JP6866516B2 - 黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法 - Google Patents

黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6866516B2
JP6866516B2 JP2020028991A JP2020028991A JP6866516B2 JP 6866516 B2 JP6866516 B2 JP 6866516B2 JP 2020028991 A JP2020028991 A JP 2020028991A JP 2020028991 A JP2020028991 A JP 2020028991A JP 6866516 B2 JP6866516 B2 JP 6866516B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
black
powder
yttrium
gas atmosphere
zirconium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020028991A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020180036A5 (ja
JP2020180036A (ja
Inventor
謙介 影山
謙介 影山
隆史 小西
隆史 小西
佑 杉浦
佑 杉浦
允也 軽部
允也 軽部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Jemco Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp, Jemco Inc filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to PCT/JP2020/040745 priority Critical patent/WO2021171703A1/ja
Priority to KR1020227028717A priority patent/KR20220145830A/ko
Priority to US17/801,627 priority patent/US20230108923A1/en
Priority to CN202080097148.5A priority patent/CN115175871A/zh
Priority to EP20921996.3A priority patent/EP4095091A4/en
Priority to TW109138179A priority patent/TW202132211A/zh
Publication of JP2020180036A publication Critical patent/JP2020180036A/ja
Publication of JP2020180036A5 publication Critical patent/JP2020180036A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6866516B2 publication Critical patent/JP6866516B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0042Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/076Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00Compounds of zirconium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/32Radiation-absorbing paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

本発明は、紫外線の透過性を維持しつつ遮光性を向上させることができる黒色材料と、この黒色材料の製造方法と、上記黒色材料を含む黒色感光性組成物と、この組成物の製造方法と、解像度が高くかつ高い遮光性能を有する黒色パターニング膜と、この膜の形成方法に関するものである。
従来、BET法により測定される比表面積が20〜90m2/gであり、X線回折プロファイルにおいて、窒化ジルコニウムのピークを有する一方、二酸化ジルコニウムのピーク、低次酸化ジルコニウムのピーク及び低次酸窒化ジルコニウムのピークを有しない窒化ジルコニウム粉末が開示されている(例えば、特許文献1(請求項1、6及び7、段落[0016]、[0022]、[0023]、図1、図2)参照。)。この窒化ジルコニウム粉末では、粉末濃度50ppmの分散液透過スペクトルにおいて、波長370nmの光透過率Xが少なくとも18%であり、波長550nmの光透過率Yが12%以下であって、波長370nmの光透過率Xに対する波長550nmの光透過率Y(X/Y)が2.5以上である。
このように構成された窒化ジルコニウム粉末は、比表面積が20m2/g以上であるため、レジストとしたときの沈降を抑制でき、また90m2/g以下であるため、十分な遮光性を有する。またX線回折プロファイルにおいて、窒化ジルコニウムのピークを有する一方、二酸化ジルコニウムのピーク、低次酸化ジルコニウムのピーク及び低次酸窒化ジルコニウムのピークを有しないため、粉末濃度50ppmの分散液透過スペクトルにおいて、波長370nmの光透過率Xが少なくとも18%であり、波長550nmの光透過率Yが12%以下であり、またX/Yが2.5以上である。X/Yが2.5以上であることにより、紫外線をより一層透過することができる。この結果、窒化ジルコニウム粉末を用いて黒色感光性組成物を作製し、この黒色感光性組成物を用いて黒色パターニング膜を形成すると、高解像度のパターニング膜を形成でき、しかも形成したパターニング膜は高い遮光性能を有するようになる。
特開2017−222559号公報
しかし、上記従来の特許文献1に示された窒化ジルコニウム粉末を用いた黒色感光性組成物により作製された黒色パターニング膜では、紫外線の透過性は十分であるけれども遮光性は十分とはいえないため、黒色パターニング膜をカメラモジュール等の遮光材料として使用した場合、目標の遮光性にすると紫外線の透過性が低下し黒色パターニング膜中の樹脂が十分に硬化しないなど、リソグラフィー特性が低下してしまう不具合があった。
本発明の第1の目的は、紫外線の透過性を維持しつつ遮光性を向上させることができる、黒色材料及びその製造方法、並びに黒色感光性組成物及びその製造方法を提供することにある。本発明の第2の目的は、解像度が高くかつ高い遮光性能を有する、黒色パターニング膜及びその形成方法を提供することにある。
本発明の第1の観点は、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末からなる黒色材料であって、イットリウムを窒化ジルコニウム粉末及びイットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%含有し、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末の濃度を50ppmの分散液としたときの分光透過スペクトルにおいて、波長550nmの光透過率をX1とし、波長365nmの光透過率をX2とするとき、X1が7.5%以下であり、X2が25%以上であり、X2/X1が3.5以上であることを特徴とする。なお、本明細書において、『波長550nmの光透過率X1』は波長550nmの可視光の透過率X1を意味し、『波長365nmの光透過率X2』は、波長365nmの紫外線の透過率X2を意味する。
本発明の第2の観点は、第1の観点に記載の黒色材料を製造する方法であって、酸化イットリウム粉末を含む二酸化ジルコニウム粉末を、N2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、酸化マグネシウム粉末又は窒化マグネシウム粉末のいずれか一方又は双方及び金属マグネシウム粉末と混合して混合粉末を調製する工程と、この混合粉末をN2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、窒化反応させることにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製する工程と、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を洗浄し中和して黒色スラリーを調製する工程と、この黒色スラリーから固形分を分離して乾燥する工程とを含むことを特徴とする黒色材料の製造方法である。
本発明の第3の観点は、金属ジルコニウム粉末と金属イットリウム粉末とを、N2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、熱プラズマ法により合成窒化反応させて、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製することにより第1の観点に記載の黒色材料を得る工程を含む黒色材料の製造方法である。
本発明の第4の観点は、第1の観点に記載の黒色材料を含む黒色感光性組成物である。
本発明の第5の観点は、第2又は第3の観点に記載の方法で製造された黒色材料を含む黒色感光性組成物の製造方法である。
本発明の第6の観点は、第4の観点に記載の黒色感光性組成物により形成された黒色パターニング膜である。
本発明の第7の観点は、第5の観点に記載の方法で製造された黒色感光性組成物を用いて黒色パターニング膜を形成する方法である。
本発明の第1の観点の黒色材料では、イットリウムを窒化ジルコニウム粉末及びイットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%含有するので、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末の濃度を50ppmの分散液としたときの分光透過スペクトルにおいて、波長550nmの光透過率をX1とし、波長365nmの光透過率をX2とするとき、X1が7.5%以下であり、X2が25%以上であり、X2/X1が3.5以上であることにより、遮光性を向上させることができる。即ち、従来の黒色材料と比べ波長365nmの紫外線の透過性を維持しつつ波長550nmの遮光性を向上させることができる。この結果、黒色材料を用いた黒色感光性組成物により黒色パターニング膜を形成すると、より高い遮光性能を有する高解像度の黒色パターニング膜を形成することがでる。なお、窒化ジルコニウム粉末がイットリウムを含有することにより、波長550nmの遮光性及び波長365nmの紫外線の透過性が向上したのは、窒化ジルコニウムの結晶格子内にイットリウムが窒化イットリウムとして取込まれたためであると考えられる。
本発明の第2の観点の黒色材料の製造方法では、酸化イットリウム粉末を含む二酸化ジルコニウム粉末をN2ガス雰囲気中等で、酸化マグネシウム粉末又は窒化マグネシウム粉末のいずれか一方又は双方及び金属マグネシウム粉末を用いて窒化反応させたので、紫外線の透過性を向上できる黒色材料を製造できる。この結果、黒色材料を用いた黒色感光性組成物により黒色パターニング膜を形成すると、上記と同様に、高解像度の黒色パターニング膜を形成することができ、しかも形成した黒色パターニング膜は高い遮光性能を有するようになる。なお、酸化イットリウムを含む二酸化ジルコニウムをN2ガス雰囲気中等で酸化マグネシウム及びマグネシウム金属を用いて窒化反応させると、遮光性を向上できるのは、二酸化ジルコニウム及び酸化イットリウムの窒化反応によりイットリウムを含有する窒化ジルコニウムが生成したことに基づくものと考えられる。
本発明の第3の観点の黒色材料の製造方法では、金属ジルコニウム粉末と金属イットリウム粉末とを、N2ガス雰囲気中等で、熱プラズマ法により合成窒化反応させたので、紫外線の透過性を向上できるナノサイズの黒色材料を製造できる。この結果、黒色材料を用いた黒色感光性組成物により黒色パターニング膜を形成すると、上記と同様に、高解像度の黒色パターニング膜を形成することができ、しかも形成した黒色パターニング膜は高い遮光性能を有するようになる。なお、金属ジルコニウム粉末と金属イットリウム粉末とを、N2ガス雰囲気中等で、熱プラズマ法により合成窒化反応させると、遮光性を向上できるのは、金属ジルコニウム及び金属イットリウムの窒化反応によりイットリウムを含有する窒化ジルコニウムが生成したことに基づくものと考えられる。
本発明の第4の観点の黒色感光性組成物は、上記黒色材料を含むので、この組成物を用いて黒色パターニング膜を形成すると、上記と同様に、より高い遮光性能を有する高解像度の黒色パターニング膜を形成することができる。
本発明の第5の観点の黒色感光性組成物の製造方法では、上記方法で製造した黒色材料を用いて黒色感光性組成物を製造したので、この組成物を用いて黒色パターニング膜を形成すると、上記と同様に、より高い遮光性能を有する高解像度の黒色パターニング膜を形成することができる。
本発明の第6の観点の黒色パターニング膜は、上記黒色感光性組成物により形成された黒色パターニング膜であるので、上記と同様に、より高い遮光性能を有する高解像度の黒色パターニング膜を形成することができる。
本発明の第7の観点の黒色パターニング膜の形成方法では、上記方法で製造された黒色感光性組成物を用いて黒色パターニング膜を形成したので、上記と同様に、より高い遮光性能を有する高解像度の黒色パターニング膜を形成することができる。
本発明の実施例1と実施例2と比較例1で得られた黒色材料の粉末濃度を50ppmに希釈した分散液における光透過率を示す分光曲線である。
次に本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。黒色材料は、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末からなる。また、イットリウムは、窒化ジルコニウム粉末及びイットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%、好ましくは2.0質量%〜11.0質量%含有する。更に、イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末はその平均一次粒径が10nm〜100nmであることが好ましい。ここで、イットリウムの含有割合を、窒化ジルコニウム粉末及びイットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%の範囲内に限定したのは、1.0質量%未満又は12.0質量%を超えると、波長550nm(可視光)の遮光性が低下してしまうからである。また、イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末の好ましい平均一次粒径を10nm〜100nmの範囲内に限定したのは、10nm未満又は100nmを超えると、波長550nm(可視光)の遮光性が低下してしまうからである。なお、イットリウムは、窒化ジルコニウム粉末に対して固溶した状態で含有される。また、イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末中のイットリウム含有量は、ICP発光分光分析法により測定された値である。更に、イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末の平均一次粒径は、比表面積の測定値からの球形換算により測定した値である。
イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末の濃度を50ppmの分散液としたときの分光透過スペクトルにおいて、波長550nmの光透過率をX1とし、波長365nmの光透過率をX2とするとき、X1が7.5%以下、好ましくは6.5%以下であり、X2が25%以上、好ましくは26%以上であり、X2/X1が3.5以上、好ましくは4.0%以上である。ここで、光透過率X1を7.5%以下に限定したのは、7.5%を超えると、形成したパターニング膜の遮光性が不足し高いOD値が得られないからである。また、光透過率X2を25%以上に限定したのは、25%未満では、黒色材料を用いた黒色感光性組成物により黒色パターニング膜を形成するときにフォトレジスト膜の底部まで露光されず、パターニング膜のアンダーカットが発生してしまうからである。更に、X2/X1を3.5以上に限定したのは、光透過率X1と光透過率X2の二律背反的な特性を考慮して、X2/X1が3.5以上であることにより、紫外線透過の効果があり、パターニング膜のアンダーカットが発生しないことを優先するためである。
このように構成された黒色材料の製造方法を説明する。
<第1の製造方法>
先ず、酸化イットリウム(Y23)粉末を含む二酸化ジルコニウム(ZrO2)粉末を、N2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、酸化マグネシウム粉末又は窒化マグネシウム粉末のいずれか一方又は双方及び金属マグネシウム粉末と混合して混合粉末を調製する。上記酸化イットリウム粉末としては、例えば、等軸晶系酸化イットリウム、非晶質型酸化イットリウム等の酸化イットリウムの粉末が挙げられる。また、二酸化ジルコニウム粉末としては、例えば、単斜晶系二酸化ジルコニウム、立方晶系二酸化ジルコニウム、イットリウム安定化二酸化ジルコニウム等の二酸化ジルコニウムの粉末がいずれも使用可能であるが、窒化ジルコニウム粉末の生成率が高くなる観点から、単斜晶系二酸化ジルコニウム粉末が好ましい。なお、上記酸化イットリウム(Y23)粉末を含む二酸化ジルコニウム(ZrO2)粉末は、ジルコニウムの無機塩又は有機塩及びイットリウムの無機塩又は有機塩の水溶液をアルカリ性にすることにより、水酸化イットリウム及び水酸化ジルコニウムを共沈させ、乾燥し、焼成することにより得ることもできる。
更に、酸化イットリウム粉末はその平均一次粒径が10nm以上500nm以下であることが好ましく、二酸化ジルコニウム粉末はその平均一次粒径が10nm以上500nm以下であることが好ましい。ここで、酸化イットリウム粉末の好ましい平均一次粒径を10nm以上500nm以下の範囲内に限定したのは、10nm未満では反応により得られる窒化イットリウムの粒子径が小さくなりすぎて遮光性が低下してしまい、500nmを超えると反応により得られる窒化イットリウムの粒子径が大きくなりすぎて遮光性が低下してしまうからである。また、二酸化ジルコニウム粉末の好ましい平均一次粒径を10nm以上500nm以下の範囲内に限定したのは、10nm未満では反応により得られる窒化ジルコニウムの粒子径が小さくなりすぎて遮光性が低下してしまい、500nmを超えると反応により得られる窒化ジルコニウムの粒子径が大きくなりすぎて遮光性が低下してしまうからである。なお、酸化イットリウム粉末及び二酸化ジルコニウム粉末の平均一次粒径は、比表面積の測定値からの球形換算により測定した値である。
金属マグネシウム粉末は、粒径が小さすぎると、反応が急激に進行して操作上危険性が高くなるので、粒径が篩のメッシュパスで100μm〜1000μmの粒状のものが好ましく、特に200μm〜500μmの粒状のものが好ましい。但し、金属マグネシウムは、全て上記粒径範囲内になくても、その80質量%以上、特に90質量%以上が上記範囲内にあればよい。二酸化ジルコニウム粉末に対する金属マグネシウム粉末の添加量は、雰囲気ガス中のNH3ガスやH2ガス等の量とともに二酸化ジルコニウムの還元力に影響を与える。金属マグネシウムの量が少なすぎると、還元不足で目的とする窒化ジルコニウム粉末が得られにくくなり、多すぎると、過剰な金属マグネシウムにより反応温度が急激に上昇し、粉末の粒成長を引き起こす恐れがあるとともに不経済となる。金属マグネシウム粉末は、その粒径の大きさによって、金属マグネシウムが二酸化ジルコニウムの好ましくは2.0倍モル〜6.0倍モル、更に好ましくは3.0倍モル〜5.0倍モルの割合になるように、金属マグネシウム粉末を二酸化ジルコニウム粉末に添加して混合することが好ましい。ここで、金属マグネシウムを二酸化ジルコニウムの2.0倍モル〜6.0倍モルの範囲内に限定したのは、2.0倍モル未満では二酸化ジルコニウムの還元力が不足し、6.0倍モルを超えると過剰な金属マグネシウムにより反応温度が急激に上昇し、粉末の粒成長を引き起こす恐れがあるとともに不経済となるからである。
酸化マグネシウム粉末や窒化マグネシウム粉末は、窒化ジルコニウムの焼結を予防するために添加される。この酸化マグネシウム粉末や窒化マグネシウム粉末は、その粒径の大きさによって、酸化マグネシウムや窒化マグネシウムが二酸化ジルコニウムの好ましくは0.3倍モル〜3.0倍モル、更に好ましくは0.4倍モル〜2.0倍モルの割合になるように、二酸化ジルコニウムに添加して混合する。ここで、酸化マグネシウムや窒化マグネシウムの二酸化ジルコニウムに対する好ましい混合割合を0.3倍モル〜3.0倍モルの範囲内に限定したのは、0.3倍モル未満では窒化ジルコニウム粉末の焼結防止にならず、3.0倍モルを超えると焼成後の酸洗浄時に要する酸性溶液の使用量が増加してしまうからである。また、酸化マグネシウム粉末や窒化マグネシウム粉末は、比表面積の測定値から球形換算した平均一次粒径で1000nm以下であることが好ましく、粉末の取扱い易さから、平均一次粒径で500nm以下で10nm以上であることが好ましい。
次いで、この混合粉末をN2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、窒化反応させることにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製する。イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末を生成させるための金属マグネシウムによる還元反応時の温度は、好ましくは650℃〜900℃、更に好ましくは700℃〜800℃である。ここで、還元反応時の好ましい温度を650℃〜900℃の範囲内に限定したのは、650℃は金属マグネシウムの溶融温度であり、温度が650℃より低いと、二酸化ジルコニウムの還元反応が十分に生じず、温度を900℃より高くしても、その効果は増加せず、熱エネルギの無駄になるとともに粒子の焼結が進行し好ましくないからである。なお、上記還元反応の時間は30分〜90分が好ましく、30分〜60分が更に好ましい。また、上記還元反応を行う際の反応容器は、反応時に原料や生成物が飛び散らないように、蓋を有するものが好ましい。これは、金属マグネシウムの溶融が開始されると、還元反応が急激に進行し、それに伴って温度が上昇して、容器内部の気体が膨張し、それによって、容器の内部のものが外部に飛び散るおそれがあるからである。
還元反応時の雰囲気ガスのうち、N2ガスは、金属マグネシウムや還元生成物と酸素との接触を防ぎ、それらの酸化を防ぐとともに、窒素をジルコニウムと反応させ、窒化ジルコニウムを生成させる役割を有する。また、H2ガス又はNH3ガスは、金属マグネシウムとともに、二酸化ジルコニウムを還元させる役割を有する。H2ガスは、上記雰囲気ガス中、0体積%〜40体積%含むことが好ましく、10体積%〜30体積%含むことが更に好ましい。またNH3ガスは、上記雰囲気ガス中、0体積%〜50体積%含むことが好ましく、0体積%〜40体積%含むことが更に好ましい。この還元力のある雰囲気ガスを使用することにより、最終的に低次酸化ジルコニウム及び低次酸窒化ジルコニウムを含まない窒化ジルコニウム粉末を製造することができる。一方、この範囲よりH2ガスの割合、或いはNH3ガスの割合が高いと還元は進むものの窒素源が少なくなるため、低次酸化ジルコニウム又は低次酸窒化ジルコニウムが生成してしまい、望ましくない。また、H2ガスの割合よりもNH3ガスの割合が高いのは、ガスの窒化能力がH2よりNH3のほうが高いからと考えられる。
次に、上記窒化反応で得られたイットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末を洗浄し中和して黒色スラリーを調製する。具体的には、上記窒化反応で得られたイットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末を反応容器から取出し、最終的には室温まで冷却した後、塩酸水溶液などの酸溶液で洗浄して、金属マグネシウムの酸化によって生じた酸化マグネシウムや生成物の焼結防止のため反応当初から含まれていた酸化マグネシウムや窒化マグネシウムを除去する。この酸洗浄に関しては、pH0.5以上、特にpH1.0以上、温度は90℃以下で行うのが好ましい。これは酸性が強すぎたり温度が高すぎると、ジルコニウムまでが溶出してしまうおそれがあるためである。そして、その酸洗浄後、アンモニア水などでpHを5〜6に調整して黒色スラリーを得る。更に、この黒色スラリーから固形分を分離して乾燥することにより黒色材料を得る。具体的には、黒色スラリーをろ過又は遠心分離により固形分を分離し、この固形分を乾燥した後、粉砕することにより、平均一次粒径10nm〜100nmのイットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末からなる黒色材料が得る。
<第2の製造方法>
この製造方法は、熱プラズマ法により、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製して黒色材料を得る方法である。この方法は金属窒化物を得る方法として一般的となっているけれども、窒化ジルコニウム粉末を高純度で得る手段としては確立されていなかった。上記熱プラズマ法を実施する装置としては、例えば高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置(日本電子製TP40020NPS)等の熱プラズマ装置を挙げることができる。この熱プラズマ装置は、上記金属粉末をプラズマトーチに供給する原料供給機と、この原料供給機に接続され原料を熱プラズマ法により合成窒化反応させるプラズマトーチと、このプラズマトーチの外周に巻回された誘導コイルと、この誘導コイルに電気的に接続され誘導コイルに高周波電力を供給する高周波電源と、プラズマトーチに接続され内部にN2ガスやArガス等の冷却ガスが流通するチャンバーと、このチャンバーに接続されイットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を回収するバグフィルターとを備える。
上記熱プラズマ装置を用いてイットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製するには、先ず、原料供給機に、原料である金属ジルコニウム粉末と金属イットリウム粉末とを供給する。上記金属ジルコニウム粉末の純度は98%以上であることが好ましく、平均一次粒径は30μm以下であることが好ましい。また、金属イットリウム粉末の純度は98%以上であることが好ましく、平均一次粒径は1000μm以下であることが好ましい。ここで、金属ジルコニウム粉末の純度を98%以上に限定したのは、98%未満では目的とするイットリウム含有窒化ジルコニウムの純度が低下し、十分な特性が得られないからである。また、金属ジルコニウム粉末の平均一次粒径を30μm以下に限定したのは、30μm以下にすると、高い純度の窒化ジルコニウム粉末が得られるのに対し、30μmを超えると、金属ジルコニウム粉末の溶解及びガス化が不十分となり、窒化されない金属ジルコニウム粉末のまま回収され、十分な特性を発現する窒化ジルコニウム粉末が得られないからである。一方、金属イットリウム粉末の純度を98%以上に限定したのは、98%未満では目的とするイットリウム含有窒化ジルコニウムの純度が低下し、十分な特性が得られないからである。また、金属イットリウム粉末の平均一次粒径を1000μm以下に限定したのは、1000μmを超えると均一な組成のイットリウムを含有した窒化ジルコニウム粉末が得られないからである。更に、イットリウムの原料である金属イットリウム粉末は酸化性が高く大気中では不安定のため、原料を原料供給機に供給する際は不活性雰囲気中での取り扱いが必要となる。なお、金属ジルコニウム粉末や金属イットリウム粉末等の平均一次粒径は、粒度分布測定装置(堀場製作所製LA−950)を用いて測定した粒径であり、体積基準平均一次粒径である。
次いで、上記原料はN2ガスやArガス等のキャリアガスによりプラズマトーチに導入される。このときプラズマトーチ内は、N2ガス雰囲気、N2及びH2の混合ガス雰囲気、N2及びArの混合ガスの雰囲気、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気になっており、これらの混合ガスは、高周波電源から誘導コイルに高周波電力を供給することにより、N2ガスの熱プラズマ、N2及びH2の混合ガスの熱プラズマ、N2及びArの混合ガスの熱プラズマ、或いはN2及びNH3の混合ガスの熱プラズマ(プラズマ炎)が発生する。このため、プラズマトーチに導入された原料は、プラズマトーチ内で発生した数千度の高温のN2ガスの熱プラズマ等により揮発してガス化する、即ち熱プラズマ法により合成窒化反応する。次に、上記ガス化した原料は、N2ガスやArガス等の冷却ガスの流通するチャンバー内で急冷される、即ちプラズマトーチの下方のチャンバー内でN2ガスやArガス等の冷却ガスにより瞬時に冷却・凝縮されることにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末が得られる。更に、このイットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末は、バグフィルターにより回収される。このようにして、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末からなるナノサイズ(平均一次粒径:10nm〜50nm)の黒色材料が得られる。なお、黒色材料等の平均一次粒径は、比表面積の測定値からの球形換算により測定した値である。
このように製造された黒色材料では、イットリウムを窒化ジルコニウム粉末及びイットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%含有するので、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末の濃度を50ppmの分散液としたときの分光透過スペクトルにおいて、波長550nmの光透過率をX1とし、波長365nmの光透過率をX2とするとき、X1が7.5%以下であり、X2が25%以上であり、X2/X1が3.5以上であることにより、紫外線の透過性を向上できる。即ち、従来の黒色材料と比べ波長365nmの紫外線の透過性を維持しつつ波長550nmの遮光性を向上させることができる。なお、窒化ジルコニウム粉末がイットリウムを含有することにより、波長550nmの遮光性及び波長365nmの紫外線の透過性が向上したのは、窒化ジルコニウムの結晶格子内にイットリウムが窒化イットリウムとして取込まれたためであると考えられる。
一方、黒色感光性組成物は上記黒色材料を含む。具体的には、黒色感光性組成物は、光重合性化合物及び光重合開始剤からなる感光性樹脂と、この感光性樹脂に分散させた黒色材料とを含む。光重合性化合物としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、グリシジルエーテル、グリシジルアミン、グリシジルエステル等が挙げられ、光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、アゾビスイソブチルエーテル、過酸化ベンゾイル、ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリ-p-トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等が挙げられ、溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGM−Ac)、エタノール、トルエン、水等が挙げられる。黒色材料は、黒色感光性組成物100質量%に対して10質量%〜50質量%含有することが好ましい。また、感光性樹脂は、黒色感光性組成物100質量%に対して50質量%〜90質量%含有することが好ましく、光重合性化合物と光重合開始剤との混合割合は、質量比で(99:1)〜(90:10)の範囲内であることが好ましい。更に、溶剤は、黒色感光性組成物100質量%に対して0質量%〜50質量%含有することが好ましい。ここで、黒色材料の含有割合及び感光性樹脂の含有割合を上記範囲内に限定したのは、樹脂特性を損なわないようにするためである。また、光重合性化合物と光重合開始剤との混合割合を上記範囲内に限定したのは、重合反応を効率良く行うためである。更に、溶剤の混合割合を上記範囲内に限定したのは、上記範囲を超えると重合反応の効率が悪くなるためである。
このように構成された黒色感光性組成物を製造する方法を説明する。先ず、黒色材料に感光性樹脂と溶剤とを所定の割合で混合する。次に、この混合物をロールミル、ビーズミル、ニーダー(混練機:kneader)、ミキサー等を用いて撹拌する。これにより、黒色材料が感光性樹脂に分散した黒色感光性組成物が得られる。
一方、黒色パターニング膜は、上記黒色感光性組成物により形成される。この黒色パターニング膜を形成するには、先ず、上記黒色感光性組成物を基板上に塗布した後、プリベークを行って溶剤を蒸発させ、フォトレジスト膜を形成する。次に、このフォトレジスト膜にフォトマスクを介して所定のパターン形状に露光した後、アルカリ現像液を用いて現像して、フォトレジスト膜の未露光部を溶解除去し、その後好ましくはポストベークを行うことにより、所定の黒色パターニング膜が形成される。形成されたパターニング膜の遮光性(透過率の減衰)を表す指標として光学濃度、即ちOD(Optical Density)値が知られている。本実施形態の黒色材料を用いて形成されたパターニング膜は高いOD値を有する。ここで、OD値は、光がパターニング膜を通過する際に吸収される度合を対数で表示したものであって、次の式(1)で定義される。式(1)中、Iは透過光量、I0は入射光量である。
OD値=−log10(I/I0) (1)
上記基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。また上記基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。黒色感光性組成物を基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法を採用することができる。塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、0.1μm〜10μm、好ましくは0.2μm〜7.0μm、更に好ましくは0.5μm〜6.0μmである。パターニング膜を形成する際に使用される放射線としては、本実施形態では、波長が250〜370nmの範囲内にある放射線が好ましい。放射線の照射エネルギ量は、好ましくは10J/m2〜10,000J/m2である。
また上記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。上記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができ、現像条件は、常温で5秒〜300秒が好ましい。このようにして形成されたパターニング膜は、高精細の液晶、有機EL用ブラックマトリックス材、イメージセンサー用遮光材。光学部材用遮光材、遮光フィルター、IRカットフィルター等に好適に用いられる。
このように形成された黒色パターニング膜では、上記黒色材料を含むので、従来の黒色材料と比べ波長365nmの紫外線の透過性を維持しつつ波長550nmの遮光性を向上させることができる。この結果、黒色材料を用いた黒色感光性組成物により黒色パターニング膜を形成すると、高解像度の黒色パターニング膜を形成することができ、しかも形成した黒色パターニング膜は高い遮光性能を有するようになる。
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
<実施例1>
先ず、二酸化ジルコニウム(ZrO2)粉末9.8gと、酸化イットリウム(Y23)粉末0.2gとをミキサーで混合することにより、Y23の含有割合がZrO2及びY23の合計100質量%に対して2質量%であるZrO2粉末を10.0g得た。このY23含有のZrO2粉末7.39gと、金属マグネシウム(Mg)粉末5.83gと、酸化マグネシウム(MgO)粉末3.39gとを窒素雰囲気中で混合して、混合粉末を調製した。このときの金属マグネシウム(Mg)粉末の含有割合は、Y23含有のZrO2粉末の4.0倍モルであり、酸化マグネシウム(MgO)粉末の含有割合は、Y23含有のZrO2粉末の1.4倍モルであった。次に、上記混合粉末をN2ガス雰囲気中で700℃の温度に1時間保持することにより還元反応を実施した。上記還元反応が完了して冷却した後、上記還元反応で得られた粉末を5%の塩酸300gにより洗浄し、更にNH3水により中和を行って黒色スラリーを調製した。更に、この黒色スラリーをろ過し洗浄し乾燥することにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム(ZrN)粉末からなる黒色材料を得た。この黒色材料を実施例1とした。なお、イットリウム含有の窒化ジルコニウム粉末中のイットリウム含有量は、ICP発光分光分析法により測定した。
<比較例1>
本明細書の背景技術に挙げた特許文献1の実施例1に記載された窒化ジルコニウム粉末を比較例1の黒色材料とした。具体的には、二酸化ジルコニウム粉末(ZrO2)7.4gに、平均一次粒径が150μmの金属マグネシウム粉末7.3gと平均一次粒径が200nmの窒化マグネシウム粉末3.0gを添加し、石英製ガラス管に黒鉛のボートを内装した反応装置により均一に混合した。このとき金属マグネシウムの添加量は二酸化ジルコニウム(ZrO2)の5.0倍モル、窒化マグネシウムの添加量は二酸化ジルコニウム(ZrO2)の0.5倍モルであった。この混合物を窒素ガスの雰囲気下、700℃の温度で60分間焼成して焼成物を得た。この焼成物を、1リットルの水に分散し、10%塩酸を徐々に添加して、pHを1以上で、温度を100℃以下に保ちながら洗浄した後、25%アンモニア水にてpH7〜8に調整し、濾過した。その濾過固形分を水中に400g/リットルに再分散し、もう一度、前記と同様に酸洗浄、アンモニア水でのpH調整をした後、濾過した。このように酸洗浄−アンモニア水によるpH調整を2回繰り返した後、濾過物をイオン交換水に固形分換算で500g/リットルで分散させ、60℃での加熱攪拌とpH7への調整をした後、吸引濾過装置で濾過し、さらに等量のイオン交換水で洗浄し、設定温度;120℃の熱風乾燥機にて乾燥することにより、窒化ジルコニウム粉末を得た。この窒化ジルコニウム粉末を比較例1の黒色材料とした。
<実施例2〜5及び比較例2〜3>
実施例2〜5及び比較例2〜3の黒色材料は、二酸化ジルコニウム(ZrO2)粉末及び酸化イットリウム(Y23)の含有割合を、表1に示すように、実施例1の二酸化ジルコニウム(ZrO2)粉末及び酸化イットリウム(Y23)の含有割合とは異なる割合にしたこと以外は、実施例1と同様にして得た。
<実施例6>
高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置(日本電子社製:TP40020NPS)の原料供給機に、原料である金属ジルコニウム粉末(純度99%、平均一次粒径20μm)と、金属イットリウム粉末(純度99.9%、平均一次粒径850μm)とを供給し、これらの原料をプラズマトーチに導入してこのプラズマトーチで発生したN2及びArの混合ガスの熱プラズマにより揮発させた後、この揮発した原料をN2ガスの流通するチャンバー内で急冷することにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を合成した。この窒化ジルコニウム粉末を実施例6の黒色材料とした。なお、この黒色材料の平均一次粒径は30nmであった。
<比較試験1及び評価>
実施例1〜6及び比較例1〜3の黒色材料の分光曲線から紫外線領域の波長365nmにおける光透過率X2(%)と、可視光領域の波長550nmにおける光透過率X1(%)とを求めた。具体的には、先ず、 実施例1〜6と比較例1〜3の各黒色材料を循環式横型ビーズミル(メディア:ジルコニア)に各別に入れ、アミン系分散剤を添加した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGM−Ac)溶剤中で分散処理を行った。次いで、得られた9種類の分散液を10万倍に希釈し粉末濃度を50ppmに調整した。次に、希釈した分散液における各黒色材料の光透過率を日立ハイテクフィールディング社製のUH−4150を用い、波長240nmから1300nmまでの範囲内で測定して、各分光曲線を得た。更に、これらの分光曲線から、紫外線領域の波長365nmにおける光透過率X2(%)と、可視光領域の波長550nmにおける光透過率X1(%)とをそれぞれ読み取った。また、各分光曲線から読み取られた光透過率X1及び光透過率X2からX2/X1を算出した。これらの結果を表1に示す。更に、図1に、実施例1、実施例2及び比較例1の3つの分光曲線を示す。
Figure 0006866516
表1及び図1から明らかなように、イットリウム(Y)の含有割合がそれぞれ0質量%及び0.9質量%と適切な範囲(1.0質量%〜12.0質量%)より少ない比較例1及び2の黒色材料では、波長365nmにおける光透過率X2がそれぞれ26.0%及び26.1%と適切な範囲(25%以上)内にあったけれども、波長550nmにおける光透過率X1がいずれも7.6%と適切な範囲(7.5%以下)より高く、またX2/X1がいずれも3.4と適切な範囲(3.5以上)より小さかった。
また、表1から明らかなように、イットリウム(Y)の含有割合が12.2質量%と適切な範囲(1.0質量%〜12.0質量%)より多い比較例3の黒色材料では、波長365nmにおける光透過率X2が30.4%と適切な範囲(25%以上)内にあったけれども、波長550nmにおける光透過率X1が11.1%と適切な範囲(7.5%以下)より高く、またX2/X1が2.7と適切な範囲(3.5以上)より小さかった。
これらに対し、表1及び図1から明らかなように、イットリウム(Y)の含有割合が1.0質量〜12.0質量%と適切な範囲(1.0質量%〜12.0質量%)内にある実施例1〜6の黒色材料では、波長550nmにおける光透過率X1が4.6%〜7.3%と適切な範囲(7.5%以下)内にあり、波長365nmにおける光透過率X2が26.0%〜28.0%と適切な範囲(25%以上)内にあり、更にX2/X1が3.6〜6.1と適切な範囲(3.5以上)内にあった。
本発明の黒色材料は、高精細の液晶、有機エレクトロルミネッセンス用ブラックマトリックス材(有機EL用BM材)、イメージセンサ用遮光材、光学部材用遮光材、遮光フィルター、赤外線(IR)カットフィルター、カバーレイフィルム等に利用できる。

Claims (7)

  1. イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末からなる黒色材料であって、
    前記イットリウムを前記窒化ジルコニウム粉末及び前記イットリウムの合計100質量%に対して1.0質量%〜12.0質量%含有し、
    前記イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末の濃度を50ppmの分散液としたときの分光透過スペクトルにおいて、波長550nmの光透過率をX1とし、波長365nmの光透過率をX2とするとき、X1が7.5%以下であり、X2が25%以上であり、X2/X1が3.5以上である
    ことを特徴とする黒色材料。
  2. 請求項1記載の黒色材料を製造する方法であって、
    酸化イットリウム粉末を含む二酸化ジルコニウム粉末を、N2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、酸化マグネシウム粉末又は窒化マグネシウム粉末のいずれか一方又は双方及び金属マグネシウム粉末と混合して混合粉末を調製する工程と、
    前記混合粉末をN2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、窒化反応させることにより、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製する工程と、
    前記イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を洗浄し中和して黒色スラリーを調製する工程と、
    前記黒色スラリーから固形分を分離して乾燥する工程と
    を含むことを特徴とする黒色材料の製造方法。
  3. 金属ジルコニウム粉末と金属イットリウム粉末とを、N2ガス雰囲気中、N2及びH2の混合ガス雰囲気中、N2及びArの混合ガスの雰囲気中、或いはN2及びNH3の混合ガス雰囲気中で、熱プラズマ法により合成窒化反応させて、イットリウムを含有する窒化ジルコニウム粉末を作製することにより請求項1記載の黒色材料を得る工程を含む黒色材料の製造方法。
  4. 請求項1に記載の黒色材料を含む黒色感光性組成物。
  5. 請求項2又は3に記載の方法で製造された黒色材料を含む黒色感光性組成物の製造方法。
  6. 請求項4に記載の黒色感光性組成物により形成された黒色パターニング膜。
  7. 請求項5に記載の方法で製造された黒色感光性組成物を用いて黒色パターニング膜を形成する方法。
JP2020028991A 2019-04-24 2020-02-25 黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法 Active JP6866516B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020227028717A KR20220145830A (ko) 2019-04-24 2020-10-30 흑색 재료 및 그 제조 방법, 흑색 감광성 조성물 및 그 제조 방법, 그리고 흑색 패터닝막 및 그 형성 방법
US17/801,627 US20230108923A1 (en) 2019-04-24 2020-10-30 Black material and method for producing same, black photosensitive composition and method for producing same, and black patterning film and method for forming same
CN202080097148.5A CN115175871A (zh) 2019-04-24 2020-10-30 黑色材料及其制造方法、黑色感光性组合物及其制造方法、以及黑色图案化膜及其形成方法
EP20921996.3A EP4095091A4 (en) 2019-04-24 2020-10-30 BLACK MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THEREOF, BLACK LIGHT-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THEREOF, BLACK PATTERNING FILM AND METHOD FOR PRODUCING THEREOF
PCT/JP2020/040745 WO2021171703A1 (ja) 2019-04-24 2020-10-30 黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法
TW109138179A TW202132211A (zh) 2019-04-24 2020-11-03 黑色材料及其製造方法、黑色感光性組成物及其製造方法,以及黑色圖型化膜及其形成方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019082365 2019-04-24
JP2019082365 2019-04-24

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020180036A JP2020180036A (ja) 2020-11-05
JP2020180036A5 JP2020180036A5 (ja) 2020-12-17
JP6866516B2 true JP6866516B2 (ja) 2021-04-28

Family

ID=73023127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020028991A Active JP6866516B2 (ja) 2019-04-24 2020-02-25 黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230108923A1 (ja)
EP (1) EP4095091A4 (ja)
JP (1) JP6866516B2 (ja)
KR (1) KR20220145830A (ja)
CN (1) CN115175871A (ja)
TW (1) TW202132211A (ja)
WO (1) WO2021171703A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11697156B2 (en) 2020-12-18 2023-07-11 Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. Zirconium nitride powder and method for producing same
EP4015582B1 (en) * 2020-12-18 2023-05-24 Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. Zirconium nitride powder and method for producing same
EP4318057A1 (en) 2021-03-29 2024-02-07 FUJIFILM Corporation Black photosensitive composition, manufacturing method of black photosensitive composition, cured film, color filter, light-shielding film, optical element, solid-state image capturing element, and headlight unit

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6591948B2 (ja) 2016-09-29 2019-10-16 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
JP6667422B2 (ja) * 2016-11-22 2020-03-18 三菱マテリアル電子化成株式会社 黒色膜形成用混合粉末及びその製造方法
JP6954769B2 (ja) * 2017-06-09 2021-10-27 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
US20210087404A1 (en) * 2017-12-19 2021-03-25 Nisshin Engineering Inc. Composite particles and method for producing composite particles
JP7141885B2 (ja) * 2018-08-03 2022-09-26 三菱マテリアル電子化成株式会社 表面処理された窒化ジルコニウム粉末及びその表面処理方法
JP7212471B2 (ja) * 2018-08-03 2023-01-25 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP4095091A4 (en) 2024-03-13
US20230108923A1 (en) 2023-04-06
TW202132211A (zh) 2021-09-01
CN115175871A (zh) 2022-10-11
WO2021171703A1 (ja) 2021-09-02
KR20220145830A (ko) 2022-10-31
EP4095091A1 (en) 2022-11-30
JP2020180036A (ja) 2020-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6954769B2 (ja) 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
US11577958B2 (en) Zirconium nitride powder and method for producing same
WO2021171703A1 (ja) 黒色材料及びその製造方法、黒色感光性組成物及びその製造方法、並びに黒色パターニング膜及びその形成方法
KR102099066B1 (ko) 흑색막 형성용 혼합 분말 및 그 제조 방법
JP6971834B2 (ja) 黒色遮光膜形成用粉末及びその製造方法
JP6949604B2 (ja) 黒色膜形成用混合粉末の製造方法
WO2022092274A1 (ja) ジルコニウム含有窒化物粉末及び黒色紫外線硬化型有機組成物
JP2022054794A (ja) 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
JP2023132124A (ja) 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20200325

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20200325

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201109

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210119

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20210119

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20210302

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210316

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210407

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6866516

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250