JP6864315B2 - 化粧シート及びその製造方法 - Google Patents
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特に、シックハウス症候群の原因物質と考えられているホルムアルデヒドなどのVOCガスは、主に、建築物の建設の際に使用される接着剤や、建装内装材などを貼り付ける接着剤等から室内へ放出される。
しかし、ポリオレフィン系樹脂を用いた化粧シートは、塩化ビニル系樹脂を使用しないことで、焼却時における有毒ガス等の発生は抑制される。しかしながら、ポリオレフィン系樹脂は燃焼性の高い樹脂の1つであり、難燃性を要求される化粧シートへの適用が困難であった。
また、特許文献2〜4に開示されている難燃性を付与する方法の他に、ポリオレフィン系樹脂からなる層の樹脂層の厚みを薄くして、化粧シートに用いられる樹脂材料の割合を減らすことも示唆されている。
しかしながら、樹脂中へ光触媒材料を添加したり、樹脂と光触媒材料を直接接触させたりした場合、光触媒作用により光触媒材料と接触している樹脂自身が経時的に分解されてしまうために、樹脂フィルムのような形状で使用するのは困難であった。この課題を解決するために、例えば特許文献8に記載されているように、光触媒材料の表面に光触媒として不活性なセラミック材料で光触媒材料の表面を部分的に被覆した物質を担持することが提案されている。
さらに、建装内装材として用いた場合、樹脂と当該凝集体との密着性が低下して、化粧シートの使用中の摩擦などによって当該凝集体が脱落しやすくなる結果、意匠性や後加工性などが悪化するおそれがある。
さらに、基材シートを、延伸加工によって延伸樹脂シートとすることで、表面積を増やすことができ、その結果、VOCガスが室内に放出される前に、光触媒作用により分解されることを見出し、また化粧シートと家屋の間から発生するカビ等にも効果があることを見出した。
また、本発明の一態様である化粧シートの製造方法は、基材シートの一方の面側の表層に、樹脂層からなる表面保護層が設けられた化粧シートの製造方法であって、光触媒材料の表面が部分的に光触媒に対して不活性な材料で被覆された被覆光触媒材料を準備し、上記被覆光触媒材料がベシクルで内包された光触媒ベシクルを、上記表面保護層及び上記基材シートの少なくとも一方を構成する樹脂に添加する、ことを特徴とする。
このように、表面保護層の主成分である樹脂組成物中において光触媒材料が凝集することがなく高濃度で均一に高分散させることができる結果、光触媒の表面積が増大して光触媒機能を向上させることができる。さらに、光触媒材料を高分散させることにより、樹脂組成物と光触媒材料との密着性が向上するので摩擦による脱落が少なくなる。
なお、光触媒材料の粒径はナノサイズのように小さい方が好ましく、かつ分散性が良いほど表面保護層の透明性が担保される。
さらに、光触媒材料を高分散させることにより、樹脂組成物と光触媒材料との密着性が向上するので摩擦による脱落が少なくなるとともに、樹脂組成物中の各光触媒材料の粒子が極小サイズとされるので意匠性、後加工性、難燃性に優れた化粧シートを提供することを可能とする。難燃性に優れた化粧シートとなるのは、原反中に添加された無機材料の量が増えるためである。
ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造等が下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
表面保護層5及び基材シート2の少なくとも一方には、光触媒材料が添加されている。
添加される光触媒材料は、光触媒に対して不活性な材料、例えば光触媒に対して不活性な無機材料によって、部分的に被覆されて被覆光触媒材料となり、更にその被覆光触媒材料がベシクルに内包された状態で、原反(基材層)や表面保護層を構成する樹脂内に添加されている。
光触媒材料を部分的に被覆する無機材料は、光触媒材料に光を照射したときの光触媒機能に対して変化しない(不活性)ものであれば特に限定されない。
アパタイトは、水酸アパタイト、炭酸アパタイト、弗化アパタイト、リン酸三カルシウム、または、リン酸八カルシウムのいずれか1種類もしくはこれらから選んだ2種類以上の混合物でも構わない。
無機材料による被覆は、光触媒材料の表面全面を被覆すると、汚染物質(分解対象物質)が光触媒材料と接触できない。そのため、光触媒材料の表面の一部が露出するように被覆する。ここで、露出した光触媒材料の表面は、樹脂や有機膜と接触することもある。接触した部分に光が照射されると、その部分の樹脂や有機膜は分解されてしまうが、無機材料が被覆している部分は分解されることは無く、樹脂中に光触媒材料が剥離することなく固定される。一方、光触媒材料が露出しすぎると樹脂や有機膜が光触媒材料と接触する部分が増え、樹脂中に光触媒材料が固定されにくくなる。逆に、被覆率が高すぎると光触媒機能が十分に発揮されない。このような観点から、被覆率は20%以上90%以下が好ましい。さらに好ましくは、30〜70%であり、45〜60%が最適である。光触媒材料に対する不活性な材料による部分的な被覆位置は、被覆位置が対称的に配置されるような被覆や、被覆が連続している形態が好ましい。
ここで、ベシクルとは、球殻状に閉じた膜構造を有する小胞であり、内部に液相を含むものを指す。そして、外膜がリン脂質のような生体脂質から構成されるベシクルをリポソームと称する。
Bangham法は、フラスコなどの容器にクロロホルムまたはクロロホルム/メタノール混合溶媒を入れ、さらにリン脂質を入れて溶解する。その後、エバポレータを用いて溶媒を除去して脂質からなる薄膜を形成し、光触媒粒子を含んだ分散液を加えた後、ボルテックスミキサーで水和・分散させてベシクルを得る方法である。エクストルージョン法は、薄膜のリン脂質溶液を調液し、Bangham法において外部摂動として用いたミキサーに代わってフィルタを通過させることによりベシクルを得る方法である。水和法は、Bangham法とほぼ同じ調製方法であるが、ミキサーを用いずに、穏やかに攪拌して分散させてベシクルを得る方法である。逆相蒸発法は、リン脂質をジエチルエーテルやクロロホルムに溶解し、光触媒粒子を含んだ溶液を加えてW/Oエマルジョンを作り、当該エマルジョンから減圧下において有機溶媒を除去した後、水を添加することによりベシクルを得る方法である。凍結融解法は、外部摂動として冷却・加熱を用いる方法であり、この冷却・加熱を繰り返すことによってベシクルを得ることが可能である。
超臨界逆相蒸発法とは、超臨界状態または臨界点以上の温度もしくは圧力条件下の二酸化炭素にベシクルの外膜を構成する物質を均一に溶解させた混合物中に、封入物質としての光触媒材料を含む水相を加えて、一層の膜で封入物質としての被覆光触媒材料を包含したカプセル状のベシクルを形成する方法である。この超臨界逆相蒸発法は、例えば本発明者等が提案している特表2002/032564号公報、特開2003−119120号公報、特開2005−298407号公報および特開2008−063274号公報(以下、「超臨界逆相蒸発法公報類」と称する)に開示されているものであり、当該超臨界逆相蒸発法公報類に記載の方法および装置を用いれば良い。
ベシクルの外膜を形成するその他の物質としては、ノニオン系界面活性剤や、これとコレステロール類もしくはトリアシルグリセロールの混合物などが挙げられる。このうちノニオン系界面活性剤としては、ポリグリセリンエーテル、ジアルキルグリセリン、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンコポリマー、ポリブタジエン−ポリオキシエチレン共重合体、ポリブタジエン−ポリ2−ビニルピリジン、ポリスチレン−ポリアクリル酸共重合体、ポリエチレンオキシド−ポリエチルエチレン共重合体、ポリオキシエチレン−ポリカプロラクタム共重合体等の1種または2種以上を使用することができる。コレステロール類としては、コレステロール、α−コレスタノール、β−コレスタノール、コレスタン、デスモステロール(5、24−コレスタジエン−3β−オール)、コール酸ナトリウムまたはコレカルシフェロール等を使用することができる。上記の物質から適宜選択して用いることにより、例えば、水溶性ではない内包物を水溶性の分散剤で包んだベシクルとすることにより、水溶性の溶媒などに水溶性ではない内包物を均一に分散させることができる。
上記のような光触媒材料を添加する樹脂製の基材シート2は、例えば着色した熱可塑性樹脂からなる。熱可塑性樹脂としては、例えば塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、またポリオレフィン系のポリプロピレン樹脂あるいはポリエチレン樹脂、などを用いることができる。なかでも環境適合性や加工性、価格の点でポリオレフィン系樹脂を好ましく用いることができる。樹脂のグレードや組成は、そのほかにシーティングの容易さや印刷適性、曲げ加工に対する適性を考慮して選択することができる。
ここで、化粧シート1を貼り付けた裏面側からのVOCやカビ対策としては、光触媒材料は、基材シート2の最下面(裏面)付近に存在していた方が好ましい。基材シート2の上の方(表面側)にあると、分解対象物質と光触媒材料とが接触しづらくなるため、効果がその分悪くなる可能性がある。
ここで、一般的に樹脂シートは、延伸樹脂シートと無延伸樹脂シートに大別される。延伸樹脂シートは、無延伸樹脂シートを融点以下の温度に加熱しながら縦横2方向(二軸延伸)、或いはそのいずれか1方向(一軸延伸)に引き伸ばして配向させたシートである。延伸によるシートの分子鎖は、一軸延伸では1方向に、二軸延伸では面方向に配向し、無延伸樹脂シートの物性改善が可能となる。また、延伸することにより、腰(剛度)、透明性、引張り強さ、耐収縮性は増加し、光沢、防湿性、バリア性は改善するが、伸び、引裂き強度は減少する。
表面保護層5の主成分である樹脂組成物としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを用いることができ、光触媒材料(被覆光触媒材料)との密着性を考慮するとアクリルポリオールとイソシアネート化合物との反応生成物であるアクリルウレタン系樹脂を用いることが好ましい。主成分とは、例えば表面保護層を構成する樹脂の70質量%以上、好ましくは90質量%以上を指す。
被覆光触媒材料の添加量は、化粧シートの耐摩耗性、後加工性、透明性を損なわなければ特に限定されないが、表面保護層5の主成分である樹脂組成物100質量部に対し、好ましくは0.1質量部以上30質量部以下が好ましい。0.1質量部より少ないと、良好な触媒性能が得られないし、30質量部より多いと透明性が損なわれる。より好ましくは、10質量部以上30質量部以下である。
表面保護層が複数層で形成されている場合には、最表層の第1層目の表面保護層には光触媒材料を入れなくても良くて、表面側から第2層目の最表面にのみ光触媒材料を添加し、上記の膜厚になるように形成する。この構成の場合、最表層の第1層目の表面保護層で光触媒が保護されると共に、表面側に光触媒材料が存在するので、光触媒機能を効率的に発揮できる。第2層目に比べて第1層目が薄いことが好ましい。
本実施形態の化粧シート1の製造方法は、例えば、光触媒材料の表面が部分的に光触媒に対して不活性な材料で被覆された被覆光触媒材料を準備し、上記被覆光触媒材料がベシクルで内包された光触媒ベシクルを、表面保護層及び基材シートの少なくとも一方を構成する樹脂に添加する工程を有する。
被覆光触媒材料の作製(製造)方法や、光触媒ベシクルの作製(製造)方法は、上述の通りである。
以下に、本発明に基づく、上記のようなベシクル化された光触媒材料を添加した化粧シート1の具体的な構成例を図に従って詳細に説明する。
第1実施形態の化粧シート1は、図1に示すように、複数の樹脂層からなる化粧シート1である。図1では、化粧シート1が、木質ボード類、無機質系ボード類または金属板などの基材Bに貼り合わされて化粧板となっている状態を例示している。化粧シート1は、図1に示すように、基材B側から、プライマー層6、原反(基材層)を構成する基材シート2、絵柄模様層3および表面保護層5が、この順に積層された構成となっている。なお、基材シート2と基材Bとの間および/または絵柄模様層3と表面保護層5との間の接着性に問題があれば、基材シート2と基材Bとの間および/または絵柄模様層3と表面保護層5との間にプライマー層を適宜設けてもかまわない。図1は、基材シート2の裏面にプライマー層を設けた場合を例示している。
基材シート2に上記構成の光触媒材料を添加しない場合には、基材シート2としては、材質は特に限定されるものではなく、一般的な化粧材用の基材であれば何でも適用することができる。基材シート2の材料としては、例えば、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙などの紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリルなどの合成樹脂、あるいはこれら合成樹脂の発泡体、エチレン−プロピレン共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタンなどのゴム、有機もしくは無機系の不織布、合成紙、アルミニウム、鉄、金、銀などの金属箔などが挙げられる。特に、基材シート2として紙または熱可塑性樹脂フィルムを適用した場合には、巻取り方式による連続大量生産が可能となり可撓性の化粧シートに対して本発明を好適に適用することができる。
上記のベシクル化した被覆光触媒材料の含有量は、基材シート2を構成する樹脂100質量部に対し、7質量部以上400質量部以下が好ましい。より好ましくは、100質量部以上400質量部以下である。7質量部より少ないと、難燃性が悪くなり、また意匠性(隠蔽性)も悪くなる。また、400質量部より多いと、樹脂の強度が損なわれ、後加工性が悪くなる。
絵柄模様層3は、既知の印刷手法を用いて設けることが出来る。基材シート2が巻取りの状態で用意できる場合には、ロールツーロールの印刷装置で絵柄模様層3の形成のための印刷を行うことができる。印刷手法は特に限定するものではないが、生産性や絵柄の品位を考慮すれば、例えばグラビア印刷法を用いることができる。
表面保護層5の材料としては、表面の保護や艶の調整としての役割を果たす樹脂組成物であればよく、熱硬化型樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを用いることができる。
本実施形態の表面保護層5においては、上述のように、当該樹脂組成物に対して、ベシクル化された被覆光触媒材料が添加されている。当該樹脂組成物としては、無機材料を被覆した光触媒材料との密着性を考慮するとアクリルポリオールとイソシアネート化合物との反応生成物であるアクリルウレタン系樹脂を用いることが好ましい。
これらのアクリルポリオールとイソシアネート化合物との反応生成物であるアクリルウレタン系樹脂を用いることにより、化粧シートとして必要な硬度と耐後加工性を保持した樹脂組成物とすることができる。さらに、当該樹脂組成物が適度な柔軟性を備えることによって、ベシクル化された無機材料を被覆した光触媒材料との優れた密着性が得られるので、摩耗による無機材料を被覆した光触媒材料の脱落を抑制することを可能とする。
プライマー層6としては、基本的には絵柄模様層3と同じ材料を用いることができるが、化粧シート1の裏面に施されるためにウエブ状で巻取りを行うことを考慮すると、ブロッキングを避けて且つ接着剤との密着を高めるために、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機充填剤を添加させてもよい。
第1実施形態の化粧シート1においては、基材シート2は印刷作業性、コストなどを考慮して20μm〜150μmとすることが望ましく、化粧シート1の総厚は25μm〜200μmの範囲内とすることが好適である。
第2実施形態では、化粧シート1として、図2に示すように、第1実施形態の化粧シート1に対し更に、表面保護層5の下に透明樹脂層4を具備した態様となっている。なお、積層方法および透明樹脂層4の層数は、目的とする化粧シート1の性能などに応じて適宜選択することができる。
第2実施形態における、基材シート2、絵柄模様層3、表面保護層5、及びプライマー層6の材料などは、第1実施形態と同様の構成のものを用いることができる。
透明樹脂層4としては、ポリオレフィン系樹脂を用いることができ、オレフィン系樹脂としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテンなどの他に、αオレフィン(例えば、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、1−ノナデセン、1−エイコセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4、4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、9−メチル−1−デセン、11−メチル−1−ドデセン、12−エチル−1−テトラデセンなど)を単独重合あるいは2種類以上共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体などのように、エチレンまたはαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものが挙げられる。また、化粧シート1の表面強度の向上を図る場合には、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。
透明樹脂層4に、ナノサイズの造核剤が添加されていることが好ましい。特に、ナノサイズの造核剤が、単層膜の外膜を具備するベシクルに内包された、造核剤ベシクルの形で添加されていることが好ましい。造核剤をベシクル化することで、造核剤の分散性を向上でき、造核剤の凝集を抑制して均一に分散できる。
透明樹脂層4を構成する樹脂に対して造核剤ベシクルを添加することにより、樹脂の結晶化度を向上させることで、造核剤の添加による光の散乱を抑制して、極めて高い透明性を有する透明樹脂シートを得ることができる。このようにナノサイズの造核剤を添加することで、透明樹脂シートの表面の耐傷性や後加工性をさらに向上させることが出来る。
以上のように、造核剤ベシクルを添加することで、後加工性を向上させつつ、透明性、すなわち化粧シートの意匠性をさらに向上させることができる。
接着層7としては、発熱性試験時の熱量を考慮して、可能な限り薄く積層されていることが望ましい。接着剤としては、可能な限り燃焼時の熱量が少ないものが望ましく、それ以外は特に限定されるものではない。
化粧シート1に隠蔽性を付与する場合には、基材シート2を着色シートとすることで隠蔽性を付与したり、基材シート2などは透明シートのままで、別途、不透明な隠蔽層8を設けて隠蔽性を付与したりすることができる。図2では、隠蔽層8を別途、設けた場合を例示している。
隠蔽層8としては、基本的には絵柄模様層3と同じ材料から構成することができるが、隠蔽性を保たせることを目的としているので、顔料としては不透明な顔料、酸化チタン、酸化鉄等を使用することが好ましい。また隠蔽性を上げるために金、銀、銅、アルミ等の金属を添加することも可能である。一般的にはフレーク状のアルミを添加させることが多い。この隠蔽層8に対して、上述のような、ベシクルで内包したナノサイズの被覆光触媒材料を添加しても良い。
第2実施形態の化粧シート1においては、基材シート2は印刷作業性、コストなどを考慮して20μm〜150μm、接着層7は1μm〜20μm、透明樹脂層4は20μm〜200μm、表面保護層5は3μm〜20μmとすることが望ましく、化粧シート1の総厚は45μm〜250μmの範囲内とすることが好適である。
本実施形態の化粧シート1においては、ベシクル化された無機材料を被覆した光触媒材料を添加した表面保護層5を備えることにより、意匠性、耐後加工性、耐候性および耐摩耗性に優れ、揮発性有機化合物(VOC)やニオイの原因物質などを分解可能な化粧シートを提供することを可能とする。
さらに、樹脂組成物に対し、ベシクル化され且つ無機材料を被覆した光触媒材料を均一に高分散させることにより、アクリルウレタン系樹脂と無機材料を被覆した光触媒材料との密着性が向上し、摩擦による当該光触媒材料の脱落を抑制することができる。
(1)化粧シートは、複数の樹脂層からなる化粧シートにおいて、ベシクル化された光触媒材料が添加された樹脂からなる表面保護層を少なくとも有する。
この構成によれば、表面保護層の主成分である樹脂組成物中において光触媒材料が凝集することがなく高濃度で均一に高分散させることができるので、光触媒の表面積が増大して光触媒機能を向上させることができる。さらに、光触媒材料を高分散させることにより、樹脂組成物と光触媒材料との密着性が向上するので摩擦による脱落が少なくなるとともに、樹脂組成物中の各光触媒材料の粒子が極小サイズとされるので意匠性、後加工性、耐候性に優れた化粧シートを提供することを可能とする。
この構成によれば、基材シート2の主成分である樹脂組成物中において光触媒材料が凝集することがなく高濃度で均一に高分散させることができるので、光触媒の表面積が増大して光触媒機能を向上させることができる。さらに、光触媒材料を高分散させることにより、樹脂組成物と光触媒材料との密着性が向上するので摩擦による脱落が少なくなるとともに、樹脂組成物中の各光触媒材料の粒子が極小サイズとされるので意匠性、後加工性に優れた化粧シート1を提供することを可能とする。
ここで本発明を適用することで、例えば基材シートの樹脂成分100質量部に対して光触媒材料を7質量部以上含有することが可能となる。
ベシクルの外膜をリン脂質から構成することによって、添加する層の主成分である樹脂組成物とベシクルとの相溶性を良好なものとすることが出来る。樹脂中に対し、より均一に光触媒材料を分散できるばかりでなく、樹脂中に光触媒材料をより高濃度に添加することが可能となり、光触媒機能の更なる向上が可能となる。
この構成によれば、光触媒材料を光触媒機能に対して不活性な無機材料で被覆することにより、上記有機膜もしくは樹脂と光触媒材料が接触しても、直接それらと接触するのは光触媒機能に対して不活性な無機材料であるので、樹脂や有機膜等の劣化が抑えられる。
この構成とすることで、吸着性能も付与でき、光触媒機能(抗菌、消臭効果など)の性能が向上する。
(6)光触媒材料を可視光下で光触媒活性とすることが好ましい。
この構成によれば、室内などの蛍光灯などの室内照明でも効率よく光触媒機能を発揮することができ、揮発性有機化合物(VOC)やニオイの原因物質、ウイルスや菌などの分解対象物質を分解することができる。
この構成とすることで、表面保護層を構成する樹脂組成物中に添加される光触媒材料の粒子との良好な密着性を実現して、当該粒子が脱落するのを抑制することを可能とする。
この構成によれば、更に表面積が増え、消臭、抗菌効果が増大するとともに、基材シート2の厚みが薄くなり、さらに樹脂分が抑えられて難燃性が向上する。
ここで、延伸により基材シート2の厚みが薄くなることによって、基材の表面付近に存在する光触媒粒子が表面に位置する割合が増加する結果、光触媒として機能する実効的な表面積は増える。
造核剤にナノ化処理を施すことによって、透明樹脂層4に対する造核剤の分散性を著しく向上させることができる。これによって、後加工性を維持したまま、透明性を向上させることができる。
例えば、上記のように光触媒材料をベシクル化して添加することで、表面保護層に対し、高密度で且つ高い分散性で光触媒材料が添加される。そして、この構成によれば、良好な光触媒性能を有しつつ、表面保護層に対する透明性を確保できる。更に、表面保護層の主成分を規定することで、光触媒材料との密着性を良好として、その分、当該光触媒材料の脱落を抑えることが出来る。
例えば、上記のように光触媒材料をベシクル化して添加することで、基材シートに対し、高密度で且つ高い分散性で光触媒材料が添加される。そして、この構成によれば、基材シートがポリオレフィン系樹脂製であっても、難燃性を付与しつつ、後加工性も維持でき、更に、表面積が増え、消臭、抗菌効果を増大させることが可能となる。
以下の例において、化粧シートの基本層構成は第2実施形態で説明した化粧シート(図2)の層構成とする場合で説明する。
(第1の実施例)
まず、第1の実施例について説明する。
<実施例1-1>
透明樹脂層を形成する樹脂組成物を、押出機を用いて溶融押出しして、厚さ80μmの透明な高結晶性ポリプロピレンシートとしての透明樹脂シート(透明樹脂層4)を製膜し、得られた透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施し、透明樹脂シート表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。
そして、透明樹脂シートの表面にエンボス模様(4a)を施した後、透明樹脂シートの表面に表面保護層5を形成した。
ここで、本実施例1-1〜1-5の超臨界逆相蒸発法を用いた、被覆光触媒材料を内包したベシクルの詳しい調製方法を説明する。
透明樹脂層4としての透明樹脂シートを形成する際には、ペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶化ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:BASF社製)を500PPM、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:BASF社製)を2000PPM、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:BASF社製)を2000PPMそれぞれ添加した樹脂を溶融押出機を用いて押し出し、透明樹脂層4として使用する高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを得る。
ゼオライトによる被覆率を30%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-2の化粧シートを得た。
<実施例1-3>
ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-3の化粧シートを得た。
<実施例1-4>
実施例1-4の化粧シートでは、ゼオライトによる被覆率を50%と、更に、透明樹脂シートとして、ナノサイズの造核剤を添加した透明樹脂シートを採用した。それ以外は、実施例1-1と同じ製造方法で製造して実施例1-4の化粧シートを得た。
上記のナノサイズの造核剤を添加した透明樹脂シートは、次の樹脂組成物から作製した。
ここで、外膜がリン脂質のような生体脂質から構成されるベシクルをリポソームと称する。
ゼオライトによる被覆率を70%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-5の化粧シートを得た。
<実施例1-6>
ゼオライトによる被覆率を90%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-6の化粧シートを得た。
実施例1-7においては、光触媒材料としての酸化チタンを無機材料であるゼオライトで被覆して被覆光触媒材料とし、その被覆光触媒材料をエクストルージョン法により、リポソームで内包してカプセル状とした光触媒ベシクルを、上記熱硬化型樹脂100質量部に対し16質量部添加した。またゼオライトによる被覆率を20%とした。その他は実施例1-1と同様にして実施例1-7の化粧シートを作製した。
実施例1-7〜1-10におけるエクストルージョン法を用いた、被覆光触媒材料を内包したベシクルの詳しい調製方法を説明する。
まず、蒸留水100質量部、光触媒粒子としての酸化チタン(昭和電工社製)0.7質量部、ベシクルの外膜を構成する物質としてのホスファチジルコリン0.05質量部を混合したリン脂質懸濁液をガラスシリンジに入れ、当該ガラスシリンジを任意の孔径のメンブレンフィルターを挟んだエクストルーダーの両側にセットする。このエクストルーダーを任意の温度下にて、両側にセットしたガラスシリンジのシリンジを交互に動作させて、任意の回数についてメンブレンフィルターを通過させて被覆光触媒粒子を内包するベシクルを得た。
ゼオライトによる被覆率を40%とした以外は実施例1-7と同じ製造方法によって、実施例1-8の化粧シートを得た。
<実施例1-9>
ゼオライトによる被覆率を60%とした以外は実施例1-7と同じ製造方法によって、実施例1-9の化粧シートを得た。
<実施例1-10>
ゼオライトによる被覆率を90%とした以外は実施例1-7と同じ製造方法によって、実施例1-10の化粧シートを得た。
熱硬化型樹脂100質量部に対し0.1質量部添加し、ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-11の化粧シートを得た。
<実施例1-12>
熱硬化型樹脂100質量部に対し10質量部添加し、ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-12の化粧シートを得た。
<実施例1-13>
熱硬化型樹脂100質量部に対し20質量部添加し、ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-13の化粧シートを得た。
<実施例1-14>
熱硬化型樹脂100質量部に対し30質量部添加し、ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、実施例1-14の化粧シートを得た。
比較例1-1においては、光触媒材料として、無機材料での被覆および、ベシクル化処理をしない酸化チタン16質量部を熱硬化型樹脂に添加した以外は、実施例1-1と同様にして比較例1-1の化粧シートを作製した。
比較例1-2においては、光触媒材料として、無機材料であるゼオライトで部分被覆し、ベシクル化処理をしない酸化チタン16質量部を熱硬化型樹脂に添加した以外は、実施例1-1と同様にして比較例1-2の化粧シート1を作製した。なお、ゼオライトによる被覆率を20%とした。
ゼオライトによる被覆率を60%とした以外は比較例1-2と同じ製造方法によって、比較例1-3の化粧シートを得た。
<比較例1-4>
ゼオライトによる被覆率を90%とした以外は比較例1-2と同じ製造方法によって、比較例1-4の化粧シートを得た。
<比較例1-5>
熱硬化型樹脂100質量部に対し40質量部添加し、ゼオライトによる被覆率を50%とした以外は実施例1-1と同じ製造方法によって、比較例1-5の化粧シートを得た。
実施例1-1〜1-14、及び比較例1-1〜1-5の各化粧シートについて、下記の評価を実施した。
[光触媒機能の評価(ガス分解の評価)]
光触媒機能の評価は、実施例1-1〜1-14、及び比較例1-1〜1-5の各化粧シートをそれぞれ15×15cm四方にカットして、個別の容器中に設置する。更に各容器内に、アセトアルデヒドを初期濃度100ppmとなるように入れた。さらに白色蛍光灯をN113フィルタにより400nm以下の波長をカットし、照度6000lxで一定時間照射した後、容器からマイクロシリンジにてガスを採取し、ガスクロマトグラフにより、二酸化炭素濃度を測定し、光触媒機能の効果を確認した。
効果は、初期濃度に対して評価後のアセトアルデヒドの濃度の比を常用対数で表した値を分解活性値とした。分解活性値の基準を−2とした(初期の濃度の1/100になったら、分解活性値は−2)。
◎:非常に高い分解活性を示した。
○:分解活性の基準値付近を示した。
×:分解活性をほとんど示さなかった。
スチールウール(ボンスター#0、日本スチールウール(株)製)を1cm角に切り取り、700g重の重さをスチールウールにかけて、各化粧シート上で一定速度で30往復させ、化粧シート表面に出来た傷の程度により耐磨耗試験の評価を実施した。
ここで、光触媒材料と表面保護層を構成する樹脂との密着が良いものほど、耐磨耗試験の結果は良い。凝集していると樹脂との密着が悪いので、耐磨耗試験によって、光触媒材料が樹脂から剥離し、さらに剥離した光触媒材料が樹脂上をスチールウールとともに動くので、傷が付く。
◎:傷等が認められなかった。
○:若干の傷はあるものの容認できる。
×:容認できない傷が認められる。
以下に、V溝曲げ加工適性試験の詳しい方法について述べる。
まず、基材Bを構成する中質繊維板(MDF)の一方の面に対して、上記の方法で作製した各化粧シート1をウレタン系の接着剤を用いて貼り付け、基材Bの他方の面に対して、反対側の化粧シート1にキズが付かないようにV型の溝を基材Bと化粧シート1とを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シート1の面が山折りとなるように基材Bを当該V型の溝に沿って90度まで曲げ、化粧シート1の表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂などが生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、耐後加工性の優劣の評価を行う。
◎:白化・亀裂などが認められなかった
○:白化は認められず・亀裂は表面に一部ある場合もあるが容認できる
×:化粧シートとして容認できない白化・亀裂が認められた
ここで、曲げた箇所の割れの有無を確認すると、光触媒材料が凝集しているほど、その部分から割れる傾向にあり、光触媒材料が均一に分散しているものほど割れ難くなる。
耐候性試験機(サンシャインウエザオメーター:スガ試験機(株)製)を用いて、JIS B 7753に準じたカーボンアーク耐候性試験を行った。なお、試験条件は耐候経時2000時間として行った。
評価は、試験前の樹脂表面と比較した場合の変化の有無(光触媒によって樹脂が損傷したかどうか、表面のラフネスなど)を目視で確認して評価した。
◎:試験前と変わらない(損傷を受けていない)
○:若干の損傷はあるが、容認できるレベル
×:樹脂表面が損傷を受けている
ここで、光触媒材料と直接ふれている樹脂は分解される傾向にあり、分解することで色が変化する。
なお、比較例1-1では、凝集がひどくて、磨耗試験、後加工とも評価が悪かった。
なおここで、リポソームで内包してカプセル状とした光触媒ベシクルを、上記熱硬化型樹脂100質量部に対し16質量部添加した例を実施例1-1〜1-10にて示したが、リポソームで内包してカプセル状とした光触媒ベシクルの添加量を0.1質量部、30質量部としても同等の効果を得たことを確認している。
まず、第2の実施例について説明する。
<実施例2-1>
透明樹脂層を形成する樹脂組成物を、押出機を用いて溶融押出しして、厚さ80μmの透明な高結晶性ポリプロピレンシートとしての透明樹脂シート(透明樹脂層4)を製膜し、得られた透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施し、透明樹脂シート表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。
そして、透明樹脂シートの表面にエンボス模様(4a)を施した後、透明樹脂シートの表面に表面保護層5を形成した。
まず、メタノール100質量部、光触媒70質量部、ベシクルの外膜を構成するリン脂質としてのホスファチジルコリン5質量部を60℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が20MPaになるように当該容器内に二酸化炭素を注入して超臨界状態とする。その後、当該容器内を激しく攪拌するとともに、イオン交換水100質量部を注入する。温度と圧力を超臨界状態に保ちながらさらに15分間攪拌混合後、二酸化炭素を容器から排出して大気圧に戻すことで被覆光触媒材料を内包したリン脂質からなる外膜を具備するリポソーム(ベシクル)が得られた。
透明樹脂層4としての透明樹脂シートを形成する際には、ペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶化ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:BASF社製)を500PPM、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:BASF社製)を2000PPM、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:BASF社製)を2000PPMそれぞれ添加した樹脂を、溶融押出機を用いて押し出し、透明樹脂層4として使用する高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを得た。
実施例2-2においては、光触媒材料としての酸化チタンを無機材料であるゼオライトで被覆して被覆光触媒材料とし、その被覆光触媒材料をエクストルージョン法により、リポソームで内包してカプセル状とした光触媒ベシクルを、上記基材シート2を構成する熱可塑性樹脂100質量部に対し300質量部添加した。またゼオライトによる被覆率を60%とした。その他は実施例2-1と同様にして実施例2-2の化粧シート1を作製した。
上記のエクストルージョン法によるベシクルの調製は、次のように実施した。
まず、蒸留水100質量部、光触媒粒子としての酸化チタン(昭和電工社製)0.7質量部、ベシクルの外膜を構成する物質としてのホスファチジルコリン0.05質量部を混合したリン脂質懸濁液をガラスシリンジに入れ、当該ガラスシリンジを任意の孔径のメンブレンフィルターを挟んだエクストルーダーの両側にセットする。このエクストルーダーを任意の温度下にて、両側にセットしたガラスシリンジのシリンジを交互に動作させて、任意の回数についてメンブレンフィルターを通過させて光触媒粒子を内包するベシクルを得た。
実施例2-3においては、光触媒材料としての酸化チタンを無機材料であるゼオライトで被覆して被覆光触媒材料とし、その被覆光触媒材料を水和法により、リポソームで内包してカプセル状とした光触媒ベシクルを、上記基材シート2を構成する熱可塑性樹脂100質量部に対し300質量部添加した。またゼオライトによる被覆率を60%とした。その他は実施例2-1と同様にして実施例2-3の化粧シート1を作製した。
上記の水和法によるベシクルの調製は、次のように実施した。
フラスコ容器にクロロホルム溶液10mlと、ベシクルの外膜を構成する物質としてのホスファチジルコリン100mgを入れて溶解し、グルコース/メタノール混合溶液5mlをさらに加える。その後、真空乾燥にて溶媒を除去して脂質からなる薄膜を形成し、光触媒粒子を含んだ分散液(蒸留水100質量部に対して、光触媒粒子としての酸化チタン0.7質量部)を加えた後、ボルテックスミキサーで水和・分散させて光触媒粒子を内包したベシクルを得た。
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-4の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
<実施例2-5>
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し7質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-5の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し30質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-6の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
<実施例2-7>
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し50質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-7の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し100質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-8の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
<実施例2-9>
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し350質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-9の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し400質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-10の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
<実施例2-11>
基材シート2に一軸延伸の延伸加工(延伸倍率を4.0に設定した)を施し、また、透明樹脂シートとして、上述の実施例1-4で採用した、ナノサイズの造核剤を添加した透明樹脂シート及び、ベシクル化した光触媒材料が添加された表面保護層を使用した。それ以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-11の化粧シート1を得た。
基材シート2に二軸延伸の延伸加工を施した以外は、実施例2-1と同様にして実施例2-12の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
比較例2-1においては、光触媒材料として、無機材料での被覆および、ベシクル化処理をしない酸化チタン6質量部を熱可塑性樹脂に添加した以外は、実施例2-1と同様にして比較例2-1の化粧シート1を作製した。
<比較例2-2>
比較例2-2においては、光触媒材料として、無機材料であるゼオライトで部分被覆し、ベシクル化処理をしない酸化チタン6質量部を熱可塑性樹脂に添加した以外は、実施例2-1と同様にして比較例2-2の化粧シート1を作製した。なお、ゼオライトによる被覆率を60%とした。
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し5質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして比較例2-3の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
<比較例2-4>
基材シート2に一軸延伸の延伸加工を施し、光触媒ベシクルを熱可塑性樹脂100質量部に対し450質量部添加した以外は、実施例2-1と同様にして比較例2-4の化粧シート1を得た。延伸倍率を4.0に設定した。
比較例2-5、比較例2-6は、比較例2-2と同様であるが、ベシクル化処理をしていない酸化チタンの添加量を10質量部とした。使用する基材シート2に対し一軸延伸の延伸加工又は二軸延伸の延伸加工をそれぞれ施した例である。なお、延伸倍率を4.0に設定した。
この例では、延伸の最中にシートが破断した。破断した基材シート2を観察したところ、添加した酸化チタンが部分的に凝集しており、その凝集位置若しくはその近傍で破断が起きていた。
このため、比較例2-5、2-6については下記の評価は実施していない。
実施例2-1〜2-12、及び比較例2-1〜2-4の各化粧シート1について、下記の評価を実施した。
[光触媒機能の評価(ガス分解の評価)]
光触媒機能の評価は、実施例2-1〜2-12、及び比較例2-1〜2-4の各化粧シート1をそれぞれ15×15cm四方にカットして、個別の容器中に設置する。更に各容器内に、アセトアルデヒドを初期濃度100ppmとなるように入れた。さらに白色蛍光灯をN113フィルタにより400nm以下の波長をカットし、照度6000lxで一定時間照射した後、容器からマイクロシリンジにてガスを採取し、ガスクロマトグラフにより、二酸化炭素濃度を測定し、光触媒機能の効果を確認した。
効果は、初期濃度に対して評価後のアセトアルデヒドの濃度の比を常用対数で表した値を分解活性値とした。分解活性値の基準を−2とした(初期の濃度の1/100になったら、分解活性値は−2)。
◎:非常に高い分解活性を示した。
○:分解活性の基準値付近を示した。
×:分解活性をほとんど示さなかった。
以下に、V溝曲げ加工適性試験の詳しい方法について述べる。
まず、基材Bを構成する中質繊維板(MDF)の一方の面に対して、上記の方法で作製した各化粧シート1をウレタン系の接着剤を用いて貼り付け、基材Bの他方の面に対して、反対側の化粧シート1にキズが付かないようにV型の溝を基材Bと化粧シート1とを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シート1の面が山折りとなるように基材Bを当該V型の溝に沿って90度まで曲げ、化粧シート1の表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂などが生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、耐後加工性の優劣の評価を行う。
◎:白化・亀裂などが認められなかった
○:白化は認められず・亀裂は基材に一部ある場合もあるが容認できる
×:化粧シート1として容認できない白化・亀裂が認められた
ここで、曲げた箇所の割れの有無を確認すると、光触媒材料が凝集しているほど、その部分から割れる傾向にあり、光触媒材料が均一に分散しているものほど割れ難くなる。
建築基準法施工令に規定の不燃材料の技術的基準においては、ISO5660−1に準拠したコーンカロリーメータ試験機による発熱性試験において下記の要件を満たしている必要がある(建築基準法施工令第108条の2第1号および第2号)。
本発明の化粧シート1が不燃材料として認定されるためには、不燃性基材と貼り合わせた状態で50kW/m2の輻射熱による加熱にて20分間の加熱時間において下記の1〜3の要求項目をすべて満たす必要がある。
2.最高発熱速度が10秒以上継続して200kW/m2を超えない
3.防炎上有害な裏面まで貫通する亀裂および穴が生じない
なお、不燃性基材としては、石こうボード、繊維混入ケイ酸カルシウム板または亜鉛メッキ鋼板から選択して用いることができる。
◎:上記の要求項目を大きく上回る。
○:要求項目値付近ではあるが、亀裂および穴の発生は見られない
×:要求項目の内、少なくとも一つ未達
以上の評価結果を表2に示す。
ここで、比較例2-1、2-2では、少量の酸化チタンの添加量であるが、光触媒粒子同士が凝集しており、後加工はそこから裂けていた。
又、実施例2-4〜2-10から分かるように、光触媒ベシクル(光触媒材料)の添加量が熱可塑性樹脂100質量部に対し7質量部以上400質量部以下の範囲とすることで、高い光触媒機能を有し、後加工性に優れた化粧シートとなることが分かった。一方、比較例2-3、2-4から分かるように、光触媒ベシクル(光触媒材料)の添加量が熱可塑性樹脂100質量部に対し7質量部よりも少ないか400質量部よりも多い場合には、光触媒機能又は後加工性において評価が「×」となった。
また、透明樹脂シートにナノサイズの造核剤を添加した実施例2-11について、別途、耐磨耗性及び耐候性について評価したところ、耐磨耗性及び耐候性が共に良好であったことを確認している。尚、耐磨耗性及び耐候性の評価は、上述の耐摩耗試験および耐候性試験によって評価した。
更に、実施例2-1〜2-3の評価から分かるように、超臨界処理によるベシクル化の方が、他の方法よりもより均一かつ高濃度に分散できるので、後加工性に優れていることも分かった。
ここで、実施例2-11では、表面保護層にも、ベシクル化した光触媒材料を添加する場合で例示したが、表面保護層に対しベシクル化した光触媒材料を添加しない場合であっても、上記の実施例2-11と同等の評価結果を得ることができたことを、確認している。
また、各実施形態により本発明を説明したが、本発明の範囲は、図示され記載された例示的な実施形態に限定されるものではなく、本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含む。さらに、本発明の範囲は、請求項により画される発明の特徴の組み合わせに限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴のうち特定の特徴のあらゆる所望する組み合わせによって画されうる。
2 基材シート
3 絵柄模様層
4 透明樹脂層
4a エンボス模様
5 表面保護層
6 プライマー層
7 接着層
8 隠蔽層
B 基材
Claims (14)
- 基材シートの一方の面側の表層に、樹脂層からなる表面保護層が設けられた化粧シートであって、
上記表面保護層及び上記基材シートの少なくとも一方に、光触媒材料が添加され、
上記光触媒材料は、その表面が部分的に光触媒に対して不活性な材料で被覆された被覆光触媒材料となっており、
更に、上記被覆光触媒材料がベシクルに内包されていることを特徴とする化粧シート。 - 上記ベシクルが、リン脂質からなる外膜を具備するリポソームであることを特徴とする請求項1に記載した化粧シート。
- 上記光触媒に対して不活性な材料は無機材料であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載した化粧シート。
- 上記無機材料が多孔質材料であることを特徴とする請求項3に記載した化粧シート。
- 上記多孔質材料として、ゼオライト、アパタイト、及び多孔質シリカの少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項4に記載した化粧シート。
- 上記光触媒材料は可視光にて光触媒活性する材料からなることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載した化粧シート。
- 上記光触媒材料は、酸化チタン、酸化タングステン、酸化亜鉛、及び表面に金属化合物を担持した材料のうちの少なくとも一つからなることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載した化粧シート。
- 上記光触媒材料が、酸化チタンまたは酸化タングステンであることを特徴とする請求項7に記載した化粧シート。
- 上記酸化チタンはアナターゼ型であることを特徴とする請求項8に記載した化粧シート。
- 上記光触媒材料は、少なくとも上記表面保護層に添加され、
上記表面保護層の主成分である樹脂組成物が、アクリルポリオールとイソシアネート化合物との反応生成物であることを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載した化粧シート。 - 上記光触媒材料は、少なくとも上記基材シートに添加され、
上記基材シートが延伸樹脂シートからなることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載した化粧シート。 - 上記表面保護層と上記基材シートとの間に位置する透明樹脂層と、
上記透明樹脂層と上記基材シートとの間に位置する絵柄模様層と、を有し、
上記透明樹脂層に、ナノサイズの造核剤が添加されていることを特徴とする請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載した化粧シート。 - 基材シートの一方の面側の表層に、樹脂層からなる表面保護層が設けられた化粧シートであって、
上記表面保護層及び上記基材シートの少なくとも一方に、光触媒材料を含有し、
上記光触媒材料は、その表面が部分的に光触媒に対して不活性な材料で被覆された被覆光触媒材料となっており、
上記被覆光触媒材料が、ベシクルに内包された光触媒ベシクルの状態で、上記表面保護層及び上記基材シートの少なくとも一方を構成する樹脂に添加されたことを特徴とする化粧シート。 - 基材シートの一方の面側の表層に、樹脂層からなる表面保護層が設けられた化粧シートの製造方法であって、
光触媒材料の表面が部分的に光触媒に対して不活性な材料で被覆された被覆光触媒材料を準備し、
上記被覆光触媒材料がベシクルで内包された光触媒ベシクルを、上記表面保護層及び上記基材シートの少なくとも一方を構成する樹脂に添加する、
ことを特徴とする化粧シートの製造方法。
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