JP6889672B2 - 検査装置用配線基板 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、シリコンウェハーの表面に沿って形成された多数の電子部品の電気的特性を個別に検査するための検査装置に用いる配線基板に関する。
例えば、直径が約30cmのシリコンウェハーの表面に沿って形成された多数の電子部品の電気的特性を個別に検査するため、平面視が前記シリコンウェハーと対応する大きな電子コンポーネント基板(より大きな絶縁基板)の表面に、多数の前記電子部品(1チップ)と個別に対応する多数のタイル基板を積層したプローブカードに用いる接触子担体(タイル)が提案されている(例えば、特許文献1の図7およびその説明を参照)。
しかし、前記タイル基板は、セラミックなどの絶縁材からなっているため、該タイル基板の内部に形成される内層配線やビア導体などの導電経路が太くなりがちである。また、上記タイル基板の表面に形成される表面パッド同士の間隔を形成する場合にも、セラミックを焼成する際の焼成収縮を考慮する必要があるため、極狭の間隔で形成することが困難である。その結果、上記タイル基板に高精度の導電経路を形成し難く、且つインピーダンス整合も不安定になり易い。そのため、該タイル基板の表面上に自立され且つ検査すべき電子部品に対して電気的に接触する複数の相互接触要素を介した精度の高い検査が行えない場合が生じ得る、という問題があった。
特開2004−336062号公報(第1〜49頁、図1〜12)
本発明は、背景技術で説明した問題点を解決し、全体を小型化でき、且つ高精度の導電経路を内設し、表面パッド同士の配置間隔を狭く形成でき、安定したインピーダンス整合を有する複数のタイル基板を備えた検査装置用配線基板を確実に提供する、ことを課題とする。
課題を解決するための手段および発明の効果
本発明は、前記課題を解決するため、平面視が比較的大きなベース基板のベース表面上に搭載する複数のタイル基板を、複数のプローブ用パッドを有する表面側を複数の樹脂層を積層した樹脂基板部と、該樹脂基板の樹脂裏面側に積層するセラミック基板部とによって構成する、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明の検査装置用配線基板(請求項1)は、絶縁材からなり、対向するベース表面およびベース裏面を有し、且つ該ベース表面に設けた複数のベース表面端子と前記ベース裏面に設けた複数のベース裏面端子との間を導通する複数の導通経路を有する単一のベース基板と、該ベース基板における上記ベース表面端子上に搭載され、対向する表面および裏面を有し、且つ該表面に設けた複数のプローブ用パッドと、前記裏面に設けた複数の裏面接続端子とを含む複数のタイル基板と、を備えた検査装置用配線基板であって、前記タイル基板は、対向する上面および下面を有し、単層または複数のセラミック層からなり、且つ前記上面に設けた複数の上面接続端子および前記下面に設けた複数の下面接続端子と、上記上面接続端子と下面接続端子との間を導通する複数の貫通導体とを有するセラミック基板部と、該セラミック基板部の上記上面側に積層され、且つ対向する樹脂表面および樹脂裏面を有する複数の樹脂層と、前記樹脂表面に形成された複数の上記プローブ用パッドと、上記樹脂層同士の層間に形成された複数の内層配線と、何れかの該内層配線を介して上記プローブ用パッドと、上記上面接続端子との間を導通する複数の導電経路とを備えた第1樹脂基板部と、からなり、複数の前記タイル基板は、平面視において前記ベース基板の表面上において互いに隣接して搭載されており、前記ベース基板のベース表面に設けた複数の前記ベース表面端子と、前記タイル基板の前記下面に形成された複数の前記下面接続端子とは、個別に少なくともハンダを介して電気的に接続されている、ことを特徴とする。
尚、前記タイル基板の表面と、前記第1樹脂基板部の樹脂表面とは、同じ面であり、前記タイル基板の裏面と、前記セラミック基板部の下面とは、同じ面である。
前記検査装置用配線基板は、以下の効果(1)、(2)、(4)を有している。
(1)前記タイル基板は、前記セラミック基板部と、該セラミック基板部の上面側に積層され、複数の樹脂層および該樹脂層間に形成された複数の内層配線と、樹脂表面に形成された複数のプローブ用パッドと、該プローブ用パッドと上記のセラミック基板部の上面に設けた複数の上面接続端子との間を導通する複数の導電経路を有する第1樹脂基板部と、によって構成されている。そのため、該第1樹脂基板部では、セラミックのような焼成収縮を考慮する必要がなく、第1樹脂基板部内には、線幅が比較的細い複数の内層配線が極狭の間隔で精度良く配線されているので、上記プローブ用パッドへの給電や、該プローブ用パッドからの検査電流を、安定したインピーダンス整合によってセラミック基板部側に送電することが可能となる。更に、上記プローブ用パッド同士の配置間隔を極狭く形成することも可能となる。従って、全体が小型で、高精度で且つインピーダンス整合が安定した内層配線を有し、且つプローブ用パッドを極狭間隔で配置した複数のタイル基板を備えた検査装置用配線基板が提供できる。
(2)前記タイル基板は、前記セラミック基板部と第1樹脂基板部とを積層した複合基板であり、当該タイル基板全体の強度はセラミック基板部によって保証されているので、複数のセラミック基板部と、これと同数の第1樹脂基板部とを1つの多数個取り配線基板によって比較的容易に製作できると共に、個片化した個々のタイル基板の強度を確実に保証することできる。従って、個々のタイル基板の取り付けや取り外しが容易な検査装置用配線基板を提供することが可能となる。
(4)複数の前記タイル基板は、平面視において前記ベース基板の表面上において互いに隣接して搭載されているので、前記効果(1)、(2)を併有すると共に、多数の被検査電子部品の電気的特性を、個別に高精度で且つ効率良く検査することができる。
尚、前記ベース基板を構成する絶縁材は、セラミックまたは樹脂の何れかであり、かかる絶縁材の層を複数積層して形成されている。
また、前記ベース基板は、平面視で円形、あるいは、八角形以上の正多角形または変形多角形を呈する前記ベース表面およびベース裏面を有している。
更に、前記ベース基板の内部に位置する導通経路は、前記ベース表面端子とベース裏面端子との間を当該ベース基板の厚み方向に沿って貫通するビア導体(その中間に介在するランドを含む)からなるか、あるいは、該ビア導体とその中間に接続された任意数の内層配線とからなる。
また、前記タイル基板を構成する前記セラミック基板部は、例えば、ガラス−セラミックなどの低温同時焼成セラミック、あるいは、例えば、アルミナなどの高温同時焼成セラミックからなる。
更に、前記タイル基板の前記樹脂基板部を構成する複数の樹脂層は、例えば、耐熱性に優れたポリイミド(PI)からなる複数のフィルムを積層したもの、あるいは、樹脂ペーストを塗布した複数の樹脂塗布層を積層したものからなる。
また、前記セラミック基板部の下面および上面に形成される前記上面接続端子と下面接続端子とは、例えば、銅や銀からなり、セラミック層と同時焼成される。
更に、前記セラミック基板部の内部に設ける前記貫通導体は、該セラミック基板部の上面と下面との間を貫通するビア導体からなるか、あるいは、該ビア導体とその中間に配置されるランドまたは内層配線とからなり、これらは銅または銀、あるいは、これらの何れか一方をベースとする銅合金または銀合金からなる。
加えて、前記樹脂基板部の樹脂表面に形成する前記プローブ用パッド、前記内層配線、および、主にビア導体からなる前記貫通導電路は、銅または銀、あるいは、これらの何れか一方をベースとする前記同様の合金からなる。
また、本発明には、前記セラミック基板部の下面側には、該下面側に積層され、且つ対向する第2樹脂表面および第2樹脂裏面を有する複数の第2樹脂層と、前記第2樹脂表面に形成された複数の第2樹脂表面接続端子と、前記第2樹脂層同士の層間に形成された複数の第2内層配線と、何れかの第2内層配線を介して上記第2樹脂表面接続端子と前記下面接続端子との間を導通する複数の導電経路とを備えた第2樹脂基板部を有している、検査装置用配線基板(請求項2)も含まれる。
上記検査装置用配線基板によれば、更に以下の効果(3)が得られる。
(3)前記タイル基板は、前記セラミック基板部の上面側に前記第1樹脂基板部が積層され、且つ該セラミック基板部の下面側に前記第2樹脂基板部が積層されているので、製作時における多数個取りの形態や、個片化された個々のタイル基板における厚み方向に沿った熱的不均衡による厚み方向の反りが抑制されている。従って、平坦な表面を有する複数のタイル基板を前記ベース基板のベース表面上に搭載した検査装置用配線基板とされている。
尚、前記樹脂基板部を前記セラミック基板部の上面側と下面側との双方に積層する形態において、第1樹脂基板部と第2樹脂基板部との間における樹脂層の層数と個々の樹脂層の厚みとは、前記タイル基板の反りを抑制する観点から、上面側および下面側が共に線対称であるか、ほぼ線対称であることが推奨される。
更に、本発明には、複数の前記タイル基板は、平面視が矩形状を呈している、検査装置用配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、前記に加えて更に以下の効果(4)を得ることができる。
(4)前記効果(1),(2)を有するか、あるいは前記効果(1)乃至(3)を併有すると共に、多数の被検査電子部品の電気的特性を、個別に高精度で且つ効率良くする検査することできる。
尚、前記「隣接」には、タイル基板同士の側面が接触して配置されている形態の他、前記側面同士が所定の間隔を空けて配置されている形態も含まれている。
また、本発明には、前記ベース基板のベース表面に設けた複数の前記ベース表面端子と、前記タイル基板の前記第2樹脂表面に形成された第2樹脂表面接続端子とは、個別にハンダを介して直接接続されている、検査装置用配線基板(請求項4)も含まれる。
これによれば、前記第2樹脂基板部を有する形態において、前記効果(4)をより確実に得ることが可能となる。
加えて、本発明には、前記タイル基板における前記第1樹脂基板部の表面に形成された複数の前記プローブ用パッドの上面ごとには、プローブピンが立設されている、検査装置用配線基板(請求項5)も含まれる。
これによれば、前記効果(4)を一層確実に得ることが可能となる。
(A)は本発明による一形態の検査装置用配線基板を示す部分平面図、(B)は(A)中のB−B線の矢視に沿った部分垂直断面図、(C)は(B)中の一点鎖線鎖線Cの拡大図、(D)は(C)中の矢印Dに沿った1タイル基板の平面図。 図1で示した1つのタイル基板とその搭載部付近を示す垂直断面図。 上記タイル基板の応用形態とその搭載部付近を示す垂直断面図。
以下において、本発明を実施するための形態について説明する。
図1(A)は、本発明による一形態の検査装置用配線基板1を示す部分平面図、図1(B)は、(A)中のB−B線の矢視に沿った部分垂直断面図である。
上記検査装置用配線基板(以下、単に配線基板と称する)1は、図1(A)、(B)に示すように、平面視が円形で且つ対向するベース表面3およびベース裏面4を有する全体が円盤形状のベース基板2と、該ベース基板2のベース表面3上において、平面視で互いに隣接して搭載されている複数のタイル基板10aと、を備えている。該タイル基板10aは、平面視で長辺が約10〜15mmで且つ短辺が約5〜7mmの長方形(矩形)を呈する。
前記ベース基板2は、図1(C)にて例示するように、複数のセラミック層(絶縁材)c1〜c4を積層してなり、前記ベース表面3に設けた複数のベース表面端子5と、前記ベース裏面4に設けた複数のベース裏面端子6と、前記ベース表面端子5とベース裏面端子6との間を個別に導通する複数の導通経路7を有している。該導通経路7は、図示のように、上記セラミック層c1〜c4を厚み方向に沿って個別に貫通する複数のビア導体8と、該ビア導体8同士の間で且つ上記セラミック層c1〜c4の層間に配置された複数のランド9あるいは内層配線9とによって構成されている。
尚、前記ベース表面3およびベース裏面4の平面視における直径は、検査すべきシリコンウェハーの直径と同等であるか、これよりも若干大である。
また、前記セラミック層c1〜c4は、例えば、主にアルミナからなる。
更に、前記ベース表面端子5、ベース裏面端子6、ビア導体8、およびランド9ないし内層配線9は、例えば、主にタングステン(以下、単にWと略記する)あるいはモリブデン(以下、単にMoと略記する)からなる。
加えて、前記ベース表面端子5とベース裏面端子6とにおける外部への露出面には、電解金属メッキによるニッケル膜および金膜が順次被覆されている。
一方、前記タイル基板10aは、図1(C)にて例示するように、前記ベース基板2における複数のベース表面端子5上に跨がって搭載され、該ベース基板2側に位置するセラミック基板部11と、該セラミック基板部11の上面(外方)12側に積層された第1樹脂基板部20aと、により構成されている。
上記第1樹脂基板部20aの樹脂表面21aには、図1(D)にて例示するように、平面視で縦横合計24個(複数)のプローブ用パッド23が格子状に配置されている。尚、複数の該プローブ用パッド23は、平面視で千鳥状あるいは市松模様を形成するように配置しても良い。
図2は、1つの前記タイル基板10aとその搭載部付近とを示す垂直断面図である。該タイル基板10aのセラミック基板部11は、図2に示すように、複数のセラミック層s1〜s4を積層してなり、平面視が前記長方形を呈して対向する上面12および下面13を有する。尚、該セラミック基板部11の下面13は、前記タイル基板10aの裏面13も兼ねている。
上記セラミック層s1〜s4の層間ごとには、複数の内層配線18,19が形成され、最上層のセラミック層s1が有する上面12には、複数の上面接続端子14が形成されている。更に、最下層のセラミック層c4が有する下面13には、複数の下面接続端子15が形成されている。該下面接続端子15は、図2に示すように、前記ベース基板2のベース表面端子5と個別に、ハンダ29を介して電気的に接続される。該ハンダ29は、例えば、Au−Sn系合金からなる。
図2に示すように、前記上面接続端子14と下面接続端子15との間には、前記セラミック層s1〜s4を個別に且つ厚み方向に沿って貫通する複数のビア導体17と、これらの間に配置された前記内層配線18,19とから構成された複数の貫通導体16が形成されている。
尚、前記セラミック層s1〜s4は、例えば、ガラス−セラミックのような低温同時焼成セラミックからなる。また、前記上面接続端子14、下面接続端子15、ビア導体17、および内層配線18,19は、主に銅あるいは銀からなる。
更に、前記内層配線18の一部または全部は、ランドとしても良い。
加えて、少なくとも前記内層配線19は、平面視の線幅が約50μmである。
前記タイル基板10aの第1樹脂基板部20aは、図2に示すように、複数の樹脂層j1〜j4を積層してなり、平面視が前記長方形を呈して対向する樹脂表面21aおよび樹脂裏面22aを有する。尚、該第1樹脂基板部20aの樹脂表面21aは、前記タイル基板10aの表面21aも兼ねている。
また、上記樹脂層j1〜j4の層間ごとには、複数の内層配線25aが形成され、最上層の樹脂層j1が有する樹脂表面21aには、複数のプローブ用パッド23が形成されている。該プローブ用パッド23ごとの上面には、追ってプローブピン28が個別に立設される。
更に、上記プローブ用パッド23と前記樹脂裏面22aとの間には、前記樹脂層j1〜j4を個別に且つ厚み方向に沿って貫通する複数のビア導体26と、これらの間ごとに配線された前記内層配線25aと、から構成される複数の導電経路24aが形成されている。
尚、最下層の前記樹脂層j4を貫通するビア導体26は、図2に示すように、前記セラミック基板部11の上面接続端子14と電気的に接続されている。
また、前記樹脂層j1〜j4は、例えば、耐熱性に優れたポリイミド(PI)のフィルムを積層したものであり、前記プローブ用パッド23、内層配線25a、およびビア導体26は、銅または銀からなり、フォトリソグラフィ技術(例えば、サブトラクティブ法)によって、図2に示す位置ごとに形成されたものである。
そのため、少なくとも、前記内層配線25aは、平面視の線幅が約25μm以下の比較的細く、且つ該内層配線25a同士の間隔が20μm以上で且つ300μm以下にして形成されている。その結果、該内層配線25aを含む前記導電経路24aでは、比較的小さな電流でも確実に送電可能となるため、安定したインピーダンス(約200Ω)整合を保証することが可能とされている。
更に、隣合うプローブ用パッド23同士の間隔(ピッチ)も、100〜300μmの範囲で形成されているので、極狭の間隔で配置された検査すべきICチップなどの電子部品の配線に対する電気的検査も可能とされている。
前記第1樹脂基板部20aは、前記セラミック基板部11の上面12に、前記上面接続端子14を除いた位置に塗布された接着剤層(図示せず)を介して、前記上面12の上に、前記樹脂裏面22aが接合されることにより、前記タイル基板10aを形成している。そして、該タイル基板10aは、前記ベース基板2のベース表面3に位置する前記ベース表面端子5ごとの上に、前記ハンダ29を介して搭載されることにより、前記図1(A)〜(C)に示した前記配線基板1が得られる。尚、少なくとも、前記プローブ用パッド23と、下面接続端子15との外部に露出する表面には、前記同様のニッケル膜および金膜が被覆されている。
そして、前記配線基板1は、ベース基板2の前記ベース裏面4に設けた複数のベース裏面端子6を、図示しない検査装置側の外部接続端子に電気的に接続して該配線基板1を装着することにより、前記プローブピン28が個別に接触する電子部品(1チップ)ごとの電気的特性を正確に検査することが可能となる。
前記のような配線基板1によれば、前記タイル基板10aが、前記セラミック基板部11と、該セラミック基板部11の上面12側に積層され、複数の樹脂層j1〜j4およびこれらの間に形成された複数の内層配線25aと、樹脂表面21aに形成された複数のプローブ用パッド23と、該プローブ用パッド23と上記セラミック基板部11の上面12に設けた複数の上面接続端子12との間を導通する複数の導電経路24aを有する第1樹脂基板部20aと、により構成されている。そのため、該樹脂基板部20aには、線幅が比較的細い複数の内層配線25aが極狭の間隔で精度良く配線されているので、上記プローブ用パッド23への給電や、該プローブ用パッド23からの検査済みの電流を、安定したインピーダンス整合によってセラミック基板部11側に送電することが可能となっている。また、隣合うプローブ用パッド23同士の間隔を狭く形成することも可能となっている。よって、全体が小型で、高精度で且つインピーダンス整合が安定した内層配線を有する複数のタイル基板を備えた配線基板1を提供することができる。
更に、前記タイル基板10aは、前記セラミック基板部11と第1樹脂基板部20aとを積層した複合基板であり、当該タイル基板10a全体の強度はセラミック基板部11によって保証されているので、複数のセラミック基板部11と、これと同数の樹脂基板部20aとを1つの多数個取りの形態によって比較的容易に製作できると共に、個片化した個々のタイル基板10aの強度を確実に保証することかできる。よって、個々のタイル基板10aの取り付けや取り外しが容易な配線基板1を提供することが可能となる。
従って、前記配線基板1によれば、前記効果(1)、(2)、(4)を確実に得ることができる。
図3は、前記タイル基板10aの応用形態であるタイル基板10bとその搭載部付近とを示す垂直断面図である。
上記タイル基板10bは、図3に示すように、前記セラミック基板部11と、その上面12上に積層した前記第1樹脂基板部20aとを備え、更に、上記セラミック基板部11の下面13側に第2樹脂基板部20bを、上記第1樹脂基板部20aとほぼ線対称(セラミック基板部11を挟んでほぼ対称)にして一体に積層したものである。
上記第2樹脂基板部20bは、前記と同じポリイミド(PI)からなり且つ前記同様の厚みのフィルムを積層した複数の第2樹脂層j5〜j8と、図3で最下層の樹脂層j8が有する第2樹脂表面21bおよび最上層の樹脂層j5が有する第2樹脂裏面22bと、上記第2樹脂層j5〜j8の層間ごとに形成された複数の第2内層配線25bと、上記第2樹脂表面21bに形成された複数の第2樹脂表面接続端子27と、を備えている。尚、上記第2樹脂表面21bは、本タイル基板10bにおける裏面21bを兼ねている。
前記第2樹脂表面接続端子27と、第2樹脂裏面22bとの間には、第2樹脂層j5〜j8を個別に貫通するビア導体26と、これらの間ごとに配置された前記第2内層配線25bとから構成される複数の第2導電経路24bが配設されている。尚、上記第2内層配線25bの一部または全部は、ランドにしても良い。
また、図3に示すように、上記第2導電経路24bごとにおける最上層の第2樹脂層j5を貫通するビア導体26の第2樹脂裏面22b側の端部は、前記セラミック基板部11の下面接続端子15と、電気的に接続可能とされている。
更に、複数の前記第2樹脂表面接続端子27は、前記同様のハンダ29を介して、前記ベース基板2側のベース表面端子5と、個別に導通可能とされ、かかる状態で、本タイル基板10bは、ベース基板2のベース表面3上に搭載される。
加えて、上記第2樹脂表面接続端子27の表面にも、前記同様のニッケル膜および金膜が順次被覆されている。
複数の前記タイル基板10bをベース基板2のベース表面3上に搭載した前記配線基板1によれば、前記タイル基板10bが、前記セラミック基板部11の上面12側に前記第1樹脂基板部20aが積層され、且つ該セラミック基板部11の下面13側に前記第2樹脂基板部20bが積層されているので、製作時(例えば、キュア処理工程)における多数個取りの形態や、個片化された個々のタイル基板10bにおける厚み方向に沿った熱的不均衡による反りが抑制されている。従って、平坦な表面21aを有する複数のタイル基板10bを前記ベース基板2のベース表面3上に正確に搭載した配線基板1とされている。
よって、複数の前記タイル基板10bをベース基板2の表面3上に搭載した前記配線基板1によれば、前記効果(1)乃至(4)を得ることができる。
本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
例えば、前記ベース基板を構成する絶縁材は、前記アルミナ以外のセラミック(例えば、ムライトや窒化アルミニウムなど)としたり、エポキシ系などの樹脂としたり、更には、任意数のセラミック層と樹脂層とを積層した複合材でも良い。
また、前記ベース基板は、そのベース表面およびベース裏面が、平面視で八角形以上の正多角形あるいは変形多角形を呈する形態であっても良い。
更に、前記タイル基板は、その表面および裏面が平面視で正方形、あるいは、ほぼ正方形を呈する形態としても良い。
また、前記ベース基板のベース表面上には、複数のタイル基板を、平面視で主に千鳥状ないし市松模様のパターンにして搭載しても良い。あるいは、市松模様のパターンと格子模様のパターンとが混在しつつ隣接するように搭載しても良い。
更に、前記タイル基板10a,10bのセラミック基板部11は、単数のセラミック層からなり、該単数のセラミック層を複数のビア導体(前記貫通導体16に相当)が貫通する形態としても良い。
また、前記セラミック基板部11のセラミック層snは、アルミナやムライトなどの高温同時焼成セラミックとしても良く、この場合、前記上面接続端子14、下面接続端子15、ビア導体17、および内層配線18,19には、WあるいはMoが用いられる。
加えて、前記第1樹脂基板部20aおよび第2樹脂基板部20bは、2層または3層の(第2)樹脂層、あるいは5層以上の(第2)樹脂層を積層したものとしても良い。
本発明によれば、全体を小型化でき、且つ高精度の導電経路を内設し、安定したインピーダンス整合を有する複数のタイル基板を備えた検査装置用配線基板を確実に提供することができる。
1…………………検査装置用配線基板
2…………………ベース基板
3…………………ベース表面
4…………………ベース裏面
5…………………ベース表面端子
6…………………ベース裏面端子
7…………………導通経路
10a,10b…タイル基板
11………………セラミック基板部
12………………上面
13………………下面/裏面
14………………上面接続端子
15………………下面接続端子
16………………貫通導体
20a……………第1樹脂基板部
20b……………第2樹脂基板部
21a……………樹脂表面/表面
21b……………第2樹脂表面/裏面
22a……………樹脂裏面
22b……………第2樹脂裏面
23………………プローブ用パッド
24a……………導電経路
24b……………第2導電経路
25a……………内層配線
25b……………第2内層配線
27………………第2樹脂表面接続端子
28………………プローブピン
29………………ハンダ
c1〜c4………セラミック層(絶縁材)
s1〜s4………セラミック層
j1〜j8………樹脂層

Claims (5)

  1. 絶縁材からなり、対向するベース表面およびベース裏面を有し、且つ該ベース表面に設けた複数のベース表面端子と前記ベース裏面に設けた複数のベース裏面端子との間を導通する複数の導電経路を有する単一のベース基板と、
    上記ベース基板における上記ベース表面端子上に搭載され、対向する表面および裏面を有し、且つ該表面に設けた複数のプローブ用パッドと、前記裏面に設けた複数の裏面接続端子とを含む複数のタイル基板と、を備えた検査装置用配線基板であって、
    上記タイル基板は、対向する上面および下面を有し、単層または複数のセラミック層からなり、且つ前記上面に設けた複数の上面接続端子および前記下面に設けた複数の下面接続端子と、上記上面接続端子と下面接続端子との間を導通する複数の貫通導体とを有するセラミック基板部と、
    上記セラミック基板部の上記上面側に積層され、且つ対向する樹脂表面および樹脂裏面を有する複数の樹脂層と、前記樹脂表面に形成された複数の上記プローブ用パッドと、上記樹脂層同士の層間に形成された複数の内層配線と、何れかの該内層配線を介して上記プローブ用パッドと、上記上面接続端子との間を導通する複数の導電経路とを備えた第1樹脂基板部と、からなり、
    複数の前記タイル基板は、平面視において前記ベース基板の表面上において互いに隣接して搭載されており、
    前記ベース基板のベース表面に設けた複数の前記ベース表面端子と、前記タイル基板の前記下面に形成された複数の前記下面接続端子とは、個別に少なくともハンダを介して電気的に接続されている、
    ことを特徴とする検査装置用配線基板。
  2. 前記セラミック基板部の下面側には、該下面側に積層され、且つ対向する第2樹脂表面および第2樹脂裏面を有する複数の第2樹脂層と、前記第2樹脂表面に形成された複数の第2樹脂表面接続端子と、前記第2樹脂層同士の層間に形成された複数の第2内層配線と、何れかの第2内層配線を介して上記第2樹脂表面接続端子と前記下面接続端子との間を導通する複数の導電経路とを備えた第2樹脂基板部を有している、
    ことを特徴とする請求項1に記載の検査装置用配線基板。
  3. 複数の前記タイル基板は、平面視が矩形状を呈している、
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の検査装置用配線基板。
  4. 前記ベース基板のベース表面に設けた複数の前記ベース表面端子と、前記タイル基板の前記第2樹脂表面に形成された第2樹脂表面接続端子とは、個別にハンダを介して直接接続されている、
    ことを特徴とする請求項に記載の検査装置用配線基板。
  5. 前記タイル基板における前記第1樹脂基板部の表面に形成された複数の前記プローブ用パッドの上面ごとには、プローブピンが立設されている、
    ことを特徴とする請求項1乃至4何れか一項に記載の検査装置用配線基板。
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