強材を用いることで誘電体層11の厚みが増してしまうという欠点がある。
本発明においては、誘電体層11の強度向上よりも、プリント配線板の薄型化及び内蔵キャパシタの高容量化を優先させて、誘電体層11には補強材を非含有とした。誘電体層11の脆性増加、及び強度低下に伴う不都合は、本製造方法を採用することによって克服することができる。
前記脆さを示す物性値は、破断ひずみエネルギーによって好適に示すことができる。誘電体層11を形成する樹脂フィルムの引張試験における応力σ−ひずみε曲線において、破断ひずみエネルギーU(単位:MJ(メガジュール))は、下記積分式によって算出される。なお、εbは破断時のひずみを示す。
一方で、誘電体層11と、金属箔12a、金属箔12bとの密着性を十分に確保する点では、誘電体層11の引張強度は、5.0MPa以上であることが好ましく、より好ましくは8.0MPa以上である。
一方で、プリント配線板製造時のハンドリングに最低限耐え得るだけの可撓性を保持する点では、誘電体層11の引張破断伸び率(破断ひずみ)は、0.05%以上であることが好ましく、より好ましくは0.2%以上である。
なお、上述した破断ひずみエネルギー、引張強度及び引張破断伸び率は、JISK7161(1994)「プラスチック−引張特性の試験方法」に準拠し、測定温度を25℃、標点間の距離を50mm、引張速度を1.0mm/min(ひずみ速度として2%/min)で測定したときの応力ひずみ曲線から求めた値を標準条件として採用するものとする。なお、誘電体層11の試料長が著しく短く、上述した標点間の距離が取れない場合は、ひずみ速度2%/minとした方法で測定することも可能である。
本工程においては、図3に示すとおり、第1工程で用意した金属張積層板10と樹脂基材21とを積層して積層体20を形成する。樹脂基材21は、例えばガラス織布、ガラス不織布及び紙等の繊維状材料に絶縁性樹脂(エポキシ樹脂、シアネート樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等)を含浸させたプリプレグ等を必要枚数重ねた絶縁樹脂基材であってもよい。あるいは、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂又はポリエステル樹脂等の絶縁樹脂からなる絶縁樹脂層を樹脂基材として用いてもよい。いずれの樹脂基材21を用いる場合であっても、該樹脂基材21はBステージの状態のものであることが好ましい。樹脂基材はその厚みに特段の制限はないが、一般的に言って10μm以上1000μm以下であることが好ましく、20μm以上400μm以下であることが更に好ましい。
本工程においては、図4に示すとおり積層体20から各第2キャリア13b,13bを剥離して、各第2金属箔12b,12bを露出させる(第3工程)。引き続き、図5に示すとおり、露出した各第2金属箔12b,12bに対してエッチングを行って導体パターン30を形成する(第4工程)。この導体パターン30は、キャパシタの対向電極であり得る。また、該対向電極に接続する信号線、電源線、あるいはグラウンド線であり得る。導体パターン30の形成方法に特に制限はなく、例えばプリント配線板の技術分野においてこれまで用いられてきたサブトラクティブ法を用いることができる。一例として、露出した各第2金属箔12b,12bを整面し、その上にドライフィルムを張り合わせてエッチングレジスト層を形成する。このエッチングレジスト層に、キャパシタ回路を含む電気回路を露光現像し、エッチングパターンを形成する。その後、例えばエッチング液で回路エッチングを行い、導体パターンが形成される。誘電体層11は、樹脂基材21及び第1キャリア13a,13aによって支持されているので、回路形成までに行われる様々な工程でのハンドリング性が良好である。また、エッチング時にシャワー圧が加わっても誘電体層11の破壊が抑制される。
本工程においては、第4工程において形成された導体パターン30を含む、積層体20の露出面上に、図6に示すとおり、絶縁層35,35及び金属層37,37を積層する。絶縁層35及び金属層37の積層方法に、特に制限はない。例えば絶縁層35及び銅層等の金属層37を別途用意しておき、それらを積層体20における導体パターン30の露出面に積層することもできる。例えば絶縁層35として、先に第2工程に関して説明した樹脂基材21と同種のものを用い、これを導体パターン30上に積層するとともに、その上に金属層37を積層する。絶縁層35は、積層体20との積層前の状態においては、半硬化のBステージ状態のものであることが好ましく、その状態の絶縁層35を金属層37とともに積層体20と積層し、加熱下にプレスすることで絶縁層35が硬化してこれら三者が接合一体化される。また、絶縁層35及び金属層37を別途用意することに代えて、これらの積層を樹脂付金属箔によって行ってもよい。金属箔の厚みは、目的とするプリント配線板の具体的な用途に応じて適切な値が選択される。
本工程においては、第5工程において絶縁層35及び金属層37が積層された積層体20を、図7に示すとおり、第1金属箔12a第1キャリア13aとの間で剥離する。この後、公知の方法によって回路形成を行うことで、誘電体層11を有する多層プリント配線板が得られる。このようにして得られたプリント配線板は、その具体的な用途に応じ、このまま用いてもよく、あるいは更に積層等の加工が施されてもよい。
Claims (8)
- 比誘電率が50以上20000以下の誘電体粒子を含み且つ厚さ30μm以下である誘電体層を有するプリント配線板の製造方法であって、
補強材を非含有である誘電体層の一方の面に第1金属箔が積層されるとともに他方の面に第2金属箔が積層され、且つ第1金属箔及び第2金属箔に、剥離層を介して第1キャリア及び第2キャリアが積層されてなる金属張積層板を用意し、
一対の前記金属張積層板を用い、樹脂基材の各面に、各金属張積層板における第1キャリアが該樹脂基材と対向するように、各金属張積層板と該樹脂基材とを積層して積層体を形成し、
前記積層体から第2キャリアを剥離して第2金属箔を露出させ、
露出した第2金属箔に対してエッチングを行って導体パターンを形成し、
形成された前記導体パターン上に絶縁層を積層するとともに、該絶縁層上に金属層を積層し、
然る後、前記積層体を第1キャリアと第1金属箔との間で剥離する、工程を有し、
Bステージの状態の前記誘電体層が形成されたキャリア付金属箔と、該誘電体層が形成された別のキャリア付金属箔とを、該誘電体層どうしが対向するように積層して、前記金属張積層板を製造し、
前記誘電体層は、該誘電体層中に前記誘電体粒子を60質量%以上、95%以下含み、破断ひずみエネルギーが1.8MJ以下である、プリント配線板の製造方法。 - 前記誘電体層の引張強度が60.0MPa以下であり、引張破断伸び率が5.0%以下である請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記誘電体層として、厚みのばらつきが±15%以下であるものを用いる請求項1に記載の製造方法。
- 前記誘電体層として、その比誘電率が10以上であるものを用いる請求項1に記載の製造方法。
- 樹脂基材と、
比誘電率が50以上20000以下の誘電体粒子を60質量%以上、95%以下含み、補強材を非含有であり、且つ厚さ30μm以下であり、破断ひずみエネルギーが1.8MJ以下である誘電体層の一方の面に第1金属箔が積層されるとともに他方の面に第2金属箔が積層され、且つ第1金属箔及び第2金属箔に剥離層を介して第1キャリア及び第2キャリアが積層されてなる一対の金属張積層板と、
を具備し、
前記樹脂基材の各面に、各金属張積層板における第1キャリアが該樹脂基材と対向するように、各金属張積層板と該樹脂基材とが積層されてなる積層体。 - 前記誘電体層の引張強度が60.0MPa以下であり、引張破断伸び率が5.0%以下である請求項5に記載の積層体。
- 前記誘電体層は、その厚みのばらつきが±15%以下である請求項5に記載の積層体。
- 前記誘電体層はその比誘電率が10以上である請求項5に記載の積層体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPPCT/JP2015/082627 | 2015-11-19 | ||
PCT/JP2015/082627 WO2017085849A1 (ja) | 2015-11-19 | 2015-11-19 | 誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 |
PCT/JP2016/084204 WO2017086418A1 (ja) | 2015-11-19 | 2016-11-18 | 誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017086418A1 JPWO2017086418A1 (ja) | 2018-09-06 |
JP6907123B2 true JP6907123B2 (ja) | 2021-07-21 |
Family
ID=58718994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017551937A Active JP6907123B2 (ja) | 2015-11-19 | 2016-11-18 | 誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10342143B2 (ja) |
JP (1) | JP6907123B2 (ja) |
KR (1) | KR102547533B1 (ja) |
CN (1) | CN108353509B (ja) |
MY (1) | MY193835A (ja) |
TW (1) | TWI731894B (ja) |
WO (2) | WO2017085849A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017154167A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 三井金属鉱業株式会社 | 多層積層板及びこれを用いた多層プリント配線板の製造方法 |
KR20190116139A (ko) * | 2019-07-22 | 2019-10-14 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 및 그 제조방법 |
CN114698223B (zh) * | 2020-12-29 | 2024-06-14 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种覆不对称金属箔的层压板和包含其的印刷线路板 |
US20240121888A1 (en) * | 2021-01-18 | 2024-04-11 | Vayyar Imaging Ltd. | Systems and methods for improving high frequency transmission in printed circuit boards |
TWI800261B (zh) * | 2022-02-15 | 2023-04-21 | 台虹科技股份有限公司 | 卷狀層疊體的製造方法 |
WO2023189300A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 三井金属鉱業株式会社 | キャパシタ内蔵型プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法 |
WO2024142961A1 (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-04 | Tdk株式会社 | 積層薄膜キャパシタ及びその製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100333627B1 (ko) | 2000-04-11 | 2002-04-22 | 구자홍 | 다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법 |
JP4148501B2 (ja) | 2002-04-02 | 2008-09-10 | 三井金属鉱業株式会社 | プリント配線板の内蔵キャパシタ層形成用の誘電体フィラー含有樹脂及びその誘電体フィラー含有樹脂を用いて誘電体層を形成した両面銅張積層板並びにその両面銅張積層板の製造方法 |
JP4029732B2 (ja) * | 2003-01-17 | 2008-01-09 | 宇部興産株式会社 | 低誘電率ポリイミド基板の製造法 |
JP2007123940A (ja) * | 2003-06-27 | 2007-05-17 | Tdk Corp | コンデンサを内蔵した基板およびその製造方法 |
JPWO2006016586A1 (ja) * | 2004-08-10 | 2008-05-01 | 三井金属鉱業株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法及びその製造方法で得られた多層プリント配線板 |
KR100688743B1 (ko) | 2005-03-11 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | 멀티 레이어 커패시터 내장형의 인쇄회로기판의 제조방법 |
JP2007214427A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板の製造方法 |
CN101681695B (zh) * | 2006-09-06 | 2013-04-10 | 伊利诺伊大学评议会 | 在用于可拉伸电子元件的半导体互连和纳米膜中的受控弯曲结构 |
JP4533449B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2010-09-01 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板の製造方法 |
EP2439063B1 (en) * | 2009-07-07 | 2015-02-25 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Copper foil composite |
JP4546581B2 (ja) * | 2010-05-12 | 2010-09-15 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板の製造方法 |
WO2012132814A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 金属箔複合体及びそれを用いたフレキシブルプリント基板、並びに成形体及びその製造方法 |
SG10201604044UA (en) * | 2011-05-23 | 2016-07-28 | Univ Singapore | Method of transferring thin films |
JP5316615B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2013-10-16 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミック電子部品 |
JP6147559B2 (ja) * | 2013-05-07 | 2017-06-14 | Jx金属株式会社 | 積層体、銅張積層体、フレキシブル配線板及び立体成型体 |
JP5826322B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2015-12-02 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 表面処理銅箔、銅張積層板、プリント配線板、電子機器、半導体パッケージ用回路形成基板、半導体パッケージ及びプリント配線板の製造方法 |
-
2015
- 2015-11-19 WO PCT/JP2015/082627 patent/WO2017085849A1/ja active Application Filing
-
2016
- 2016-11-18 US US15/773,373 patent/US10342143B2/en active Active
- 2016-11-18 MY MYPI2018000667A patent/MY193835A/en unknown
- 2016-11-18 WO PCT/JP2016/084204 patent/WO2017086418A1/ja active Application Filing
- 2016-11-18 TW TW105137826A patent/TWI731894B/zh active
- 2016-11-18 KR KR1020187011739A patent/KR102547533B1/ko active IP Right Grant
- 2016-11-18 CN CN201680064369.6A patent/CN108353509B/zh active Active
- 2016-11-18 JP JP2017551937A patent/JP6907123B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2017086418A1 (ja) | 2018-09-06 |
WO2017085849A1 (ja) | 2017-05-26 |
WO2017086418A1 (ja) | 2017-05-26 |
US20180332721A1 (en) | 2018-11-15 |
TWI731894B (zh) | 2021-07-01 |
KR102547533B1 (ko) | 2023-06-26 |
MY193835A (en) | 2022-10-27 |
US10342143B2 (en) | 2019-07-02 |
KR20180083317A (ko) | 2018-07-20 |
CN108353509B (zh) | 2020-08-07 |
CN108353509A (zh) | 2018-07-31 |
TW201725953A (zh) | 2017-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6907123B2 (ja) | 誘電体層を有するプリント配線板の製造方法 | |
JP6860604B2 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム、回路基板、およびそれらの製造方法 | |
US6693793B2 (en) | Double-sided copper clad laminate for capacitor layer formation and its manufacturing method | |
JP5303656B2 (ja) | 受動電気デバイス及び受動電気デバイスの製造方法 | |
WO2007013330A1 (ja) | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムで被覆した配線板の製造方法 | |
US9924597B2 (en) | Copper clad laminate for forming of embedded capacitor layer, multilayered printed wiring board, and manufacturing method of multilayered printed wiring board | |
CN114514798B (zh) | 两面覆铜层叠板 | |
JP6916165B2 (ja) | 多層積層板及びこれを用いた多層プリント配線板の製造方法 | |
JP2007081274A (ja) | フレキシブル回路用基板 | |
WO2023074361A1 (ja) | 両面銅張積層板、キャパシタ素子及びキャパシタ内蔵プリント配線板、並びに両面銅張積層板の製造方法 | |
JP2004311987A (ja) | 多層基板 | |
JPH01318287A (ja) | 多層配線基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200930 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210405 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210405 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210420 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210629 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210630 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6907123 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |