JP6851751B2 - 光学装置、加工装置、および物品製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学装置、加工装置、および物品製造方法に関する。

レーザ加工装置等における光走査装置は、対象物上の位置（ｘ、ｙ、ｚ）に方位（θｘ、θｙ）から光を集光して照射するように、並進光学系と、集光光学系と、偏向光学系とを含みうる。並進光学系は、当該方位を変更するため、後述の集光光学系に入射する光を並進（平行シフト）させる光学系である（特許文献１）。集光光学系は、対象物上に集光するため、光のフォーカス位置（ｚ）を変更する光学系である。偏向光学系（走査光学系ともいう）は、例えばミラー等の偏向光学素子を含み、光の照射位置（ｘ、ｙ）を変更する光学系である。これらの光学系のうち特許文献１の並進光学系は、第１反射面と第２反射面とを有する回転可能な反射部材を含む。また、第１反射面で反射された光を複数の反射面で順次反射して第２反射面に入射させる光学系を含む。さらに、反射部材の回転角度を変更することにより、第２反射面で反射されて反射部材を射出する光の光路を調整する調整部を含む。このような構成により、反射部材を射出する光の並進（平行シフト）を実現している。また、当該並進光学系を２組配置することにより、２軸方向において光を並進させることができる。反射部材を射出する光は、集光光学系（集光レンズ）に平行偏心して入射すると、当該偏心の量と集光光学系の焦点距離とによって決まる傾斜角で傾斜した集光光が集光光学系を射出する。当該集光光は、例えば、光加工装置において、物体に照射され、熱的または波動的な効果によって穴開け等の物体の加工に利用されうる。

特開２０１６−１０３００７号公報

光走査装置は、その光の導入口に入射する（レーザ）光の位置および角度の正確な調整をしなければならない。例えば、当該角度の正確な調整のためには、導入口での位置合わせの他に、光走査装置内部の光路（光の経路）上での比較的細い径を有する光の位置での当該光の観測（モニタ）または計測による当該光の位置合わせが必要である。そのために、光走査装置の保護カバーの取り外しや、ターゲットプレート（蛍光プレート等）の光路上への挿入、当該プレート上の輝点の位置の目視または撮像等を行うのは面倒である。なお、当該目視または撮像等の結果により、入射する光の経路の調整（例えば、光源の設置状態（例えば位置および姿勢等）の調整）が行われうる。また、このような時間を要する調整をたびたび行わなければならないのは好ましくない。

また、保護カバーの取り外しは、埃の付着した光学素子が高エネルギーの光（レーザ光等）で損傷するリスクを高める。そのため、使用環境のクリーン化が必要になりうる。さらに、作業者の防護のためには、特殊な防護具の装備も必要となりうる。これらのような点でも、上記のような調整は面倒である。

本発明は、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することを例示的目的とする。

本発明の一つの側面は、対象物にレーザ光を照射して前記対象物を加工するための光学装置であって、第１反射面と第２反射面とを含む回転可能な反射部材と、複数の反射面を含み、前記第１反射面で反射された光を前記複数の反射面で順次反射して前記第２反射面に入射させる光学系と、前記反射部材の回転角度を変更する駆動部と、前記第１反射面で反射された光の位置を検出又は表示するための光入射部と、を有し、前記第１反射面で反射された光のうち前記光入射部に入射する光を、前記光学系を介さずに前記光入射部に入射させることを特徴とする。

本発明によれば、例えば、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することができる。

第１実施形態に係る光学装置の構成例を示す図 光学装置の一部の構成例を示す図 光学装置の一部の他の構成例を示す図 光学装置を含む加工装置の構成例を示す図 反射部材の角度を変更する駆動部の構成例を示す図 光入射部の構成例を示す図 第２実施形態に係る光学装置の構成例を示す図 第２実施形態に係る光学装置の他の構成例を示す図 第３実施形態に係る光学装置の構成例を示す図 第４実施形態に係る光学装置の構成例を示す図 第５実施形態に係る加工装置の構成例を示す図

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。なお、実施形態を説明するための全図を通して、原則として（断りのない限り）、同一の部材等には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。

〔第１実施形態〕
図２は、第１実施形態に係る光学装置の一部の構成例を示す図である。本実施形態における光学装置は、出射する光の経路（光路）を制御可能であり、例えば、光線の並進（平行シフト）が可能である。本実施形態の光線平行シフト機構（並進光学系）は、光源５０からの光線５１を反射するミラー部材２（反射部材ともいう）を含む。なお、以下の説明では、各反射面が平面とみなせ、光路の並進を行う場合について例示する。ミラー部材２は、例えばガラスで構成され、光源５０からの光線５１を受ける第１反射面２ａと、その反対側の第２反射面２ｂとを有する。第１反射面２ａ及び第２反射面２ｂには、それぞれ高反射率を有するコーティングがされている。なお、ミラー部材２は、プリズム状に構成されていてもよいし、第１反射面２ａと第２反射面２ｂとがそれぞれ独立した構成であってもよい。

また、ミラー部材２は、光学装置を出射する光の光路を制御（変更）できるように角度可変に構成されている。ここで、図５は、反射部材（２）の角度を変更する駆動部（１）の構成例を示す図である。図示の如く、ミラー部材２は、（ガルバノ）モータ１（駆動部）の出力軸１ａに軸支されている。制御部６０は、モータ１に対して駆動信号を出力し、モータ１は、駆動信号に応じた駆動量だけ出力軸１ａを介してミラー部材２を回転させる。このように、ミラー部材２は回転可能（角度可変）に構成されている。ここでは、ミラー部材２は、光源５０からの光線５１に対して略４５度に傾斜している。

並進光学系は、ミラー部材２によって反射された光を複数の反射面で順次反射してミラー部材２に入射させる光学系８０を有する。光学系８０は、例えば、光線５１に関して線対称になるように固定配置された４個のミラー３，４，５，６（反射面）を含む。ミラー部材２の第１反射面２ａにより反射された光は、これらのミラー３，４，５，６により順次反射されて、ミラー部材２の第２反射面２ｂへと導かれる。最終的に第２反射面２ｂにより反射されてミラー部材２を射出する光は、光線５１の進行方向とは略同一の（略平行な）進行方向を有する。

この射出光の角度（進行方向）は、ミラー部材２の回転角度を変更しても変化しない。そのため、制御部６０によりミラー部材２の回転角度を制御することにより、反射面２ｂで反射されてミラー部材２を射出する光の経路を調整（並進または平行シフト）させることができる。

図３は、光学装置の一部の他の構成例を示す図である。本構成は、図２で示した構成を組み合わせたものであり、光源５０からの光線５１を受ける第１並進光学系６１と、第１光学系６１からの射出光を受ける第２並進光学装置６２とを含む。第１並進光学系６１は、光源５０からの光線５１を反射する角度可変のミラー部材１３を有する。これは、図１のミラー部材２に対応する。また、第１並進光学系６１は、図１のミラー３，４，５，６にそれぞれ対応するミラー１４−１，１４−２，１４−３，１４−４を有する。第２並進光学系６２は、第１並進光学系を射出した光線を反射する角度可変のミラー部材１５を有する。これは、図１のミラー部材２に対応する。また、第２並進光学系６２は、図１のミラー３，４，５，６にそれぞれ対応するミラー１６−１，１６−２，１６−３，１６−４を有する。そして、第１並進光学系６１のミラー部材１３の回転軸６３と第２並進光学系６２のミラー部材１５の回転軸６４とは、非平行であるように、例えば直交するように配置されている。

第１並進光学系６１において、ミラー部材１３の第１反射面により反射された入射光は、ミラー１４−１，１４−２，１４−３，１４−４により順次反射されて、ミラー部材１３の第１反射面とは反対側の第２反射面へと導かれる。第２反射面により反射されてミラー部材１３を射出した光は、第２並進光学系６２のミラー部材１５に入射する。第２の光学装置６２において、ミラー部材１５の第１反射面により反射された入射光は、ミラー１６−１，１６−２，１６−３，１６−４により順次反射されて、ミラー部材１５の第１反射面とは反対側の第２反射面へと導かれる。最終的にミラー部材１５の第２反射面により反射されてミラー部材１５を射出した光は、光線５１の進行方向とは略同一の（略平行な）進行方向を有する。なお、図３に示すように、第１並進光学系６１の各ミラーでの反射により形成される光路がなす平面と、第２並進光学系６２の各ミラーでの反射により形成される光路がなす平面とが交差するような配置を採用してもよい。このように２つの並進光学系を交差するように配置することにより、光学装置の小型化を実現できる。

ここで、以上に説明した光学装置（並進光学系）と、当該光学装置を射出した光を物体（対象物）に導く（照射する）光学系とを含む加工装置を説明する。図４は、光学装置を含む加工装置の構成例を示す図である。本実施形態における加工装置は、レーザ光源７１の後側（後段）に、図３を参照して説明した光学装置（並進光学系）１７を含む。その後側には、光線拡大光学系１８・１９を含み、それにより光線の並進量・径を必要な量に拡大する。さらに、光線拡大光学系の後側には、集光光学系（集光レンズ）２２を含み、それにより、その焦点面に配置された物体２３にレーザ光を集光して照射する。また、光線拡大光学系１９と集光光学系２２との間に（ガルバノ）ミラー２０，２１（偏向光学系）を含み、その回転角度の調整により、物体２３上の目標位置（ｘ、ｙ）に光を照射する。以上の構成によれば、集光光学系に入射する光線を並進光学系１７により平行偏心させることができ、もって、集光光学系を射出して物体２３に入射するレーザ光線の角度（入射角）を変更することができる。その結果、テーパー状の穴の形成や斜めの断面を有する切断等を物体に行うことができる。

ここで、図１は、第１実施形態に係る光学装置の構成例を示す図である。当該光学装置は、図２を参照して説明した並進光学系を含んでいる。図１は、ミラー部材２を光軸調整のための角度（光軸調整部７０からの光線５１に対して略４５度傾斜した角度から比較的大きく回転して得られる角度）にした状態（実線）を示している。この状態では、ミラー部材２により反射された光線は、固定ミラー３，４，５，６には到達せず、別の固定ミラー８（反射光学素子）を経由して光入射部７へ導光される。ここで、図６は、光入射部の構成例を示す図である。光入射部７は、光学装置のカバー（筐体）１０に設けられ、例えば、光の位置を認識するための指標（線）を含む、光を観察するためのスクリーン（すりガラス板等）としうる。なお、それに加えて、当該スクリーンを撮像する撮像部１００（例えば、レンズ１００ａおよびＴＶカメラ１００ｂを含む）を設けてもよい。なお、スクリーンに替えて、光の位置を検出する検出素子（光位置検出素子、例えば、フォトダイオードアレイ、多分割フォトダイオード等）、またはカバー１０（光学装置）の外に光を透過させる光透過窓を設けてもよい。光透過窓を設けた場合には、当該窓を透過した光の位置を認識するためのスクリーン、光位置検出素子、および撮像部のうち少なくとも１つをカバー１０（光学装置）の外に設けるのがよい。

光線の位置（ずれ）は、スクリーン上の輝点の位置を指標（線）により読み取ることにより認識されうる。光軸調整（光学装置に入射した光の経路の調整）は、例えば、光学装置の光導入部の所定の位置（例えば中央）に光が入射していることと、光入射部７の所定の位置（例えば中央）に光が入射していることとにより達成されうる。なお、光軸調整は、光源の配置状態の調整および光源を射出した光の経路（光路）の調整のうち少なくとも一方によりなされうる。当該光路の調整は、例えば、光源と光学装置の光導入部との間に設けた２つの角度可変ミラーの調整によりなされうる。具体的には、まず、光源により近い角度可変ミラーの角度を調整して、光導入部の所定位置に光が入射するようにする。次に、光源からより遠い角度可変ミラーの角度を調整して、光入射部７の所定位置に光が入射するようにする。すると、光導入部の所定位置から光の入射位置がわずかにずれるため、光源により近い角度可変ミラーの角度を再度調整して、光導入部の所定位置に光が入射するようにする。すると、光入射部７の所定位置から光の入射位置がわずかにずれるため、光源からより遠い角度可変ミラーの角度を再度調整して、光入射部７の所定位置に光が入射するようにする。この一連の動作を複数回繰り返すことにより、光導入部の所定位置に光が入射し、かつ光入射部７の所定位置に光が入射するようにすることができる。

なお、光軸調整の手段は、２つの角度可変ミラーによるものを例示したが、それには限定されない。光の入射位置および入射角度を変えられる手段であればよい。例えば、角度および位置の両方を変更可能なミラーと、固定ミラーとの組み合わせでも実現しうる。また、目標の入射位置および入射角度をもって光学装置を光が出射する場合において、光入射部７に光を入射させ、光入射部７における当該光の入射位置を認識しておくことにより、当該認識した入射位置を目標にして光軸調整を行いうる。

上述の課題に鑑みて明らかであるように、本実施形態によれば、例えば、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することができる。

〔第２実施形態〕
図７は、第２実施形態に係る光学装置の構成例を示す図である。本構成は、図３を参照して前述した並進光学系、すなわち、光源５０（または光軸調整部７０）からの光線５１が入射する第１並進光学系６１と、第１並進光学系６１を射出した光が入射する第２並進光学系６２とを含むものである。

図７において、まず、ミラー部材１３を光軸調整のための角度（光源５０からの光線５１に対して略４５度傾いた角度ではない角度）にする。すると、ミラー部材１３で反射された光は、ミラー１４−１、１４−２、１４−３、１４−４には到達せず、別のミラー１４−５（反射光学素子）を経由して、第１光入射部７１に入射する。光（線）の位置（ずれ）は、第１光入射部７１に入射した光の位置を指標（線）に基づいて読み取ることにより認識されうる。

次に、ミラー部材１３を光源５０からの光線５１に対して基準の角度（例えば４５度）にし、さらに、ミラー部材１５を光軸調整のための角度（光源５０からの光線５１に対して略４５度傾いた角度ではない角度）にする。すると、ミラー部材１５で反射された光は、ミラー１６−１、１６−２、１６−３、１６−４には到達せず、別のミラー１６−５（反射光学素子）を経由して、第２光入射部７２に入射する。光（線）の位置（ずれ）は、第２光入射部７２に入射した光の位置を指標（線）に基づいて読み取ることにより認識されうる。なお、光源から第１光入射部７１までの距離（光路長）より光源から第２光入射部７２までの距離（光路長）のほうが長いため、光源から光学装置に入射する光の位置のみならず角度を認識または検出することができる。なお、第１光入射部７１および第２光入射部７２の構成は、第１実施形態のそれと同様としうる。当該認識または検出に基づく光軸調整は、第１光入射部７１の所定位置に光が入射することと、第２光入射部７２の所定位置に光が入射することとにより達成されうる。また、当該調整の手段は、第１実施形態におけるそれと同様としうる。

ここで、図８は、第２実施形態に係る光学装置の他の構成例を示す図である。図８において、ミラー部材１５を光軸調整のための角度（光源５０からの光線５１に対して略４５度傾いた角度ではない角度）にする。すると、ミラー部材１５で反射された光は、ミラー１６−１、１６−２、１６−３、１６−４には到達せず、別のミラー１６−５を経由して、ハーフミラー１６−６に入射する。そして、ハーフミラー１６−６を透過した光は、第１光入射部７３に入射する。光（線）の位置（ずれ）は、第１光入射部７３に入射した光の位置を指標（線）に基づいて読み取ることにより認識されうる。また、ハーフミラー１６−６で反射した光は、第２光入射部７４に入射する。光（線）の位置（ずれ）は、第２光入射部７４に入射した光の位置を指標（線）に基づいて読み取ることにより認識されうる。なお、光源から第１光入射部７３までの距離（光路長）より光源から第２光入射部７４までの距離（光路長）のほうが長い（Ｌ１＜Ｌ２）ため、光源から光学装置に入射する光の位置のみならず角度を認識または検出することができる。なお、第１光入射部７３および第２光入射部７４の構成は、第１実施形態のそれと同様としうる。当該認識または検出に基づく光軸調整は、第１光入射部７３の所定位置に光が入射することと、第２光入射部７４の所定位置に光が入射することとにより達成されうる。また、当該調整の手段は、第１実施形態におけるそれと同様としうる。

上述の課題に鑑みて明らかであるように、本実施形態によれば、例えば、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することができる。なお、本実施形態では、光学装置内の２箇所で光の位置を認識または検出できるため、光学装置における光導入部での光の位置を別途認識または検出しなくても、光学装置に入射する光の位置および角度を認識または検出できるという利点がある。

〔第３実施形態〕
図９は、第３実施形態に係る光学装置の構成例を示す図である。本構成は、図３を参照して前述した並進光学系、すなわち、光源５０からの光線５１が入射する第１並進光学系６１と、第１並進光学系６１を射出した光が入射する第２並進光学系６２とを含むものである。本構成において、穴あけ加工等のために高出力レーザ光を用いる場合、ミラー１４−１、・・・、１４−４およびミラー１６−１、・・・、１６−４のうちいずれかの透過率が微小であっても、その透過光が入射する受光素子では十分検出可能な光量が得られる。そこで、ミラー部材１３を基準角度（例えば４５°）にし、例えばミラー１４−１の透過光が入射する第１光入射部７５（４分割フォトダーオード等の光位置検出素子）を配置する。すると、光学装置に入射した光の位置を第１光入射部７５において検出できる。さらに、例えばミラー１６−４の透過光が入射する光入射部７６（４分割フォトダーオード等の光位置検出素子）を配置する。すると、光学装置に入射した光の位置を第２光入射部７６において検出できる。

なお、光源から第１光入射部７５までの距離（光路長）より光源から第２光入射部７６までの距離（光路長）のほうが長いため、光源から光学装置に入射する光の位置のみならず角度を認識または検出することができる。なお、第１光入射部７５および第２光入射部７６の構成は、第１実施形態のそれと同様としうる。当該認識または検出に基づく光軸調整は、第１光入射部７５の所定位置に光が入射することと、第２光入射部７６の所定位置に光が入射することとにより達成されうる。また、当該調整の手段は、第１実施形態におけるそれと同様としうる。

上述の課題に鑑みて明らかであるように、本実施形態によれば、例えば、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することができる。なお、本実施形態では、光学装置内の２箇所で光の位置を認識または検出できるため、光学装置における光導入部での光の位置を別途認識または検出しなくても、光学装置に入射する光の位置および角度を認識または検出できるという利点がある。また、ミラー部材１３および１５の駆動中（例えば物体の加工中）であっても、２つの光位置検出素子の出力信号に基づいて、光学装置に入射した光の位置および角度を認識または検出できる利点がある。例えば、ミラー部材１３および１５がそれぞれ基準位置になった場合の２つの４分割フォトダイオードの出力信号に基づいて、光学装置に入射した光の位置および角度を認識または検出できる。

〔第４実施形態〕
図１０は、第４実施形態に係る光学装置の構成例を示す図である。本構成は、図３を参照して前述した並進光学系、すなわち、光源５０からの光線５１が入射する第１並進光学系６１と、第１並進光学系６１を射出した光が入射する第２並進光学系６２とを含むものである。本実施形態は、ミラー１４−１、・・・、１４−４およびミラー１６−１、・・・、１６−４（複数の反射面）のうち少なくとも１つが角度調整機能を有するようにしている。そうして、角度調整機能を有するミラー（例えば、１４−４´）により、光学装置に入射した光の角度を調整できるようにしている。なお、当該角度調整機構を有するミラーの角度の調整により生じた光の（通過）位置のずれは、並進光学系において光の並進のために角度可変のミラー部材（図３における１３および１５のうち少なくとも一方）を用いて低減（調整または補償）しうる。

本実施形態により、光源の光軸を調整することが困難な場合であっても、光学装置に入射した光の角度（および位置）を調整できる。また、本実施形態では、ミラー１４−１、・・・、１４−４およびミラー１６−１、・・・、１６−４のうち、角度調整機能を有する２つのミラーにより、光学装置に入射した光の角度および位置を調整しうる。さらに、第１ないし第３実施形態に係る光学装置に本実施形態に係る構成を適用すれば、上述の課題に鑑みて明らかであるように、例えば、入射する光の経路の調整に有利な光学装置を提供することができる。

〔第５実施形態〕
第１および第２の実施形態では、光入射部に光を入射させる場合、ミラー部材（２、１３、１５）を透過した僅かな透過光はありえても、それを除いては、光学装置（加工装置）を射出する光は通常はない。しかし、当該ミラー部材が損傷した場合、光学装置（加工装置）を射出する光が生じうる。ここで、図１１は、第５実施形態に係る加工装置の構成例を示す図である。図１１において、ミラー部材１３および１５のうち少なくとも一方が損傷することにより、加工光路を介してレーザ光が加工装置を射出しうる。

そこで、図１１に示すように、偏向光学系における（ガルバノ）ミラー２０および２１のうち少なくとも一方を、加工のための角度範囲（後側の光学系の有効径）を超える角度にする。そうすることにより、光学装置または加工装置のカバー１０（筐体）により光が遮られ、加工装置を射出する光を削減または削除することができる。本構成の場合、光を削減または削除するためのシャッタ等の専用の構成要素を追加する必要がないため、光学装置または加工装置を単純または小型に構成するのに有利である。

〔物品製造方法に係る実施形態〕
以上に説明した実施形態に係る加工装置は、物品製造方法に使用しうる。当該物品製造方法は、当該加工装置を用いて物体（対象物）の加工を行う工程と、当該工程で加工を行われた物体を処理する工程と、を含みうる。当該処理は、例えば、当該加工とは異なる加工、搬送、検査、選別、組立（組付）、および包装のうちの少なくともいずれか一つを含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストのうちの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

１ 駆動部
２ 反射部材
３、４、５、６ 光学系
７ 光入射部
６０ 制御部

Claims (12)

1. 対象物にレーザ光を照射して前記対象物を加工するための光学装置であって、
   第１反射面と第２反射面とを含む回転可能な反射部材と、
   複数の反射面を含み、前記第１反射面で反射された光を前記複数の反射面で順次反射して前記第２反射面に入射させる光学系と、
   前記反射部材の回転角度を変更する駆動部と、
   前記第１反射面で反射された光の位置を検出又は表示するための光入射部と、を有し、
   前記第１反射面で反射された光のうち前記光入射部に入射する光を、前記光学系を介さずに前記光入射部に入射させることを特徴とする光学装置。
2. 前記駆動部を制御する制御部を有し、
   前記制御部は、前記第１反射面で反射された光を前記光入射部に導くように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
3. 前記第１反射面で反射された光を前記光入射部へ反射する反射光学素子を有し、
   前記制御部は、前記第１反射面で反射された光を前記反射光学素子に入射させるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
4. 前記光入射部は、前記第１反射面で反射された光の位置を検出する検出素子、又は、前記第１反射面で反射された光の位置を表示するためのスクリーンを含むことを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項に記載の光学装置。
5. 前記光入射部は、前記第１反射面で反射された光の位置を表示するスクリーンと、前記スクリーンを撮像する撮像部とを含むことを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項に記載の光学装置。
6. 前記スクリーンは、前記位置を示す指標を含むことを特徴とする請求項４または５に記載の光学装置。
7. 前記第１反射面で反射された光を通過させる窓を有し、前記窓を通過した光を前記光入射部へ入射させることを特徴とする請求項１ないし６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
8. 前記複数の反射面のうち少なくとも１つは、回転角度が調整可能であることを特徴とする請求項１ないし７のうちいずれか１項に記載の光学装置。
9. 前記光入射部により得られた入射光の位置に基づいて、前記レーザ光の光路を調整する調整部を有することを特徴とする請求項１ないし８のうちいずれか１項に記載の光学装置。
10. 対象物にレーザ光を照射して前記対象物を加工するための光学装置であって、
    第１反射面と第２反射面とを含む回転可能な反射部材と、
    複数の反射面を含み、前記第１反射面で反射された光を前記複数の反射面で順次反射して前記第２反射面に入射させる光学系と、
    前記反射部材の回転角度を変更する駆動部と、
    前記第１反射面で反射された光の位置を検出又は表示するための第１光入射部と、
    前記第２反射面で反射された光が入射する第３反射面と、第４反射面とを含む回転可能な第２反射部材と、
    第２の複数の反射面を含み、前記第３反射面で反射された光を前記第２の複数の反射面で順次反射して前記第４反射面に入射させる第２光学系と、
    前記第２反射部材の角度を変更する第２駆動部と、
    前記第３反射面で反射された光の位置を検出又は表示するための第２光入射部と、
    を有することを特徴とする光学装置。
11. 対象物にレーザ光を照射して前記対象物を加工するための光学装置であって、
    第１反射面と第２反射面とを含む回転可能な反射部材と、
    複数の反射面を含み、前記第１反射面で反射された光を前記複数の反射面で順次反射して前記第２反射面に入射させる光学系と、
    前記反射部材の回転角度を変更する駆動部と、
    前記第１反射面で反射された光の位置を検出又は表示するための光入射部と、を有し、
    前記光入射部は、前記第１反射面から第１光路長だけ隔てた位置にある第１光入射部と、前記第１反射面から前記第１光路長とは長さが異なる第２光路長だけ隔てた位置にある第２光入射部とを含み、
    前記光入射部は、前記第１光入射部により得られた入射光の位置と、前記第２光入射部により得られた入射光の位置と、に基づいて、前記第１反射面で反射された光の角度を求めることを特徴とする光学装置。
12. 請求項１ないし１１に記載の光学装置を用いて物体の加工を行う工程と、
    前記工程で前記加工を行われた前記物体の処理を行う工程と、
    を含み、処理された物体から物品を得ることを特徴とする物品製造方法。

Images