JP6852441B2 - 光源装置及びプロジェクター - Google Patents

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Description

本発明は、光源装置及びプロジェクターに関するものである。
プロジェクター等に用いられる光源装置として、半導体レーザー等の光源から射出された励起光を蛍光体に照射し、蛍光体から得られる蛍光光を利用する光源装置が提案されている(例えば、特許文献1,2)。
特許文献1には、カラーホイールを使用することなく、蛍光体の使用量を少なく抑えることができるとともに、回転機構などの複雑な装置を設けずに装置の小型化を図ることのできる光源装置が開示されている。
特許文献2には、透明部材から構成されるホイール基板に蛍光体層を設け、蛍光体層の第1の側面と第2の側面との距離を励起光の入射面から蛍光の射出面に向かって大きくした構成が開示されている。
特開2012−169049号公報 特開2012−98442号公報
半導体レーザーを励起光として、波長変換層(蛍光体)により蛍光光を得て、少なくとも当該蛍光光を光源として用いるプロジェクターの場合、波長変換層の発光面積を大きくすれば光源からの光量(蛍光光の光量)を上げることはできるが、光源のエテンデューが大きくなってしまう。
上述したことから、特許文献2に記載された発明を特許文献1に記載された発明に適用した場合、発光エリアの面積(発光面積)が大きくなるが、エテンデューも増加してしまい、光源装置の後段に設けられた光学系における効率が悪化してしまう恐れがあった。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、エテンデューを増加させずに、波長変換素子からの光の取り出し効率を向上させた光源装置を提供することを目的の一つとしている。また、波長変換層からの光の取り出し効率を向上させた光源装置を備えたプロジェクターを提供することを目的の一つとしている。
本発明の一態様における光源装置は、励起光を射出する励起光源と、前記励起光が入射する光入射面と、前記励起光を波長変換した蛍光光を少なくとも射出する光射出面と、を有する波長変換層と、前記光射出面から射出された光を反射する反射部材と、前記波長変換層から射出された前記蛍光光を平行化するピックアップ光学系と、を備え、前記光射出面は、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する第1光射出面と、前記ピックアップ光学系の光軸に沿う第2光射出面と、前記ピックアップ光学系の光軸に交差し、前記光入射面に対向するとともに前記反射部材の前記端部を含む前記平面と一致する第3光射出面と、を少なくとも有し、前記反射部材は、前記ピックアップ光学系の光軸に沿った反射面を有するとともに、前記ピックアップ光学系側の端部が前記光射出面より前記ピックアップ光学系側に延出しており、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する平面上であって、前記反射部材の前記端部を含む平面上に、前記ピックアップ光学系の焦点が形成されている。
この構成によれば、反射部材の端部を含む平面上にピックアップ光学系の焦点が形成されていることから、その平面上に形成された二次光源像が、光射出面の面積を光入射面の面積よりも大きくした場合であっても、光入射面よりも大きくなることがない。すなわち、ピックアップ光学系から見たときの二次光源サイズが、光射出面を拡大していないときと同じで変化しないため、エテンデューが増加することもない。よって、本実施形態によれば、エテンデューを増加させずに波長変換層の光射出面を拡大し、波長変換素子からの光の取り出し効率を改善することができる。また、反射部材の端部を、波長変換層の光射出面よりもピックアップ光学系側へ突出させてライトトンネル構造としたことにより、後段のピックアップ光学系における光の利用効率が改善される。
本発明の一態様における光源装置において、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する方向において前記反射部材の前記波長変換層とは反対側に放熱部材が設けられており、前記波長変換層は、前記光入射面と前記光射出面とを接続する接続面を有し、前記反射部材の反射面は、少なくとも一部が前記接続面に接して設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、波長変換層の接続面が反射部材に接して設けられているので、波長変換層において生じた熱を効率よく放熱させることができ、波長変換層の変換効率が低下するのを抑制することができる。
本発明の一態様における光源装置において、前記励起光源と前記波長変換層との間に、前記光入射面に当接して設けられる透光性部材を備える構成としてもよい。
この構成によれば、波長変換層において生じた熱を透光性部材を介して効率良く放熱させることができ、波長変換層の変換効率が低下するのを抑制することができる。
本発明の一態様における光源装置において、励起光を射出する励起光源と、前記励起光が入射する光入射面と、前記励起光を波長変換した蛍光光を少なくとも射出する光射出面と、を有する波長変換層と、前記光射出面から射出された光を反射する反射部材と、前記波長変換層から射出された前記蛍光光を平行化するピックアップ光学系と、を備え、前記光射出面は、前記ピックアップ光学系の光軸に対して傾きを有する第1光射出面と、前記第1光射出面に対して傾きを有する第2光射出面と、を少なくとも有し、前記反射部材は、前記ピックアップ光学系の光軸に沿った反射面を有するとともに、前記ピックアップ光学系側の端部が前記光射出面より前記ピックアップ光学系側に延出しており、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する平面上であって、前記反射部材の前記端部を含む平面上に、前記ピックアップ光学系の焦点が形成されており、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する方向において前記反射部材の前記波長変換層とは反対側に放熱部材が設けられており、前記波長変換層は、前記光入射面と前記光射出面とを接続する接続面を有し、前記反射部材の反射面は、少なくとも一部が前記接続面に接して設けられている構成としてもよい。
この構成によれば、光軸に交差する光射出面はピックアップ光学系に対向することになり、射出された光はピックアップ光学系に向かって射出される。このため、当該光射出面から射出された光をピックアップ光学系に直接入射させることができる。光軸に対して傾きを有する射出面から射出された光は、反射部材において反射されたのちにピックアップ光学系側へ向かって射出されて、ピックアップ光学系へ入射する。
本発明の一態様における光源装置において、前記第1光射出面及び前記第2光射出面のうちいずれか他方が前記光軸に沿っている構成としてもよい。
この構成によれば、第2射出面から射出された光を反射部材(反射面)において波長変換層に再入射させることができるので、エテンデューを増加させずに、光射出面の面積を拡大し、波長変換層からの光の取り出す効率を改善することができる。
本発明の一態様における光源装置において、前記波長変換層は、前記第1光射出面及び前記第2光射出面のうち少なくともいずれか一方に対して傾きを有する第3光射出面を有する構成としてもよい。
この構成によれば、エテンデューを増加させずに光射出面の面積を拡大させることができ、波長変換層からの光の取り出し効率を改善することができる。
本発明の一態様における光源装置において、前記第3光射出面は、前記ピックアップ光学系の光軸に交差し、前記光入射面に対向するとともに前記反射部材の前記端部を含む前記平面と一致する構成としてもよい。
この構成によれば、エテンデューを増加させずに光射出面の面積を拡大させることができ、波長変換層からの光の取り出し効率を改善することができる。
本発明の一態様におけるプロジェクターは、上記の光源装置と、前記光源装置から射出された光を画像情報に応じて変調して画像光を生成する光変調装置と、前記画像光を投射する投射光学系と、を備える。
この構成によれば、波長変換素子からの光の取り出し効率を向上させた光源装置を備えたことにより、投入電力に対する光の利用効率の高いプロジェクターを提供することができる。
第1実施形態におけるプロジェクター1A、第6実施形態におけるプロジェクター1Bを示す概略構成図。 第1実施形態における光源装置2Aの概略構成を示す図。 第1実施形態における波長変換素子30を照明光軸100axを含む平面で切断した断面図。 第1実施形態における波長変換素子30から射出された光の光路を説明するための図。 第2実施形態における波長変換素子70を照明光軸100axを含む平面で切断した断面図。 第2実施形態における波長変換素子70から射出された光の光路を説明するための図。 第3実施形態における波長変換素子80を照明光軸100axを含む平面で切断した断面図。 第1実施形態から第3実施形態における波長変換層の変形例を示す断面図。 第4実施形態における波長変換素子90を照明光軸100axを含む平面で切断した断面図。 第4実施形態における波長変換層の変形例1を示す断面図。 第4実施形態における波長変換層の変形例2を示す断面図。 第4実施形態における波長変換層の変形例3を示す断面図。 第5実施形態における波長変換素子101を照明光軸100axを含む平面で切断した断面図。 第6実施形態における光源装置2Bの概略構成を示す図。 比較例1の波長変換層202の構成を示す図。 比較例2の波長変換層203の構成を示す図。 比較例3の波長変換層204の構成を示す図。 比較例4の波長変換層205の構成を示す図。
以下、本発明の実施形態について、各図を参照して詳細に説明する。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
[第1実施形態のプロジェクター]
本実施形態のプロジェクター1Aは、光変調装置として、3つの透過型液晶ライトバルブを用いたプロジェクターの一例である。なお、光変調装置として、反射型液晶ライドバルブを用いることもできる。また、光変調装置として、マイクロミラーを用いたデバイス、例えば、DMD(Digital Micromirror Device)等を利用したものなど、液晶以外の光変調装置を用いてもよい。
図1は、第1実施形態におけるプロジェクター1Aを示す概略構成図である。
図1に示すように、プロジェクター1Aは、光源装置2Aと、色分離光学系3と、光変調装置4R,光変調装置4G,光変調装置4Bと、光合成光学系5と、投射光学系6と、を備えている。光源装置2Aは、照明光WLを射出する。色分離光学系3は、光源装置2Aからの照明光WLを赤色光LR、緑色光LG、青色光LBに分離する。光変調装置4R,光変調装置4G,光変調装置4Bはそれぞれ、赤色光LR、緑色光LG、青色光LBを画像情報に応じて変調し、各色の画像光を形成する。光合成光学系5は、各光変調装置4R,4G,4Bからの各色の画像光を合成する。投射光学系6は、光合成光学系5からの合成された画像光をスクリーンSCRに向かって投射する。
図2に示すように、光源装置2Aは、半導体レーザーから射出された青色の励起光Bのうち、波長変換されずに射出される青色の励起光Bの一部と、波長変換素子30による励起光の波長変換によって生じる黄色の蛍光光Yと、が合成された白色の照明光(白色光)WLを射出する。光源装置2Aは、略均一な照度分布を有するように調整された照明光WLを色分離光学系3に向けて射出する。光源装置2Aの具体的な構成については後述する。
図1に示すように、色分離光学系3は、第1のダイクロイックミラー7aと、第2のダイクロイックミラー7bと、第1の反射ミラー8aと、第2の反射ミラー8bと、第3の反射ミラー8cと、第1のリレーレンズ9aと、第2のリレーレンズ9bと、を備えている。
第1のダイクロイックミラー7aは、光源装置2Aから射出された照明光WLを、赤色光LRと、緑色光LGと青色光LBとが混合された光と、に分離する。そのため、第1のダイクロイックミラー7aは、赤色光LRを透過するとともに、緑色光LGおよび青色光LBを反射する特性を有する。第2のダイクロイックミラー7bは、緑色光LGと青色光LBとが混合された光を緑色光LGと青色光LBとに分離する。そのため、第2のダイクロイックミラー7bは、緑色光LGを反射するとともに、青色光LBを透過する特性を有する。
第1の反射ミラー8aは、赤色光LRの光路中に配置され、第1のダイクロイックミラー7aを透過した赤色光LRを光変調装置4Rに向けて反射する。第2の反射ミラー8bおよび第3の反射ミラー8cは、青色光LBの光路中に配置され、第2のダイクロイックミラー7bを透過した青色光LBを光変調装置4Bに導く。
第1のリレーレンズ9aおよび第2のリレーレンズ9bは、青色光LBの光路中の第2のダイクロイックミラー7bの後段に配置されている。第1のリレーレンズ9aおよび第2のリレーレンズ9bは、青色光LBの光路長が赤色光LRや緑色光LGの光路長よりも長くなることによる青色光LBの光損失を補償する。
光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々は、液晶パネルから構成されている。光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々は、赤色光LR、緑色光LG、および青色光LBの各々を通過させる間に、赤色光LR、緑色光LG、および青色光LBの各々を画像情報に応じて変調し、各色に対応した画像光を形成する。光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々の光入射側および光射出側には、偏光板(図示略)がそれぞれ配置されている。
光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々の光入射側には、光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々に入射する赤色光LR、緑色光LG、および青色光LBの各々を平行化するフィールドレンズ10R,フィールドレンズ10G,およびフィールドレンズ10Bが設けられている。
光合成光学系5は、クロスダイクロイックプリズムから構成されている。光合成光学系5は、光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの各々からの各色の画像光を合成し、合成された画像光を投射光学系6に向かって射出する。
投射光学系6は、投射レンズ群から構成されている。投射光学系6は、光合成光学系5により合成された画像光をスクリーンSCRに向かって拡大投射する。これにより、スクリーンSCR上には、拡大されたカラー映像(画像)が表示される。
(光源装置)
次に、第1実施形態の光源装置2Aの構成について説明する。
図2は、第1実施形態における光源装置2Aの概略構成を示す図である。
図2に示すように、光源装置2Aは、励起光源110と、アフォーカル光学系11と、ホモジナイザー光学系12と、集光光学系20と、波長変換素子30と、ピックアップ光学系60と、第1レンズアレイ120と、第2レンズアレイ130と、偏光変換素子140と、重畳レンズ150とを備える。
励起光源110は、レーザー光からなる青色の励起光Bを射出する複数の半導体レーザー110Aから構成されている。励起光Bの発光強度のピークは、例えば445nmである。複数の半導体レーザー110Aは、照明光軸100axと直交する一つの平面内においてアレイ状に配置されている。なお、励起光源110としては、445nm以外の波長、例えば455nmや460nmの青色光を射出する半導体レーザーを用いることもできる。また、励起光源110としては、半導体レーザーダイオードに限らずLED(Light Emitting Diode)を用いることもできる。
アフォーカル光学系11は、例えば凸レンズ11aと、凹レンズ11bと、を備えている。アフォーカル光学系11は、励起光源110から射出された複数のレーザー光からなる光束の径を縮小する。なお、アフォーカル光学系11と励起光源110との間にコリメーター光学系を配置し、アフォーカル光学系11に入射する励起光を平行光束に変換するようにしてもよい。
ホモジナイザー光学系12は、例えば第1マルチレンズアレイ12aと、第2マルチレンズアレイ12bと、を備えている。ホモジナイザー光学系12は、励起光の光強度分布を後述する波長変換層上で均一な状態、いわゆるトップハット分布にする。ホモジナイザー光学系12は、第1マルチレンズアレイ12aおよび第2マルチレンズアレイ12bの複数のレンズから射出された複数の小光束を、集光光学系20とともに、波長変換層上で互いに重畳させる。これにより、波長変換層上に照射される励起光Bの光強度分布を均一な状態とする。
集光光学系20は、例えば第1レンズ20aと、第2レンズ20bと、を備えている。集光光学系20は、ホモジナイザー光学系12から波長変換素子30までの光路中に配置され、励起光Bを集光させて波長変換素子30の波長変換層に入射させる。本実施形態において、第1レンズ20aおよび第2レンズ20bは、それぞれ凸レンズから構成されている。
ピックアップ光学系60は、例えば第1コリメートレンズ62と、第2コリメートレンズ64と、を備えている。ピックアップ光学系60は、波長変換素子30から射出された光を略平行化する。第1コリメートレンズ62および第2コリメートレンズ64は、それぞれ凸レンズから構成されている。
第1レンズアレイ120は、ピックアップ光学系60から射出された光を複数の部分光束に分割するための複数の第1レンズ122を有する。複数の第1レンズ122は、照明光軸100axと直交する面内においてマトリクス状に配列されている。
第2レンズアレイ130は、第1レンズアレイ120の複数の第1レンズ122に対応する複数の第2レンズ132を有する。第2レンズアレイ130は、重畳レンズ150とともに、第1レンズアレイ120の各第1レンズ122の像を光変調装置4R、光変調装置4G、および光変調装置4Bの画像形成領域の近傍に結像させる。複数の第2レンズ132は、照明光軸100axに直交する面内においてマトリクス状に配列されている。
偏光変換素子140は、第2レンズアレイ130から射出された光を直線偏光に変換する。偏光変換素子140は、例えば、偏光分離膜と位相差板と(ともに図示略)を備えている。
重畳レンズ150は、偏光変換素子140から射出された各部分光束を集光して光変調装置4R,光変調装置4G,および光変調装置4Bの画像形成領域の近傍に重畳させる。
(波長変換素子)
次に、第1実施形態における波長変換素子の構成について説明する。
図3は、第1実施形態における波長変換素子30を、図2の照明光軸100axを含む平面で切断した断面図である。図4は、第1実施形態における波長変換素子30から射出された光の光路を説明するための図である。
図3に示すように、波長変換素子30は、支持部材(放熱部材)31と、透光性部材33と、反射膜(反射部材)35と、波長変換層32とを主に備えている。
支持部材31は、矩形の板材で構成され、板厚方向で互いに対向する第1の面31aと第2の面31bとを有している。ピックアップ光学系60は、支持部材31の第2の面31b側に設けられている。支持部材31には、第1の面31aと第2の面31bとの間で厚さ方向を貫通する孔31hが設けられている。第1の面31aの法線方向から見たとき、孔31hの形状は矩形である。
支持部材31は、ガラス、石英等の透光性を有する材料で構成されていてもよいし、金属等の透光性を有しない材料で構成されていてもよい。金属材料の場合、アルミニウム、銅等の放熱性に優れた金属が用いられることが望ましい。
波長変換層32は、支持部材31の孔31hの内部に設けられて支持されている。波長変換層32の光射出面32bの法線方向から見たとき、波長変換層32の形状は矩形である。波長変換層32は、青色の励起光Bを黄色の蛍光光Yに変換して射出する蛍光体粒子(図示略)を含む。
波長変換層32は、励起光源110から射出された励起光Bが入射するとともに励起光Bの光軸に交差する光入射面32aと、光入射面32aに対向する光射出面32bと、光入射面32aと光射出面32bとを接続する接続面32cとを有する。接続面32cは、支持部材31の孔31hの内周面31eに設けられた反射膜35に接触している。光入射面32aは、支持部材31の第1の面31aと同一平面上に位置し、光射出面32bは、支持部材31の第2の面31bよりも第1の面31a側であって孔31h内に位置する。
図4に示すように、波長変換層32は、波長変換層32の光軸方向長さL1が反射膜35の光軸方向長さL2よりも短く設定されており、支持部材31の孔31h内に後述の反射膜35が露出する寸法に設定されている。
本実施形態の光射出面32bは、光入射面32aに対して傾きを有するとともにピックアップ光学系60の光軸に対して傾きを有する第1光射出面32b1と、第1光射出面32b1に対して傾きを有する第2光射出面32b2と、を有している。具体的に、第2光射出面32b2は、光入射面32aに対向するとともにピックアップ光学系60の光軸に交差する。第1光射出面32b1は、ピックアップ光学系60側へ行くにしたがって反射膜35から離れる方向へ傾斜する面である。凸状の屈曲面からなる光射出面32bの面積は、波長変換層32の光入射面32aの面積よりも大きい。
本実施形態では、波長変換層32が配置された孔31hの深さ方向中央位置(支持部材31の板厚方向の中央位置)を基準位置Mとする(図3参照)と、光射出面32b(第1光射出面32b1及び第2光射出面32b2)は、反射膜35の光射出面32b側またはピックアップ光学系60側の端面35bよりも光入射面32a側であって基準位置Mよりも反射膜35の端面35b側に位置している。
蛍光体粒子として、例えばYAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)系蛍光体が用いられる。なお、蛍光体粒子の形成材料は、1種であってもよいし、2種以上の材料を用いて形成された粒子が混合されたものが用いられてもよい。波長変換層32には、耐熱性および表面加工性に優れたものを用いることが好ましい。このような波長変換層32として、アルミナ等の無機バインダー中に蛍光体粒子を分散させた蛍光体層、バインダーを用いずに蛍光体粒子を焼結した蛍光体層などが好適に用いられる。
波長変換層32の光入射面32a上には、ダイクロイック膜34Aが設けられている。
ダイクロイック膜34Aは、図2に示した励起光源110から射出された青色の励起光Bを透過し、波長変換層32で生成された黄色の蛍光光Yを反射する特性を有する。
反射膜35は、支持部材31の孔31hの内周面31eに設けられ、支持部材31と波長変換層32との間に存在する。すなわち、孔31hの内周面31eと波長変換層32の接続面32cとの間に設けられている。反射膜35は、ピックアップ光学系60の光軸に沿った反射面35eを有している。孔31hの内周面31eは、ピックアップ光学系60の光軸に沿っていることから、当該内周面31e上に成膜される反射膜35の反射面35eもピックアップ光学系60の光軸に沿ったものとなる。
反射膜35は、ピックアップ光学系60側の端面(端部)35bが、波長変換層32の光射出面32bよりもピックアップ光学系60側へ延出している。反射膜35の端面35bは、ピックアップ光学系60の光軸に交差し、支持部材31の第2の面31bと一致している。本実施形態においては、ピックアップ光学系60の光軸周りに存在する端面35bの全体が、支持部材31の第2の面31bと一致している。
反射膜35は、波長変換層32における光射出面32bから射出された光(波長変換層32を透過した励起光B及び波長変換層32で生成された蛍光光Y)を反射させる。反射膜35には、アルミニウム、銀等の光反射率の高い金属材料が用いられることが望ましい。
透光性部材33は、波長変換層32の光入射面32a、具体的には、光入射面32a上に設けられたダイクロイック膜34Aに対向して設けられ、接合部材36を介して支持部材31の第1の面31a側に固定されている。本実施形態の透光性部材33は、熱伝導性の高いサファイアからなり、断面視半球形状を呈する平凸レンズで構成されている。透光性部材33は、平坦面33fと、凸面(曲面)33dと、を有している。透光性部材33の平坦面33fは、ダイクロイック膜34Aを介して波長変換層32の光入射面32aと対向している。透光性部材33の凸面33dは、励起光源110からの励起光Bの進行方向と反対方向に突出する曲面である。
透光性部材33の平坦面33f上には、反射防止膜34Cが設けられている。
反射防止膜34Cは、励起光Bの反射を抑制する特性を有し、透光性部材33の平坦面33fに成膜することで励起光Bの透過効率が向上する。
透光性部材33と支持部材31との間には、接合部材36が設けられている。
具体的に、接合部材36は、透光性部材33上に設けられた反射防止膜34Cと、支持部材31の第1の面31aとの間に配置され、透光性部材33を支持部材31に接合している。接合部材36としては、透光性、不透光性を問わず、高い熱伝導率を有するものが好ましい。例えば、半田、熱伝導シート等が挙げられる。
図4に示すように、波長変換層32から射出された蛍光光Yのうち、第2光射出面32b2から射出された光はそのままピックアップ光学系60へ向かって進行するが、光軸に傾斜する第1光射出面32b1から射出された光は反射膜35(反射面35e)において反射され、他の射出光と同様にピックアップ光学系60に入射する。
上述したように、本実施形態の構成では、波長変換層32における光射出面32bが基準面(平面)Nからピックアップ光学系60側へ突出していない。ライトトンネル構造により、光射出面32bからの射出光のうち、ピックアップ光学系60の光軸に沿わない光(ピックアップ光学系60の光軸に対して傾きを有する光)を、反射膜35(反射面35e)においてピックアップ光学系60側へ向けて全反射させて射出させることができる。
また、本実施形態の波長変換素子30は、励起光源110から射出される励起光量が同じ場合と比較して、波長変換層32における光射出面32bの面積を第1光射出面32b1および第2光射出面32b2を設けることにより増加させたことで射出光の光量を増加させている。すなわち、波長変換層32における発光面積を増加させることにより、波長変換素子30から射出される射出光の光量を増加させている。
このように、波長変換層32からの射出光の光量を増加させる手段として発光面積を増やすことが考えられる。
次に、本実施形態の波長変換素子に対する比較例として、発光面積を増加させた構成についていくつか述べる。また、説明に用いる各図面において、図1〜図4と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
(比較例1)
図14は、比較例1の波長変換層202の構成を示す図である。
図14に示すように、単に、波長変換層202の発光面積(光射出面202bの面積)を光入射面202aに対して拡大した構成にすると、エテンデューが増加してしまい、後段のピックアップ光学系60において、光の利用効率が低下してしまう恐れがある。
(比較例2)
図15は、比較例2の波長変換層203の構成を示す図である。
また、図15に示すように、波長変換層203の光射出面203bが基準面Nから突出した構成の場合は、光入射面203aと光射出面203bとを接続する接続面(側面)203cから射出された光(図2の光源装置2Aのピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光)を後段のピックアップ光学系60において利用することができない。光射出面203bだけでなく接続面203cにおいてもランバート発光することから、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下してしまう。
(比較例3)
図16は、比較例3の波長変換層204の構成を示す図である。
図16に示すように、光入射面204aと光射出面204bとを接続する接続面(側面)204cが基準面Nから突出しない構成であっても、波長変換層204の光射出面204bのうち一部でも基準面Nから突出すると、光射出面204bのうち、図2の光源装置2Aのピックアップ光学系60の光軸に沿う方向の第1光出射面204b1から射出された光(ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光)を後段のピックアップ光学系60において利用することができない。よって、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下してしまう。
(比較例4)
図17は、比較例4の波長変換層205の構成を示す図である。
図17に示すように、ピックアップ光学系60の焦点Qが、基準面Nよりも波長変換層205の光入射面205a側に位置している場合、反射膜35において反射された射出光は、ピックアップ光学系60側から見たときに、図中の仮想射出位置gから射出された光とみなされる。仮想射出位置gは、ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向において、波長変換層205の幅方向外側に位置する。そのため、ピックアップ光学系60側から見たときの二次光源像のサイズが大きくなってしまう。
表示パネルに集光できる明るさは、光源の発光面積と放射角との積の値(エテンデュー:Etendue)によって規制される。そのため、光源の発光面積と放射角との積の値が、表示パネルに対する光の入射角度と入射面積との積の値よりも小さければ、光源からの射出光を有効に利用することができない。
比較例4の構成では、発光面積(光射出面205bの面積)を拡大できるものの、エテンデューが増加してしまうため、後段のピックアップ光学系60において波長変換層205からの射出光を有効に利用することができない。
一方、本実施形態の波長変換素子30では、支持部材31の孔31h内に波長変換層32が埋め込まれており、内周面31eに反射膜35を有した孔31hの一部が中空とされた、いわゆるライトトンネル14とされている。反射膜35の端面35bに沿う基準面Nから、波長変換層32の光射出面32bがピックアップ光学系60側へ突出していないため、光射出面32bから射出された光のうちピックアップ光学系60側へ直接向かわない光は、反射膜35に入射して全反射され、ピックアップ光学系60へ向かって射出される。
このような波長変換素子30を備える光源装置2Aでは、図3に示すように、ピックアップ光学系60の光軸上であって反射膜35の端面35bを含む基準面N上に、ピックアップ光学系60の焦点Qが形成されている。ピックアップ光学系60の焦点Qが基準面N上に形成されており、これによって、波長変換層32から射出されて反射膜35において反射された光が、基準面Nに沿うライトトンネル14の出口から射出されたものとみなすことができる。このとき、基準面Nに沿うライトトンネル14の出口を波長変換素子30の発光面とすることができる。これにより、ピックアップ光学系60側から見たときに、ライトトンネル14の出口に当該出口の開口面積と同じ光源サイズの二次光源像が形成される。すなわち、ライトトンネル14の出口に、光入射面32aの面積と同じ光源サイズの二次光源像が形成される。
本実施形態では、波長変換素子30における二次光源像の大きさが、光射出面を拡大していない場合(光射出面と光入射面との面積が等しい構成の場合)と同じで変化しないため、エテンデューが増加することもない。そのため、波長変換層32における発光面積(光射出面32bの面積)を光入射面32aよりも増やした構成であっても、励起光源110から射出される励起光量を変えずに、波長変換素子30における射出光の光量を増加させるとともに、エテンデューを増加させることなく、光の取り出し効率を改善することが可能である。
このように、本実施形態の構成によれば、エテンデューを増加させることなく、波長変換素子30から射出される光量を増やすことが可能であり、後段に設けられた光源系(例えば、図2の光源装置2Aにおけるピックアップ光学系60)における光の利用効率を向上させることができる。よって、投入電力に対する光の利用効率の高い光源装置2Aを得ることができる。さらに、この光源装置2Aをプロジェクターに適用することにより、投入電力に対する光の利用効率の高いプロジェクターを提供できる。
さらに、本実施形態では、波長変換素子30における放熱性も良好である。具体的には、反射膜35が波長変換層32の接続面32cに沿って設けられるとともに、反射膜35は接続面32cに接している。波長変換層32において生じた熱は、反射膜35を通じて支持部材31へと伝わり、支持部材31において放熱される。そのため、波長変換層32において生じた熱を支持部材31から効果的に放熱させることが可能となる。
また、本実施形態では、透光性部材33が波長変換層32の光入射面32a側に当接した状態で設けられている。このため、波長変換層32における接続面32cが、光入射面32aと相対的に小さい場合であっても、波長変換層32において生じた熱を光入射面32a側から透光性部材33へと伝熱させることができ、透光性部材33において放熱することが可能となる。これにより、波長変換層32における変換効率が低下するのを抑制することができる。
[第2実施形態の波長変換素子]
次に、第2実施形態における波長変換素子の構成について説明する。
図5は、第2実施形態における波長変換素子70を、図2の照明光軸100axを含む平面で切断した断面図である。図6は、第2実施形態における波長変換素子から射出された光の光路を説明するための図である。
図5に示すように、波長変換素子70は、第1実施形態の波長変換層32と比べると、光軸方向(図2の照明光軸100axに沿う方向)の厚みが薄い波長変換層72を備えている。
本実施形態の波長変換層72は、第1実施形態の波長変換層32に対して、入射した励起光Bを蛍光光Yに変換する機能は同じである。
波長変換層72は、励起光Bが入射するとともに励起光Bの光軸(または照明光軸100ax)に交差する光入射面72aと、光入射面72aに対向する光射出面72bと、光入射面72aと光射出面72bとを接続する接続面72cとを有する。接続面72cは、支持部材31の孔31hの内周面31eに設けられた反射膜35に接触している。光入射面72aは、支持部材31の第1の面31aと同一平面上に位置する。
本実施形態の光射出面72bは、光入射面72aに対して傾きを有するとともにピックアップ光学系60の光軸(または照明光軸100ax)に対して傾きを有する第1光射出面72b1と、第1光射出面72b1に対して傾きを有する第2光射出面72b2と、を有している。具体的に、第2光射出面72b2は、光入射面72aに対向するとともにピックアップ光学系60の光軸に交差する。第1光射出面72b1は、ピックアップ光学系60側へ行くにしたがって反射膜35から離れる方向へ傾斜する面である。凸状の屈曲面からなる光射出面72bの面積は、波長変換層72の光入射面72aの面積よりも大きい。
本実施形態では、波長変換層72が配置された孔31hの深さ方向中央位置(支持部材31の板厚方向の中央位置)を基準位置Mとすると、光射出面72b(第1光射出面72b1及び第2光射出面72b2)は、基準位置Mよりも光入射面72a側に位置している。
波長変換層72の光入射面72aには、励起光Bを透過させるとともに黄色光Yを反射させるダイクロイック膜34Aが設けられている。
このような波長変換素子70を備える光源装置2Aでは、波長変換素子70の中心光軸上であって反射膜35の端面35bを含む基準面Nに、ピックアップ光学系60の焦点Qが形成されている。
本実施形態の波長変換素子70においても、支持部材31の孔31h内に、基準位置M(孔31hの深さ方向中央位置または支持部材31の板厚方向の中央位置)に波長変換層72が埋め込まれており、内周面31eに反射膜35を有する孔31hの一部が中空とされた、いわゆるライトトンネル構造とされている。このように、孔31h内に露出する(波長変換層72の接続面72cと当接しない)反射膜35で反射される。
図5及び図6に示すように、波長変換層72の第1光射出面72b1から射出された光は、その殆どが反射膜35において反射され、ピックアップ光学系60へ向かって進行する。また、第2光射出面32b2から射出された光は、そのままピックアップ光学系60へ向かって進行する光と、反射膜35において反射されてピックアップ光学系60へ向かって進行する光が存在する。本実施形態では、波長変換層72の厚みが薄いため、第2光射出面32b2から放射状に射出された光の一部が反射膜35に入射し、反射されることになる。このように、本実施形態では、光射出面72bから射出された蛍光光Yの多くが反射膜35において反射されて、ピックアップ光学系60へ向かって進行する。
本実施形態においても、エテンデューを増加させずに波長変換層72における発光面積を拡大し、波長変換素子70からの光の取り出し効率を改善することができる。また、本実施形態では、ライトトンネルが長いので、反射膜35において反射される回数が増え、射出光の強度が孔31h(ライトトンネル14)内において均一になる。
[第3実施形態の波長変換素子]
次に、本発明の第3実施形態の波長変換素子80について説明する。
図7は、第3実施形態における波長変換素子80を、図2の照明光軸100axを含む平面で切断した断面図である。
図7に示すように、波長変換素子80は、第1実施形態の波長変換層32と比べると、光軸方向(図2の照明光軸100axに沿う方向)の厚みが厚い波長変換層82を備えている。
波長変換層82は、励起光Bが入射するとともに励起光Bの光軸(または照明光軸100ax)に交差する光入射面82aと、光入射面82aに対向する光射出面82bと、光入射面82aと光射出面82bとを接続する接続面82cとを有する。接続面82cは、支持部材31の孔31hの内周面31eに設けられた反射膜35に接触している。光入射面82aは、支持部材31の第1の面31aと同一平面上に位置する。
本実施形態の光射出面82bは、光入射面82aに対して傾きを有するとともにピックアップ光学系60の光軸(または照明光軸100ax)に対して傾きを有する第1光射出面82b1と、第1光射出面82b1に対して傾きを有する第2光射出面82b2と、を有している。具体的に、第2光射出面82b2は、光入射面82aに対向するとともにピックアップ光学系60の光軸に交差する。第1光射出面82b1は、ピックアップ光学系60側へ行くにしたがって反射膜35から離れる方向へ傾斜する面である。凸状の屈曲面からなる光射出面82bの面積は、波長変換層82の光入射面82aの面積よりも大きい。
本実施形態では、波長変換層82が配置された孔31hの深さ方向中央位置(支持部材31の板厚方向の中央位置)を基準位置Mとすると、波長変換層82の光射出面82b(第1光射出面82b1及び第2光射出面82b2)は、全体的に基準位置Mよりも反射膜35の端面35b側に位置しており、光軸方向において、波長変換層82の第2光射出面82b2の位置が反射膜35の端面35bと一致している。第2光射出面82b2は、反射膜35の端面35bを含む基準面Nにも一致しており、この第2光射出面82b2上にピックアップ光学系60の焦点Qが形成されている。
また、本実施形態では、第1光射出面82b1は、第2光射出面82b2に対して傾斜していることから、第1光射出面82b1と反射膜35との間に形成される空間によって孔31h内が一部中空とされた、ライトトンネル構造となっている。そのため、波長変換層82の第1光射出面82b1から射出された光のうち、ピックアップ光学系60の光軸に対して特に放射角(発散角)の大きい光を反射膜35において反射させて、ピックアップ光学系60へ入射させることができる。
このように、本実施形態においても、エテンデューを増加させずに波長変換層82における発光面積を拡大し、波長変換素子80からの光の取り出し効率を改善することができる。
(変形例)
次に、第1実施形態から第3実施形態における波長変換層(厚さの異なる波長変換層)の変形例について説明する。
図8は、第1実施形態から第3実施形態における波長変換層の変形例を示す断面図である。
上述した第1実施形態〜第3実施形態においては、波長変換層332の光射出面332bがピックアップ光学系60側に突出した凸形状となっていたが、この形状に限らず、例えば、図8に示すように、光射出面332bが光入射面332a側に凹んだ凹形状となっていてもよい。
波長変換層332は、励起光Bが入射するとともに励起光Bの光軸(または図2の照明光軸100ax)に交差する光入射面332aと、光入射面332aに対向する光射出面332bとを有する。なお、光入射面332aは、図示しない支持部材31の第1の面31aと同一平面上に位置していてもよい。
図8の光射出面332bは、光入射面332aに対して傾きを有するとともに、図2のピックアップ光学系60の光軸(または照明光軸100ax)に対して傾きを有する第1光射出面332b1と、第1光射出面332b1に対して傾きを有する第2光射出面332b2と、を有している。具体的に、第2光射出面332b2は、光入射面332aに対向するとともに図2のピックアップ光学系60の光軸に交差する。第1光射出面332b1は、図2のピックアップ光学系60側へ行くにしたがって、図示しない反射膜35から離れる方向へ傾斜する面である。凹状の屈曲面からなる光射出面332bの面積は、波長変換層332の光入射面332aの面積よりも大きい。
励起光Bの光軸(または図2の照明光軸100ax)上であって、図示しない反射膜35の端面35bを含む基準面上に、図2のピックアップ光学系60の焦点Qが形成されていれば、第1光射出面332b1の第2光射出面332b2と反対側の端部は、当該基準面上に一致してもよいし、当該基準面よりも光入射面332a側に形成されていてもよい。
図示しない反射膜35の端面35bを含む基準面上に、図2のピックアップ光学系60の焦点Qが形成されているので、エテンデューを増加させずに波長変換層332における光射出面332bの面積、すなわち、発光面積を拡大し、波長変換層332からの光の取り出し効率を改善することができる。
[第4実施形態の波長変換素子]
次に、本発明の第4実施形態の波長変換素子90について説明する。
先の実施形態では、光射出面を構成する第1光射出面及び第2光射出面のうち、少なくとも第2光射出面がピックアップ光学系60の光軸に交差する構成となっていたが、本実施形態では、光射出面を構成する第1光射出面及び第2光射出面のいずれにおいても、上記光軸に交差しておらず、上記光軸に対して傾斜した構成となっている。
図9は、第4実施形態における波長変換素子90を、図2の照明光軸100axを含む平面で切断した断面図である。
図9に示すように、波長変換素子90は、光入射面92aと、図2のピックアップ光学系60の光軸に対して所定の角度で傾斜する第1光射出面92b1及び第2光射出面92b2からなる光射出面92bと、これら光入射面92aと光射出面92bとを接続する接続面92cと、を有する波長変換層92を備える。第1光射出面92b1及び第2光射出面92b2は、上記光軸に交差する方向において互いに相反する方向へ傾斜しており、頂部qが反射膜35の端面35bを含む基準面Nと一致している。本実施形態においては、波長変換層92の頂部qにピックアップ光学系60の焦点Qが形成されている。
反射膜35の端面35bを含む基準面N上に、ピックアップ光学系60の焦点Qが形成されているので、エテンデューを増加させずに波長変換層92における光射出面92bの面積、すなわち、発光面積を拡大し、波長変換層92からの光の取り出し効率を改善することができる。
(変形例1)
次に、第4実施形態における変形例1の波長変換層93の構成について説明する。
図10は、第4実施形態における変形例1の波長変換層93の構成を示す断面図である。
上述した実施形態の波長変換層92は、図9に示したように、光射出面92bの頂部qがピックアップ光学系60側に突出した凸形状となっているが、これに限らず、図10に示すように、第1光射出面93b1及び第2光射出面93b2からなる光射出面93bが光入射面側に凹んだ凹形状の波長変換層93としてもよい。
本例では、光射出面93b(第1光射出面93b1及び第2光射出面93b2)が反射膜35の端面35bを含む基準面Nと一致しないように、波長変換層93を孔31h内に配置する。このようにすることで、光射出面93bから射出された光のうち、ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光を低減することができ、後段のピックアップ光学系60において利用することができない光を低減することができる。よって、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下することを抑制することができる。
(変形例2)
次に、第4実施形態における変形例2の波長変換層94の構成について説明する。
図11Aは、第4実施形態における変形例2の波長変換層94を備えた波長変換素子を示す断面図である。
上述した実施形態の波長変換層92は、図9に示したように、光射出面92bを構成する第1光射出面92b1及び第2光射出面92b2がともに平面をなすが、これに限らず、図11Aに示すように、第1光射出面94b1及び第2光射出面94b2がともに凹曲面をなす光射出面94bを有した波長変換層94としてもよい。ここでは、光射出面94b(第1光射出面94b1及び第2光射出面94b2)が反射膜35の端面35bを含む基準面Nと一致しないように、波長変換層94を孔31h内に配置する。このようにすることで、光射出面94bから射出された光のうち、ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光を低減することができ、後段のピックアップ光学系60において利用することができない光を低減することができる。よって、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下することを抑制することができる。
本例では、図11Aに示すように、曲面をなす光射出面94bが光入射面94a側に凹んだ形状としている。光射出面94bを光入射面94a側に凹ませた曲面とすることで、光射出面94bから射出された光が反射膜35においてピックアップ光学系60へ向かって反射されて、ピックアップ光学系60へ入射する。
(変形例3)
次に、第4実施形態における変形例3の波長変換層94の構成について説明する。
図11Bは、第4実施形態における変形例3の波長変換層95を備えた波長変換素子を示す断面図である。
図11Bに示すように、第1光射出面95b1及び第2光射出面95b2が凸曲面をなす光射出面95bを有した波長変換層95としてもよい。
本例では、図11Bに示すように、曲面をなす光射出面95bが光入射面95a側に凹んだ形状としている。この場合は、光射出面95bから射出された射出光のうち、周辺光が反射膜35においてピックアップ光学系60へ向かって反射されるように、波長変換層95の寸法(光軸方向における光射出面95bの位置)を設定するようにする。ここでは、光射出面95bの頂部q(第1光射出面95b1及び第2光射出面95b2の境界部分)が反射膜35の端面35bを含む基準面Nと一致しないように、波長変換層95を孔31h内に配置する。このようにすることで、光射出面95bから射出された光のうち、ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光を低減することができ、後段のピックアップ光学系60において利用することができない光を低減することができる。よって、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下することを抑制することができる。
[第5実施形態の波長変換素子]
次に、本発明の第5実施形態の波長変換素子101について説明する。
本実施形態の波長変換層102は、第1光射出面102b1、第2光射出面102b2の他に、第3光射出面102b3からなる光射出面102bを備えた点において、先の実施形態の構成とは異なる。
図12は、第5実施形態における波長変換素子101を、図2の照明光軸100axを含む平面で切断した断面図である。
図12に示すように、波長変換素子101の波長変換層102は、光入射面102aと、図2のピックアップ光学系60の光軸に対して交差する方向に沿う第1光射出面102b1と、同光軸に沿う第2光射出面102b2と、上記光軸に対して交差するとともに反射膜35の端面35bを含む基準面Nに一致する第3光射出面102b3と、光入射面102aと光射出面102bとを接続する接続面102cとからなる、凸面状の光射出面102bを有する。光入射面102aは、他の実施形態と同様に光軸に交差する方向に沿う平面である。接続面102cは、支持部材31の孔31hの内周面31eに設けられた反射膜35に接触している。
このような波長変換素子101を備える光源装置2Aでは、ピックアップ光学系60の光軸上であって反射膜35の端面35bを含む基準面Nに第3光射出面102b3が一致していることから、この第3光射出面102b3上にピックアップ光学系60の焦点Qが形成される。
本実施形態の波長変換素子101は、第2光射出面102b2と反射膜35との間に形成される空間によって孔31h内が一部中空とされたライトトンネル構造により、波長変換層102の第1光射出面102b1及び第2光射出面102b2から射出された光のうち、反射膜35に入射した光を反射膜35において反射させて、ピックアップ光学系60へ入射させることができる。
本実施形態においても、エテンデューを増加させずに波長変換層102における発光面積を拡大し、波長変換素子101からの光の取り出し効率を改善することができる。
なお、本実施形態においては、第1光射出面102b1と第3光射出面102b3とを接続する第2光射出面102b2が、第1光射出面102b1に対して垂直になっているが、これに限らない。第1光射出面102b1と第2光射出面102b2とのなす角度が90°以下となるように、反射膜35に対向する第2光射出面102b2が光軸に対して傾いていてもよい。これにより、第2光射出面102b2から射出された光が反射膜35において反射されて波長変換層102内へ再入射し、内側で散乱して、例えばピックアップ光学系60へ向けて射出される。
ピックアップ光学系60の焦点Qは、必ずしも第3光射出面102b3上に形成される必要はない。反射膜35の端面35bを含む基準面N上にピックアップ光学系60の焦点Qが形成される場合に、第3光射出面102b3が反射膜35の端面35bよりもピックアップ光学系60側に位置しなければ、第3光射出面102b3の位置は自由に定めることができる。同様に、支持部材31の第2の面31bよりもピックアップ光学系60側に位置しなければ、第3光射出面102b3の位置は自由に定めることができる。
反射膜35の端面35bを含む基準面N上にピックアップ光学系60の焦点Qが形成される場合に、第3光射出面102b3が反射膜35の端面35bよりもピックアップ光学系60側に位置する場合、図16に示すように、ピックアップ光学系60の光軸に沿う方向の第1光出射面204b1(図16の第1光出射面204b1は、本実施形態の第2光射出面102b2に相当する)から射出された光(ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向へ向かう光)を後段のピックアップ光学系60において利用することができない。よって、ピックアップ光学系60に入射しない光が増えて光の利用効率が低下してしまう。
よって、図12に示す反射膜35の端面35bを含む基準面N上にピックアップ光学系60の焦点Qが形成される場合に、第3光射出面102b3が反射膜35の端面35bよりもピックアップ光学系60側に位置しないことが好適である。
一方で、第3光射出面102b3が反射膜35の端面35b(または基準面N)よりも支持部材31の第1の面31a側に位置する場合、ピックアップ光学系60の焦点Qは、反射面35eよりも孔31hの内側であって、孔31hの深さ方向(支持部材31の板厚方向)において、第3光射出面102b3と端面35b(または基準面N)との間に形成されるのが好適である。なお、ピックアップ光学系60の焦点Qは、反射膜35の端面35bを含む基準面N上に形成されるのが最も好適である。
第3光射出面102b3が反射膜35の端面35b(または基準面N)よりも支持部材31の第1の面31a側に位置する場合、図17に示すように、ピックアップ光学系60の焦点Qが、第3光射出面102b3よりも支持部材31の第1の面31a側に位置すると、反射膜35において反射された射出光は、ピックアップ光学系60側から見たときに、図17中の仮想射出位置gから射出された光とみなされる。仮想射出位置gは、ピックアップ光学系60の光軸に交差する方向において、波長変換層205の幅方向外側に位置する。そのため、ピックアップ光学系60側から見たときの二次光源像のサイズが大きくなってしまう。すなわち、エテンデューが増加してしまうため、光源からの射出光を有効に利用することができない。
しかしながら、図12に示す第3光射出面102b3が反射膜35の端面35b(または基準面N)よりも支持部材31の第1の面31a側に位置する場合に、ピックアップ光学系60の焦点Qを反射面35eよりも孔31hの内側であって、孔31hの深さ方向(支持部材31の板厚方向)において、第3光射出面102b3と端面35b(または基準面N)との間に形成すれば、エテンデューが増加させることなく、光源からの射出光を有効に利用することができる。すなわち、光の利用効率が低下することを抑制することができる。なお、第3光射出面102b3が反射膜35の端面35b(または基準面N)よりも支持部材31の第1の面31a側に位置する場合には、ピックアップ光学系60の焦点Qは、反射膜35の端面35bを含む基準面N上に形成されるのが最も好適である。
[第6実施形態のプロジェクター]
次に、第6実施形態のプロジェクターの構成について説明する。
以下に示す第6実施形態のプロジェクター1B(図1参照)は、青色分離型の光源装置2Bを備えた点において第1実施形態の構成と異なる。よって、以下の説明では、光源装置2Bの構成について詳しく説明し、共通な箇所の説明は省略する。また、説明に用いる各図面において、図1〜図12と共通の構成要素には同一の符号を付すものとする。
図13は、第6実施形態における光源装置2Bの概略構成を示す図である。
図13に示すように、光源装置2Bは、励起光源110と、コリメート光学系42と、位相差板43と、偏光分離素子44と、第1ホモジナイザー光学系45と、第1の集光光学系46と、波長変換素子200(上述した各実施形態の波長変換素子30,332,70,80,90,101のうちいずれか一つ)と、第1ピックアップレンズ48と、ダイクロイックミラー49と、全反射ミラー50と、第2位相差板51と、第2ホモジナイザー光学系52と、第2の集光光学系53と、反射型回転拡散素子54と、第2ピックアップレンズ55と、を概略備えている。
光源装置2Bのうち、励起光源110、コリメート光学系42、位相差板43、偏光分離素子44、第1ホモジナイザー光学系45、第1の集光光学系46、波長変換素子200、第1ピックアップレンズ48及びダイクロイックミラー49は、照明光軸100ax上に順次並んで配置されている。
位相差板43は、回転機構を有した1/2波長板で構成されている。位相差板43は、コリメート光学系42で集光した励起光Bのうち、P偏光およびS偏光を任意の割合に変換する。なお、位相差板43は、1/4波長板でもよく、回転や移動によって偏光状態(P偏光およびS偏光の割合)を変化させることができれば特に限定されるものではない。
偏光分離素子44は、いわゆるプレート型の偏光ビームスプリッター(PBS)であり、照明光軸100axに対して45°の角度をなす傾斜面を有している。偏光分離素子44は、入射光のうちのP偏光成分を通過させ、S偏光成分を反射させる。P偏光成分は、偏光分離素子44を透過して第1ホモジナイザー光学系45へ向かって進む。S偏光成分は、偏光分離素子44で反射して、全反射ミラー50に向かって進む。
第1ホモジナイザー光学系45は、例えば、例えば第1マルチレンズアレイ45aと、第2マルチレンズアレイ45bと、を備えている。第1ホモジナイザー光学系45は、励起光Bの光強度分布を後述する波長変換層上で均一な状態、いわゆるトップハット分布にする。第1ホモジナイザー光学系45は、第1マルチレンズアレイ45aおよび第2マルチレンズアレイ45bの複数のレンズから射出された複数の小光束を、第1の集光光学系46とともに、波長変換層上で互いに重畳させる。これにより、波長変換層上に照射される励起光Bの光強度分布を均一な状態とする。
第1の集光光学系46は、第1ホモジナイザー光学系45から波長変換素子200までの光路中に配置され、励起光Bを集光させて波長変換素子200の波長変換層に入射させる。波長変換層の厚さは、入射した励起光Bの全てを黄色光Yに変換することのできる厚さに設定する。本実施形態において、第1の集光光学系46は凸レンズから構成されている。
第1ピックアップレンズ48は、例えば、凸レンズからなり、波長変換素子200から射出された黄色光Yを略平行化する。
ダイクロイックミラー49は、波長変換素子200から射出された黄色光Yを通過させるとともに、黄色光Yに対して直交する方向から入射してくる青色光Bを、黄色光Yと同じ光軸方向へ反射させるミラーである。
全反射ミラー50は、青色光Bの光路中に配置されて、偏光分離素子44において分離された青色光を第2位相差板51に向けて全反射する。
第2位相差板51は、1/4波長板(λ/4板)である。第2位相差板51は、偏光分離素子44から射出されたS偏光の青色光を円偏光に変換する。
第2ホモジナイザー光学系52は、例えば、例えば第1マルチレンズアレイ52aと、第2マルチレンズアレイ52bと、を備えている。第2ホモジナイザー光学系52は、第1マルチレンズアレイ52aおよび第2マルチレンズアレイ52bの複数のレンズから射出された複数の小光束を、第2の集光光学系53とともに、反射型回転拡散素子54上で互いに重畳させる。これにより、反射型回転拡散素子54上に照射される青色光Bの光強度分布を均一な状態とする。
第2の集光光学系53は、第2ホモジナイザー光学系52から反射型回転拡散素子54までの光路中に配置され、円偏光に変換された青色光Bを集光させて、反射型回転拡散素子54に入射させる。本実施形態において、第2の集光光学系53は凸レンズから構成されている。
反射型回転拡散素子54は、第2の集光光学系53から射出された光線を、第2ピックアップレンズ55に向けて拡散反射させるものである。その中でも、反射型回転拡散素子54としては、反射型回転拡散素子54に入射した光線をランバート反射またはランバート反射に近い特性で拡散反射させるものを用いることが好ましい。
第2ピックアップレンズ55は、例えば、凸レンズからなり、反射型回転拡散素子54から射出された青色光Bを略平行化する。平行化された青色光Bは、ダイクロイックミラー49へと進み、ダイクロイックミラー49において、青色光Bに対して直交する方向へ進行する黄色光Yと同じ方向へ反射される。
このように、反射型回転拡散素子54から射出された光線(青色光B)は、ダイクロイックミラー49を透過した蛍光光(黄色光Y)と合成されて、白色の照明光WLが得られる。白色の照明光WLは、図1に示した色分離光学系3に入射する。
なお、本実施形態では、黄色の蛍光光Yを射出する波長変換素子200であるため、上述した各実施形態における波長変換素子を適用する場合には、波長変換層の光射出面に、青色光を反射させるとともに黄色光を透過させるダイクロイック膜を設けることが望ましい。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
なお、上記各実施形態においては、透光性部材33を備えた波長変換素子の構成について述べたが、波長変換層32において生じた熱を支持部材31において十分に放熱できれば、透光性部材33を設けない構成とすることも可能である。
例えば、上述した第2実施形態を除く他の実施形態においては、ピックアップ光学系60(第1実施形態の光源装置2A)または第1ピックアップレンズ48(第6実施形態の光源装置2B)の光軸に沿う方向の波長変換層32の厚みが厚く、波長変換層が反射膜35に接触している面積が多くなっている。そのため、反射面35eに接している接続面側から放熱させることができる。波長変換層における接続面が光入射面に対して相対的に大きい場合には、波長変換層において生じた熱が接続面に接する反射膜35を介して支持部材31へと伝わり、支持部材31において放熱される。このように、支持部材31における放熱性が高くなるような構成であれば、透光性部材33は必ずしも必要ではない。
1A,1B…プロジェクター、2A,2B…光源装置、4B,4G,4R…光変調装置、6…投射光学系、31…支持部材(放熱部材)、32,72,82,332,92,93,94,95,102…波長変換層、32a,72a,82a,332a,92a,93a,94a,102a…光入射面、32b,72b,82b,332b,92b,93b,94b,95b,102b…光射出面、32c,72c,82c,92c,93c,94c…接続面、33…透光性部材、35…反射膜(反射部材)、35b…端面(端部)、35e…反射面、60…ピックアップ光学系、110…励起光源、32b1,72b1,82b1,332b1,92b1,93b1,94b1,95b1,102b1…第1光射出面、32b2,72b2,82b2,332b2,92b2,93b2,94b2,95b2,102b2…第2光射出面、100ax…照明光軸、102b3…第3光射出面、B…励起光、N…基準面(平面)、Q…焦点、Y…蛍光光

Claims (5)

  1. 励起光を射出する励起光源と、
    前記励起光が入射する光入射面と、
    前記励起光を波長変換した蛍光光を少なくとも射出する光射出面と、を有する波長変換層と、
    前記光射出面から射出された光を反射する反射部材と、
    前記波長変換層から射出された前記蛍光光を平行化するピックアップ光学系と、を備え、
    前記光射出面は、前記ピックアップ光学系の光軸に交差する第1光射出面と、前記ピックアップ光学系の光軸に沿う第2光射出面と、前記ピックアップ光学系の光軸に交差し、前記光入射面に対向するとともに前記反射部材の前記端部を含む前記平面と一致する第3光射出面と、を少なくとも有し、
    前記反射部材は、前記ピックアップ光学系の光軸に沿った反射面を有するとともに、前記ピックアップ光学系側の端部が前記光射出面より前記ピックアップ光学系側に延出しており、
    前記ピックアップ光学系の光軸に交差する平面上であって、前記反射部材の前記端部を含む平面上に、前記ピックアップ光学系の焦点が形成されている、光源装置。
  2. 前記ピックアップ光学系の光軸に交差する方向において前記反射部材の前記波長変換層とは反対側に放熱部材が設けられており、
    前記波長変換層は、前記光入射面と前記光射出面とを接続する接続面を有し、
    前記反射部材の反射面は、少なくとも一部が前記接続面に接して設けられている、
    請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記励起光源と前記波長変換層との間に、前記光入射面に当接して設けられる透光性部材を備える、
    請求項1または2に記載の光源装置。
  4. 励起光を射出する励起光源と、
    前記励起光が入射する光入射面と、前記励起光を波長変換した蛍光光を少なくとも射出する光射出面と、を有する波長変換層と、
    前記光射出面から射出された光を反射する反射部材と、
    前記波長変換層から射出された前記蛍光光を平行化するピックアップ光学系と、を備え、
    前記光射出面は、前記ピックアップ光学系の光軸に対して傾きを有する第1光射出面と、前記第1光射出面に対して傾きを有する第2光射出面と、を少なくとも有し、
    前記反射部材は、前記ピックアップ光学系の光軸に沿った反射面を有するとともに、前記ピックアップ光学系側の端部が前記光射出面より前記ピックアップ光学系側に延出しており、
    前記ピックアップ光学系の光軸に交差する平面上であって、前記反射部材の前記端部を含む平面上に、前記ピックアップ光学系の焦点が形成されており、
    前記ピックアップ光学系の光軸に交差する方向において前記反射部材の前記波長変換層とは反対側に放熱部材が設けられており、
    前記波長変換層は、前記光入射面と前記光射出面とを接続する接続面を有し、
    前記反射部材の反射面は、少なくとも一部が前記接続面に接して設けられている、光源装置。
  5. 請求項1からのいずれか一項に記載の光源装置と、
    前記光源装置から射出された光を画像情報に応じて変調して画像光を生成する光変調装置と、
    前記画像光を投射する投射光学系と、を備えるプロジェクター。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6766617B2 (ja) * 2016-11-29 2020-10-14 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター
JP2019174572A (ja) * 2018-03-27 2019-10-10 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター
JP7020315B2 (ja) * 2018-06-20 2022-02-16 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター
US11487194B2 (en) 2020-12-25 2022-11-01 Seiko Epson Corporation Wavelength conversion element, light source device, and projector
JP7435582B2 (ja) * 2021-11-19 2024-02-21 セイコーエプソン株式会社 光源装置およびプロジェクター

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8075165B2 (en) * 2008-10-14 2011-12-13 Ledengin, Inc. Total internal reflection lens and mechanical retention and locating device
US20120106126A1 (en) * 2010-11-01 2012-05-03 Seiko Epson Corporation Wavelength conversion element, light source device, and projector
JP6003029B2 (ja) * 2011-09-09 2016-10-05 セイコーエプソン株式会社 光源装置、及びプロジェクター
JP2012098442A (ja) 2010-11-01 2012-05-24 Seiko Epson Corp 波長変換素子、光源装置、及びプロジェクター
US9851071B2 (en) * 2010-12-08 2017-12-26 Appotronics China Corporation Light source employing a wavelength conversion device with a light introducing device and a light collecting device
CN201926855U (zh) * 2011-01-30 2011-08-10 河南科技大学 一种三片式lcos激光投影显示用光学引擎
JP2012169049A (ja) 2011-02-10 2012-09-06 Ushio Inc 光源装置
JP2012182376A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Stanley Electric Co Ltd 波長変換部材および光源装置
CN102518964A (zh) * 2011-12-11 2012-06-27 深圳市光峰光电技术有限公司 光源和照明装置
TWI521297B (zh) * 2014-05-30 2016-02-11 中強光電股份有限公司 波長轉換模組與照明系統
JP6427962B2 (ja) * 2014-06-03 2018-11-28 セイコーエプソン株式会社 光源装置、およびプロジェクター
JP6356522B2 (ja) * 2014-07-29 2018-07-11 ウシオ電機株式会社 蛍光発光部材およびその製造方法並びに蛍光光源装置
JP2016171228A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 発光素子、発光装置および検知装置

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