JP6863429B2 - Toc処理装置及び処理方法 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000011071 total organic carbon measurement Methods 0.000 description 83
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/469—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
- C02F1/4693—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis
- C02F1/4695—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis electrodeionisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/20—Total organic carbon [TOC]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Description
図2に示すように、超純水にイソプロピルアルコール(IPA)をスパイクによって添加することにより、規定IPA濃度(すなわち規定TOC濃度)の水とした。これを調光型低圧UV装置(出力制御可能範囲30〜100%)2に通水して紫外線酸化処理し、次いで混床型イオン交換塔に通水して処理水とした。UV装置給水と処理水のTOC濃度をTOC計で測定した。
実施例1において、給水流量を7〜16m3/hrで変化させ、IPAのスパイク量を、給水TOC濃度が21μg/Lとなるように、給水流量に比例する量とした。その他は実施例1と同様にして試験を行った。処理水のTOC濃度の計測値と、UV装置のTOC負荷量([流量]×[給水TOC])を表2に示す。
4 脱イオン装置
6 TOC計
7 制御装置
Claims (3)
- 超純水製造用一次純水システム又はサブシステムにおけるTOC処理装置であって、
被処理水に紫外線を照射してTOC成分を分解する紫外線酸化装置と、その後段の脱イオン装置とを備えてなるTOC処理装置において、
該紫外線酸化装置の被処理水流量を計測する流量計と、
該脱イオン装置の流出水のTOC濃度を計測するTOC計と、
該流量計の計測値と該TOC計の計測値が入力され、これらの計測値に基づいて、前記紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御する制御手段と
を備え、
前記制御手段は、前記流量計の計測値と前記TOC計の計測値との積と、前記流量計の計測値と目標TOC値との積との差に基づいて、又は前記TOC計の計測値と目標TOC値との差に対し前記流量計の計測値を乗じた値に基づいて、前記紫外線照射量を制御することを特徴とするTOC処理装置。 - 超純水製造用一次純水システム又はサブシステムにおけるTOC処理方法において、
被処理水に紫外線を照射してTOC成分を分解する紫外線酸化装置と、その後段の脱イオン装置と、
該紫外線酸化装置の被処理水流量を計測する流量計と、
該脱イオン装置の流出水のTOC濃度を計測するTOC計と、
該流量計の計測値と該TOC計の計測値が入力され、これらの計測値に基づいて、前記紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御する制御手段と
を用いたTOC処理方法であって、
前記流量計の計測値と前記TOC計の計測値との積と、前記流量計の計測値と目標TOC値との積との差に基づいて、又は前記TOC計の計測値と目標TOC値との差に対し前記流量計の計測値を乗じた値に基づいて、前記紫外線照射量を制御することを特徴とするTOC処理方法。 - 前記紫外線酸化装置は、調光型紫外線酸化装置であり、該紫外線酸化装置への投入電力をPID制御することにより、前記紫外線照射量を制御する、請求項2のTOC処理方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019184590A JP6863429B2 (ja) | 2019-10-07 | 2019-10-07 | Toc処理装置及び処理方法 |
PCT/JP2020/034829 WO2021070573A1 (ja) | 2019-10-07 | 2020-09-15 | Toc処理装置及び処理方法 |
KR1020227004545A KR20220073728A (ko) | 2019-10-07 | 2020-09-15 | Toc 처리 장치 및 처리 방법 |
CN202080059668.7A CN114269696A (zh) | 2019-10-07 | 2020-09-15 | Toc处理装置和处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019184590A JP6863429B2 (ja) | 2019-10-07 | 2019-10-07 | Toc処理装置及び処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021058845A JP2021058845A (ja) | 2021-04-15 |
JP6863429B2 true JP6863429B2 (ja) | 2021-04-21 |
Family
ID=75381081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019184590A Active JP6863429B2 (ja) | 2019-10-07 | 2019-10-07 | Toc処理装置及び処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6863429B2 (ja) |
KR (1) | KR20220073728A (ja) |
CN (1) | CN114269696A (ja) |
WO (1) | WO2021070573A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024014218A1 (ja) * | 2022-07-14 | 2024-01-18 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 |
CN115432768B (zh) * | 2022-08-24 | 2023-06-09 | 乐富意得(上海)流体技术有限公司 | 用于水处理的紫外线装置的控制方法 |
JP2024058285A (ja) * | 2022-10-14 | 2024-04-25 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06198279A (ja) * | 1993-01-05 | 1994-07-19 | Japan Organo Co Ltd | 紫外線分解装置 |
JP4294731B2 (ja) * | 1996-02-20 | 2009-07-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造方法および超純水製造装置 |
JP3941139B2 (ja) * | 1996-10-22 | 2007-07-04 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
JP2001252652A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-18 | Toto Ltd | 水の浄化装置 |
JP5211414B2 (ja) * | 2001-03-12 | 2013-06-12 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
JP4959072B2 (ja) | 2001-07-11 | 2012-06-20 | 株式会社日本フォトサイエンス | 光化学反応処理装置および光化学反応処理方法 |
JP5214107B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2013-06-19 | 株式会社東芝 | バラスト水浄化装置 |
JP5280038B2 (ja) | 2007-11-06 | 2013-09-04 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造装置 |
JP5276855B2 (ja) * | 2008-02-18 | 2013-08-28 | 株式会社日立製作所 | 紫外線水処理設備及びその紫外線照射量制御装置 |
WO2009122884A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 栗田工業株式会社 | 純水製造方法及び純水製造装置 |
JP5044634B2 (ja) * | 2009-12-24 | 2012-10-10 | 株式会社東芝 | 紫外線照射を利用した水処理システム |
JP2014508033A (ja) * | 2011-01-17 | 2014-04-03 | シーメンス ウォーター テクノロジーズ エルエルシー | 超純水を提供するための方法およびシステム |
JP2016107249A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
CN206705733U (zh) * | 2017-05-11 | 2017-12-05 | 浙江沃尔水务科技有限公司 | 一种智能型紫外线消毒装置 |
-
2019
- 2019-10-07 JP JP2019184590A patent/JP6863429B2/ja active Active
-
2020
- 2020-09-15 CN CN202080059668.7A patent/CN114269696A/zh active Pending
- 2020-09-15 WO PCT/JP2020/034829 patent/WO2021070573A1/ja active Application Filing
- 2020-09-15 KR KR1020227004545A patent/KR20220073728A/ko unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021070573A1 (ja) | 2021-04-15 |
CN114269696A (zh) | 2022-04-01 |
KR20220073728A (ko) | 2022-06-03 |
JP2021058845A (ja) | 2021-04-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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