JP6899697B2 - ゲートバルブ装置及び基板処理システム - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態に係る基板処理システム100を概略的に示す斜視図である。基板処理システム100は、例えばFPD用のガラス基板(以下、単に「基板」と記す)Sに対してプラズマ処理を行う。なお、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。
次に、図1に示したプロセスモジュール101a,101b,101cの構成を説明する。本実施形態では、プロセスモジュール101a,101b,101cがいずれもプラズマエッチング装置101Aである場合を例に挙げて説明するが、これには限られない。
次に、図3を参照して、本実施形態に係るゲートバルブ装置110の構成について詳しく説明する。図3は、本実施形態に係るゲートバルブ装置110の構成を示す断面図である。
1b 側壁
1b1 搬入出口
1b3 搬入出口上部
1b4 溝
1c 蓋体
100 基板処理システム
101 プロセスモジュール
103 搬送モジュール
110 ゲートバルブ装置
201 ハウジング
201a 壁部
201b 開口部
201c 開口上部
201d 溝
201e 突出部
251 キー部材
253 固定部材
Claims (7)
- 減圧環境下で基板に所定の処理を施す処理容器の側壁に形成された前記基板の搬入出口に接続されるゲートバルブ装置であって、
前記搬入出口に連通する開口部が形成された壁部と、
前記壁部の前記開口部よりも上の部分である開口上部に形成された溝と、前記処理容器の側壁の前記搬入出口よりも上の部分である搬入出口上部に形成された溝とに挿入され、前記搬入出口上部の前記溝の上面から前記搬入出口上部を支持するキー部材と
を有し、
前記キー部材は、前記搬入出口上部に形成された溝の上面に当接し、且つ、前記キー部材の下面と前記搬入出口上部に形成された溝の下面との間に隙間を有し、
前記ゲートバルブ装置の壁部と前記処理容器の側壁は、固定部材により固定されることを特徴とするゲートバルブ装置。 - 前記キー部材は、前記搬入出口上部が前記減圧環境下で撓む方向とは反対方向の力を前記搬入出口上部の前記溝の上面に付与することで前記搬入出口上部を支持することを特徴とする請求項1に記載のゲートバルブ装置。
- 前記キー部材は、前記開口上部の前記溝又は前記搬入出口上部の前記溝に固定されることを特徴とする請求項1又は2に記載のゲートバルブ装置。
- 前記開口上部の複数の前記溝と、前記搬入出口上部の複数の前記溝とに挿入される複数の前記キー部材を有し、
互いに隣り合う前記キー部材の間に、前記壁部を前記処理容器の側壁に固定するための固定部材が配置されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のゲートバルブ装置。 - 前記開口上部は、前記壁部以外の他の部分よりも高い位置まで突出する突出部を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のゲートバルブ装置。
- 前記開口上部を補強する補強部材をさらに有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のゲートバルブ装置。
- 減圧環境下で基板に所定の処理を施す処理容器と、前記処理容器の側壁に形成された前記基板の搬入出口に接続されるゲートバルブ装置とを有する基板処理システムであって、
前記ゲートバルブ装置は、
前記搬入出口に連通する開口部が形成された壁部と、
前記壁部の前記開口部よりも上の部分である開口上部に形成された溝と、前記処理容器の側壁の前記搬入出口よりも上の部分である搬入出口上部に形成された溝とに挿入され、前記搬入出口上部の前記溝の上面から前記搬入出口上部を支持するキー部材と
を有し、
前記キー部材は、前記搬入出口上部に形成された溝の上面に当接し、且つ、前記キー部材の下面と前記搬入出口上部に形成された溝の下面との間に隙間を有し、
前記ゲートバルブ装置の壁部と前記処理容器の側壁は、固定部材により固定されることを特徴とする基板処理システム。
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