JP6895376B2 - グラフト化ビス(スルホニル)イミドナトリウムまたはリチウム塩を含む新規なポリマー、その製造方法および電池用の電解質としてのその使用 - Google Patents
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Description
Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシ化モチーフで任意に置換された1〜30個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキル鎖、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表し、
mは、グラフト化ビス(スルホニル)イミド塩を有するオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有しないポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
に関する。
(式中、
Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシ化モチーフで任意に置換された1〜10個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキルモチーフ、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表し、
mは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、Pは40〜300で変動する)
が選択される。
(式中、
Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、
・メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、エチルヘキシル基などの1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、
・トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ノナフルオロブチル、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、
・フェニル、トリル、ナフチル、トリフルオロメチルフェニル、ビス(トリフルオロメチル)フェニル、シアノフェニル、アルキルスルホニルフェニル、アリールスルホニルフェニル、メトキシフェニル、ブトキシフェニル、ペンタフルオロフェニル、アルキルスルホニルフェニル、フルオロフェニル型のアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表し、
mは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは60〜200で変動する)
が選択される。
1)第1の工程において、最適化プロセスに従い、クロロスルホン酸、塩化チオニルおよびホルムアミドの混合物により、式XVI、XVII、XVIII、XIX、XX、XXI、XXIIおよびXXIIIのポリマー:
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
をクロロスルホン化して、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIおよびXXXVIIIのポリマー:
mは、クロロスルホン化基によって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、クロロスルホン化基によって官能化されていないジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
を得ることにより、式I、II、III、IV、V、VI、VII、VIII、IX、X、XI、XII、XIII、XIVおよびXVのポリマーを得てもよい。
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシルモチーフで任意に置換された1〜30個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキルモチーフ、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基、
から選択される基または異なる複数の基を表し、
mは、グラフト化ビス(スルホニル)イミドを有するオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表す)
と、リチウムまたはナトリウム塩基の存在下で反応させる。
1)第1の工程において、最適化プロセスに従い、クロロスルホン酸、塩化チオニルおよびホルムアミドの混合物により、式XVI、XVII、XVII、XIX、XX、XXI、XXIIおよびXXIIIのポリマー:
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
をクロロスルホン化して、式XXIV、XXV、XXVI、XXVII、XXVIII、XXIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIおよびXXXVIIIのポリマー:
mは、クロロスルホン化基によって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、クロロスルホン化基によって官能化されていないジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
を得ることにより、式I、II、III、IV、V、VI、VII、VIII、IX、X、XI、XII、XIII、XIVおよびXVのポリマーを得てもよい。
mは、スルホンアミド官能基を有する官能化オキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%の間で変動する)を表し、
nは、スルホンアミド官能基によって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%の間で変動する)を表し、
pは、当該ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200の間で変動する)
を得る。
Xは、フッ素、塩素、臭素原子、トリフルオロメタンスルホニル、アルキルスルホニルまたはアリールスルホニル基を表し、
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシルモチーフで任意に置換された1〜30個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキルモチーフ、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表す)、
と、リチウムまたはナトリウム塩基の存在下、溶媒中0〜80℃、好ましくは20〜60℃の温度で反応させる。
Claims (19)
- 式I、II、III、IV、V、VI、VII、VIII、IX、X、XI、XII、XIII、XIVまたはXVのグラフト化ビス(スルホニル)イミドリチウムまたはナトリウム塩を含む、ポリアリールエーテルケトンファミリーのポリマーまたはポリエーテルスルホンポリマー:
Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシ化モチーフで任意に置換された1〜30個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキル鎖、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表し、
mは、グラフト化ビス(スルホニル)イミド塩を有するオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有しないポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動する)。 - Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、
・メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、エチルヘキシル基などの1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、
・トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ノナフルオロブチル、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、
・フェニル、トリル、ナフチル、トリフルオロメチルフェニル、ビス(トリフルオロメチル)フェニル、シアノフェニル、アルキルスルホニルフェニル、アリールスルホニルフェニル、メトキシフェニル、ブトキシフェニル、ペンタフルオロフェニル、アルキルスルホニルフェニル、フルオロフェニル型のアリール基
から選択される1つ以上の異なる複数の基を表し、
mは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドモチーフによって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは60〜200で変動する
ことを特徴とする、請求項1に記載のポリマー。 - Mは、リチウムまたはナトリウム原子を表し、
Rは、メチル、エチル、プロピル、シクロプロピル、ブチル、1−デシル、1−ドデシル、1−ヘキサンデシル、1−オクチルデシル、(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、((1R)−7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、(1S)−(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、シクロヘキシルメチル、トリフルオロメチル、フェニル、トリル、ナフチル、4−トリフルオロメチルフェニル、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル、4−シアノフェニル、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタニル(pentafluoroethanye)、ノナフルオロブチル、ペンタフルオロフェニル、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、4−シアノフェニル、4−(トリフルオロメチル)フェニル、3−(トリフルオロメチル)フェニル、2−(トリフルオロメチル)フェニル、4−メチルフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、3,5−ジフルオロベンジル、4−フルオロベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、2,5−ジメチルベンジル、2−フェニルエチル、4−メトキシフェニル、4−n−ブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−ブトキシフェニル、2−フルオロ−5−(トリフルオロメチル)フェニルまたは4−エチルフェニル基であり、
mは、ビス(スルホニル)イミドによって官能化されたジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、ビス(スルホニル)イミドによって官能化されていないジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは60〜200で変動する
ことを特徴とする、請求項1に記載のポリマー。 - 第1の工程では、クロロスルホン酸、塩化チオニルおよびホルムアミドの混合物により、式XVI、XVII、XVIII、XIX、XX、XXI、XXIIまたはXXIIIの式のポリマー:
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300、好ましくは60〜200で変動する)
をクロロスルホン化して、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIの式のポリマー:
mは、クロロスルホン化基によって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、クロロスルホン化基によって官能化されていないジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動し、好ましくはpは30〜200の間で変動する)
を得、
第2の工程では、溶媒中で、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIの式のポリマーを、式XXXIXのスルホンアミド:
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシルモチーフで任意に置換された1〜30個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキルまたはシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキルモチーフ、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表す)
と、リチウムまたはナトリウム塩基の存在下で反応させることを特徴とする、請求項1に記載のポリマーの合成方法。 - 前記XXXIXスルホンアミドの前記R基は、メチル、エチル、プロピル、シクロプロピル、ブチル、1−デシル、1−ドデシル、1−ヘキサンデシル、1−オクチルデシル、(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、((1R)−7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、(1S)−(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、シクロヘキシルメチル、フェニル、トリル、ナフチル、4−トリフルオロメチルフェニル、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル、2,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル、4−シアノフェニル、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタニル、ノナフルオロブチル、ペンタフルオロフェニル、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、4−シアノフェニル、3−(トリフルオロメチル)フェニル、2−(トリフルオロメチル)フェニル、4−メチルフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、3,5−ジフルオロベンジル、4−フルオロベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、2,5−ジメチルベンジル、2−フェニルエチル、4−メトキシフェニル、4−n−ブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−ブトキシフェニル、2−フルオロ−5−(トリフルオロメチル)フェニルまたは4−エチルフェニル基から選択されることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 第1の工程では、式XVI、XVII、XVIII、XIX、XX、XXI、XXIIまたはXXIIIの式のポリマー
(式中、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動する)
をクロロスルホン化して、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIの式のクロロスルホン化ポリマー
(式中、
mは、クロロスルホン化基によって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%の間で変動する)を表し、
nは、クロロスルホン化基によって官能化されていないジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動する)
を得、
第2の工程では、アンモニアガスを含む溶液またはアンモニア溶液中で、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIのポリマーを反応させて、式XL、XLI、XLII、XLIII、XLIV、XLV、XLVI、XLVII、XLVIII、XLIX、L、LI、LII、LIIIまたはLIVの式のポリマー:
mは、スルホンアミド官能基を有する官能化オキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%の間で変動する)を表し、
nは、スルホンアミド官能基によって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動する)
を得、
第3の工程では、式XL、XLI、XLII、XLIII、XLIV、XLV、XLVI、XLVII、XLVIII、XLIX、L、LI、LII、LIIIまたはLIVの式のポリマーを、式LVのハロゲン化スルホニル:
Xは、フッ素、塩素、臭素原子、トリフルオロメタンスルホニル、アルキルスルホニルまたはアリールスルホニル基を表し、
Rは、
・シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシルモチーフで任意に置換された1〜30個、好ましくは1〜10個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するアルキル基、シクロアルキル、アリール、パーフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、モノもしくはポリエトキシルモチーフで任意に置換された1〜30個、好ましくは1〜10個の直鎖状もしくは分岐鎖状炭素原子を有するシクロアルキル基、
・芳香族基で任意に置換されたパーフルオロもしくはポリフルオロアルキル基、
・アルキル、シクロアルキル、ポリフルオロもしくはパーフルオロアルキルモチーフ、ニトリル官能基、アルキルまたはアルキルスルホニル官能基、フッ素原子で任意に置換されたアリールまたはポリアリール基
から選択される基または異なる複数の基を表す)
と、リチウムまたはナトリウム塩基の存在下、溶媒中0〜80℃、好ましくは20〜60℃温度で反応させることを特徴とする、請求項1に記載のポリマーの合成方法。 - 前記ハロゲン化スルホニルの前記R基は、メチル、エチル、プロピル、シクロプロピル、ブチル、1−デシル、1−ドデシル、1−ヘキサンデシル、1−オクチルデシル、(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、((1R)−7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、(1S)−(7,7−ジメチル−2−オキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル)メチル、シクロヘキシルメチル、トリフルオロメチル、フェニル、トリル、ナフチル、トリフルオロフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル、4−シアノフェニル、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエタニル、ノナフルオロブチル、ペンタフルオロフェニル、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、4−(トリフルオロメチル)フェニル、3−(トリフルオロメチル)フェニル、2−(トリフルオロメチル)フェニル、4−メチルフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、3,5−ジフルオロベンジル、4−フルオロベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、2,5−ジメチルベンジル、2−フェニルエチル、4−メトキシフェニル、4−n−ブチルフェニル、4−t−ブチルフェニル、4−ブトキシフェニル、2−フルオロ−5−(トリフルオロメチル)フェニルまたは4−エチルフェニル基であることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記クロロスルホン化を、1〜10当量のアミドの存在下で1〜10当量のクロロスルホン酸、1〜30当量の塩化チオニルの混合物により0〜80℃の温度で行うことを特徴とする、請求項4〜7のうちの1項に記載の方法。
- 前記塩基は、水酸化リチウム、ソーダ、リチウムメチラート、ナトリウムメチラート、リチウムエチラート、ナトリウムエチラート、リチウムイソプロピラート、ナトリウムイソプロピラート、リチウムt−ブチラート、ナトリウムt−ブチラート、水素化リチウム、水素化ナトリウム、n−ブチルリチウム、n−ブチルナトリウム、s−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、tert−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウム、フェニルナトリウム、ベンジルリチウム、ベンジルナトリウム、リチウムジムシラート、ナトリウムジムシラートから選択され、好ましい塩基は反応中に水を生成しないものであることを特徴とする、請求項4〜8のうちの1項に記載の方法。
- 前記クロロスルホン化をN,N−ジメチルホルムアミドの存在下で行うことを特徴とする、請求項4〜9のうちの1項に記載の方法。
- 前記反応を溶媒、好ましくはTHF、メチルTHF、ジクロロメタン、ジクロロエタンまたは溶媒の混合物中で行うことを特徴とする、請求項6〜11のうちの1項に記載の方法。
- 式XL、XLI、XLII、XLIII、XLIV、XLV、XLVI、XLVII、XLVIII、XLIX、L、LI、LII、LIIIまたはLIVのスルホンアミドポリマーを形成するための、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIのクロロスルホン化ポリマーの前記アミノ化反応を、アンモニアガスを含む溶媒またはTHF、メチルTHF、メタノール、ジオキサンおよびイソプロパノールなどの溶媒に溶解したアンモニア溶液中で行うことを特徴とする、請求項6〜12のうちの1項に記載の方法。
- 式XXXIXの前記スルホンアミドによる、式XXIV、XXV、XXVI、XVII、XXVIII、XIX、XXX、XXXI、XXXII、XXXIII、XXXIV、XXXV、XXXVI、XXXVIIまたはXXXVIIIのポリマーの前記アミノ化反応を−20℃〜60℃の温度で行うことを特徴とする、請求項6〜12のうちの1項に記載の方法。
- 式XL、XLI、XLII、XLIII、XLIV、XLV、XLVI、XLVII、XLVIII、XLIX、L、LI、LII、LIIIまたはLIVの式のポリマー:
mは、スルホンアミドモチーフによって官能化されたオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は50〜100%、好ましくは90〜100%の間で変動する)を表し、
nは、スルホンアミドモチーフによって官能化されていないオキソアリールまたはジオキソアリールモチーフを有するポリマー単位の割合(この割合は0〜50%、好ましくは0〜10%の間で変動する)を表し、
pは、前記ポリマーのポリマー単位数を表し、pは40〜300で変動し、好ましくはpは60〜200の間で変動する)。 - 10μm〜200μmの厚さを有するフィルムを形成するための請求項1〜3のうちの1項に記載のポリマーの使用。
- 請求項1〜3に記載のポリマーの1種を無水溶媒中で可溶化し、前記ポリマー溶液を固体担体に蒸着させ、次いで前記溶媒を加熱、不活性ガスの吹き付けまたは減圧の印加により蒸発させることにより、微量の水および水分の非存在下、溶媒中で行うことを特徴とする、電池用の電解質として機能するフィルムの調製方法。
- 前記溶媒はDMSOであることを特徴とする、請求項16に記載の方法。
- 請求項15に記載のポリマーのフィルムを含み、かつ溶媒の有無に関わらず10−8〜2×10−3S/cmのオーダーの伝導率を有することを特徴とする、電池用の電解質。
- 請求項15に記載のポリマーのフィルムを含み、かつ20〜100℃の温度範囲で使用されることを特徴とする、電池用の電解質。
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